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一種寬帶超材料吸收體的制作方法

文檔序號(hào):12747141閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種寬帶超材料吸收體,其特征在于:包括有二氧化硅基底,基底上鍍有銀膜層,銀膜層上交替鍍5對(duì)三氧化二鋁/銀膜層,再將此5對(duì)三氧化二鋁/銀膜層刻蝕成正方形微結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬帶超材料吸收體,其特征在于:刻蝕的多層正方形結(jié)構(gòu)中三氧化二鋁層和銀層應(yīng)交替出現(xiàn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬帶超材料吸收體,其特征在于:5對(duì)三氧化二鋁/銀正方形微結(jié)構(gòu)的邊長(zhǎng)一致。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬帶超材料吸收體,其特征在于:沿上層至基底方向,銀微結(jié)構(gòu)層厚度增加,三氧化二鋁層厚度減少。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種寬帶超材料吸收體,其特征在于:沿上層至基底方向,銀微結(jié)構(gòu)層厚度從70nm增加至150nm,三氧化二鋁層厚度從18nm減少至6nm。

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