技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種形成圖案以確保優(yōu)良的曝光寬容度(EL)以及聚焦寬容度(聚焦深度DOF)的方法。所述圖案形成方法包含(A)由光阻組成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有機(jī)溶劑的顯影劑使經(jīng)曝光的膜顯影，藉此形成負(fù)像圖案。所述光阻組成物含有(a)在受酸作用時(shí)使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP為2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的樹脂，(b)當(dāng)曝露于光化射線或輻射時(shí)分解產(chǎn)生酸的化合物，以及(c)溶劑。ΔSP＝SPF?SPI(1)。

技術(shù)研發(fā)人員：加藤啟太;樽谷晉司;土橋徹;上村聰;榎本雄一郎;藤井佳奈;巖戶薰;片岡祥平;水谷一良
受保護(hù)的技術(shù)使用者：富士膠片株式會(huì)社
文檔號(hào)碼：201610793819
技術(shù)研發(fā)日：2011.03.25
技術(shù)公布日：2016.12.07