本發(fā)明涉及具有將被攝體光分開至攝像器件和取景器光學系統(tǒng)的半透鏡(semi-transparent mirror)的、諸如數(shù)字單鏡頭反光照相機等的攝像設備。

背景技術：

存在諸如數(shù)字單鏡頭反光照相機等的攝像設備，該攝像設備允許通過鏡頭單元的被攝體光的一部分透過半透鏡以使攝像單元曝光并且將被攝體光的其余部分通過半透鏡反射至用于觀察的取景器光學系統(tǒng)。

對于此攝像設備，存在如下常規(guī)提出的技術：在鏡上升狀態(tài)下通過肘節(jié)彈簧(toggle spring)的施力使由包括半透半反射部(transflective portion)的快速返回鏡用的保持架可轉動地支撐的遮光構件轉動至靠近保持架的位置，在鏡下降狀態(tài)下使遮光構件轉動至遠離保持架的位置。在此提案中，肘節(jié)彈簧掛在鏡盒和保持架的被攝體側的遮光構件之間(日本特開平11-295810號公報)。

但是，因為肘節(jié)彈簧在快速返回鏡處于鏡下降位置時朝向被攝體側突出，為了避免肘節(jié)彈簧和鏡頭單元的像面?zhèn)鹊耐哥R之間的干涉，上述公報中公開的技術限制包括快速返回鏡的切換機構的尺寸。因此，由于快速返回鏡不能增大，所以攝像器件上的被攝體光的曝光區(qū)域窄。此外，由于肘節(jié)彈簧在如上所述處于鏡下降狀態(tài)時暴露于拍攝光路，所以在拍攝時會產生不需要的反射光。

此外，數(shù)字單鏡頭反光照相機具有配置在拍攝光路中的半透鏡。被攝體光的一部分通過半透鏡至起到AE-AF傳感器的功能的攝像器件。光的其余部分被半透鏡朝向光學取景器反射，使得能夠觀察被攝體。此構造會引起如下 問題：從取景器進入鏡盒的入射光通過半透鏡進入攝像器件并且引起鏡上升狀態(tài)下的耀斑(flare)。盡管具有副鏡的常規(guī)照相機通過在鏡上升狀態(tài)下用副鏡覆蓋半透鏡解決了耀斑問題，但是沒有副鏡的照相機需要新的對策。

為了防止鏡上升狀態(tài)下的耀斑，上述公報提出了如下構造：在鏡上升狀態(tài)下將繞著快速返回鏡用的保持架的末端轉動的遮光構件驅動至靠近快速返回鏡的位置，在鏡下降狀態(tài)下將遮光構件驅動至遠離快速返回鏡以從AF-AE光路退避的位置。

順便提及，為了增大鏡下降狀態(tài)下的攝像器件中的AE-AF區(qū)域，必須確?？焖俜祷冂R的半透半反射部寬。另一方面，遮光構件需要成形為確實遮住半透半反射部，以在攝像時防止在鏡上升狀態(tài)下光從取景器進入攝像器件。盡管寬的半透半反射部需要增大遮光構件的面積，但是因為鏡盒內的空間限制使得這種增大困難。

但是，盡管上述公報公開了保持架與遮光構件連動地被驅動，但是未說明保持架和遮光構件之間的具體關系，未分析關于遮光的細節(jié)。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種攝像設備，其能夠在攝像器件中的用于通過半透鏡的被攝體光的曝光區(qū)域不變窄的情況下減少拍攝光路中的不需要的反射光。

此外，本發(fā)明提供能夠減少保持半透鏡的保持架的被攝體側端部的漏光的攝像設備。

因此，本發(fā)明的第一方面提供一種攝像設備，其包括：半透鏡；保持構件，其保持所述半透鏡并且由鏡盒可轉動地支撐，以使所述半透鏡在所述半透鏡進入拍攝光路的鏡下降位置和所述半透鏡從所述拍攝光路縮回的鏡上升位置之間移動；驅動單元，其構造為使所述保持構件在所述鏡下降位置和所述鏡上升位置之間轉動；遮光構件，其經由轉動軸以在靠近所述保持構件 的關閉位置和遠離所述保持構件的打開位置之間轉動的方式支撐于所述保持構件的被攝體側端部；施力構件，其配置在所述保持構件和所述遮光構件之間，并且當所述保持構件在所述鏡下降位置時，所述施力構件在相對于所述保持構件打開所述遮光構件的方向上對所述遮光構件施力，以將所述遮光構件配置在打開位置；和接合部，其設置于所述鏡盒，并且當所述保持構件從所述鏡下降位置轉動至所述鏡上升位置時，所述接合部在所述轉動軸附近與所述遮光構件接合，以使所述遮光構件抵抗所述施力構件的施力朝向所述關閉位置轉動，并且當所述保持構件到達所述鏡上升位置時，將所述遮光構件配置在所述關閉位置。

因此，本發(fā)明的第二方面提供一種攝像設備，其包括：半透鏡；保持架，其保持所述半透鏡，以使所述半透鏡在被攝體光被所述半透鏡分開至攝像器件和取景器光學系統(tǒng)的鏡下降位置和所述半透鏡從拍攝光路縮回的鏡上升位置之間轉動；和遮光構件，其以在所述保持架處于所述鏡下降位置時遠離所述半透鏡并且在所述保持架處于所述鏡上升位置時覆蓋所述半透鏡的方式經由設置于所述保持架的被攝體側端部的轉動軸被可轉動地支撐。具有繞所述轉動軸的大致弧形形狀的第一曲面形成于所述保持架的被攝體側端部。具有繞所述轉動軸的大致弧形形狀的第二曲面形成于所述遮光構件的被攝體側端部。在所述保持架在所述鏡上升位置和所述鏡下降位置之間轉動的整個過程中，所述第一曲面的至少一部分和所述第二曲面的至少一部分在與所述轉動軸垂直相交的方向上重疊。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，在攝像器件中的用于通過半透鏡的被攝體光的曝光區(qū)域不變窄的情況下，減少了拍攝光路中的不需要的反射光。

此外，根據(jù)本發(fā)明的第二方面，減少了保持半透鏡的保持架的被攝體側端部的漏光。

從以下參照附圖對示例性實施方式的說明，本發(fā)明的其他特征將變得明 顯。

附圖說明

圖1是示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的攝像設備的示例的數(shù)字單鏡頭反光照相機的圖。

圖2A是從前側看的示出圖1所示的照相機主體的具體構造的立體圖，圖2B是從后側看的示出圖2A所示的照相機主體的立體圖。

圖3是示出圖2A所示的照相機主體的閃光燈單元彈出至發(fā)光位置的狀態(tài)的立體圖。

圖4是示意性地示出圖1所示的數(shù)字單鏡頭反光照相機的控制系統(tǒng)的框圖。

圖5是示出圖2A所示的照相機主體的鏡盒的立體圖。

圖6是示出包括在圖5所示的鏡盒中的鏡單元和攝像器件的側視圖。

圖7A是從被攝體側看的圖6所示的鏡單元的立體圖，圖7B是從攝像器件側看的圖6所示的鏡單元的立體圖。

圖8A是從圖6的觀察側的相反側看的圖6所示的鏡單元在鏡下降狀態(tài)下的側視圖，圖8B是從圖6的相同側看的示出圖6所示的鏡單元的遮光板的接觸部與上升位置驅動銷接觸的狀態(tài)的側視圖。

圖9是圖6所示的鏡單元在鏡上升狀態(tài)下的側視圖。

圖10是用于說明圖6所示的鏡單元在數(shù)字單鏡頭反光照相機的電源開關關閉的狀態(tài)下的位置的側視圖。

圖11是示出關于本發(fā)明的第二實施方式的數(shù)字單鏡頭反光照相機的鏡盒的立體圖。

圖12A和圖12B是示出包括在圖11所示的鏡盒內的鏡單元和攝像器件的側視圖，圖12A示出鏡下降狀態(tài)，圖12B示出鏡上升狀態(tài)。

圖13A是從被攝體側看的圖12A所示的鏡單元的立體圖，圖13B是從攝像器件側看的圖12A所示的鏡單元的立體圖。

圖14A是圖12A所示的鏡單元在鏡下降狀態(tài)下的縱截面圖，圖14B是圖12A所示的鏡單元在鏡上升狀態(tài)下的縱截面圖。

圖15A和圖15B是第二實施方式的變型例的鏡單元的縱截面圖，圖15A示出鏡下降狀態(tài)，圖15B示出鏡上升狀態(tài)。

具體實施方式

以下將參照附圖詳細說明根據(jù)本發(fā)明的實施方式。

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的攝像設備的示例的數(shù)字單鏡頭反光照相機的示意圖。盡管在本實施方式中以能夠安裝和拆卸鏡頭的單鏡頭反光照相機作為示例，但是本發(fā)明不限于此。即，本發(fā)明應用于具有將被攝體光分開至攝像器件和取景器光學系統(tǒng)的半透鏡的攝像設備，設備的名字并不重要。

此照相機通過將具有光軸400的可更換鏡頭單元500安裝于照相機主體100而構成。半透鏡203允許通過諸如可更換鏡頭單元500等的拍攝光學系統(tǒng)的被攝體光的一部分透過，從而將光引導至攝像器件302。半透鏡203將其余的被攝體光反射至作為取景器光學系統(tǒng)的取景器單元113，使得拍攝者能夠觀察被攝體光。

圖2A是從前側看的示出圖1所示的照相機主體100的具體構造的立體圖，圖2B是從后側看的示出圖2A所示的照相機主體100的立體圖。圖3是示出圖2A所示的照相機主體100的閃光燈單元彈出至發(fā)光位置的狀態(tài)的立體圖。

如圖2A、圖2B和圖3所示，閃光燈單元103、釋放鈕104、電子撥盤105、ISO速度設定鈕106、電源開關107、模式撥盤108、附件插座109等設置在照相機主體100的上部。

此外，顯示單元110、取景器單元113等設置在照相機主體100的后側。鏡單元112設置在照相機主體100內。鏡單元112設置有半透鏡203。

圖4是示意性地示出圖1所示的數(shù)字單鏡頭反光照相機的控制系統(tǒng)的框圖。

圖4中的照相機控制電路10響應于電源開關107的打開操作(ON operation)按照預定順序啟動照相機。當操作檢測電路12檢測到操作構件的操作時，照相機控制電路10執(zhí)行與檢測結果對應的處理。

例如，當操作模式撥盤108且選擇拍攝模式時，照相機控制電路10設定用于確定與選擇的拍攝模式對應的快門速度和光圈值的組合的程序圖。此外，當操作電子撥盤105時，照相機控制電路10執(zhí)行關于曝光校正等的設定。當操作ISO速度設定鈕106時，設定ISO速度條件。

然后，將說明當通過模式撥盤108選擇自動設定模式時的一系列拍攝操作。當操作檢測電路12檢測到釋放鈕104的半按操作時，照相機控制電路10驅動拍攝條件控制電路13。然后，為了確定合適的快門速度和合適的光圈值，照相機控制電路10用配置在取景器單元113附近的測光傳感器(未示出)對被攝體光進行測光。應當注意，為了測光，可以測量通過半透鏡203且進入攝像器件302的被攝體光。

然后，當基于測光傳感器的測光結果確定被攝體光低于預定亮度時，照相機控制電路10控制馬達控制電路14驅動馬達(未示出)，從而使閃光燈單元103彈出至發(fā)光位置(參見圖3)。

然后，當操作檢測電路12檢測到釋放鈕104的全按操作時，照相機控制電路10控制馬達控制電路14驅動馬達(未示出)，從而使鏡單元112從拍攝光路縮回，使得被攝體光完全進入攝像器件302。此外，照相機控制電路10控制閃光燈控制電路11在預定時刻發(fā)出閃光，從而以合適的光照射被攝體。

然后，照相機控制電路10控制傳感器驅動電路15，以驅動攝像器件302， 從而將被攝體光光電轉換為圖像數(shù)據(jù)。然后，照相機控制電路10獲得圖像數(shù)據(jù)并且控制數(shù)據(jù)處理電路16對獲得的圖像數(shù)據(jù)實施諸如放大、轉換和校正等的圖像處理。

照相機控制電路10控制記錄處理電路17，以將圖像處理后的圖像數(shù)據(jù)記錄在存儲器(未示出)內。此外，當拍攝者操作顯示鈕(未示出)時，照相機控制電路10控制再生處理電路18，以在顯示單元110上顯示記錄在存儲器內的圖像。

圖5是示出圖2A所示的照相機主體100中的鏡盒200的立體圖。如圖5所示，驅動鏡單元112的驅動單元201安裝于鏡盒200的側部。驅動單元201由馬達、齒輪、驅動彈簧、驅動桿等組成。

上述取景器單元113安裝于鏡盒200的上部(圖5中未示出)。此外，保持鏡單元112的半透鏡203的保持架204被鏡盒200可轉動地支撐。鏡單元112除了半透鏡203和保持架204之外還設置有遮光板205和施力彈簧206。保持架204與本發(fā)明的保持構件的示例等同。

用于防止不需要的反射光的抗反射片207貼在鏡盒200的內壁部的下部。應當注意，可以采用抗反射涂層、抗反射結構等代替抗反射片207。此外，在拍攝時供升起的鏡單元112撞擊的沖擊吸收構件208設置在鏡盒200的內壁部的上部。因為鏡單元112撞擊沖擊吸收構件208，所以撞擊時的沖擊緩和。

圖6是示出鏡單元112和攝像器件302的側視圖。如圖6所示，以能夠在鏡進入拍攝光路的鏡下降位置和鏡從拍攝光路縮回的鏡上升位置之間轉動的方式經由轉動軸204a支撐保持半透鏡203的保持架204。

此外，保持架204能夠在鏡下降位置和鏡上升位置之間轉動并且通過由驅動單元201的驅動彈簧和驅動桿驅動驅動軸204b保持在鏡下降位置和鏡上升位置。當保持架204處于鏡下降位置和鏡上升位置時鏡盒200的構件的狀態(tài)分別被稱為鏡下降狀態(tài)和鏡上升狀態(tài)。

半透鏡203允許通過拍攝光學系統(tǒng)的被攝體光的一部分透過，以將光引導至攝像器件302。被攝體光的其余部分被反射至取景器單元113的取景器光學系統(tǒng)側，使得拍攝者能夠進行觀察。

上升位置驅動銷300和跳動防止銷301設置在鏡盒200的側壁的內側。上升位置驅動銷300與本發(fā)明的接合構件的示例等同，跳動防止銷301與本發(fā)明的接觸部的示例等同。后面將說明上升位置驅動銷300和跳動防止銷301的操作。

遮光板205設置在保持架204的被攝體側的末端。遮光板205以能夠在靠近保持架204的關閉位置和遠離保持架204的打開位置之間轉動的方式經由轉動軸204c被保持架204支撐。遮光板205與本發(fā)明的遮光構件的示例等同。

在從保持架204打開(拆卸)的方向上對遮光板205施力的施力彈簧206繞轉動軸204c設置。在本實施方式中施力彈簧206由扭簧組成。轉動軸204c插入施力彈簧206的螺旋部，一端接觸保持架204，另一端接觸遮光板205的接觸部205d。施力彈簧206與本發(fā)明的施力構件的示例等同。

如圖6所示，當鏡單元112配置在鏡下降位置時，遮光板205在末端被施力彈簧206的施力朝向攝像器件302引導的同時被保持在相對于保持架打開的狀態(tài)。由于在鏡上升狀態(tài)下遮光板205具有防止來自取景器單元113的不需要的光進入攝像器件302的作用，所以遮光板205應該具有覆蓋設置有半透鏡203的開口204f(參見圖7B)的寬度。相應地，攝像器件302側(末端)的寬度比轉動軸204c側(基端側)的寬度窄。這減輕了遮光板205的重量。

當鏡單元112處于鏡下降位置時，遮光板205防止被攝體光通過保持架204的被攝體側的末端和鏡盒200的底部之間的間隙進入攝像器件302。這防止利用攝像器件302獲得的圖像的品質劣化并且通過遮擋不需要的光防止影響調焦精度。

在調焦和拍攝時防止不需要的光反射的抗反射片205a和205b分別貼在 遮光板205的兩側(前側和后側)。當鏡單元112處于鏡下降位置時，透過位于保持架204的開口204f的半透鏡203的被攝體光進入攝像器件302。此時，如果遮光板205反射了不需要的光，則圖像品質可能會劣化并且調焦精度可能會受到影響。但是，抗反射片205b能夠減少不需要的反射光。應當注意，可以采用諸如抗反射涂層和抗反射結構(例如，凹凸的連續(xù)結構)等的抗反射手段代替抗反射片。

在此實施方式中，能夠使用攝像器件302輸出的圖像數(shù)據(jù)借助于對比度AF、圖面相位差AF等執(zhí)行調焦操作，其中攝像器件302將通過半透鏡203的被攝體光轉換為電信號。因此，不需要在鏡盒200的下側設置相位差AF單元。

此外，由于通過配置于保持架204的開口204f的半透鏡203的被攝體光進入攝像器件302，所以當鏡單元112處于鏡下降位置時獲得圖像數(shù)據(jù)，由開口204f的尺寸決定能夠聚焦的區(qū)域。在此實施方式中，不限制能夠聚焦的區(qū)域。優(yōu)選地，開口204f與拍攝尺寸的比例為不小于50％，以保持寬的用戶友好型的能夠聚焦的區(qū)域。此外，由于保持架204的開口204f隨著半透鏡203變大而變大，所以半透鏡203應該盡可能地大，從而能夠對于拍攝者是用戶友好型的。

圖7A是從被攝體側看的鏡單元112的立體圖，圖7B是從攝像器件302側看的鏡單元112的立體圖。

如圖7B所示，與設置于鏡盒200的定位部303(參見圖8B)接觸的接觸部204d設置在保持架204的末端側。由于保持架204的接觸部204d接觸鏡盒200的定位部303，所以當鏡單元112處于鏡下降位置時，半透鏡203被保持在預定角度。

此外，支撐部204e設置在保持架204的末端。設置在遮光板205的基端側(轉動軸204c側)的接觸部205c與支撐部204e接觸，遮光板205在鏡單元處于鏡下降位置時被施力彈簧206的施力在相對于保持架204打開的方向上施 力。因此，由于施力彈簧206的作用于遮光板205的施力被接觸部205c接收，所以遮光板205相對于保持架204的打開角度得到維持。

遮光板205的接觸部205c通過在遠離保持架204的方向上彎折形成。因此，由于遮光板205在保持架204的末端的厚度方向上形成接觸，所以加強了保持架204的末端。遮光板205的接觸部205c不總是通過彎折形成。

能夠接觸上升位置驅動銷300和跳動防止銷301的接觸部205d設置在遮光板205的寬度方向的兩側的轉動軸204c附近。在本實施方式中，接觸部205d設置于分別立設在遮光板205的寬度方向的兩側的加強壁205e。上升位置驅動銷300配置在接觸部205d的上方(取景器側)，跳動防止銷301配置在接觸部205d下方(參見圖6)。

然后，將參照圖8A、圖8B和圖9說明鏡單元112的操作。圖8A是從圖6的觀察側的相反側看的圖6所示的鏡單元112在鏡下降位置的側視圖，圖8B是從圖6的相同側看的示出鏡單元112的遮光板205的接觸部205d與上升位置驅動銷300接觸的狀態(tài)的側視圖。圖9是鏡單元112在鏡上升位置的側視圖。

在圖8A所示的鏡單元112的鏡下降位置，保持架204在接觸部204d接觸鏡盒200的定位部303的狀態(tài)下保持預定的角度的同時受到保持。此時，遮光板205的接觸部205d位于跳動防止銷301上方并且在接觸部205d與跳動防止銷301之間具有微小間隙，以便接觸部205d與跳動防止銷301能夠接觸。然后，當鏡單元112中在鏡下降位置發(fā)生跳動時，接觸部105d接觸減少鏡單元112的跳動的跳動防止銷301。

在圖8A所示的狀態(tài)下，通過鏡頭單元的拍攝光學系統(tǒng)的被攝體光的一部分透過半透鏡203，并且進入攝像器件302。被攝體光的其余部分被半透鏡203反射至取景器光學系統(tǒng)。因此，拍攝者能夠通過取景器光學系統(tǒng)觀察被攝體。

進入攝像器件302的被攝體光被轉換為電信號。當半按釋放鈕104時，照相機控制電路10執(zhí)行上述聚焦控制和拍攝條件設定。在允許拍攝之后，保持 架204的驅動軸204b被驅動單元201驅動，保持架204與遮光板205一起開始朝向鏡上升位置的轉動操作。

然后，隨著保持架204朝向鏡上升位置轉動，遮光板205的接觸部205d接觸上升位置驅動銷300，呈現(xiàn)出如圖8B所示的狀態(tài)。此時，遮光板205的接觸部205d與比遮光板205的轉動軸204c靠被攝體側的上升位置驅動銷300接觸。此外，遮光板205抵抗施力彈簧206的施力接收來自于上升位置驅動銷300的在靠近(接近)保持架204的方向上的扭矩。因此，遮光板205在靠近保持架204的方向上轉動。

當保持架204朝向鏡上升位置進一步轉動時，保持架204的末端接觸沖擊吸收構件208，保持架204被保持在圖9所示的鏡上升位置。此時，遮光板205通過上升位置驅動銷300保持在靠近保持架204的狀態(tài)。

在鏡單元112到達鏡上升位置后，攝像器件302獲得圖像數(shù)據(jù)(曝光)。此時，遮光板205在靠近保持架204的狀態(tài)下保持在覆蓋設置于保持架204的開口204f的半透鏡203的位置，這防止來自取景器光學系統(tǒng)的不需要的光進入攝像器件302。此外，貼在遮光板205上的抗反射片205a減少由通過鏡頭單元的拍攝光學系統(tǒng)的不需要的光引起的反射。這能夠減少攝像器件302曝光期間進入被攝體光中的不需要的光。

當保持架204在攝像器件302曝光之后通過驅動單元201朝向鏡下降位置轉動時，遮光板205與保持架204一起接近拍攝光軸。因此，遮光板205開始與上升位置驅動銷300分離，并且沿打開方向轉動，以根據(jù)施力彈簧206的施力與保持架204分離。

當鏡單元112轉動至鏡下降位置并且鏡單元112跳動時，如上所述，遮光板205的接觸部205d接觸防止遮光板205跳動的跳動防止銷301。應當注意，在鏡單元112的遮光板205的跳動小的情況下不總是設置跳動防止銷301。

圖10是用于說明照相機100的電源開關107被操作為關閉的狀態(tài)下鏡單 元112的位置的側視圖。

當電源開關107被操作為關閉時，照相機控制電路10控制馬達控制電路14使鏡單元112轉動至鏡上升位置的附近，然后根據(jù)預定順序使照相機100的電源關閉。為了將鏡單元112定位在鏡上升位置附近，驅動單元201的驅動桿和驅動凸輪應該停止在預定相位。例如，可以采用在鏡下降操作期間的預定相位或在鏡上升操作期間的預定相位。

當照相機控制電路10在鏡單元112位于鏡上升位置附近的狀態(tài)下關閉照相機100的電源時，保持架204位于鏡上升位置附近，如圖10所示，遮光板205與保持架204分開。即，能夠在遮光板205進入拍攝光路的狀態(tài)下使鏡單元112停止。即使拍攝鏡頭不小心朝向陽光，遮光板205也能遮擋陽光，這能夠防止陽光直接入射至快門單元(未示出)或攝像器件302。

如上所述，在第一實施方式中，由于對遮光板205施力的施力彈簧206掛在保持架204和遮光板205之間，所以施力彈簧206在半透鏡203在鏡上升位置和鏡下降位置之間轉動時不會朝向被攝體側突出。這不需要考慮施力彈簧206和鏡頭單元的位于像面?zhèn)鹊溺R頭之間的干涉。此外，當半透鏡203已經轉動至鏡上升位置時，施力彈簧206從不曝露于拍攝光路。因此，在攝像器件302中的用于通過半透鏡203的被攝體光的曝光區(qū)域不變窄的情況下，減少了拍攝光路中的不需要的反射光。

然后，將說明作為根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的攝像設備的示例的數(shù)字單鏡頭反光照相機。應當注意，圖1至圖4所示的第一實施方式的構造與第二實施方式相同。以下，將通過標記相同的附圖標記來說明與第一實施方式的構件相同或等同的構件。

圖11是根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的數(shù)字單鏡頭反光照相機的鏡盒200的立體圖。驅動鏡單元112的鏡驅動單元201固定于鏡盒200的側面。鏡驅動單元201由馬達、齒輪、驅動彈簧、驅動桿等組成。取景器單元113(參見圖 1)固定于鏡盒200的上部。朝向取景器單元113反射被攝體光的一部分的鏡單元112由半透鏡203、用于半透鏡的保持架204、遮光板205和后述的施力肘節(jié)彈簧(urging toggle spring)206(參見圖13A)組成。半透鏡203通過粘結劑固定于保持架204。將公知的抗反射片207貼在鏡盒200的內壁上，以防止不需要的反射光。應當注意，可以采用諸如抗反射涂層等的抗反射結構代替抗反射片207。彈性構件208固定于鏡盒200的開口的上端。當鏡單元112到達縮回位置時，鏡單元112接觸彈性構件208。彈性構件208由諸如海綿和橡膠等的彈性材料制成，并且在鏡單元112被驅動至縮回位置時緩和沖擊。

圖12A和圖12B是示出包括在鏡盒200內的鏡單元和攝像器件302的側視圖。固定有半透鏡203的保持架204能夠繞保持架轉動軸32在圖12B所示的鏡上升位置和圖12A所示的鏡下降位置之間轉動。保持架轉動軸32由鏡盒200支撐。當拍攝者觀察被攝體光時選擇鏡下降位置。在鏡下降位置，半透鏡203將被攝體光分開至攝像器件302和取景器單元113。當拍攝者拍攝圖像時選擇鏡上升位置。在鏡上升位置，保持架204從拍攝光軸400縮回。

通過鏡單元驅動桿和鏡單元驅動彈簧(未示出)驅動驅動軸204b使保持架204在鏡下降位置和鏡上升位置之間轉動。保持架204被穩(wěn)定地保持在鏡下降位置和鏡上升位置。遮光板205由重量輕且強度高的樹脂制成，以不影響鏡單元112的操作。在鏡上升位置時，半透鏡203和遮光板205各自的上側(圖12B)被稱為前側，下側被稱為后側。相應地，在鏡上升位置時，半透鏡203的后側面對遮光板205的前側。抗反射片貼在遮光板205的前側和后側，以減少聚焦和拍攝時不需要的反射光。應當注意，遮光板205的抗反射特征不限于片?？梢圆捎每狗瓷渫繉踊蛴糜诳狗瓷涞膸缀翁卣?。

用作遮光板205的轉動中心的遮光板轉動軸31設置在保持架204的被攝體側端部21。遮光板205由遮光板轉動軸31可轉動地支撐。因此，遮光板205繞遮光板轉動軸31相對于保持架204轉動。遮光板205隨著保持架204繞保持 架轉動軸32的轉動而轉動。與設置于鏡盒200的內表面的鏡定位構件303接觸的鏡定位接觸面204d設置于保持架204的側面。保持架204的鏡下降位置通過鏡定位構件303和鏡定位接觸面204d之間的接觸來限定。因此，被保持架204保持的半透鏡203維持在預定的角度。遮光板205在鏡下降狀態(tài)下在從保持架204打開的方向上被施力肘節(jié)彈簧206施力，并且如后面所述在鏡上升狀態(tài)下在靠近保持架204的方向上被施力。

攝像器件302也能夠使用獲得的圖像數(shù)據(jù)借助于作為公知技術的對比度AF、圖面相位差AF等執(zhí)行調焦操作，并且同時能夠執(zhí)行AE操作。在本實施方式中，由于在鏡下降狀態(tài)下執(zhí)行AE-AF操作，所以遮光板205在鏡下降狀態(tài)下被驅動且轉動至從通過半透鏡203的被攝體光的AE-AF光路縮回的位置。此外，在拍攝時的鏡上升狀態(tài)下，遮光板205轉動至從拍攝光路縮回的位置，并且定位成與保持架204的后側面對且重疊。

圖13A是從被攝體側看的圖12A所示的鏡單元112的立體圖，圖13B是從攝像器件側看的圖12A所示的鏡單元112的立體圖。施力肘節(jié)彈簧206的一個臂與保持架204的彈簧掛軸204h接合，另一臂與遮光板205的彈簧掛軸205f接合。施力肘節(jié)彈簧206以使彈簧掛軸204h和205f彼此遠離的方式對彈簧掛軸204h和205f施力。施力肘節(jié)彈簧206在鏡下降位置在從保持架204打開的方向上對遮光板205施力。但是，施力肘節(jié)彈簧206的兩臂之間的距離減小，然后在保持架204從鏡下降位置轉動至鏡上升位置的過程中增大，并且彈簧掛軸204h和205f的上下位置關系逆轉。當保持架204到達鏡上升位置時，遮光板205面對保持架204，施力肘節(jié)彈簧206在靠近保持架204的方向上對遮光板205施力。

保持架204具有開口204f。在鏡下降位置，攝像器件302接收通過設置于開口204f的半透鏡203的被攝體光。攝像器件302的輸出用于AE-AF操作。由于被攝體光的透過區(qū)域被開口204f限制，所以根據(jù)開口204f的尺寸確定允許 攝像器件302上的AE-AF操作的區(qū)域。

圖14A是圖12A所示的鏡單元112在鏡下降狀態(tài)下的縱截面圖，圖14B是圖12A所示的鏡單元112在鏡上升狀態(tài)下的縱截面圖。保持架204和遮光板205在被攝體側端部均具有遮光構造。具體地，保持架204的被攝體側端部21和遮光板205的被攝體側端部22協(xié)作實現(xiàn)減少保持架204的端部21附近的漏光的遮光功能。這將進行詳細描述。

保持架204的端部21具有在保持架204的厚度方向上朝向后側延伸的延伸部21a。延伸部21a增大了端部21的截面，這改善了端部21的強度。具有繞遮光板轉動軸31的大致弧形形狀的第一曲面204g形成于端部21。第一曲面204g在側視圖中為凸曲面。具有繞遮光板轉動軸31的大致弧形形狀的第二曲面205g形成于遮光板205的端部22。第二曲面205g在側視圖中為凹曲面。第一曲面204g和第二曲面205g以彼此不同的半徑繞遮光板轉動軸31形成在大致同心的圓上，并且兩個面隔著預定間隙相面對。

保持架204在鏡下降位置和鏡上升位置之間轉動的整個過程中，第一曲面204g的至少一部分與第二曲面205g的至少一部分在與遮光板轉動軸31垂直相交的方向(法線方向)上總是重疊。即，在鏡下降狀態(tài)下(圖14A)，曲面204g和205g在寬的區(qū)域中相面對。甚至在鏡上升狀態(tài)下(圖14B)，保留曲面204g和205g彼此相面對的重疊區(qū)域。在鏡下降狀態(tài)下(圖14A)，優(yōu)選地，攝像器件302僅接收沿著AE-AF光路通過保持架204的開口204f的光。而攝像器件302接收來自取景器單元113的逆入光是不好的。因為曲面204g和205g在遮光板轉動軸31的法線方向上彼此面對和重疊，所以保持架204的端部21附近的遮光確定。因此，在鏡下降狀態(tài)下影響AE-AF操作的不需要的光被遮擋。

在鏡上升狀態(tài)下(圖14B)，為了防止來自取景器單元113的通過保持架204的開口204f的光進入攝像器件302，遮光板205定位于保持架204的后側并進行遮光。由于曲面204g和205g的重疊防止來自取景器單元113的不需要的 光從保持架204的端部21附近泄漏，從而防止不需要的光入射到攝像器件302。

曲面204g和205g在大致同心的圓上。此外，曲面204g和205g之間的間隙在繞遮光板轉動軸31的圓周方向上幾乎均勻。因此，不阻礙遮光板205相對于保持架204的轉動。順便提及，圖12A示出在保持架204繞保持架轉動軸32轉動的整個過程中保持架204的端部21的前邊緣的軌跡L。在保持架204轉動的整個過程中遮光板205的端部22的前邊緣不超出軌跡L，并且被保持在比軌跡L靠保持架轉動軸32側(內側)的位置。因此，不侵占可更換鏡頭單元500的配置區(qū)域。

根據(jù)第二實施方式，在保持架204轉動的整個過程中，保持架204的端部21的第一曲面204g在與遮光板轉動軸31垂直相交的方向上總是與遮光板205的端部22的第二曲面205g重疊。這減少了在保持架204的被攝體側端部21的漏光。因此，在鏡下降位置和鏡上升位置之間的任意位置處，從取景器單元113進入攝像器件302的逆入光減少，減少了對AE-AF操作或拍攝的影響。

此外，由于曲面204g和205g是繞遮光板轉動軸31的凸曲面和凹曲面，所以保持架204的被攝體側端部和遮光板205的被攝體側端部以緊湊的方式構成。應當注意，當僅考慮保持架204的被攝體側端部21的漏光的減少效果時，曲面204g和205g的凹凸關系可以顛倒。曲面204g和205g不限于連續(xù)的圓弧曲面。曲面可以是由多個平面組成的多邊形面。

此外，曲面204g和205g包括在繞遮光板轉動軸31的大致同心的圓中。這減少了曲面204g和205g的重疊狀態(tài)(間隙)取決于保持架204轉動期間的位置而發(fā)生變化，改善了遮光效果。

此外，由于在保持架204轉動的整個過程中，遮光板205的端部22的前邊緣保持在保持架204的端部21的前邊緣的軌跡L的范圍內，所以節(jié)約了空間并且不侵占可更換鏡頭單元500的配置區(qū)域。

此外，由于延伸部21a設置于保持架204的端部21，所以端部21的厚度變厚并且改善了保持架204的剛性。此外，由于第一曲面204g的至少一部分形成于延伸部21a，所以延伸部21a也作為第一曲面204g，這有利于緊湊化。

在第二實施方式中遮光板205的端部22的后側形成為與第二曲面205g同心的凸曲面。但是，這是示例并且可以采用其它構造。將參照圖15A和圖15B描述端部22的底面的構造的變型例。

圖15A和圖15B是第二實施方式的變型例的鏡單元112的縱截面圖，圖15A示出鏡下降狀態(tài)，圖15B示出鏡上升狀態(tài)。遮光板205的端部22的后側形成為斜面205i。其它構造與第二實施方式的構造相同。遮光板205的后側的除了端部22以外的其余區(qū)域是平坦的主表面205h。盡管斜面205i也是平坦的，但是斜面205i的角度與主表面205h的角度不同。

在鏡上升狀態(tài)下(圖15B)，以在側視圖中主表面205h和拍攝光軸400之間形成的銳角為角度θ1，以傾斜面205i和拍攝光軸400之間形成的銳角為角度θ2。角度θ2大于角度θ1。圖15A和圖15B所示的變型例與第二實施方式相比更有效地減少了保持架204的被攝體側端部21附近的后側的不需要的反射光。

應當注意，本發(fā)明不限于已經在上述實施方式中描述了的內容，在不脫離本發(fā)明的要旨的范圍內，能夠適當?shù)馗淖儾馁|、形狀、尺寸、形態(tài)、元件數(shù)量、配置位置等。

雖然已經參照示例性實施方式說明了本發(fā)明，但是應當理解，本發(fā)明不限于所公開的示例性實施方式。權利要求書的范圍應符合最寬泛的解釋，以包括所有這樣的變型、等同結構和功能。

本申請要求2015年5月8日提交的日本專利申請No.2015-095591和2015年9月9日提交的日本專利申請No.2015-177545的優(yōu)先權，所述申請的全部內容通過引用合并于此。