本發(fā)明涉及一種處理盒的顯影倉及其該處理盒的顯影倉的除粉方法。

背景技術：

處理盒作為一種拆卸更換的耗材辦公品廣泛運用在成像顯影裝置(如打印機或復印機)中，處理盒通過與成像顯影裝置的聯(lián)動打印作業(yè)進而將處理盒內(nèi)的碳粉轉印至紙張上。

現(xiàn)有技術中，根據(jù)不同類型的處理盒，如圖1所示，處理盒包括粉倉、顯影倉以及廢粉倉，粉倉內(nèi)設有碳粉，感光元件、清潔元件以及充電元件設置在廢粉倉內(nèi)，顯影元件、控粉元件設置在顯影倉。在處理盒組裝完成后，還設有一密封條在粉倉與顯影倉的通口之間，以確保在處理盒在使用者實際使用前能對粉倉內(nèi)的碳粉進行保存密封，避免在使用前受外界的溫濕度環(huán)境影響。

另外，在上述的處理盒組裝完成后，通常需對處理盒進行打印測試以確保處理盒的顯影品質達到設定的要求，由于粉倉已被密封條密封，檢測員通常涂覆碳粉至顯影元件或留有少量的碳粉在顯影倉內(nèi)，這樣處理盒即可在不撕下密封條的情況下對處理盒進行打印全檢。但是，在打印全檢后，通常殘留有少量的碳粉在顯影倉內(nèi)，這些殘留的碳粉不僅在使用者將密封條撕下后與粉倉內(nèi)密封的碳粉混合造成顯影品質不佳，而且處理盒在運輸途中顛簸時也會造成該殘留碳粉的泄漏，進而污染處理盒內(nèi)的其他部件。

為解決上述的潛在問題，在檢測員對處理盒進行打印全檢后，通常需要重新拆開處理盒對顯影倉內(nèi)的殘留碳粉進行清潔或對顯影元件的表面進行除粉(吸粉)處理，但拆開處理盒后又再次組裝，其處理盒的顯影品質易受變化。

若檢測員采用將處理盒安裝入成像顯影裝置進行打印作業(yè)從而將顯影倉內(nèi)的殘留碳粉耗盡的方法，批量生產(chǎn)時，不僅會對該成像顯影裝置造成損耗，而且還會大量浪費紙張。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種便于對組裝完成后的處理盒進行打印測試的處理盒的結構和方法，使處理盒在打印測試完成后不會對處理盒的顯影品質產(chǎn)生影響。

為了解決以上的技術問題，本發(fā)明采取的技術方案是：

一種處理盒的顯影倉，所述顯影倉設有可與處理盒中的粉倉連通的通口，其特征在于：

在沿所述顯影倉的長度方向的顯影倉倉壁上設置有預移除區(qū)，所述預移除區(qū)用于在處理盒進行打印全檢后將該預移除區(qū)移除并形成一用于清除顯影倉內(nèi)余粉的除粉開口。

優(yōu)選地，該預移除區(qū)的厚度薄于該預移除區(qū)與之鄰接的顯影倉倉壁的壁厚或該預移除區(qū)的材料與與之鄰接的顯影倉倉壁的材料不同使其便于移除。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)沿顯影倉的長度方向設置在顯影倉的倉壁底部。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)沿顯影倉的長度方向設置在顯影倉的倉壁頂部。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)為薄片體結構，所述薄片體的厚度在顯影倉倉壁上薄于與之鄰接的顯影倉倉壁的壁厚。

優(yōu)先地，所述薄片體在顯影倉倉壁上可設為多個。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)的材料軟于與之鄰接的顯影倉倉壁的材料。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)的材料的抗沖擊強度低于與之鄰接的顯影倉倉壁的材料的抗沖擊強度。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)與顯影倉通過一次或二次注塑成型。

優(yōu)先地，該形成的除粉開口為預設在顯影倉倉壁上，所述預移除區(qū)為通過一片體貼附在顯影倉倉壁上且覆蓋所述預設的除粉開口。

優(yōu)先地，該片體為一金屬片體或膠條。

優(yōu)選地，所述預移除區(qū)為一片體形成，所述片體與所述顯影倉并非同時注塑形成。

一種處理盒的顯影倉的除粉方法，所述處理盒的顯影倉為上述的任意一種處理盒的顯影倉，其特征在于：

所述處理盒的顯影倉的除粉方法包括如下步驟：

a.在完成處理盒的打印全檢后，對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除并形成一除粉開口；

b.通過該除粉開口對顯影倉內(nèi)的余粉進行清除；

c.在顯影倉內(nèi)的余粉清除后，對除粉開口進行密封處理。

優(yōu)先地，在步驟c中，通過粘附一密封件對所述除粉開口進行密封或通過塑料片體焊接覆蓋在所述除粉開口上進行密封。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)為薄片體結構且所述薄片體的厚度在顯影倉倉壁上薄于與之鄰接的顯影倉倉壁的壁厚；在步驟a中，對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除為將該薄片體捅穿或切除并形成該除粉開口。

優(yōu)先地，所述預移除區(qū)為通過一片體貼附在顯影倉倉壁上且覆蓋所述預設的除粉開口，在步驟a中，對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除為通過拉動該片體的作用部使該片體與顯影倉的倉壁分離最后顯露出預設的除粉開口。

優(yōu)選地，在步驟b中，所述通過該除粉開口對顯影倉內(nèi)的余粉進行清除為使用吹氣或吸氣的方式對顯影倉內(nèi)的余粉進行清除。

通過上述預移除區(qū)設置在處理盒的顯影倉上以及使用上述的方法對顯影倉進行余粉清除處理，使處理盒在進行打印全檢后避免了現(xiàn)有技術中通過重新拆除處理盒引起的品質隱患，也無需特意通過打印耗盡余粉。

本發(fā)明的以上和其他目的、特征、及優(yōu)點通過根據(jù)附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行的說明而變得更加明確。

附圖說明

圖1是處理盒結構的剖視圖；

圖2是處理盒結構的立體圖；

圖3是實施例一中的顯影倉的預移除區(qū)的位置示意圖；

圖4、圖5是實施例一中的顯影倉的預移除區(qū)的結構示意圖；

圖6、圖7是實施例一中的顯影倉的預移除區(qū)的結構放大示意圖；

圖8是實施例一中的顯影倉的預移除區(qū)的結構示意圖；

圖9、圖10是實施例一中的對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除的示意圖；

圖11是實施例一中移除預移除區(qū)后形成除粉開口的示意圖；

圖12是實施例一中的對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除的示意圖；

圖13是實施例一中的對顯影倉內(nèi)的余粉進行吸除的示意圖；

圖14是實施例一中的對形成的出粉開口進行密封的示意圖；

圖15、圖16是實施例二中的顯影倉與片體配合形成預移除區(qū)的結構示意圖；

圖17是實施例二中的對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除的示意圖；

具體實施方式

實施例一

參考圖1和圖2所示，處理盒c包括粉倉200、顯影倉100以及廢粉倉300，粉倉200內(nèi)設有碳粉70，感光元件10、清潔元件20以及充電元件30設置在廢粉倉300內(nèi)，顯影元件40、控粉元件60設置在顯影倉100，粉倉200與顯影倉100通過通口250連通，一密封條90對通口250進行密封，密封條90的一端從處理盒c的側面向外伸出。

另外，由于處理盒的類型不同，處理盒可僅包括顯影倉100、粉倉200以及顯影倉100和粉倉200內(nèi)的部件。

與現(xiàn)有技術不同的是，為實施例一中的顯影倉100的結構，如圖3所示，沿顯影倉100的長度方向的倉壁150底部上設有一預移除區(qū)151，該預移除區(qū)151的厚度薄于該預移除區(qū)與之鄰接的顯影倉倉壁150的壁厚，或該預移除區(qū)151的材料與鄰接的顯影倉倉壁150的材料不同。

在處理盒c組裝完成后，該預移除區(qū)151朝外地位于處理盒c的顯影倉100上，若將預移除區(qū)151從顯影倉倉壁150上移除后，通過移除預移除區(qū)151后形成的開口可使顯影倉100倉內(nèi)向外連通，便于后續(xù)的余粉移除操作。

另外，根據(jù)不同類型的處理盒結構以及便于后續(xù)的工序操作，上述的預移除區(qū)151可設置于顯影倉的倉壁150底部(接近顯影元件40處)，也可設置在顯影倉的倉壁150頂部(接近控粉元件60處)，參考圖3和圖5所示。

具體地，該預移除區(qū)可以是：

(一)上述的預移除區(qū)151可以是薄片體結構，如圖4和圖5所示，該薄片體的厚度在顯影倉倉壁150上薄于與之鄰接的顯影倉倉壁150的壁厚，薄片體沿顯影倉100的長度方向可設在顯影倉100的倉壁頂部或顯影倉100的倉壁底部，如圖5至圖7所示。另外，薄片體在顯影倉倉壁150上可設為單個或多個，薄片體的形狀可設為方形或圓形，如圖8所示。

(二)上述的預移除區(qū)151還可以是其材料與鄰接的顯影倉100倉壁的材料不同，預移除區(qū)151的材料優(yōu)選為(如軟橡膠)軟于與之鄰接的顯影倉倉壁150的材料(如塑料)，或預移除區(qū)材料的抗沖擊強度低于與之鄰接的顯影倉倉壁材料的抗沖擊強度。另外，為便于后續(xù)的工序操作，預移除區(qū)151與顯影倉100可通過一次注塑成型或二次注塑成型。

上述的方式(一)和(二)可以單獨采用，也可以同時采用。

另外，預移除區(qū)151與顯影倉倉壁150的結合處還可設有縫隙155a，縫隙155a可沿顯影倉100的長度方向設置在預移除區(qū)151與顯影倉倉壁150結合處的側邊處或設置在預移除區(qū)151與顯影倉倉壁150結合處的端部處，如圖12所示。

在具有上述顯影倉100結構的處理盒c組裝完成并進行打印全檢以確保組裝后的處理盒c的顯影品質達到預設的標準后，需對顯影倉100內(nèi)殘留的余粉進行去除的步驟，該余粉的去除步驟如下：

a.在完成處理盒的打印全檢后，對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除并形成一除粉開口；

具體地，如圖9和圖10，在步驟a中，在對預移除區(qū)151進行移除時可通過刀具k1進行切除，預移除區(qū)151為方式(一)時，由于薄片體的厚度比與之鄰接的顯影倉倉壁150的壁厚薄，因此很容易就可以捅穿或切除該薄片體并形成除粉開口155，如圖11所示，不會對顯影倉100的結構產(chǎn)生影響，從而避免對處理盒c的結構和打印品質造成影響。預移除區(qū)151為方式(二)時，由于預移除區(qū)151的材料與鄰接的顯影倉倉壁150的材料不同，同樣也可以很容易地將預移除區(qū)151移除并形成除粉開口，不會對顯影倉100的結構產(chǎn)生影響。

另外，在方式(一)和(二)中，若預移除區(qū)151上還設有縫隙155a，如圖12所示，即可通過撬刀k2等工具將預移除區(qū)151進行移除，移除過程將更加快速和簡便，但由于縫隙155a可能會引起微量的碳粉泄漏，因此在組裝處理盒c時需要使用膠片對縫隙155a進行密封處理，而在將預移除區(qū)151移除前將密封在縫隙155a上的膠片進行去除。

b.通過上述形成的除粉開口對顯影倉內(nèi)的余粉進行吸除；

具體地，在步驟b中，可通過吸塵機d1對顯影倉100內(nèi)的余粉進行吸除，由于預移除區(qū)151可設在顯影倉100的倉壁底部或顯影倉100的倉壁頂部，在將預移除區(qū)151移除后通過形成的除粉開口155即可對顯影倉100內(nèi)的余粉進行吸除處理。

c.在顯影倉內(nèi)的余粉吸除后，對除粉開口進行密封處理；

具體地，在步驟c中，如圖14所示，可通過粘附密封件190(如膠條或塑料片)對形成的除粉開口155進行密封或通過一塑料片體焊接覆蓋在形成的除粉開口155上進行密封。

實施例二

在實施二中，顯影倉100上的預移除區(qū)的形成需要額外的片體配合而成，而顯影倉100的長度方向的倉壁底部在注塑時就已經(jīng)預設有除粉開口155，上述與除粉開口155配合的片體其長度和寬度需能夠完全覆蓋該除粉開口155，如圖15和圖16所示，該片體可以是易彎曲的金屬片體120或膠條130，且可以在金屬片體120或膠條130上設置利于拉動作業(yè)的作用部120a/130a。

具體是，在注塑顯影倉100前，將上述的片體120/130放入注塑顯影倉100的模具中并對應模具中注塑出除粉開口155的位置，在顯影倉100注塑完成出模后，該片體即可貼附在顯影倉100的倉壁上且覆蓋密封預設的除粉開口155。

實施例二的余粉的去除步驟：

參考上述的實施例一中的余粉去除步驟，其與實施例一中的步驟不同的是步驟a中的具體細節(jié)實施方式：

步驟a：在完成處理盒的打印全檢后，對顯影倉上的預移除區(qū)進行移除并形成一除粉開口；

在實施例二中的步驟a中，在對顯影倉100內(nèi)的余粉進行吸除前，同樣需要將實施例二中由片體配合而形成的預移除區(qū)進行移除并形成一除粉開口155，但由于該除粉開口155已經(jīng)在注塑時預留形成，因此只需簡單地將覆蓋密封在預留的除粉開口155上的片體移除即可，無需像實施例一那樣需要將預移除區(qū)151進行捅穿或切除。具體地，如圖17所示，貼附在顯影倉100的除粉開口155上的片體可以是易彎曲的金屬片體120，完成處理盒c的打印全檢后，通過金屬片體120表面上的作用部120a(優(yōu)選為拉環(huán)結構)拉動金屬片體120使其彎曲與顯影倉100的倉壁分離最后顯露出顯影倉倉壁底部上預設的除粉開口155。另外，貼附在除粉開口155上的片體也可以是膠條130，同樣拉動膠條130一端的作用部130a即可與顯影倉100的倉壁分離最后顯露出顯影倉倉壁底部上預設的除粉開口155。

在上述的實施例二的步驟a完成后，即可進行余粉的吸除和對除粉開口進行密封處理，可參考實施例一中的步驟b和步驟c，這里不再復述。

對比實施例一，實施例二中的預移除區(qū)由片體形成，在顯影倉100注塑完成后就已經(jīng)貼附在顯影倉100的預設除粉開口155上，因此在完成步驟a后只需通過作用部120a/130a簡單拉動就可顯露出預設的除粉開口155，使之更加便于工序的操作。

另外，在實施例二中，實施例二中用于形成預移除區(qū)151的片體由于在顯影倉100注塑成型前已具備，因此實施例二中用于形成預移除區(qū)151的片體并非通過與顯影倉100同時注塑形成。

在上述的實施例一或二中，顯影倉的倉壁底部為相對于處理盒安裝入成像顯影裝置時的方向的下方處，顯影倉的倉壁頂部為相對于處理盒安裝入成像顯影裝置時的方向的上方處。

在上述的實施例一或二中，在對顯影倉內(nèi)的余粉進行清除時不僅可以 對形成的除粉開口使用吸粉，即吸氣的方式(吸塵器)，還可以通過吹粉，即吹氣的方式(氣槍)進行對余粉的清除。

與現(xiàn)有技術相比，通過上述的實施例一或二中的顯影倉100的結構和余粉吸除的步驟即可使處理盒在進行打印全檢后對顯影倉內(nèi)的余粉進行吸除處理，避免了現(xiàn)有技術中通過重新拆除處理盒引起的品質隱患，也無需特意通過打印耗盡余粉。

盡管參考在此公開的結構描述了本發(fā)明，但是并不將其局限于所描述的細節(jié)中，并且本申請意圖覆蓋可能落入所附權利要求的改進目的或范圍內(nèi)的修改或變化。