技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提出了一種投影曝光裝置和方法，在掩膜臺和工件臺之間的焦面測量系統(tǒng)和對準(zhǔn)測量系統(tǒng)中，通過焦面測量系統(tǒng)測量基板面型的變化，對準(zhǔn)測量裝置系統(tǒng)具有調(diào)焦功能，通過焦面測量系統(tǒng)測量基板面型的變化后，對準(zhǔn)測量系統(tǒng)根據(jù)焦面測量系統(tǒng)測量的數(shù)據(jù)進(jìn)行調(diào)焦，在調(diào)焦完成后，對準(zhǔn)測量系統(tǒng)裝置中顯示的基板上各點(diǎn)的坐標(biāo)即為各點(diǎn)在基板面型發(fā)生變化后的坐標(biāo)，計算各點(diǎn)的坐標(biāo)變化可得到掩膜版與現(xiàn)在基板的相對位置關(guān)系，即可通過移動工件臺進(jìn)行補(bǔ)償。這樣即使對準(zhǔn)測量系統(tǒng)和焦面測量系統(tǒng)的測量焦面不相同，但也可以通過計算、調(diào)焦彌補(bǔ)該誤差。

技術(shù)研發(fā)人員：陳躍飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.31
技術(shù)公布日：2017.10.24