本發(fā)明涉及基于uv可聚合的包含至少一種丙烯酸酯單體的預(yù)聚物組合物的壓花漆以及對用基于uv可聚合的包含至少一種丙烯酸酯單體的預(yù)聚物組合物的壓花漆涂覆的基底表面進行壓花的方法。

背景技術(shù)：

由于近年來納米技術(shù)飛速蓬勃發(fā)展，納米結(jié)構(gòu)化的組件的生產(chǎn)在工業(yè)制造中變得明顯更加重要，其中此類納米結(jié)構(gòu)化的組件通常由可光聚合的預(yù)聚物組合物制成。尤其是在裝飾領(lǐng)域、產(chǎn)品市場營銷及各種不同材料例如薄膜的表面修飾中，越來越多地使用極精細(xì)的結(jié)構(gòu)，以實現(xiàn)特定的額外的功能，例如實現(xiàn)裝飾性光學(xué)效果。為此使用通過納米技術(shù)預(yù)加工的結(jié)構(gòu)，其是由特定的預(yù)聚物組合物制成的。

此類微米和納米結(jié)構(gòu)化的薄膜的一個仍然重要的應(yīng)用目的是在于電子元件、光學(xué)元件、傳感元件及磁性元件，如集成電路、顯示器、微光學(xué)等，這是因為小的結(jié)構(gòu)尺寸對于這些元件的功能性而言是決定性因素，因此在大面積印刷電子器件的領(lǐng)域，在薄膜基材上生產(chǎn)元件是極其費力的。因此對于工業(yè)薄膜生產(chǎn)而言，微米和納米結(jié)構(gòu)化技術(shù)如壓印技術(shù)發(fā)揮重要作用，并且總是要求新的改進的可制模的薄膜或者可用于制備如此結(jié)構(gòu)化的薄膜的組合物。

工業(yè)薄膜修飾包括由機械或裝飾性表面特性的改善直至將光學(xué)、傳感和電子功能性集成在材料薄膜中的一個非常大的范圍。然而使用此類生產(chǎn)技術(shù)的一個決定性準(zhǔn)則及同時限制性組件在于，產(chǎn)品通常具有亞微米或納米范圍的尺寸的結(jié)構(gòu)，一方面是由于其單個組件的集成密度高，而且為了確保所用波長量級的結(jié)構(gòu)的功能性并且總體上使表面增大。傳統(tǒng)的大規(guī)模印刷方法(massendruckverfahren)，如凹版印刷、苯胺印刷、絲網(wǎng)印刷、膠版印刷等雖然允許每分鐘幾百米的極高通過量，但是通常無法提供所需的結(jié)構(gòu)分辨率范圍。唯一目前已知的能夠在平行方法中產(chǎn)生具有納米范圍的最小尺寸的結(jié)構(gòu)的技術(shù)是所謂的納米壓印平版印刷(nanoimprintlithographie，nil)，其是高精度壓花法并且還可以在相應(yīng)的基材上形成極小的結(jié)構(gòu)。

ep2286980a1已經(jīng)公開了由成形的樹脂組成的模具及其制造方法，由此可以在表面上形成牢固耐用同時精細(xì)的結(jié)構(gòu)?？捎糜谛纬赡＞叩目晒庥不臉渲M合物包含聚合指示劑以及相應(yīng)的可光聚合的單體。

納米壓印平版印刷法在工業(yè)上到目前為止特別是用于產(chǎn)生壓花全息圖為此在納米壓印平版印刷法使用相似的方法，其中印花的結(jié)構(gòu)是發(fā)揮衍射光柵(beugungsgitter)的作用的表面凹凸起伏。在此類方法中決定性的是，避免漆粘著在壓花工具上，從而隨后可以實現(xiàn)壓花物品的無缺陷脫模。

對于納米壓印法目前使用兩種不同的壓花工具。目前在此使用由硅、石英或鎳制成的壓花工具，其中此類硬質(zhì)壓花工具的生產(chǎn)是比較復(fù)雜的。因此人們努力嘗試用由聚合物材料制成的壓花印模代替硬質(zhì)壓花印模，其中聚合物材料潛在地具有比硅、石英或鎳更低的表面能，這在壓花過程中降低了壓花漆的漆粘著性。但是其通常具有以下缺點，其僅能非常受限地用作亞微米范圍的壓花印模，而且交聯(lián)的聚合物材料在壓花法中無法足夠迅速地充分完全硬化，因此其壓花可靠性比較低，因而看上去無法在使用目前可用的壓花漆的壓花法中實現(xiàn)印模的無缺陷自復(fù)制。對于壓花，不僅需要在壓花之前使聚合物印模材料中的反應(yīng)性c-c雙鍵完全反應(yīng)，這是因為否則其與所用壓花漆中的c-c雙鍵反應(yīng)，這不可避免地導(dǎo)致印模和漆粘合。但是尤其是在小的結(jié)構(gòu)的情況下，如在納米范圍內(nèi)，必須絕對避免所有的印模和漆粘合的情況和/或所有的壓花結(jié)構(gòu)與工具不完全脫離的情況，這是因為否則無法以所需的結(jié)構(gòu)可靠性(strukturtreue)制模(abformen)，無法以此類成模可靠性(formtreue)產(chǎn)生所期望的結(jié)構(gòu)從而可將其在工業(yè)上應(yīng)用。在基材、印模和壓花漆之間的表面特性和/或界面能對此是決定性的?？瓷先ブ挥性趬夯ㄆ犸@示出在納米壓印法中特別突出的從印模表面退出的趨勢時，才能實現(xiàn)無殘留脫模。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于，提供基于uv可聚合的預(yù)聚物組合物的可溶的壓花漆，其能夠產(chǎn)生納米范圍內(nèi)的結(jié)構(gòu)并且不具有不均勻性。此外本發(fā)明的目的還在于提供對用此類壓花漆涂覆的基底表面進行壓花的方法，通過該方法能夠產(chǎn)生在壓花漆的納米范圍內(nèi)的可自制模的結(jié)構(gòu)，其具有高的制?？煽啃?abformtreue)，并且能夠在連續(xù)的納米壓印平版印刷法中產(chǎn)生無缺陷的納米結(jié)構(gòu)。

為了實現(xiàn)所述目的，根據(jù)本發(fā)明的壓花漆的特征基本上在于，所述預(yù)聚物組合物除了包含丙烯酸酯單體以外，還包含至少一種選自以下組中的硫醇：3-巰基丙酸酯、巰基乙酸酯(mercaptoacetate)、2-巰基乙酸酯(thioglycolate)和烷基硫醇以及任選存在的選自以下組中的表面活性抗粘添加劑：非離子表面活性劑，如聚醚硅氧烷、脂肪醇乙氧基化物如聚氧乙烯-(9)-十二烷基醚、單官能的烷基-(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷-(甲基)丙烯酸酯、全氟烷基-(甲基)丙烯酸酯及全氟聚醚-(甲基)丙烯酸酯，以及包含光敏引發(fā)劑。通過根據(jù)本發(fā)明所述預(yù)聚物組合物除了包含丙烯酸酯單體以外還包含至少一種選自以下組中的硫醇：3-巰基丙酸酯、巰基乙酸酯、2-巰基乙酸酯和烷基硫醇，從而在沒有排除o2的情況下在聚合期間產(chǎn)生的過氧自由基使硫醇基的氫原子脫離(abstrahieren)而形成亞硫酰自由基，該亞硫酰自由基又加成在碳碳雙鍵上并開始加聚反應(yīng)，由此防止鏈中斷并顯著提高反應(yīng)速度，尤其是快速地繼續(xù)進行uv聚合，這在整體上提高了聚合速度。通過添加硫醇，實現(xiàn)了在自由基聚合作用中增強的鏈轉(zhuǎn)移(kettenübertrag)和/或可以進行平行的加聚反應(yīng)，由此能夠激發(fā)許多反應(yīng)中心同時生長，這又實現(xiàn)了由此形成的聚合物的更小的分子量和/或聚合物鏈長度及由此改善的溶解度。

通過使用硫醇，已經(jīng)以uv可聚合的預(yù)聚物組合物的液態(tài)進行尤其是在聚合期間不可避免地發(fā)生的收縮，由此在壓花過程尤其是uv壓花過程中，與傳統(tǒng)材料相比顯著地改善了制?？煽啃?，尤其是與傳統(tǒng)的uv壓花聚合物相比明顯地減小了損害壓花可靠性的收縮率。在使用表面活性抗粘添加劑的情況下，在后序使用中明顯地減小了在壓花漆與墊片或印模之間的粘附能即粘著性，這使得這兩種材料能夠無殘留地分離和/或無殘留地彼此脫離。

根據(jù)本發(fā)明的壓花漆具有特別低的粘度，允許快速填滿(auffüllen)壓花工具中的空穴，并且能夠?qū)崿F(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的制模?？梢酝ㄟ^添加界面活性添加劑控制壓花漆的表面能和/或界面能，并由此還控制壓花漆的潤濕特性。

根據(jù)本發(fā)明的壓花漆在此能夠使在第二步驟中氣相沉積的層直接lift-off-結(jié)構(gòu)化，這是因為可以完全去除壓花漆，從而在基材薄膜上在犧牲漆結(jié)構(gòu)之間不留有殘余漆層。因此在使用壓花漆時不需要例如通過耗費時間的o2等離子蝕刻而去除殘余漆。

根據(jù)本發(fā)明的一個改變的實施方案，通過如此形成壓花漆，丙烯酸酯單體選自以下組中：丙烯?；鶈徇?acmo)或丙烯酸異冰片基酯(iboa)，使用極小的可移動的反應(yīng)性單體作為丙烯酸酯單體，由此可以整體上大幅提高聚合速度，并且可以確保特別快速地完全硬化及由此確保壓花漆的高的制?？煽啃?abformtreue)。

為了在uv壓花/硬化期間使形成壓花漆的組合物的聚合度保持盡可能地小并由此使溶解度和/或溶解速度最大化，在根據(jù)本發(fā)明的壓花漆的一個改變的實施方案中，硫醇的含量為所述預(yù)聚物組合物的0.5至20重量％。通過此類改變的實施方案，能夠使在聚合作用中發(fā)生的損害壓花可靠性的收縮率保持盡可能地小。

在本發(fā)明的一個改變的實施方案中，為了尤其是使在所述形成的預(yù)聚物組合物的uv聚合作用期間和/或之后壓花漆在表面例如鎳墊片表面上的粘著性保持盡可能地低或者完全加以防止，表面活性抗粘添加劑是選自以下組中的含硅或含氟的添加劑：非離子表面活性劑如聚醚硅氧烷、脂肪醇乙氧基化物如聚氧乙烯-(9)-十二烷基醚、單官能的聚二甲基硅氧烷-(甲基)丙烯酸酯、全氟正烷基-(甲基)丙烯酸酯或全氟聚醚(甲基)丙烯酸酯，其含量尤其是0.1至3重量％。含硅或含氟的添加劑有助于減小粘著性并使由所述預(yù)聚物組合物形成的壓花漆從壓花工具脫離變?nèi)菀?，其中尤其是全氟化的添加劑被證明是特別有利的，并且能夠可靠地多次進行圖案樣板(muster)的制模。

根據(jù)本發(fā)明的一個改變的實施方案，通過在形成壓花漆的預(yù)聚物組合物中所含的光敏引發(fā)劑選自以下組中：噻噸酮、酮砜(ketosulphone)、(烷基)苯甲?；?苯基-氧化膦、1-羥基烷基苯基酮或2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮，從而能夠有效地引發(fā)聚合作用。

根據(jù)本發(fā)明的一個改變的實施方案，通過光敏引發(fā)劑的含量為0.1至10重量％，尤其是0.5至5重量％，從而可以針對性地控制形成壓花漆的組合物的聚合速度。一般而言，光敏引發(fā)劑的濃度越高，則在所用的薄層中聚合速度越大，從而尤其是0.5至5重量％的量的光敏引發(fā)劑對于根據(jù)本發(fā)明用途的聚合作用被證明是有利的。

在本發(fā)明的一個改變的實施方案中，為了形成尤其是具有高的聚合速度并且具有低的聚合度的壓花漆，所述硫醇為選自以下組中的單硫醇或二硫醇：辛硫醇、1,8-辛二硫醇、癸硫醇、1,10-癸二硫醇、十二烷硫醇、1,12-十二烷二硫醇、2-乙基己基巰基乙酸酯、2-乙基己基-3-巰基丙酸酯、2-乙基己基-2-巰基乙酸酯(2-ethylhexylthioglycolat)、乙二醇二(3-巰基丙酸酯)、乙二醇二(巰基乙酸酯)、甘油基二巰基乙酸酯或甘油基二(3-巰基丙酸酯)。

在本發(fā)明的一個改變的實施方案中，為了確保對壓花漆以無殘留的方式進行壓花，所述預(yù)聚物組合物的粘度為10至100mpa·s。

此外，本發(fā)明還涉及對用根據(jù)本發(fā)明的壓花漆涂覆的基底表面進行壓花的方法，其中在此情況下根據(jù)本發(fā)明的方法顯然可以各種不同的方式實施，而不會改變根據(jù)本發(fā)明的結(jié)果。此類方法的目的是形成和/或產(chǎn)生納米結(jié)構(gòu)化的面和/或結(jié)構(gòu)，并多次通過常用的制模法和/或壓印法將該結(jié)構(gòu)制模。

為了實現(xiàn)所述目的，根據(jù)本發(fā)明的方法的特征基本上在于以下步驟：

a)在載體上施加一層壓花漆，

b)對壓花漆進行uv結(jié)構(gòu)化，

c)任選施加至少一個其他的待結(jié)構(gòu)化的層，其選自金屬層、半導(dǎo)體層和/或介電層，

d)利用任選存在的選自以下組中的添加劑使在步驟b)中結(jié)構(gòu)化之后留下的壓花漆脫離：ph值在1至6范圍內(nèi)的稀釋的酸、ph值在8至13范圍內(nèi)的稀釋的堿液或包含表面活性劑的水或丙二醇單甲醚乙酸酯(pgmea)、n-甲基-2-吡咯烷酮(nmp)、甲乙酮(mek)或丙酮。

能動實施根據(jù)本發(fā)明的方法中的最初兩個步驟，能夠產(chǎn)生作為犧牲層的納米結(jié)構(gòu)化的漆層，其可以金屬化或者涂覆另一層，隨后可以利用水或有機溶劑如pgmea使留下的壓花漆的結(jié)構(gòu)脫離。對于此類方法優(yōu)選的是，基于acmo的壓花漆在水中、稀釋的酸或堿液和/或特定的溶劑中是可溶的，從而在各種情況下均可以避免使用有毒和/或強烈腐蝕性的化學(xué)品，此外通過此類方法可以大面積形成納米結(jié)構(gòu)。

為了實現(xiàn)壓花漆的表面的精確可重復(fù)的結(jié)構(gòu)化或者還實現(xiàn)其金屬化的表面的精確結(jié)構(gòu)化，根據(jù)本發(fā)明的方法基本上以如下方式實施，通過uv納米壓印平版印刷法實施壓花漆的uv結(jié)構(gòu)化。

根據(jù)本發(fā)明的一個改變的實施方案，施加由以下材料制成的其他待結(jié)構(gòu)化的層：金屬，如鎳、鋁、鉻或鈦，共軛有機半導(dǎo)體，如五嗪、c60、噻吩、dntt；p3ht、酞菁、h-橋接的有機半導(dǎo)體，如靛藍(lán)和靛藍(lán)衍生物以及喹吖啶酮和蒽醌，無機半導(dǎo)體，如zno、sno、ingazno或電介質(zhì)，其選自聚降冰片烯、ormocere、纖維素、pvci、bcb、pmma、蟲膠(schellack)、聚酰亞胺、cytop、pvdf、pvdf-trfe、聚苯乙烯、al2o3、zro2、sio2、sion、si3n4及它們的組合，通過這些層可以實現(xiàn)無缺陷地脫離。

可以通過以如下方式實施所述方法而實現(xiàn)特別好的結(jié)果，以5nm至500nm的層厚度施加其他待結(jié)構(gòu)化的金屬層、半導(dǎo)體層和/或介電層，其中待結(jié)構(gòu)化的層的厚度小于已結(jié)構(gòu)化的層的厚度的1/3。

由于所述uv壓花過程的無殘余情況，在nil壓花過程之后通常需要通過蝕刻步驟去除留下的殘余漆層的方式已經(jīng)過時不用。

根據(jù)本發(fā)明的一個改變的實施方案，通過浸入溶劑浴中或者通過噴霧，任選利用額外的機械輔助工具，如用刷子刷或超聲處理，使在結(jié)構(gòu)化之后留下的壓花漆脫離，從而可以提供容易實施的對環(huán)境友好的方法，通過該方法可以無殘留地去除壓花漆的任何殘余物。通過此類工藝過程并使用上述壓花漆，可以避免使用任何氧-等離子-蝕刻(rie法)。

下面依照在附圖中所示的例子以及實施例更詳細(xì)地闡述本發(fā)明。

附圖說明

圖1所示為通過使uv壓花漆反濕潤而進行無殘余壓花的示意圖，

圖2所示為對pet薄膜進行無殘余的uv-nil-壓花的掃描電子照片，及

圖3所示為基于根據(jù)本發(fā)明的能夠lift-off的壓花漆作為犧牲層的lift-off-原理的示意圖，及

圖4所示為利用根據(jù)本發(fā)明的壓花漆制成的線形結(jié)構(gòu)和/或網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的四幅掃描電子顯微照片。

具體實施方式

如圖1所示，用基于丙烯酸酯的uv阻擋層(resist)2涂覆基材1，其還包含表面活性物質(zhì)。在接近壓花印模3時，由于阻擋層2的潤濕特性，在基材1與印模3之間的分解系數(shù)(spaltungskoeffizient)即界面能減去在基材1與阻擋層2之間及在阻擋層2與印模3之間的界面能是負(fù)的，從而阻擋層2在印模表面與基材1之間退回(zurückzieht)，如顯示了在去除壓花印模3之后完全硬化的uv壓花漆的圖1b所示，該壓花漆2具有與印模3相對應(yīng)的缺口4。

通過此類無殘留的uv-nil-壓花，省略掉在納米壓印平版印刷法中通常需要的氧-等離子-蝕刻步驟(rie)以去除在基材1上可能存在的殘余漆層，如圖2中所示。圖2清楚地顯示了，在用壓花漆2涂覆的基材薄膜1上不存在殘余的壓花漆2，在此壓花印模3使得基材上的uv阻擋層反濕潤。

圖3示意性地顯示了lift-off-過程的工藝步驟的順序。

在圖3a中，在基材1上施加犧牲層，例如感光漆(photolack)2。圖3b顯示了，使?fàn)奚鼘?結(jié)構(gòu)化，雖然在此情況下具有負(fù)的側(cè)壁角。

在圖3c中，用諸如鋁的目標(biāo)材料5覆蓋暴露出的基材1以及留下的犧牲層2的全部表面。

圖3d示意性地顯示了在濕化學(xué)過程中在此情況下在水中犧牲層和/或阻擋層2的溶解。犧牲層2溶解在水6中，并通過犧牲層2使在之前的步驟中在基材1上留有犧牲層2的全部區(qū)域暴露出，并使位于犧牲層2上方的目標(biāo)材料5連同犧牲層2一起脫離和/或去除，從而留下具有沉積的目標(biāo)材料5的基材1。在將基材1干燥之后，在基材1上的結(jié)構(gòu)化的目標(biāo)材料5用于進一步的用途，如圖3e所示。

圖4所示為結(jié)構(gòu)化的目標(biāo)材料5的照片，其中在此是掃描電子顯微照片，其中將鋁作為結(jié)構(gòu)化的目標(biāo)材料。獲得的線寬度為400nm。由掃描電子顯微照片可以看出，通過根據(jù)本發(fā)明的壓花漆和/或壓花方法可以實現(xiàn)線形圖案樣板(linienmuster)的清晰的結(jié)構(gòu)，并且絕對沒有殘余的阻擋層留在所述結(jié)構(gòu)的表面上。

實施例1:

制備根據(jù)本發(fā)明的壓花漆

通過凹版印刷將84％丙烯?；鶈徇?acmo)、10％的2-乙基己基-2-巰基乙酸酯(2-ethylhexylthioglykolat)、5％作為光敏引發(fā)劑的2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮以及1％聚硅氧烷表面活性劑施加在厚度為50μm的pet薄膜上，其中凹版印刷輥的汲取體積為1.6ml/m²，這對應(yīng)于約0.8μm的濕層厚度(nassschichtdicke)，并利用具有結(jié)構(gòu)寬度為5μm且結(jié)構(gòu)高度為1μm的凸出的壓花結(jié)構(gòu)的鎳壓花工具以10m/min的軌道速度(bahngeschwindigkeit)進行壓花。對輥(gegenwalze)處的氣動壓力為4巴。通過用hg-中壓蒸汽燈以100w/cm進行照射而實施uv聚合。

實施例2

制備根據(jù)本發(fā)明的壓花漆

通過凹版印刷將84％的ioba、10％的2-乙二醇二(3-巰基丙酸酯)、5％作為光敏引發(fā)劑的2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮以及1％的1h,1h,2h,2h-全氟辛基丙烯酸酯施加在厚度為50μm的pet薄膜上，其中凹版印刷輥的小杯體積為1.6ml/m²，這對應(yīng)于約0.8μm的濕層厚度，并利用具有結(jié)構(gòu)寬度為5μm且結(jié)構(gòu)高度為1μm的凸出的壓花結(jié)構(gòu)的鎳壓花工具以10m/min的軌道速度進行壓花。對輥處的氣動壓力為4巴。通過用hg-中壓蒸汽燈以100w/cm進行照射而實施uv聚合。

實施例3

制備根據(jù)本發(fā)明的壓花漆

通過凹版印刷將84％丙烯酰基嗎啉(acmo)、10％十二烷硫醇、5％作為光敏引發(fā)劑的乙基(2,4,-三甲基苯甲?；?苯基亞膦酸酯以及1％的1h,1h,2h,2h-全氟辛基乙酸酯施加在厚度為50μm的pet薄膜上，其中凹版印刷輥的小杯體積為1.6ml/m²，這對應(yīng)于0.8μm的濕層厚度，并利用具有結(jié)構(gòu)寬度為5μm且結(jié)構(gòu)高度為1μm的凸出的壓花結(jié)構(gòu)的鎳壓花工具以10m/min的軌道速度進行壓花。對輥處的氣動壓力為4.2巴。通過用hg-中壓蒸汽燈以100w/cm進行照射而實施uv聚合。

實施例4

制備根據(jù)本發(fā)明的壓花漆

通過凹版印刷將84％的iboa、10％的2-乙基己基-2-巰基乙酸酯、5％作為光敏引發(fā)劑的乙基(2,4,-三甲基苯甲?；?苯基亞膦酸酯以及1％的gemini-硅氧烷表面活性劑施加在厚度為50μm的pet薄膜上，其中凹版印刷輥的小杯體積為1.6ml/m²，這對應(yīng)于0.8μm的濕層厚度，并利用具有結(jié)構(gòu)寬度為5μm且結(jié)構(gòu)高度為1μm的凸出的壓花結(jié)構(gòu)的鎳壓花工具以10m/min的軌道速度進行壓花。對輥處的氣動壓力為3.8巴。通過用hg-中壓蒸汽燈以100w/cm進行照射而實施uv交聯(lián)。

實施例5

通過氣相沉積30nm鎳對根據(jù)實施例1產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行金屬化，在金屬化之后，通過將金屬化的薄膜引入水浴中并加熱至40℃的溫度及通過采取額外的措施，如超聲處理、噴霧、用刷子刷等，使壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使水溶性壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的金屬層脫離，同時使直接位于在之前的壓花步驟中暴露出的薄膜區(qū)域上的金屬層區(qū)域留在薄膜上。因此在lift-off-過程之后僅剩下壓花的漆結(jié)構(gòu)的負(fù)的金屬結(jié)構(gòu)。

實施例6

通過氣相沉積30nm鋁對根據(jù)實施例3產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行金屬化，在金屬化之后通過在水浴中采用超聲處理而使多余的壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使水溶性壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的金屬層脫離，從而在lift-off-過程之后僅剩下壓花的圖案(profil)的負(fù)的圖案，其僅由金屬結(jié)構(gòu)組成。

實施例7

通過氣相沉積30nm鉻對如此產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行金屬化，在金屬化之后通過將金屬化的結(jié)構(gòu)引入水浴中并加熱至60℃的溫度，通過噴霧及壓力，通過采用超聲處理及采取額外的措施，如振動、用刷子刷等，使多余的壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使水溶性壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的金屬層脫離，從而在lift-off-過程之后僅剩下壓花的圖案的負(fù)的圖案，其僅由金屬結(jié)構(gòu)組成。

實施例8

通過氣相沉積30nm鋁對根據(jù)實施例2產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行金屬化，在金屬化之后通過將金屬化的結(jié)構(gòu)引入丙二醇單甲醚乙酸酯(pgmea)中并加熱至50℃的溫度，通過采取額外的措施，如振動、用刷子刷等，使多余的壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使可溶于溶劑的壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的金屬層脫離，從而在lift-off-過程之后僅剩下壓花的圖案的負(fù)的圖案，其僅由金屬結(jié)構(gòu)組成。

實施例9

通過氣相沉積30nm的p3ht對根據(jù)實施例4產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行涂覆，在涂覆之后通過將涂覆的結(jié)構(gòu)引入水浴中并加熱至50℃的溫度或者通過噴射水及壓力而使多余的壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的半導(dǎo)體層脫離，從而在lift-off-過程之后僅剩下壓花的圖案的負(fù)的圖案，其僅由有機半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)組成。

實施例10

通過氣相沉積30nm的zno對根據(jù)實施例4產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進行涂覆，在涂覆之后通過將涂覆的結(jié)構(gòu)引入丙二醇單甲醚乙酸酯(pgmea)中并加熱至50℃的溫度或者通過噴射溶劑及壓力而使多余的壓花漆結(jié)構(gòu)脫離。在此類處理中，使壓花漆溶解，同時利用壓花漆使位于壓花漆上方的半導(dǎo)體層脫離，從而在lift-off-過程之后僅剩下壓花的圖案的負(fù)的圖案，其僅由無機半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)組成。