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窄預(yù)沉積激光去除的制作方法

文檔序號(hào):12141716閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
某些方面涉及在基本上透明基板上制造光學(xué)裝置的方法,所述方法包括預(yù)沉積操作,所述預(yù)沉積操作在與所述基板的外邊緣相距一定距離處移除下導(dǎo)體層的一定寬度,以便在所述外邊緣處形成襯墊??稍谶吘壢コ蟛僮髦幸瞥鲆r墊和所述光學(xué)裝置的任何沉積層。

技術(shù)研發(fā)人員:阿比什克·阿南特·迪克西特;托德·馬丁;安舒·A·普拉丹
受保護(hù)的技術(shù)使用者:唯景公司
文檔號(hào)碼:201580039994
技術(shù)研發(fā)日:2015.07.02
技術(shù)公布日:2017.03.22

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