技術(shù)總結(jié)
一種修正圖形的方法,包括:當(dāng)掩膜板圖形的尺寸小于預(yù)定值范圍時,利用掩膜板的玻璃基板的透光性和遮光層的不透光性,曝光光束由玻璃基板背面射入,經(jīng)由遮光層射入至光刻膠層,對光刻膠層進(jìn)行曝光;顯影后形成待刻蝕圖形;刻蝕顯影后剩余光刻膠層,使待刻蝕圖形的關(guān)鍵尺寸增大至預(yù)定值范圍;以刻蝕后的光刻膠層為掩膜,沿關(guān)鍵尺寸增大后的待刻蝕圖形刻蝕遮光層至露出玻璃基板,形成滿足預(yù)定值尺寸范圍的圖形。本發(fā)明在曝光時不需要對準(zhǔn),從而解決了曝光時對準(zhǔn)精度低這一問題。
技術(shù)研發(fā)人員:張士健
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
文檔號碼:201510158375
技術(shù)研發(fā)日:2015.04.03
技術(shù)公布日:2016.11.23