本發(fā)明涉及一種包括減反射涂層的光學(xué)制品，該減反射涂層大大降低了在UV區(qū)和在可見(jiàn)區(qū)二者內(nèi)的反射。該光學(xué)制品可以尤其是眼科鏡片，尤其是眼鏡片。
背景技術(shù)：
：減反射涂層通常由包括多個(gè)干涉薄層的一個(gè)多層組成，該多層通常是基于具有高折射率的介電材料和具有低折射率的介電材料的多個(gè)層的交替。當(dāng)沉積在透明基底上時(shí)，此類(lèi)涂層的功能是減小其光反射并且因此增加其光透射。如此涂覆的基底將因此使其透射光/反射光比值增加，由此提高放置在其后面的物體的可見(jiàn)性。當(dāng)尋求獲得最大減反射效果時(shí)，那么優(yōu)選的是向該基底的兩個(gè)面(前面和后面)提供這種類(lèi)型的涂層。此減反射涂層通常用于眼科領(lǐng)域。因此，傳統(tǒng)的減反射涂層被設(shè)計(jì)并優(yōu)化為減小可見(jiàn)區(qū)(典型地在從380至780nm的光譜范圍內(nèi))在鏡片表面上的反射。通常，在眼科鏡片的前面和/或后面上的可見(jiàn)區(qū)中的平均光反射系數(shù)Rv是在1.5％至2.5％之間。這些減反射涂層中的一些也可以被設(shè)計(jì)并優(yōu)化為減小在鏡片表面上的從315至400nm的UVA波段和/或從280至315nm的UVB波段內(nèi)的反射。這些UVA和UVB波段對(duì)于視網(wǎng)膜確實(shí)特別有害。對(duì)于傳統(tǒng)的減反射鏡片而言，UVA和UVB區(qū)域中的平均反射可以因此達(dá)到高水平(最高達(dá)60％)。在一方面，關(guān)于近年來(lái)由大部分制造商已經(jīng)銷(xiāo)售的非太陽(yáng)減反射制品，對(duì)于從30°至45°的入射角，UV平均反射范圍是從10％至25％。由于來(lái)自佩戴者前面并且可以達(dá)到佩戴者眼睛(正入射，0至15°)的大部分UV輻射總體上被眼科鏡片基底吸收，所以鏡片前面不存在問(wèn)題。可以通過(guò)太陽(yáng)眼科鏡片獲得針對(duì)UV輻射透射的更好保護(hù)，這些太陽(yáng)眼科鏡片被研究并被設(shè)計(jì)為減小可見(jiàn)光譜光度、完全吸收UVB并且完全或部分吸收UVA。另一方面，如果鏡片未配備有在紫外區(qū)有效的減反射涂層，那么由位于佩戴者后面的光源產(chǎn)生的UV輻射可以在鏡片后面反射并且到達(dá)佩戴者的眼睛，由此潛在地影響佩戴者的健康。這種現(xiàn)象通過(guò)具有高直徑的時(shí)尚太陽(yáng)眼鏡的趨勢(shì)變得更強(qiáng)，這些高直徑增加了雜散反射進(jìn)入眼睛的風(fēng)險(xiǎn)。應(yīng)承認(rèn)，可以反射到鏡片后面并且達(dá)到佩戴者眼睛的光線具有狹窄入射角范圍，范圍為從30°至45°(斜入射)。目前還沒(méi)有涉及來(lái)自后面的UV輻射反射的標(biāo)準(zhǔn)。此外，優(yōu)化整個(gè)紫外區(qū)范圍內(nèi)的減反射性能通常顯示不利于可見(jiàn)區(qū)內(nèi)的減反射性能。相反地，僅優(yōu)化可見(jiàn)區(qū)內(nèi)的減反射性能不確保在紫外區(qū)可以獲得令人滿意的減反射特性。有很多用于制備減反射涂層的專(zhuān)利處理方法，該減反射涂層在可見(jiàn)區(qū)是有效的，并且同時(shí)最終能夠減小UV輻射反射。例如，申請(qǐng)WO2012/076714描述一種在可見(jiàn)區(qū)具有極低反射率值的眼科鏡片。此眼科鏡片包括具有前主面和后主面的基底，該后主面涂覆有多層式減反射涂層，該多層式減反射涂層包括具有高于1.6的折射率的至少一個(gè)層和具有低于1.5的折射率的至少一個(gè)層的堆疊體。該眼科鏡片的特征是：-可見(jiàn)區(qū)內(nèi)在所述后面上的平均反射系數(shù)Rm低于或等于1.15％，-可見(jiàn)區(qū)內(nèi)在所述后面上的平均光反射系數(shù)Rv低于或等于1％，-對(duì)于30°的入射角并且對(duì)于45°的入射角，由在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)W(λ)加權(quán)的280nm與380nm之間在所述后面上的平均反射系數(shù)RUV低于5％，-該多層式減反射涂層包括高于或等于3并且低于或等于7、優(yōu)選地低于或等于6、更優(yōu)選地低于或等于5層的多個(gè)層，-該多層式減反射涂層不包括基于氧化銦的具有高于或等于20nm厚度的任何導(dǎo)電層，并且-該減反射涂層外層是基于二氧化硅的層。此申請(qǐng)中所描述的減反射涂層在可見(jiàn)區(qū)中是非常有效的(Rv低于或等于1％)，與此同時(shí)能夠顯著地減小UVA輻射反射，尤其是紫外A線和紫外B線。然而，將明智的是改善其穩(wěn)健性及其美學(xué)外觀，尤其是在斜入射時(shí)。本發(fā)明中術(shù)語(yǔ)鏡片的“穩(wěn)健性”被定義為該鏡片抵抗除了由其制造過(guò)程引起的變化之外的改變的能力。例如，這些變化取決于所使用基底的類(lèi)型、生產(chǎn)機(jī)械的設(shè)定(溫度制度、適當(dāng)時(shí)間、電子槍的設(shè)定)和/或其使用模式，所述生產(chǎn)機(jī)械被另一個(gè)生產(chǎn)機(jī)械替換。事實(shí)上，當(dāng)以工業(yè)規(guī)模制造多層式減反射涂層時(shí)，各層通常發(fā)生一些厚度變化。這些變化導(dǎo)致不同的反射性能，并且尤其是該多層式減反射涂層的不同感知的殘余反射顏色。如果兩個(gè)鏡片的減反射涂層的感知?dú)堄喾瓷漕伾煌?，那么這些鏡片將顯得不同并且將不能夠關(guān)聯(lián)成對(duì)。此外，取決于鏡片的曲率和入射值(角度θ)，各鏡片的該多層式減反射涂層的殘余反射顏色在該鏡片整個(gè)表面上似乎顏色不均勻(“變色效果”)。觀察者根據(jù)入射角θ可以觀察到鏡片的右部分與左部分之間的不同殘余反射顏色，如不同色調(diào)“h”的顏色漸變(不同顏色，例如從藍(lán)色轉(zhuǎn)變成紅色)或不同顏色強(qiáng)度的顏色漸變(例如，從飽和色轉(zhuǎn)變成較不飽和色，或相反)。因此，將希望通過(guò)查看鏡片佩戴者的觀察者獲得例如鏡片表面的均勻感知?dú)堄喾瓷漕伾珌?lái)改進(jìn)這種鏡片的美學(xué)外觀。迄今為止開(kāi)發(fā)的大多數(shù)減反射涂層被優(yōu)化為最小化正入射的光反射，而不考慮在斜入射時(shí)可見(jiàn)的該多層式減反射涂層的光學(xué)和美學(xué)外觀和/或其穩(wěn)健性特性。文件JP2011-141339描述了一種減反射膜，該減反射膜旨在被置于基底上、在400至700nm的波長(zhǎng)下具有最多0.2％的最大反射率。特別地，該減反射膜包括11層，這些層具有依次地低和高的折射率(即，交替地SiO2和TiO2)并且在背離基底的方向上具有以下厚度：1)SiO2層：10-31nm；2)TiO2層：4-34nm；3)SiO2層：18-45nm；4)TiO2層：102-117nm；5)SiO2層：7-27nm；6)TiO2層：2-18nm；7)SiO2層：153-180nm；8)TiO2層：29-41nm；9)SiO2層：2-13nm；10)TiO2層：53-66nm；11)SiO2層：83-95nm。然而，該文件沒(méi)有提及這種減反射膜在UV區(qū)，尤其是在UVA波段(即：其范圍是從315nm至380nm)中的反射率。因此，仍然存在提供新穎的減反射涂層的需要，這些減反射涂層在可見(jiàn)區(qū)中以及在UV區(qū)中、尤其是在UVA中具有很好的減反射特性，同時(shí)與現(xiàn)有技術(shù)的減反射涂層相比，無(wú)論入射角如何，均具有穩(wěn)健性特性和美學(xué)外觀。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：因此本發(fā)明的一個(gè)目的是通過(guò)尋求開(kāi)發(fā)一種透明的光學(xué)制品、尤其是眼科鏡片來(lái)解決上述缺點(diǎn)，該光學(xué)制品包括呈無(wú)機(jī)或有機(jī)玻璃的一個(gè)基底，該基底包括至少一個(gè)減反射涂層，所述減反射涂層在UV區(qū)和在可見(jiàn)區(qū)中具有很好的減反射性能，同時(shí)保證良好的美學(xué)(無(wú)論入射角如何)以及高穩(wěn)健性二者，并且這樣做不影響其制造的經(jīng)濟(jì)和/或工業(yè)可行性。在本發(fā)明的另一個(gè)方面中，與裸基底或與包括傳統(tǒng)的減反射涂層的基底相比，該減反射涂層能夠減小UV輻射反射，尤其是紫外A線和紫外B線。因此本發(fā)明涉及一種光學(xué)制品，優(yōu)選眼科鏡片，包括以下的眼科鏡片，該眼科鏡片包括具有前主面和后主面的透明基底，這些主面中的至少一個(gè)涂覆有多層式減反射涂層，該多層式減反射涂層包括具有高于或等于1.55的折射率的至少一個(gè)高折射率層(HI)和具有低于1.55的折射率的至少一個(gè)低折射率層(LI)的堆疊體，其特征在于：■所述至少一個(gè)高折射率層(HI)和所述至少一個(gè)低折射率層(LI)是相鄰的，形成雙層，■所述雙層具有低于或等于60nm、優(yōu)選地低于或等于30nm的物理厚度■所述雙層在背離所述透明基底的方向上是在所述多層式減反射涂層中位于倒數(shù)第二位置處，■對(duì)于在從20°至50°范圍內(nèi)的入射角，所述多層式減反射涂層具有低于5％的由在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)W(λ)加權(quán)的在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)RUV。本申請(qǐng)人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在該減反射堆疊體中在它們的位置中組合的分別具有高折射率和低折射率的兩個(gè)相鄰層的低厚度使得可能獲得在寬反射波段(UVA、UVB和可見(jiàn)區(qū))內(nèi)的減反射效果，具有透射的中性色調(diào)和反射的吸引人的外觀(無(wú)論觀察如此涂覆的基底的入射角如何)。此外，出乎意料地發(fā)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片呈現(xiàn)良好的穩(wěn)健性特性。附圖說(shuō)明將通過(guò)參照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明，其中：-圖1示出在本申請(qǐng)的實(shí)例(實(shí)例1和7)中制備的一些鏡片的前面表面上并對(duì)于以15°入射角的光譜函數(shù)W(λ)的θ反射(R，％)作為在UVA(315至400nm)波段、UVB(280至315nm)波段以及在可見(jiàn)區(qū)(380至780nm)中的波長(zhǎng)的函數(shù)而變化。特別地，鏡片1是根據(jù)本發(fā)明制備的，并且鏡片7是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的對(duì)比實(shí)例；并且-圖2是示出了以上描述的鏡片1至7的光學(xué)特性的表。具體實(shí)施方式術(shù)語(yǔ)“包含”(及其任何語(yǔ)法變化形式，例如“包含有(comprises)”和“包含了(comprising)”)、“具有”(及其任何語(yǔ)法變化形式，例如“有(has)”和“具有(having)”)、“含有”(及其任何語(yǔ)法變化形式，例如“含(contains)”和“含有了(containing)”)、以及“包括”(及其任何語(yǔ)法變化形式，例如“包括有(includes)”和“包括了(including)”)都是開(kāi)放式連接動(dòng)詞。它們用于指明其所述特征、整數(shù)、步驟或組分或基團(tuán)的存在，但不排除其一種或多種其他特征、整數(shù)、步驟或組分或基團(tuán)的存在或加入。因此，“包含”、“具有”、“含有”或“包括”一個(gè)或多個(gè)步驟或要素的方法或方法中的步驟具備所述一個(gè)或多個(gè)步驟或要素，但不限于僅具備所述一個(gè)或多個(gè)步驟或要素。除非另外指明，在此使用的所有關(guān)于成分、范圍、反應(yīng)條件等的數(shù)量的數(shù)字或表述應(yīng)被理解為在所有情況下均受術(shù)語(yǔ)“約”修飾。此外除非另外指明，根據(jù)本發(fā)明，對(duì)《從X至Y》或“在X至Y之間”的值的區(qū)間的指示意為包括X和Y的值。在本申請(qǐng)中，當(dāng)一個(gè)光學(xué)制品在其表面上包括一個(gè)或多個(gè)涂層時(shí)，表述“將一個(gè)層或涂層沉積到制品上”旨在是指將一個(gè)層或涂層沉積到制品的外涂層的外部(暴露的)表面上，即其距基底最遠(yuǎn)的涂層。所述要在基底“上”或沉積到基底“上”的涂層被定義為以下涂層，該涂層(i)放置在該基底上方；(ii)不一定與該基底接觸，即一個(gè)或多個(gè)中間涂層可以安排在所討論的基底與涂層之間；并且(iii)不一定完全覆蓋該基底。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，基底上的或沉積到基底上的涂層與此基底直接接觸。當(dāng)“層1位于層2之下”時(shí)，旨在是指層2比層1距該基底更遠(yuǎn)。如在此所使用的，基底的后(或內(nèi))面旨在是指當(dāng)使用該制品時(shí)離佩戴者的眼睛最近的面。它通常是一個(gè)凹面。相反，基底的前面是當(dāng)使用該制品時(shí)離佩戴者的眼睛最遠(yuǎn)的面。它通常是一個(gè)凸面。根據(jù)本發(fā)明制備的光學(xué)制品是一種透明的光學(xué)制品、優(yōu)選地是一種鏡片或鏡片毛坯、并且更優(yōu)選地是一種眼科鏡片或鏡片毛坯?？梢允褂帽景l(fā)明的方法涂覆光學(xué)制品的凸主側(cè)(前側(cè))、凹主側(cè)(后側(cè))、或兩側(cè)?？偠灾?，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)制品的減反射涂層(將稱(chēng)為“減反射涂層”)可沉積到任何基底上，并且優(yōu)選地沉積到有機(jī)鏡片基底(例如熱塑性或熱固性塑料材料)上。熱塑性塑料可以選自，例如：聚酰胺；聚酰亞胺；聚砜；聚碳酸酯及其共聚物；聚(對(duì)苯二甲酸乙二酯)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。熱固性材料可以選自，例如：環(huán)烯共聚物，諸如乙烯/降冰片烯或乙烯/環(huán)戊二烯共聚物；直鏈或支鏈脂肪族或芳香族多元醇的碳酸烯丙基酯的均聚物和共聚物，諸如二乙二醇雙(碳酸烯丙基酯)的均聚物；(甲基)丙烯酸及其酯的均聚物和共聚物，其可以來(lái)源于雙酚A；硫代(甲基)丙烯酸及其酯的聚合物和共聚物，可以來(lái)源于雙酚A或鄰苯二甲酸和烯丙基芳烴如苯乙烯的烯丙基酯的聚合物和共聚物，尿烷和硫代尿烷的聚合物和共聚物，環(huán)氧樹(shù)脂的聚合物和共聚物，以及硫化物、二硫化物和環(huán)硫化物的聚合物和共聚物，以及其組合。如在此所使用的，(共)聚合物旨在是指共聚物或聚合物。如在此所使用的，(甲基)丙烯酸酯旨在是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。如在此所使用的，聚碳酸酯(PC)旨在是指均聚碳酸酯或者共聚碳酸酯和嵌段共聚碳酸酯。在減反射涂層沉積到任選涂覆的基底(例如具有耐磨層和/或耐刮擦涂層或具有子層)上之前，所述任選涂覆的基底的表面通常經(jīng)受一種物理或化學(xué)表面活化處理，以便加強(qiáng)減反射涂層的粘附。這種預(yù)處理通常在真空下進(jìn)行。它可以是用高能和/或反應(yīng)性的物種例如用離子束(“離子預(yù)清理”或“IPC”)或用電子束進(jìn)行的轟擊、電暈放電處理、離子散裂處理、紫外線處理或真空下等離子體介導(dǎo)的處理(通常使用氧或氬等離子體)。它還可以是酸處理或堿處理和/或基于溶劑的處理(水、過(guò)氧化氫或任何有機(jī)溶劑)。如前面提及的，根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片包括具有前主面和后主面的透明基底，這些主面中的至少一個(gè)涂覆有多層式減反射涂層，該多層式減反射涂層包括具有高于或等于1.55的折射率的至少一個(gè)高折射率層(HI)和具有低于1.55的折射率的至少一個(gè)低折射率層(LI)的堆疊體，其特征在于：■所述至少一個(gè)高折射率層(HI)和所述至少一個(gè)低折射率層(LI)是相鄰的，形成雙層，■所述雙層具有低于或等于60nm、優(yōu)選地低于或等于30nm的物理厚度，■所述雙層在背離所述透明基底的方向上是在所述多層式減反射涂層中位于倒數(shù)第二位置處，■對(duì)于在從20°至50°范圍內(nèi)的入射角，所述多層式減反射涂層具有低于5％、優(yōu)選地低于4％、在理想的情況下低于3.5％的由在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)W(λ)加權(quán)的在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)RUV。特別地，包括在所述雙層中的高折射率層(HI)優(yōu)選具有低于或等于30nm、優(yōu)選低于或等于20nm、更優(yōu)選低于或等于15nm、特別是低于或等于10nm并且理想地低于或等于9nm的物理厚度，條件是該雙層的總物理厚度是低于或等于60nm，優(yōu)選低于或等于30nm。另外，根據(jù)本發(fā)明，包括在所述雙層中的低折射率層(LI)優(yōu)選具有低于或等于30nm、優(yōu)選低于或等于20nm、更優(yōu)選低于或等于15nm、特別是低于或等于10nm并且理想地低于或等于9nm的物理厚度，條件是該雙層的總物理厚度是低于或等于60nm，優(yōu)選低于或等于30nm?？傮w上并且如在下面將解釋的，最后一層，也稱(chēng)為“外層”是低折射率層，例如由SiO2制成。術(shù)語(yǔ)“外層”應(yīng)理解為是指或者單層或多個(gè)層的疊加，其中它們中的每一個(gè)滿足指示的折射率，并且其中它們的幾何厚度的總和還保持針對(duì)所討論的層指示的值。例如，該外層可以由兩個(gè)層制成，這兩個(gè)層由SiO2制成、具有相同或非常接近的折射率，或者一個(gè)可以由SiO2制成而另一個(gè)由二氧化硅和氧化鋁的混合物、尤其是摻有氧化鋁的二氧化硅制成，條件是它們二者都具有低折射率。此外，當(dāng)對(duì)減反射涂層中的層數(shù)計(jì)數(shù)時(shí)，將不考慮具有低于1nm厚度的任何層。除非另有說(shuō)明，否則本申請(qǐng)中披露的所有厚度涉及物理厚度。根據(jù)本發(fā)明，“入射角(符號(hào)θ)”是由入射在眼科鏡片表面上的光線與入射點(diǎn)處表面法線形成的角度。光線是例如發(fā)光的光源，諸如像在國(guó)際比色CIEL*a*b*中定義的標(biāo)準(zhǔn)光源D65。總體上入射角從0°(正入射)至90°(掠入射)變化。入射角的常見(jiàn)范圍是0°至75°。在本申請(qǐng)中，由根據(jù)ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)定義的W(λ)函數(shù)加權(quán)并且記為RUV的在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)可以通過(guò)以下關(guān)系式定義：其中R(λ)表示在給定波長(zhǎng)下的鏡片光譜反射系數(shù)，并且W(λ)表示等于太陽(yáng)光譜輻照度Es(λ)和效率相對(duì)光譜函數(shù)S(λ)的乘積的加權(quán)函數(shù)。根據(jù)ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)定義能夠計(jì)算紫外線輻射透射系數(shù)的光譜函數(shù)W(λ)。由于同時(shí)考慮了太陽(yáng)光譜能量Es(λ)(與UVA-射線相比，總體發(fā)出更少UVB-射線)和光譜效率S(λ)(UVB-射線比UVA-射線更有害)，所以這使得可能表達(dá)對(duì)佩戴者的由這種輻射的相對(duì)光譜效率調(diào)節(jié)的紫外線太陽(yáng)輻射分布。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，沉積到透明基底的至少一個(gè)主表面上的減反射涂層是使得：-對(duì)于15°的入射角θ，根據(jù)國(guó)際比色CIEL*a*b*，色度C*是低的并且等于或低于13、優(yōu)選地為10，和/或-對(duì)于小于或等于35°、優(yōu)選低于或等于30°并且典型地低于或等于15°的入射角θ，根據(jù)國(guó)際比色CIEL*a*b*，色調(diào)(h)范圍是從250°至330°、優(yōu)選從260°至320°、更優(yōu)選從260°至305°；和/或-由比色CIEL*a*b*定義的對(duì)于15°和45°的入射角的減反射涂層的ΔE76是低于或等于12，優(yōu)選低于或等于9。因此，本發(fā)明的減反射涂層顯示根據(jù)入射角θ的平滑的感知?dú)堄囝伾兓?。將?biāo)準(zhǔn)光源D65和觀察者考慮在內(nèi)(10°的角度)，在280與780nm之間計(jì)算在國(guó)際比色體系CIEL*a*b*中的本發(fā)明光學(xué)制品的比色系數(shù)?？赡苤苽錅p反射涂層而關(guān)于其色調(diào)角沒(méi)有限制。觀察者是如在國(guó)際比色體系CIEL*a*b*中定義的“標(biāo)準(zhǔn)觀察者”。這種國(guó)際比色體系尤其使得能夠確定顏色變化：CIEΔE76。該參數(shù)是根據(jù)“CIE1976L*a*b*顏色空間標(biāo)準(zhǔn)由以下式定義的：其中：L1、a1、b1，其是要比較的第一顏色的CIELab顏色空間中的坐標(biāo)并且L2、a2、b2是要比較的第二顏色的坐標(biāo)(當(dāng)ΔE76<2時(shí)，此顏色差異是人類(lèi)視力察覺(jué)不到的)。如在以下實(shí)例中將說(shuō)明的，對(duì)于從15°至45°變化的入射角，減反射涂層的色調(diào)h基本上是恒定的，即典型地在250°至330°之間。事實(shí)上，當(dāng)入射角從0至30°變化時(shí)，感知?dú)堄喾瓷漕伾珜?duì)于具有正常視力的觀察者而言是“相同”的。當(dāng)對(duì)于高于30°的入射角，減反射涂層的色調(diào)開(kāi)始變化時(shí)，色度C*非常低(低于或等于8)，即，感知?dú)堄喾瓷漕伾浅５沟糜^察者不可感知或幾乎不可見(jiàn)殘余反射顏色。因此，無(wú)論入射角如何，根據(jù)本發(fā)明鏡片的減反射涂層的殘余反射顏色是均勻的。因此，它具有良好美學(xué)性能(根據(jù)入射角的平滑的顏色變化)。此外，根據(jù)本發(fā)明的減反射涂層被尤其設(shè)計(jì)為在可見(jiàn)區(qū)具有很好的減反射性能，和/或使紫外輻射(在鏡片上具有范圍尤其為從30°至45°的入射角)朝向眼睛的反射最小化，并且其優(yōu)選的特征描述如下。優(yōu)選地，對(duì)于小于35°的至少一個(gè)入射角，眼科鏡片在可見(jiàn)區(qū)中的平均光反射系數(shù)Rv低于或等于2.0％、優(yōu)選地等于或低于1.5％、更優(yōu)選地等于或低于1.0％。在本發(fā)明的含義內(nèi)，“平均光反射系數(shù)”，記為Rv，是諸如在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的，并且根據(jù)ISO8980-4測(cè)量，即，這是在380與780nm之間的整個(gè)可見(jiàn)光譜內(nèi)的加權(quán)的光譜反射平均值。Rv通常針對(duì)低于17°、典型地為15°的入射角來(lái)測(cè)量，但可以針對(duì)任何入射角來(lái)評(píng)估。在本申請(qǐng)中，“平均反射系數(shù)”，記為Rm，是諸如在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的，并且根據(jù)ISO8980-4標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量，即，這是在400與700nm之間的整個(gè)可見(jiàn)光譜內(nèi)的(非加權(quán)的)光譜反射平均值。Rm通常針對(duì)低于17°、典型地為15°的入射角來(lái)測(cè)量，但可以針對(duì)任何入射角來(lái)評(píng)估。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)于低于或等于35°并且典型地低于或等于15°的入射角，該多層式減反射涂層優(yōu)選地具有低于或等于1,15％、優(yōu)選地≤1％、更優(yōu)選地≤0.92％的在可見(jiàn)區(qū)中的平均反射系數(shù)Rm。在另一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)于15°至45°、優(yōu)選地30°至45°范圍中的入射角，該多層式減反射涂層具有低于或等于6％、優(yōu)選地低于或等于5％、更優(yōu)選地低于或等于4％的由在ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)W(λ)加權(quán)的280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)RUV。根據(jù)本發(fā)明，包括在所述雙層中的高折射率層(HI)通常是導(dǎo)電層。例如，所述導(dǎo)電層包括氧化銦、二氧化錫(也稱(chēng)為氧化錫，SnO2)、氧化鋅或其混合物。優(yōu)選的導(dǎo)電層包括二氧化錫。通常，該多層式減反射涂層交替包括高折射率層(HI)和低折射率層(LI)，并且具有低于或等于10、優(yōu)選低于或等于8并且特別是低于或等于7的層數(shù)。更優(yōu)選地，它包括至少兩個(gè)、優(yōu)選三個(gè)具有低折射率(LI)的層和至少兩個(gè)、優(yōu)選三個(gè)具有高折射率(HI)的層。在此它是一個(gè)簡(jiǎn)單的堆疊體，因?yàn)樵摐p反射涂層中的層總數(shù)高于或等于4，并且低于或等于7、更優(yōu)選地低于或等于6、并且最優(yōu)選地等于6個(gè)層。通常，是距離基底最遠(yuǎn)的層的減反射涂層的外層是低折射率層。尤其，該外層是單層并且具有最多100nm、優(yōu)選在20至90nm之間并且特別是從45至80nm的厚度。HI層和LI層不需要在堆疊體中互相交替，盡管根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)以上所述的實(shí)施例它們也可以交替。兩個(gè)HI層(或更多)可以沉積到彼此之上，以及兩個(gè)LI層(或更多)也可以沉積到彼此之上。在本申請(qǐng)中，當(dāng)減反射涂層的一個(gè)層的折射率高于或等于1.55、優(yōu)選地高于或等于1.6、甚至更優(yōu)選地高于或等于1.7、甚至更優(yōu)選地高于或等于1.8并且最優(yōu)選地高于或等于1.9時(shí)，其被稱(chēng)為具有高折射率(HI)的層。所述HI層優(yōu)選地具有低于2.1的折射率。當(dāng)減反射涂層的一個(gè)層的折射率低于1.55、優(yōu)選地低于1.50、更優(yōu)選低于或等于1.48時(shí)，其被稱(chēng)為低折射率層(LI)。所述LI層優(yōu)選地具有高于1.1的折射率。除非另外指定，否則本申請(qǐng)中提及的折射率是在25℃、550nm波長(zhǎng)下表達(dá)。HI層是在本領(lǐng)域中眾所周知的傳統(tǒng)的高折射率層。它通常包括一種或多種金屬氧化物，諸如但不限于：氧化鋯(ZrO2)、二氧化鈦(TiO2)、氧化鋁(Al2O3)、五氧化二鉭(Ta2O5)、氧化釹(Nd2O5)、氧化鐠(Pr2O3)、鈦酸鐠(PrTiO3)、氧化鑭(La2O3)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化釔(Y2O3)。任選地，HI層可以進(jìn)一步含有具有低折射率的二氧化硅或其他材料，只要它們具有如上文所指示的高于或等于1.55的折射率。優(yōu)選的材料包括TiO2、PrTiO3、ZrO2、Al2O3、Y2O3及其混合物。LI層也是熟知的并且可以包括但不局限于SiO2或二氧化硅與氧化鋁的混合物(尤其是摻有氧化鋁的二氧化硅)，后者有助于增加減反射涂層耐熱性。LI層優(yōu)選地是相對(duì)于層總重量包括按重量計(jì)至少80％的二氧化硅、更優(yōu)選地按重量計(jì)至少90％的二氧化硅的層，并且甚至更優(yōu)選地包括二氧化硅層。優(yōu)選地，減反射涂層中的LI層不是MgF2層。任選地，LI層可以進(jìn)一步含有具有高折射率的材料，只要所產(chǎn)生的層的折射率低于1.55。當(dāng)使用包括SiO2與Al2O3的混合物的LI層時(shí)，該層相對(duì)于該層中的SiO2+Al2O3總重量?jī)?yōu)選地包括按重量計(jì)從1％至10％、更優(yōu)選地從1％至8％并且甚至更優(yōu)選地從1％至5％的Al2O3。例如，可以采用摻有按重量計(jì)4％或者更少的Al2O3的SiO2或者摻有8％Al2O3的SiO2。可以使用市場(chǎng)上可獲得的SiO2/Al2O3混合物，如由優(yōu)美科材料AG公司(UmicoreMaterialsAGcompany)銷(xiāo)售的(在550nm下，折射率n＝1.48-1.50),或由德國(guó)默克公司(MerckKGaAcompany)銷(xiāo)售的(在500nm下，折射率n＝1.48)。該減反射涂層外層特別是基于二氧化硅的層，相對(duì)于層總重量?jī)?yōu)選地包括按重量計(jì)至少80％的二氧化硅、更優(yōu)選地按重量計(jì)至少90％的二氧化硅(例如，摻有氧化鋁的二氧化硅層)，并且甚至更優(yōu)選地包括二氧化硅層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，將該減反射涂層沉積到子層(是最接近基底的減反射涂層的層，記為UL)上。如在此所使用的，減反射涂層子層或粘附層旨在是指為了提高所述涂層的機(jī)械特性諸如耐磨性和/或耐擦傷性和/或?yàn)榱嗽鰪?qiáng)其到基底或底層涂層的粘附而使用的相對(duì)厚的涂層。如果子層直接沉積到基底上，那么由于其相對(duì)高的厚度，該子層通常不參與減反射光學(xué)活性，尤其是當(dāng)它具有接近于底層涂層(通常是抗磨損和抗刮擦涂層)或基底的折射率的折射率時(shí)。該子層應(yīng)具有足夠促進(jìn)減反射涂層耐磨性的厚度，但優(yōu)選地未達(dá)到能夠引起光吸收的程度(取決于該子層性質(zhì)，能夠顯著地減小相對(duì)透射系數(shù)τv)。其厚度通常低于300nm、更優(yōu)選地低于200nm，并且通常高于90nm、更優(yōu)選地高于100nm。該子層優(yōu)選地包括基于SiO2的層，此層相對(duì)于層總重量?jī)?yōu)選地包括按重量計(jì)至少80％的二氧化硅、更優(yōu)選地按重量計(jì)至少90％的二氧化硅，并且甚至更優(yōu)選地包括二氧化硅層。這種基于二氧化硅的層的厚度通常低于300nm、更優(yōu)選地低于200nm，并且通常高于90nm、更優(yōu)選地高于100nm。在另一個(gè)實(shí)施例中，此基于SiO2的層是一個(gè)以如上文所定義的量摻有氧化鋁的二氧化硅層，優(yōu)選地包括摻有氧化鋁的二氧化硅層。在一個(gè)具體實(shí)施例中，該子層包括SiO2層。優(yōu)選地將使用單層類(lèi)型的子層。然而，該子層可以是層壓的(多層式)，尤其當(dāng)該子層和底層涂層(或基底，如果該子層直接沉積到基底上)具有實(shí)質(zhì)性地不同的折射率時(shí)。尤其當(dāng)該底層涂層(通常是抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層)或該基底具有高折射率，即高于或等于1.55、優(yōu)選地高于或等于1.57的折射率時(shí)，這適用。在這此情況下，除了90-300nm厚的層(稱(chēng)為主層)之外，該子層還可以包括優(yōu)選地至多三個(gè)附加層、更優(yōu)選地至多兩個(gè)附加層，這些層在任選涂覆的基底與該90-300nm厚的層(通常是基于二氧化硅的層)之間交錯(cuò)。這些附加層優(yōu)選地是薄層，其功能旨在限制子層/底層涂層界面或子層/基底界面處的反射(視情況而定)。除該主層之外，多層式子層優(yōu)選地包括具有高折射率并且具有低于或等于80nm、更優(yōu)選地低于或等于50nm并且最優(yōu)選地低于或等于30nm的厚度的層。具有高折射率的該層直接接觸具有高折射率的基底或具有高折射率的底層涂層(視情況而定)。當(dāng)然，即使基底(或底層涂層)具有低于1.55的折射率，也可以使用此實(shí)施例。作為一個(gè)替代方案，除主層和之前提到的具有高折射率的層之外，該子層包括由基于SiO2的材料(即優(yōu)選地包含按重量計(jì)至少80％的二氧化硅)制成的層，該層具有低于或等于1.55、優(yōu)選地低于或等于1.52、更優(yōu)選地低于或等于1.50的折射率并且具有低于或等于80nm、更優(yōu)選地低于或等于50nm并且甚至更優(yōu)選地低于或等于30nm的厚度，所述具有高折射率的層沉積到該層上。典型地，在這種情況下，該子層包括按此順序沉積到任選地涂覆的基底上的37nm厚的SiO2層、7.6nm厚的ZrO2或Ta2O5層和其后由152nmSiO2制成的該子層主層?？梢酝ㄟ^(guò)將至少一個(gè)電荷消散導(dǎo)電層結(jié)合到存在于制品表面的堆疊體中來(lái)使本發(fā)明的光學(xué)制品抗靜電，即不保留和/或發(fā)展大量靜電荷。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該減反射涂層在背離基底的方向上包括：-一個(gè)具有從100至300nm的物理厚度的子層，-一個(gè)具有從8至25nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-一個(gè)具有從15至35nm的物理厚度的低折射率層(li)，-一個(gè)具有高于或等于75nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-該雙層的具有低于或等于20nm、優(yōu)選地15nm的物理厚度的低折射率層；-該雙層的具有低于或等于20nm、優(yōu)選地15nm的物理厚度的高折射率層，該高折射率層可以包括抗靜電層；-具有從55至95nm的物理厚度的該低折射率外層。尤其，該減反射涂層在背離基底的方向上包括，-一個(gè)具有從120至180nm的物理厚度的子層，-一個(gè)具有從10至20nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-一個(gè)具有從20至30nm的物理厚度的低折射率層(li)，-一個(gè)具有從75至110nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-具有從4至12nm的物理厚度的該低折射率層(LI)，-具有從3至12nm的物理厚度的該高折射率層(HI)，該高折射率層可以是抗靜電層；-具有從65至90nm的物理厚度的該低折射率外層。當(dāng)沉積多層式子層時(shí)，該減反射涂層在背離基底的方向上可以包括，-一個(gè)多層式子層，該多層式子層包括：i)一個(gè)具有從15至80nm的物理厚度的低折射率層(li)，ii)一個(gè)具有從5至50nm的物理厚度的高折射率層(HI)，iii)一個(gè)具有從100至300nm的物理厚度的主層，-一個(gè)具有從8至25nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-一個(gè)具有從15至35nm的物理厚度的低折射率層(li)，-一個(gè)具有高于或等于75nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-該雙層的具有低于或等于20nm、優(yōu)選地15nm的物理厚度的低折射率層；-該雙層的具有低于或等于20nm、優(yōu)選地15nm的物理厚度的高折射率層，該高折射率層可以包括抗靜電層；-具有從55至95nm的物理厚度的該低折射率外層。尤其，包括多層式子層的該減反射涂層在背離基底的方向上包括，-一個(gè)多層式子層，該多層式子層包括：i)一個(gè)具有從20至50nm的物理厚度的低折射率層(li)，ii)一個(gè)具有從6至25nm的物理厚度的高折射率層(HI)，iii)一個(gè)具有從100至300nm的物理厚度的主層，-一個(gè)具有從8至25nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-一個(gè)具有從15至35nm的物理厚度的低折射率層(li)，-一個(gè)具有高于或等于75nm的物理厚度的高折射率層(HI)，-該雙層的具有低于或等于15nm的物理厚度的低折射率層；-該雙層的具有低于或等于15nm的物理厚度的高折射率層，該高折射率層任選地包括抗靜電層；-具有從55至95nm的物理厚度的該低折射率外層。通常，沒(méi)有子層的減反射涂層總厚度是低于1微米、優(yōu)選地低于或等于800nm、更優(yōu)選地低于或等于500nm并且甚至更優(yōu)選地低于或等于250nm。該減反射涂層總厚度通常高于100nm、優(yōu)選地高于150nm。優(yōu)選地，該減反射涂層不包括含氧化鈦的具有高于90nm、優(yōu)選地高于70nm的厚度的任何層。當(dāng)包含氧化鈦的若干層存在于減反射涂層中時(shí)，其總厚度優(yōu)選地低于90nm、更優(yōu)選地低于70nm。最優(yōu)選地，該減反射涂層不包括任何含氧化鈦的層。含氧化鈦的層事實(shí)上對(duì)于光降解作用是敏感的。如在此所使用的，氧化鈦旨在是指二氧化鈦或亞化學(xué)計(jì)量的氧化鈦(TiOx，其中x<2)。根據(jù)以下方法的任一種，減反射涂層的不同層和任選的子層優(yōu)選地在真空下通過(guò)化學(xué)氣相沉積進(jìn)行沉積：i)通過(guò)蒸發(fā)，任選地離子束輔助的；ii)通過(guò)離子束濺射；iii)通過(guò)陰極濺射；iv)通過(guò)等離子輔助的化學(xué)氣相沉積。在以下的參考文獻(xiàn)“薄膜工藝(ThinFilmProcesses)”和“薄膜工藝II(ThinFilmProcessesII)”，Vossen&Kern編輯，學(xué)術(shù)出版社(AcademicPress)，1978年和1991年中分別描述了這些不同的方法。優(yōu)選地，減反射涂層的各層和任選子層的沉積通過(guò)真空下蒸發(fā)來(lái)進(jìn)行。因此本發(fā)明提供一種具有改進(jìn)的構(gòu)思的減反射涂層，該減反射涂層包括由多個(gè)薄層制成的堆疊體，同時(shí)既具有美學(xué)外觀又具有穩(wěn)健性特性，選擇該堆疊體的厚度和材料以便在可見(jiàn)區(qū)以及在紫外區(qū)兩者中獲得令人滿意的減反射性能。優(yōu)選地，眼科鏡片的后主面和前主面涂覆有相似的或不同的所述多層式減反射涂層。例如，光學(xué)制品的后面可能涂覆有減反射涂層，該減反射涂層在UVA波段和UVB波段中比基底的前面更加有效(根據(jù)上述特征)，尤其是在從30°至45°的入射角下?？筓V、減反射涂層可以直接沉積到裸基底上。在一些應(yīng)用中，優(yōu)選的是該基底的主面在沉積本發(fā)明的減反射涂層之前涂覆有一個(gè)或多個(gè)功能性涂層。慣常用于光學(xué)器件中的這些功能性涂層可以是并不限于，耐沖擊底漆層、耐磨涂層和/或耐刮擦涂層、偏光涂層、光致變色涂層或著色涂層。優(yōu)選地，眼科鏡片不包括任何光致變色涂層和/或不包括任何光致變色基底。通常，減反射涂層將沉積于其上的基底的前主面和/或后主面涂覆有耐沖擊底漆層、抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層、或用抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層涂覆的耐沖擊底漆層。本發(fā)明的抗UV、減反射涂層優(yōu)選地沉積到抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層上。該抗磨損涂層和/或耐刮擦涂層可以是眼科鏡片領(lǐng)域中傳統(tǒng)地用作抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層的任何層。在沉積耐磨涂層和/或耐刮擦涂層之前，有可能將底漆涂層施用到基底上以提高最終產(chǎn)品中的后續(xù)層的耐沖擊性和/或粘附。此涂層可以是慣常用于透明聚合物材料的制品如眼科鏡片的任何耐沖擊底漆層。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)制品還可以包括形成在減反射涂層上并能夠改變其表面特性的涂層，諸如疏水涂層和/或疏油涂層(防污頂涂層)。這些涂層優(yōu)選地沉積到減反射涂層的外層上。典型地，根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片包括一個(gè)基底，在該基底的后面依次地涂覆有耐沖擊底漆層，抗磨損和耐刮擦層，根據(jù)本發(fā)明的抗UV、減反射涂層，并且涂覆有疏水和/或疏油的涂層，或者涂覆有提供防霧特性的親水性涂層或防霧前體涂層。根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片優(yōu)選地是一種用于眼鏡的眼科鏡片(眼鏡片)、或用于眼科鏡片的毛坯。光學(xué)制品基底的前面可以依次涂覆有耐沖擊底漆層、耐磨層和/或耐刮擦層、減反射涂層(可以是或不是根據(jù)本發(fā)明的抗UV、減反射涂層)以及疏水和/或疏油的涂層。在一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)制品在可見(jiàn)區(qū)不吸收或吸收不多，這在本申請(qǐng)的上下文中意味著其在可見(jiàn)范圍內(nèi)的透射系數(shù)τV(也稱(chēng)為在可見(jiàn)范圍內(nèi)的相對(duì)透射系數(shù))高于90％、更優(yōu)選地高于95％、甚至更優(yōu)選地高于96％并且最優(yōu)選地高于97％。系數(shù)τV應(yīng)該如由國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化定義(ISO13666:1998標(biāo)準(zhǔn))所定義的來(lái)理解并且根據(jù)ISO8980-3標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)量。在從380到780nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)將其定義。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明涂覆的制品的光吸收低于或等于1％。以下實(shí)例以更詳細(xì)但非限制方式說(shuō)明本發(fā)明。實(shí)例1.通用程序?qū)嵗兴褂玫墓鈱W(xué)制品包括鏡片基底，該鏡片基底具有65mm的直徑、在約1.475至1.74范圍內(nèi)的折射率、以及-2,00屈光度的焦度，涂覆有折射率約1.5(諸如在EP0614957中所描述的那些，記為HC1.5)或約1.6(記為HC1.6)的硬涂層。ITO(錫摻雜的氧化銦)層是由90％氧化銦構(gòu)成。不加熱基底而通過(guò)在真空下蒸發(fā)(蒸發(fā)源：電子槍)來(lái)沉積減反射涂層的層。沉積框架是Leybold1104機(jī)器，該機(jī)器配備有用于蒸發(fā)氧化物的電子槍(ESV14(8kV))，并且裝備有用于初步階段的離子槍(CommonwealthMarkII)以便使用氬離子(IPC)準(zhǔn)備基底表面。借助石英微量天平來(lái)控制這些層的厚度。在具有URA配件(通用反射配件)的可變?nèi)肷浞止夤舛扔?jì)(variableincidence-spectrophotometer)Perkin-ElmerLambda850上進(jìn)行光譜測(cè)量。2.測(cè)試程序用于制備光學(xué)制品的方法包括：引入基底的步驟、借助氬離子束(陽(yáng)極電流：1A，陽(yáng)極電壓：100V，中性電流：130mA)活化該基底的表面、關(guān)閉離子輻射、然后通過(guò)連續(xù)蒸發(fā)形成減反射涂層的不同層的步驟以及至少一個(gè)通風(fēng)步驟。3.實(shí)例：以下實(shí)例1至6是根據(jù)本發(fā)明，并且實(shí)例7是對(duì)比實(shí)例：鏡片1至6已經(jīng)對(duì)應(yīng)地從實(shí)例1至6制備，并且鏡片7已經(jīng)從實(shí)例7制備。鏡片7的減反射涂層不包括位于減反射堆疊體涂層的頂部上、特別是在背離所述透明基底的方向上的倒數(shù)第二位置處的一個(gè)高折射率和一個(gè)低折射率的兩個(gè)相鄰的薄層。實(shí)例1：實(shí)例6實(shí)例7：對(duì)比實(shí)例位置材料折射率厚度0HC1.51.51SiO21.473150.002ZrO21.99710.383SiO21.47326.464ZrO21.99797.615ITO2.1256.506SiO21.47381.964.結(jié)果：下文中詳述了在實(shí)例1和7中對(duì)應(yīng)地獲得的眼科鏡片1和7的結(jié)構(gòu)特征和光學(xué)性能。子層是灰色的。在圖1中示出了這兩種鏡片的在280與780nm之間的相應(yīng)的光譜性能。從該圖1可以觀察到，與包括對(duì)比減反射涂層的鏡片(鏡片7)相比，使用本發(fā)明的減反射涂層(鏡片1)在UV區(qū)、特別是在UVA波段中的反射更低。此外，圖2的表格示出了鏡片1至7的光學(xué)特征。這些反射平均系數(shù)值是前面的那些反射平均系數(shù)值。對(duì)于15°、35°或45°的入射角θ提供系數(shù)Rv、Rm和Ruv，并且將不同入射角θ下的標(biāo)準(zhǔn)光源D65和觀察者(10°角)(用于所有實(shí)例)考慮在內(nèi)，在380與780nm之間計(jì)算在國(guó)際比色體系CIEL*a*b*中的本發(fā)明的光學(xué)制品的比色系數(shù)。從該圖可以觀察到，在實(shí)例1中獲得的根據(jù)本發(fā)明的鏡片1在可見(jiàn)區(qū)中具有非常好的減反射特性(對(duì)于15°的入射角，Rv≤0,44％)，而沒(méi)有不利于紫外區(qū)中的減反射性能，其中對(duì)于15°的入射角而言，Ruv≤3.71％。此外，如通過(guò)ΔE76測(cè)量的，在45°與15°之間的入射角的入射角的顏色變化對(duì)于鏡片1是9，與對(duì)于鏡片7是13相比。對(duì)于鏡片1，所感知的反射顏色將顯得更均勻。事實(shí)上，如同樣在圖1中所示的，由實(shí)例1獲得的鏡片1減小UVA輻射反射和UVB輻射反射兩者，并且與此同時(shí)非常有效地減小可見(jiàn)區(qū)中的反射。由實(shí)例7獲得的鏡片7相比鏡片1較不有效地減小UVA輻射反射(最大Ruva值約6.65％)。鏡片2至6顯示出與鏡片1相似的性能：在可見(jiàn)區(qū)中的減反射特性是良好的(對(duì)于15°的入射角，Rv≤0,60％)，而沒(méi)有不利于紫外區(qū)中的減反射性能(對(duì)于15°的入射角，Ruv≤3.5％)。如通過(guò)ΔE76測(cè)量的，在45°與15°之間的入射角的入射角的顏色變化是低于13，并且對(duì)于鏡片3、4和5是低于9。此外，在層#4與#5(二者都具有高折射率)之間增加一個(gè)薄的低折射率層極大地改善了UV方面的設(shè)計(jì)性能，同時(shí)保持在可見(jiàn)區(qū)中的良好的性能連同良好的角靈敏度和良好的可制造性。此外，鏡片涂層使得能夠在寬的反射波帶范圍內(nèi)、特別是在UVA和可見(jiàn)區(qū)中獲得良好的減反射效果，具有透射的中性色調(diào)和反射的吸引人的外觀(無(wú)論觀察如此涂覆的基底的入射角如何)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3