負(fù)型感光性樹脂組合物及圖案、晶粒、裝置的制法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其包括堿可溶性樹脂(A)、光致產(chǎn)酸劑(B)、堿性化合物(C)、交聯(lián)劑(D)以及溶劑(E)。堿可溶性樹脂(A)包括丙烯酸酯系樹脂(A-1)與酚醛清漆樹脂(A-2)。丙烯酸酯系樹脂(A-1)是由聚合用單體聚合而得，其中所述聚合用單體包括不飽和羧酸或不飽和羧酸酐的單體(a-1-1)與單體(a-1-2)，并且單體(a-1-2)包括具有三環(huán)癸烷或雙環(huán)戊二烯結(jié)構(gòu)的化合物(a-1-2-1)、式(1)所示的化合物(a-1-2-2)或上述兩者的組合。酚醛清漆樹脂(A-2)是由醛類化合物與芳香族羥基化合物聚合而得，其中芳香族羥基化合物包括二甲酚類化合物。
【專利說(shuō)明】負(fù)型感光性樹脂組合物及圖案、晶粒、裝置的制法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是有關(guān)于一種感光性樹脂組合物，且特別是有關(guān)于一種負(fù)型感光性樹脂組 合物。

【背景技術(shù)】
[0002] 近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體工業(yè)、液晶顯示器（liquidcrystaldisplay,LCD)以及有機(jī) 電激發(fā)光顯不裝置（organicelectro-luminescencedisplaydevice, 0ELD)的發(fā)展，伴隨 而來(lái)對(duì)于尺寸縮小化的需求，使得微影（photolithography)工藝成為非常重要的議題。在 微影（photolithography)工藝中，必須將所需的光阻圖案（pattern)微細(xì)化（finer),以達(dá) 到尺寸縮小化的目的。
[0003] -般而言，在半導(dǎo)體工藝中，金屬圖案（metallicpattern)可以剝離法（lift-off method)來(lái)制作。所述剝離法的步驟如下：首先，在基板上形成光阻圖案。接著，在上面形 成有光阻圖案的基板上蒸鍍金屬層。最后，剝離光阻圖案與形成在光阻圖案上的金屬層來(lái) 形成金屬圖案。在剝離法中，由于光阻圖案的剖面為逆錐狀（reversedtaperedshape),因 此覆蓋在基板上的金屬層與覆蓋在光阻圖案上的金屬層不連續(xù)，而易于移除。值得一提的 是，上述光阻圖案存在有耐熱性不佳、吸水性高等問(wèn)題。
[0004] 另一方面，在有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置中，通常是以光阻圖案作為在第一電極層上 的隔離壁（rib),并且將有機(jī)電致發(fā)光媒體（organicelectro-luminescencematrix)涂 布經(jīng)由隔離壁而暴露出的第一電極層上來(lái)形成畫素層。接著，在隔離壁與畫素層的整體表 面上蒸鍍金屬層來(lái)形成位于畫素層上的第二電極層。值得一提的是，由于有機(jī)發(fā)光兀件 容易受到水份、溶劑等成分破壞，因此希望以吸水性低的材料作為隔離壁。又，為了除去 隔離壁中殘留的水份與溶劑，通常在高溫下對(duì)隔離壁與其他有機(jī)發(fā)光元件進(jìn)行脫氣處理 (deaerationtreatment)。然而，隔離壁卻因此變形，而不利于使用。
[0005]日本特許3320397號(hào)揭示一種逆錐狀光阻圖案的形成方法，其是使用雙酚類化合 物來(lái)作為負(fù)型感光性樹脂組合物，并且以所述負(fù)型感光性樹脂組合物來(lái)形成光阻圖案。如 此一來(lái)，便可以蒸鍍方式于光阻圖案上形成金屬圖案，并且所述光阻圖案亦可形成為耐熱 性佳、吸水性低的隔離壁。然而，使用所述負(fù)型感光性樹脂組合物來(lái)形成的光阻圖案卻存在 與基板之間剝除性不佳以及不耐蒸鍍工藝的問(wèn)題。
[0006] 于是，亟需發(fā)展一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其適于形成一種與基板之間的剝除 性佳，且耐蒸鍍工藝的光阻圖案。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其用于形成一種與基板之間的剝除性 佳，且耐蒸鍍工藝的光阻圖案。
[0008] 本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其包括堿可溶性樹脂（alkai-soluble resin) (A)、光致產(chǎn)酸劑（photoacidgenerator) (B)、喊性化合物（basiccompound) (C)、 交聯(lián)劑（cross-linking agent)(D)以及溶劑（E)。堿可溶性樹脂（A)可包括丙烯酸酯 系樹脂（acrylate resin) (A-I)與酚醒清漆樹脂（novolac resin) (A-2)。值得注意的 是，丙烯酸酯系樹脂（A-I)可由聚合用單體聚合而得，其中聚合用單體包括不飽和羧酸或 不飽和羧酸酐的單體（a-1-l)與單體（a-1-2)，并且上述單體（a-1-2)包括具有三環(huán)癸 燒（tricyclodecane)或雙環(huán)戊二烯（dicyclopentadiene)結(jié)構(gòu)的化合物（a-l-2-l)、式 (1)所示的化合物（a-1-2-2)或上述兩者的組合。又，酚醛清漆樹脂（A-2)是由醛類化合 物與芳香族羥基化合物聚合而得，其中芳香族羥基化合物包括二甲酚類化合物（xylenol compound)〇
[0009]

【權(quán)利要求】
1. 一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，包括： 堿可溶性樹脂（A); 光致產(chǎn)酸劑（B); 堿性化合物（C); 交聯(lián)劑（D);以及 溶劑（E)， 其中所述堿可溶性樹脂（A)包括丙烯酸酯系樹脂（A-I)與酚醛清漆樹脂（A-2); 所述丙烯酸酯系樹脂（A-I)是由聚合用單體聚合而得，其中所述聚合用單體包括不飽 和羧酸或不飽和羧酸酐的單體（a-1-l)與單體（a-1-2)，并且所述單體（a-1-2)包括具有三 環(huán)癸烷或雙環(huán)戊二烯結(jié)構(gòu)的化合物（a-l-2-l)、式（1)所示的化合物（a-1-2-2)或兩者的組 合，
式（1)中，m為O至2的整數(shù)； 所述酚醛清漆樹脂（A-2)是由醛類化合物與芳香族羥基化合物聚合而得，其中所述芳 香族羥基化合物包括二甲酚類化合物。
2. 權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，其中，所述丙烯酸酯系樹脂 (A-I)的所述聚合用單體更包括具有羥基的單體（a-1-3)。
3. 權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，其中，所述光致產(chǎn)酸劑（B) 包括鎗鹽化合物、含齒化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亞胺化合物或上述化合物的組 合。
4. 權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，其中，所述堿性化合物（C) 包括脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季銨氫氧化物、脂環(huán)族胺或 上述化合物的組合。
5. 權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，其中，基于所述堿可溶性樹 脂（A) 100重量份，所述光致產(chǎn)酸劑（B)的使用量為0. 5至6重量份；所述堿性化合物（C) 的使用量為〇. 3至3重量份；所述交聯(lián)劑（D)的使用量為5至35重量份，且所述溶劑（E) 的使用量為100至1000重量份。
6. 權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，其中，基于所述丙烯酸酯 系樹脂（A-I)與所述酚醛清漆樹脂（A-2)的總使用量為100重量份，所述丙烯酸酯系樹脂 (A-I)的使用量為10至70重量份，且所述酚醛清漆樹脂（A-2)的使用量為30至90重量 份。
7. -種光阻圖案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上涂布負(fù)型感光性樹脂組合物，所述負(fù)型感光性樹脂組合物如權(quán)利要求1至6 中任一項(xiàng)所述；以及對(duì)所述負(fù)型感光性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成光阻圖案。
8. 權(quán)利要求7所述的光阻圖案的形成方法，其特征在于，其中，所述光阻圖案為隔離 壁。
9. 一種金屬圖案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上形成光阻圖案，其中，所述光阻圖案是以權(quán)利要求7所述的方法而形成； 于所述基板上以及所述光阻圖案上形成金屬層；以及 移除所述光阻圖案以及位于所述光阻圖案上的所述金屬層，以形成金屬圖案。
10. -種發(fā)光二極體晶粒的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成半導(dǎo)體層；以及 于所述半導(dǎo)體層的至少其中一側(cè)形成金屬圖案，以作為電極層，其中，所述金屬圖案是 以權(quán)利要求9所述的方法形成。
11. 一種有機(jī)發(fā)光二極體顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成第一電極層； 于所述基板上涂布負(fù)型感光性樹脂組合物，其中，所述負(fù)型感光性樹脂組合物如權(quán)利 要求1至6中任一項(xiàng)所述； 對(duì)所述負(fù)型感光性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成隔離壁； 于所述隔離壁所定義的區(qū)域內(nèi)形成有機(jī)層；以及 于所述有機(jī)層上形成第二電極層。
【文檔編號(hào)】G03F7/038GK104345557SQ201410371583
【公開日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月8日
【發(fā)明者】蔡宇杰 申請(qǐng)人:奇美實(shí)業(yè)股份有限公司