自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)及其制備方法，包括：提供一襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層；在所述導(dǎo)電層上制備一圖形；在所述導(dǎo)電層上電鍍形成具有所述圖形的電鍍金屬層，從而可以采用自對準(zhǔn)的方法直接制備具有圖形的電鍍金屬層。本發(fā)明還提供一種鏡片及其制備方法，包括：所述玻璃基板的第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層；在所述玻璃基板的第二面上制備一透明導(dǎo)電層；在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形；在所述透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第二遮光層具有所述第二圖形。采用鏡片的制備方法可以使得第一圖形和第二圖形精確對準(zhǔn)。所述鏡片可以用于制備鏡片模組。
【專利說明】自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及晶圓制備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展，數(shù)碼相機(jī)、攝影機(jī)、具有相機(jī)功能的手機(jī)越來越受到廣大消費(fèi)者青睞，在人們對數(shù)碼相機(jī)、攝影機(jī)、具有相機(jī)功能的手機(jī)追求小型化的同時(shí)，對其拍攝出物體的影像質(zhì)量提出更高要求，即希望拍攝物體的影像畫面清晰，而物體的成像質(zhì)量在很大程度上取決于數(shù)碼相機(jī)內(nèi)各光學(xué)元件的優(yōu)劣。
[0003]數(shù)碼相機(jī)的鏡頭一般由至少一個透鏡光圈組成，圖1是現(xiàn)有技術(shù)中晶圓級光學(xué)鏡片的示意圖。透鏡光圈I包括:玻璃基板10，所述玻璃基板10包括第一面101以及與所述第一面101相對的第二面102 ;所述第一面101上設(shè)置有第一遮光層11，所述第一遮光層11具有第一圖形111 ;所述第二面102上設(shè)置有第二遮光層12，所述第二遮光層12具有第二圖形121。所述第二圖形121正對所述第一圖形111，使得光線正好可以從所述第一圖形111和第二圖形121中穿過。
[0004]然而，在現(xiàn)有技術(shù)中，所述第一圖形111和第二圖形121都是通過光刻-刻蝕的方法分別在所述第一遮光層11和第二遮光層12上形成，使得無法很好的將所述第一圖形111與第二圖形121對準(zhǔn)，從而影響透鏡模組的光學(xué)性能，進(jìn)而影響數(shù)碼相機(jī)的成像質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組，可以采用自對準(zhǔn)的方法制備電鍍金屬層(遮光層)，從而提高第一圖形與第二圖形對準(zhǔn)的對準(zhǔn)精度。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法，包括:
[0007]提供一襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層；
[0008]在所述導(dǎo)電層上制備一圖形；
[0009]在所述導(dǎo)電層上電鍍形成具有所述圖形的電鍍金屬層。
[0010]進(jìn)一步的，在所述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法中，采用刻蝕工藝在所述導(dǎo)電層上制備所述圖形。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的另一面，本發(fā)明還提供一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)，包括:
[0012]襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層上包括一圖形；
[0013]電鍍金屬層，形成于所述導(dǎo)電層上，所述電鍍金屬層具有所述圖形。
[0014]進(jìn)一步的，在所述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)中，所述導(dǎo)電層的材料為非金屬材料。
[0015]進(jìn)一步的，在所述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)中，所述電鍍金屬層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的另一面，本發(fā)明還提供一種鏡片的制備方法，包括:[0017]提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面；
[0018]在所述第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層；
[0019]在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層；
[0020]在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形；
[0021]在所述透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第二遮光層具有所述第二圖形。
[0022]進(jìn)一步的，在所述鏡片的制備方法中，在所述第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層的步驟包括:
[0023]在所述第一面上制備另一透明導(dǎo)電層；
[0024]在所述另一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形；
[0025]在所述另一透明導(dǎo)電層上電鍍形成所述第一遮光層，所述第一遮光層具有所述第一圖形。
[0026]進(jìn)一步的，在所述鏡片的制備方法中，采用刻蝕工藝在所述另一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形。
[0027]進(jìn)一步的，在所述鏡片的制備方法中，采用刻蝕工藝在所述的一透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的另一面，本發(fā)明還提供一種鏡片的制備方法，包括:
[0029]提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面；
[0030]在所述第一面上制備第一透明導(dǎo)電層，在所述第二面上制備第二透明導(dǎo)電層，所述第一透明導(dǎo)電層上具有一第一圖形；
[0031]在所述的第二透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形；
[0032]在所述第一透明導(dǎo)電層上電鍍形成第一遮光層，同時(shí)在所述第二透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第一遮光層具有所述第一圖形，所述第二遮光層具有所述第二圖形。
[0033]進(jìn)一步的，在所述鏡片的制備方法中，采用刻蝕工藝在所述第一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形。
[0034]進(jìn)一步的，在所述鏡片的制備方法中，采用刻蝕工藝在所述第二透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形。
[0035]根據(jù)本發(fā)明的另一面，本發(fā)明還提供一種鏡片，包括:
[0036]玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面；
[0037]所述第一面上設(shè)置有第一透明導(dǎo)電層，所述第一透明導(dǎo)電層上包括一第一圖形；
[0038]第一遮光層，電鍍形成于所述第一透明導(dǎo)電層上，所述第一遮光層具有所述第一圖形；
[0039]所述第二面上設(shè)置有第二遮光層，所述第二遮光層中包括第二圖形，所述第二圖形正對所述第一圖形。
[0040]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二面與所述第二遮光層之間還設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層，所述第二透明導(dǎo)電層具有所述第二圖形，所述第二遮光層電鍍形成于所述第二透明導(dǎo)電層上。
[0041 ] 進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟。[0042]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二透明導(dǎo)電層的厚度為0.1 μ m?2 μ m。
[0043]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二遮光層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
[0044]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二遮光層的厚度為0.05μπι?Ιμπι。
[0045]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第二圖形的寬度為0.1mm?50mm。
[0046]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第一透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟。
[0047]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第一透明導(dǎo)電層的厚度為0.Ιμπι?2μπι。
[0048]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第一遮光層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
[0049]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第一遮光層的厚度為0.05μπι?Ιμπι。
[0050]進(jìn)一步的，在所述鏡片中，所述第一圖形的寬度為0.1mm?50mm。
[0051]根據(jù)本發(fā)明的另一面，本發(fā)明還提供一種鏡片模組，包括如上所述的任意一項(xiàng)鏡片。
[0052]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0053]1.在本發(fā)明提供的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)及其制備方法中，在所述導(dǎo)電層上制備所述圖形，然后進(jìn)行電鍍工藝，對所述導(dǎo)電層通電，所述導(dǎo)電層作為電極，電鍍液在所述導(dǎo)電層的表面析出金屬，從而在所述導(dǎo)電層上自對準(zhǔn)地生長出所述電鍍金屬層，由于所述導(dǎo)電層具有所述圖形，所以，所述電鍍金屬層亦具有所述圖形，避免對金屬進(jìn)行刻蝕，提高所述圖形的精準(zhǔn)度。
[0054]2.在本發(fā)明提供的鏡片及其制備方法中，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面，所述第一面上具有所述第一圖形，在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層，在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形，因?yàn)樗龅谝煌该鲗?dǎo)電層的材質(zhì)透明，所以，透過所述透明導(dǎo)電層和玻璃基板，很容易找到所述第一圖形的位置，從而對照所述第一圖形的位置，在所述透明導(dǎo)電層上制備出位置精準(zhǔn)的所述第二圖形，從而提高鏡片模組的光學(xué)性能；并且，在所述透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形，相比采用黑光阻制備所述第二圖形的方法，所述第二圖形的關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension,簡稱⑶)精準(zhǔn),所述第二圖形的形貌好,使得電鍍的所述第二遮光層中的所述第二圖形的關(guān)鍵尺寸精準(zhǔn)，形貌好。
[0055]3.在本發(fā)明提供的鏡片及其制備方法中，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，可以避免使用所述黑光阻。首先，由于所述黑光阻的粘度高，所述黑光阻容易吸附顆粒(patical),形成缺陷(defect),所以，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，避免使用所述黑光阻，所形成的所述遮光層的缺陷少；其次，當(dāng)在所述黑光阻上制備所述第二圖形時(shí)，往往采用手工的方法，手工制備所述第二圖形的方法的缺陷率高，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，避免在所述黑光阻上制備所述第二圖形，有利于減少缺陷；接著，所述黑光阻與所述玻璃基板的附著力差，并且，所述黑光阻與其它光學(xué)組件(如鏡頭)的附著力差，所以，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，電鍍的所述遮光層與所述玻璃基板的附著力好，且電鍍的所述遮光層與其它光學(xué)組件(如鏡頭)的附著力好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0056]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中晶圓級光學(xué)鏡片的不意圖；
[0057]圖2是本發(fā)明第一實(shí)施例的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法的流程圖；
[0058]圖3-圖5是本發(fā)明第一實(shí)施例的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0059]圖6是本發(fā)明第二實(shí)施例的鏡片的制備方法的流程圖；
[0060]圖7-圖12是本發(fā)明第二實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0061]圖13-圖16是本發(fā)明第三實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0062]圖17-圖20是本發(fā)明第四實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0063]發(fā)明人對現(xiàn)有技術(shù)的透鏡光圈進(jìn)行深入研究發(fā)現(xiàn)，在現(xiàn)有技術(shù)中，所述第一圖形111和第二圖形121 (如圖1)需要先后進(jìn)行刻蝕制備，由于所述第一遮光層11和第二遮光層12均不透光，所以，沒有精確的辦法對準(zhǔn)所述第一圖形111和第二圖形121的位置。以下以所述第一圖形111先制備為例說明:
[0064]先對所述第一遮光層11進(jìn)行光刻工藝，再進(jìn)行刻蝕，在所述第一遮光層11中形成所述第一圖形111;
[0065]然后，對第二遮光層12進(jìn)行光刻工藝，先將不透明的光刻膠涂覆在第二遮光層12上；
[0066]接著，需要去除部分光刻膠，在光刻膠上形成所述第二圖形121。去除部分光刻膠需要手動的將第二圖形121與第一圖形111進(jìn)行對準(zhǔn)，然而，由于所述第一遮光層11和第二遮光層12均不透光，所以，沒有精確的辦法對準(zhǔn)所述第一圖形111和第二圖形121的位置。
[0067]最后，對第二遮光層12進(jìn)行光刻工藝，將所述第二圖形121轉(zhuǎn)移到第二遮光層12上。
[0068]發(fā)明人進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn)，如果可以直接在所述第二面102上直接形成具有第二圖形121的第二遮光層12，則避免通過不透光的第二遮光層12對準(zhǔn)所述第一圖形111和第二圖形121的位置。
[0069]因此，需要一種遮光層的自對準(zhǔn)生長工藝，發(fā)明人進(jìn)一步研究，遮光層一般為金屬材料的，所以，可以先制備一導(dǎo)電層，在導(dǎo)電層上制備出一圖形，然后利用電鍍工藝，金屬的遮光層會自動生長在所述導(dǎo)電層上，而不生長在所述圖形上，從而將所述圖形轉(zhuǎn)移到金屬的遮光層上，避免光刻-刻蝕工藝。當(dāng)所述導(dǎo)電層為透明導(dǎo)電層時(shí)，則可以精確地對準(zhǔn)所述第一圖形111和第二圖形121的位置。
[0070]根據(jù)發(fā)明人的研究，發(fā)明人提出本發(fā)明，下面將結(jié)合示意圖對本發(fā)明的對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明，而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本發(fā)明的限制。
[0071]為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠贡景l(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi)時(shí)間的，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。
[0072]在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。
[0073]本發(fā)明的核心思想在于，提供一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法，包括以下步驟:
[0074]步驟Sll:提供一襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層；
[0075]步驟S12:在所述導(dǎo)電層上制備一圖形；
[0076]步驟S13:在所述導(dǎo)電層上電鍍形成具有所述圖形的電鍍金屬層。
[0077]在所述導(dǎo)電層上制備所述圖形，然后進(jìn)行電鍍工藝，對所述導(dǎo)電層通電，所述導(dǎo)電層作為電極，電鍍液在所述導(dǎo)電層的表面析出金屬，從而在所述導(dǎo)電層上自對準(zhǔn)地生長出所述電鍍金屬層，由于所述導(dǎo)電層具有所述圖形，所以，所述電鍍金屬層亦具有所述圖形，避免對金屬進(jìn)行刻蝕，提高所述圖形的精準(zhǔn)度。
[0078]根據(jù)本發(fā)明的核心思想，本發(fā)明還提供一種鏡片的制備方法，包括以下步驟:
[0079]步驟S21:提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的
第二面；
[0080]步驟S22:在所述第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層；
[0081]步驟S23:在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層；
[0082]步驟S24:在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形；
[0083]步驟S25:在所述透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第二遮光層具有所述
第二圖形。
[0084]在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層，在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形，因?yàn)樗龅谝煌该鲗?dǎo)電層的材質(zhì)透明，所以，透過所述透明導(dǎo)電層和玻璃基板，很容易找到所述第一圖形的位置，從而對照所述第一圖形的位置，在所述透明導(dǎo)電層上制備出位置精準(zhǔn)的所述第二圖形，從而提高鏡片模組的光學(xué)性能。
[0085]根據(jù)本發(fā)明的核心思想，本發(fā)明還提供另一種鏡片的制備方法，包括以下步驟:
[0086]步驟S31:提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面；
[0087]步驟S32:在所述第一面上制備第一透明導(dǎo)電層，在所述第二面上制備第二透明導(dǎo)電層，所述第一透明導(dǎo)電層上具有一第一圖形；
[0088]步驟S33:在所述的第二透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形；
[0089]步驟S34:在所述第一透明導(dǎo)電層上電鍍形成第一遮光層，同時(shí)在所述第二透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第一遮光層具有所述第一圖形，所述第二遮光層具有所述第二圖形。[0090]其中，步驟Sll-步驟S13、步驟S21-步驟S25以及步驟S31-步驟S36的順序不作具體的限制，可以根據(jù)需要進(jìn)行選擇調(diào)換。
[0091]以下列舉本發(fā)明的幾個實(shí)施例，以清楚說明本發(fā)明的內(nèi)容，應(yīng)當(dāng)明確的是，本發(fā)明的內(nèi)容并不限制于以下實(shí)施例，其他通過本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的常規(guī)技術(shù)手段的改進(jìn)亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。
[0092]第一實(shí)施例
[0093]以下結(jié)合圖2-圖5說明本實(shí)施例中的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)及其制備方法。其中，圖2是本發(fā)明第一實(shí)施例的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法的流程圖；圖3-圖5是本發(fā)明第一實(shí)施例的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0094]在本實(shí)施例的所述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法中，首先，進(jìn)行步驟SI I，提供一襯底20，所述襯底20包括一導(dǎo)電層21，如圖3所示。其中，所述襯底20可以為硅襯底、鍺襯底、藍(lán)寶石襯底等等。所述導(dǎo)電層21可以與所述襯底20 —體成型，或所述導(dǎo)電層21為所述襯底20上的一層單獨(dú)膜層。優(yōu)選的，所述導(dǎo)電層21的材料為非金屬材料，例如，氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟等金屬氧化物；或?qū)щ姽枘z等導(dǎo)電型有機(jī)聚合物；或石墨、多晶硅等單質(zhì)晶體。上述非金屬材料的刻蝕性能優(yōu)于金屬的亥IJ蝕性能，可以得到相貌較好的圖形。所述導(dǎo)電層21的材料并不限于為上述非金屬材料，只要可以導(dǎo)電的材料，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。當(dāng)然，所述襯底20還可以包括有源區(qū)等器件結(jié)構(gòu)，可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置，具體不做限制。
[0095]接著，進(jìn)行步驟S12，在所述導(dǎo)電層21上制備所述圖形211，如圖4所示，在本實(shí)施例中，所述圖形211為一凹槽，但是在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述圖形211還可以為通孔等結(jié)構(gòu)。較佳的，采用刻蝕工藝在所述導(dǎo)電層21上制備所述圖形211，例如光刻-干法刻蝕工藝，可以制備出相貌較好的所述圖形211。
[0096]最后，進(jìn)行步驟S13，進(jìn)行電鍍工藝，對所述導(dǎo)電層21通電，所述導(dǎo)電層21作為電極，電鍍液在所述導(dǎo)電層21的表面析出金屬，從而在所述導(dǎo)電層21上自對準(zhǔn)地生長出所述電鍍金屬層22，由于所述導(dǎo)電層21具有所述圖形211，所以，所述電鍍金屬層22亦具有所述圖形211。因此，不用對所述電鍍金屬層22刻蝕即可在所述電鍍金屬層22上形成所述圖形211，避免對金屬進(jìn)行刻蝕，提高所述圖形211的精準(zhǔn)度。較佳的，所述電鍍金屬層22的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀，但所述電鍍金屬層22并不限于上述材料，只要是具有遮光性與導(dǎo)電性的單質(zhì)金屬或金屬氧化物，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。
[0097]經(jīng)過步驟S11-S13，形成了如圖5所示的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)2，包括:所述襯底20，所述襯底20 —側(cè)的表面包括所述導(dǎo)電層21，所述導(dǎo)電層21上包括所述圖形211 ;所述電鍍金屬層22形成于所述導(dǎo)電層21上，所述電鍍金屬層22具有所述圖形211。
[0098]第二實(shí)施例
[0099]請參閱圖6-圖12說明本實(shí)施例中的鏡片及其制備方法。其中，圖6是本發(fā)明第二實(shí)施例的鏡片的制備方法的流程圖；圖7-圖10是本發(fā)明第二實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。所述第二實(shí)施例的鏡片的制備方法利用所述第一實(shí)施例的方法制備第二遮光層，所述第二遮光層對應(yīng)所述電鍍金屬層22，所述第一圖形對應(yīng)所述圖形。具體步驟如下:[0100]首先，進(jìn)行步驟S21，提供一玻璃基板30，所述玻璃基板30包括第一面301以及與所述第一面301相對的第二面302，如圖7所示。其中，所述玻璃基板30有透光材料形成，可以為凹透鏡或凸透鏡等光學(xué)組件。在本實(shí)施例中，所述玻璃基板30為凹透鏡或凸透鏡，所述鏡片為透鏡光圈。在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述玻璃基板30還可以為平面鏡等。在本實(shí)施例中，所述玻璃基板30的厚度較佳的為0.1mm?2mm,優(yōu)選為0.5mm、1mm、1.5mm等。
[0101]然后，進(jìn)行步驟S22，在所述第一面301上制備具有一第一圖形311的第一遮光層31,如圖8所不。較佳的，所述第一圖形311的寬度為0.1mm?50mm,優(yōu)選的，0.5mm、lmm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。所述第一遮光層31的材料并不做具體限制，在本實(shí)施例中，可以為黑光阻或金屬鉻等，只要是不透光的材料即可。所述第一圖形311可以采用常規(guī)的光刻-刻蝕工藝形成，例如:先制備所述第一遮光層31 ;然后在所述第一遮光層31上制備一層光阻；采用光刻工藝在所述光阻上形成所述第一圖形311 ;采用刻蝕工藝，將所述光阻上的所述第一圖形311轉(zhuǎn)移到所述第一遮光層31上。其中，所述第一圖形311的形狀并不做具體限制，在本實(shí)施例中，所述第一圖形311的形狀為正方形(如圖11所示)，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述第一圖形311的形狀還可以為圓形、橢圓形、長方形、三角形、五邊形或圓角矩形等形狀，所述第一圖形311的形狀可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。
[0102]接著，進(jìn)行步驟S23，在所述第二面302上制備一透明導(dǎo)電層32，如圖9所示。較佳的，所述的一透明導(dǎo)電層32的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟等，可以保證所述的一透明導(dǎo)電層32的透明度以及導(dǎo)電性。但是所述的一透明導(dǎo)電層32并不限于上述幾種，只要是透明的導(dǎo)電層，例如有機(jī)的透明導(dǎo)電薄膜，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述的一透明導(dǎo)電層32的厚度為0.Ιμπι?2μπι，優(yōu)選的,0.5 μ m、l μ m、l.5 μ m等等,可以保證所述的一透明導(dǎo)電層32的透明度以及導(dǎo)電性。
[0103]隨后，進(jìn)行步驟S24，在所述的一透明導(dǎo)電層32上制備正對所述第一圖形311的一第二圖形321，如圖10所示。其中，所述第二圖形321正對所述第一圖形311，使得光線可以垂直穿過所述第二圖形321-所述玻璃基板30-所述第一圖形311。圖11表示圖9中沿虛線箭頭所示的方向所看到的結(jié)構(gòu)示意圖，沿虛線箭頭所示的方向所看到為所述的一透明導(dǎo)電層32。因?yàn)樗龅囊煌该鲗?dǎo)電層32的材質(zhì)透明，所以，透過所述的一透明導(dǎo)電層32和玻璃基板30，很容易找到所述第一圖形311的位置，如圖11所示。所以，可以對照所述第一圖形311的位置，在所述的一透明導(dǎo)電層32上制備出位置精準(zhǔn)的所述第二圖形321，從而使得光線可以垂直穿過所述第二圖形321-所述玻璃基板30-所述第一圖形311。其中，所述第二圖形321的形狀并不做具體限制，在本實(shí)施例中，所述第二圖形321的形狀為正方形，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述第二圖形321的形狀還可以為圓形、橢圓形、長方形、三角形、五邊形或圓角矩形等形狀，所述第二圖形321的形狀可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。所述第二圖形321與第一圖形311的形狀可以相同可可以不同，當(dāng)所述第二圖形321與第一圖形311的形狀相同時(shí)，可以達(dá)到較佳的對準(zhǔn)效果。
[0104]較佳的，采用刻蝕工藝在所述的一透明導(dǎo)電層32上制備所述第二圖形321，例如光刻-干法刻蝕工藝，可以制備出相貌較好的所述第二圖形321。較佳的，所述第二圖形321的寬度為 0.1mm ?50mm,優(yōu)選的，0.5mm> lmm、5mm、10mm、20mm、30mm、40_ 等等。
[0105]之后，進(jìn)行步驟S25，在所述的一透明導(dǎo)電層32上電鍍形成第二遮光層33，所述第二遮光層33具有所述第二圖形321。具體的，對所述的一透明導(dǎo)電層32通電，所述的一透明導(dǎo)電層32作為電極，電鍍液在所述的一透明導(dǎo)電層32的表面析出金屬,從而在所述的一透明導(dǎo)電層32上自對準(zhǔn)地生長出所述第二遮光層33，由于所述的一透明導(dǎo)電層32具有所述第二圖形321，所以，所述第二遮光層33亦具有所述第二圖形321。較佳的，所述第二遮光層33的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀，上述材料具有較好的遮光性能，但所述第二遮光層33并不限于上述材料，只要是具有遮光性與導(dǎo)電性的單質(zhì)金屬或金屬氧化物，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述第二遮光層33的厚度為0.05 μ m?Iym,優(yōu)選的,0.1 μ m、0.2 μ m、0.5 μ m、0.8 μ m等等,可以保證所述第二遮光層33具有較好的遮光性。
[0106]通過本實(shí)施例的方法可以得到如圖12所示的鏡片3，包括:玻璃基板30，所述玻璃基板30包括第一面301以及與所述第一面301相對的第二面302 ;所述第一面301上設(shè)置有所述第一遮光層31，所述第一遮光層31中包括所述第一圖形311 ;所述第二面302上設(shè)置有所述的一透明導(dǎo)電層32，所述的一透明導(dǎo)電層32上包括所述第二圖形321 ;所述第二遮光層33電鍍形成于所述的一透明導(dǎo)電層32上，所述第二遮光層33具有所述第二圖形321，所述第二圖形321正對所述第一圖形311。
[0107]本實(shí)施例中的鏡片3可以用于制作鏡片模組，所述鏡片模組可以包括一個或多個所述鏡片3的組合，以提高所述鏡頭的光學(xué)性能。
[0108]第三實(shí)施例
[0109]請參閱圖13-圖16說明本實(shí)施例中的鏡片及其制備方法。其中，圖13-圖16是本發(fā)明第三實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。所述第三實(shí)施例的鏡片及其制備方法與所述第二實(shí)施例的鏡片及其制備方法基本相同，其區(qū)別在于:所述第二實(shí)施例的鏡片的制備方法還利用所述第一實(shí)施例的方法制備第二遮光層，所述電鍍金屬層22還對應(yīng)所述第一遮光層，所述圖形還對應(yīng)所述第二圖形。
[0110]所以，在步驟S22具體包括以下子步驟:
[0111]子步驟S221，在所述第一面301上制備另一透明導(dǎo)電層34，如圖13所示。較佳的，所述另一透明導(dǎo)電層34的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟等，可以保證所述另一透明導(dǎo)電層34的透明度以及導(dǎo)電性。但是所述另一透明導(dǎo)電層34并不限于上述幾種，只要是透明的導(dǎo)電層，例如有機(jī)的透明導(dǎo)電薄膜，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述另一透明導(dǎo)電層34的厚度為0.Ιμπι?2μπι，優(yōu)選的，
0.5 μ m、l μ m、l.5 μ m等等,可以保證所述另一透明導(dǎo)電層34的透明度以及導(dǎo)電性。
[0112]子步驟S222，在所述另一透明導(dǎo)電層34上制備所述第一圖形311，如圖14所示。較佳的，采用刻蝕工藝在所述另一透明導(dǎo)電層34上制備所述第一圖形311，例如光刻-干法刻蝕工藝，可以制備出相貌較好的所述第一圖形311。較佳的，所述第一圖形311的寬度為
0.1mm ?50mm,優(yōu)選的，0.5mm> lmm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm 等等。
[0113]子步驟S223，在所述另一透明導(dǎo)電層34上電鍍形成所述第一遮光層31’，所述第一遮光層31’具有所述第一圖形311。如圖15所示，對所述另一透明導(dǎo)電層34通電，在所述另一透明導(dǎo)電層34上電鍍形成第一遮光層31’。因?yàn)樗隽硪煌该鲗?dǎo)電層34具有所述第一圖形311，所以，所述第一遮光層31’亦具有所述第一圖形311。較佳的，所述第一遮光層31’的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀，上述材料具有較好的遮光性能，但所述第一遮光層31’并不限于上述材料，只要是具有遮光性與導(dǎo)電性的單質(zhì)金屬或金屬氧化物，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述第一遮光層31’的厚度為0.05 μ m?Iym,優(yōu)選的,0.1 μ m、0.2 μ m、0.5 μ m、0.8 μ m等等,可以保證所述第一遮光層31’具有較好的遮光性。
[0114]從而如圖16所示，在最終形成的鏡片3’中，所述第一面301與所述第一遮光層31’之間還設(shè)置有另一透明導(dǎo)電層34，所述另一透明導(dǎo)電層34具有所述第一圖形311，所述第一遮光層31’電鍍于所述另一透明導(dǎo)電層34上。
[0115]第四實(shí)施例
[0116]請參閱圖17-圖20說明本實(shí)施例中的鏡片及其制備方法。其中，圖17-圖20是本發(fā)明第四實(shí)施例的鏡片在制備過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。所述第四實(shí)施例的鏡片及其制備方法與所述第三實(shí)施例的鏡片及其制備方法基本相同，其區(qū)別在于:在所述第四實(shí)施例中，所述第一遮光層和第二遮光層同時(shí)電鍍形成。具體的，在本實(shí)施例中，鏡片的制備方法包括:
[0117]首先，進(jìn)行步驟S31，提供一玻璃基板40，所述玻璃基板40包括第一面401以及與所述第一面401相對的第二面402，如圖17所示。其中，所述玻璃基板40有透光材料形成，可以為凹透鏡或凸透鏡等光學(xué)組件。在本實(shí)施例中，所述玻璃基板40為凹透鏡或凸透鏡，所述鏡片為透鏡光圈。在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述玻璃基板40還可以為平面鏡等。在本實(shí)施例中，所述玻璃基板40的厚度較佳的為0.1mm?2mm,優(yōu)選為0.5mm、1mm、1.5mm等。
[0118]接著，進(jìn)行步驟S32，在所述第一面401上制備第一透明導(dǎo)電層41，在所述第二面402上制備第二透明導(dǎo)電層43，所述第一透明導(dǎo)電層41上具有一第一圖形411，如圖18所示。其中，所述第一圖形411的形狀并不做具體限制，在本實(shí)施例中，所述第一圖形411的形狀為正方形，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述第一圖形411的形狀還可以為圓形、橢圓形、長方形、三角形、五邊形或圓角矩形等形狀，所述第一圖形411的形狀可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。
[0119]較佳的，所述第一透明導(dǎo)電層41的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟等，可以保證所述第一透明導(dǎo)電層41的透明度以及導(dǎo)電性。但是所述第一透明導(dǎo)電層41并不限于上述幾種，只要是透明的導(dǎo)電層，例如有機(jī)的透明導(dǎo)電薄膜，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述第一透明導(dǎo)電層41的厚度為0.Ιμπι?2 μ m,優(yōu)選的,0.5 μ m>l μ m>l.5 μ m等等,可以保證所述第一透明導(dǎo)電層41的透明度以及導(dǎo)電性。較佳的，采用刻蝕工藝在所述第一透明導(dǎo)電層41上制備所述第一圖形411，例如光刻-干法刻蝕工藝，可以制備出相貌較好的所述第一圖形411。較佳的，所述第一圖形411的寬度為 0.1mm ?50mm,優(yōu)選的，0.5mm> lmm、5mm、10mm、20mm、30mm、40_ 等等。
[0120]較佳的，所述第二透明導(dǎo)電層43的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻、氧化錫氟等，可以保證所述第二透明導(dǎo)電層43的透明度以及導(dǎo)電性。但是所述第二透明導(dǎo)電層43并不限于上述幾種，只要是透明的導(dǎo)電層，例如有機(jī)的透明導(dǎo)電薄膜，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述第二透明導(dǎo)電層43的厚度為0.1 μπι?
2μ m,優(yōu)選的,0.5 μ m、l μ m、l.5 μ m等等,可以保證所述第二透明導(dǎo)電層43的透明度以及導(dǎo)電性。
[0121]接著，進(jìn)行步驟S33，在所述第二透明導(dǎo)電層43上制備正對所述第一圖形411的一第二圖形431，如圖19所示。較佳的，采用刻蝕工藝在所述第二透明導(dǎo)電層43上制備所述第二圖形431，例如光刻-干法刻蝕工藝，可以制備出相貌較好的所述第二圖形431。較佳的，所述第二圖形431的寬度為0.1臟?5Ctam,優(yōu)選的，0.5臟、I臟、5臟、lCtam、2Ctam、3Ctam、40mm等等。其中，所述第二圖形431的形狀并不做具體限制，在本實(shí)施例中，所述第二圖形431的形狀為正方形，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，所述第二圖形431的形狀還可以為圓形、橢圓形、長方形、三角形、五邊形或圓角矩形等形狀，所述第二圖形321的形狀可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。所述第二圖形431與第一圖形411的形狀可以相同可可以不同，當(dāng)所述第二圖形431與第一圖形411的形狀相同時(shí)，可以達(dá)到較佳的對準(zhǔn)效果。
[0122]其中，所述第二圖形431正對所述第一圖形411，使得光線可以垂直穿過所述第二圖形421-所述玻璃基板40-所述第一圖形411。同理，因?yàn)樗龅谝煌该鲗?dǎo)電層41和所述第二透明導(dǎo)電層43的材質(zhì)均透明，所以，透過所述第二透明導(dǎo)電層43和玻璃基板40，更容易找到所述第一圖形411的位置，可以對照所述第一圖形411的位置，在所述第二透明導(dǎo)電層43上制備出位置精準(zhǔn)的所述第二圖形421，從而使得光線可以垂直穿過所述第二圖形421-所述玻璃基板40-所述第一圖形411。
[0123]最后，進(jìn)行步驟S34，在所述第一透明導(dǎo)電層41上電鍍形成第一遮光層42，同時(shí)在所述第二透明導(dǎo)電層43上電鍍形成第二遮光層44因?yàn)樗龅谝煌该鲗?dǎo)電層41具有所述第一圖形411，所以，所述第一遮光層42亦具有所述第一圖形411。同理，所述第二遮光層44亦具有所述第二圖形431。較佳的，所述第一遮光層42和第二遮光層44的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀，上述材料具有較好的遮光性能，但所述第一遮光層42和第二遮光層44并不限于上述材料，只要是具有遮光性與導(dǎo)電性的單質(zhì)金屬或金屬氧化物，亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。較佳的，所述第一遮光層42的厚度為0.05μπι?Iym,優(yōu)選的,0.1 μ m、0.2 μ m、0.5 μ m、0.8 μ m等等,可以保證所述第一遮光層42具有較好的遮光性。所述第二遮光層44的厚度為0.05 μ m?I μ m，優(yōu)選的，0.1 μ m、0.2 μ m、0.5 μ m、
0.8 μ m等等，可以保證所述第二遮光層44具有較好的遮光性。
[0124]通過本實(shí)施例的方法可以得到如圖20所示的鏡片4，包括:玻璃基板40，所述玻璃基板40包括第一面401以及與所述第一面401相對的第二面402 ;所述第一面401上設(shè)置有第一透明導(dǎo)電層41，所述第一透明導(dǎo)電層41上包括一第一圖形411 ;第一遮光層42電鍍形成于所述第一透明導(dǎo)電層41上，所述第一遮光層42具有所述第一圖形411 ;所述第二面402上設(shè)置有所述第二透明導(dǎo)電層43，所述第二透明導(dǎo)電層43上包括一第二圖形431 ;第二遮光層44電鍍形成于所述第二透明導(dǎo)電層43上，所述第二遮光層44具有所述第二圖形431。
[0125]本實(shí)施例中的鏡片4亦可以用于制作鏡片模組，所述鏡片模組可以包括一個或多個所述鏡片4的組合，以提高所述鏡頭的光學(xué)性能。
[0126]綜上所述，本發(fā)明提供一種對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)、鏡片及其制備方法以及鏡片模組，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0127]1.在本發(fā)明提供的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)及其制備方法中，在所述導(dǎo)電層上制備所述圖形，然后進(jìn)行電鍍工藝，對所述導(dǎo)電層通電，所述導(dǎo)電層作為電極，電鍍液在所述導(dǎo)電層的表面析出金屬，從而在所述導(dǎo)電層上自對準(zhǔn)地生長出所述電鍍金屬層，由于所述導(dǎo)電層具有所述圖形，所以，所述電鍍金屬層亦具有所述圖形，避免對金屬進(jìn)行刻蝕，提高所述圖形的精準(zhǔn)度。
[0128]2.在本發(fā)明提供的鏡片及其制備方法中，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面，所述第一面上具有所述第一圖形，在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層，在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形，因?yàn)樗龅谝煌该鲗?dǎo)電層的材質(zhì)透明，所以，透過所述透明導(dǎo)電層和玻璃基板，很容易找到所述第一圖形的位置，從而對照所述第一圖形的位置，在所述透明導(dǎo)電層上制備出位置精準(zhǔn)的所述第二圖形，從而提高鏡片模組的光學(xué)性能；并且，在所述透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形，相比采用黑光阻制備所述第二圖形的方法，所述第二圖形的關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension,簡稱⑶)精準(zhǔn),所述第二圖形的形貌好,使得電鍍的所述第二遮光層中的所述第二圖形的關(guān)鍵尺寸精準(zhǔn)，形貌好。
[0129]3.在本發(fā)明提供的鏡片及其制備方法中，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，可以避免使用所述黑光阻。首先，由于所述黑光阻的粘度高，所述黑光阻容易吸附顆粒(patical),形成缺陷(defect),所以,采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，避免使用所述黑光阻，所形成的所述遮光層的缺陷少；其次，當(dāng)在所述黑光阻上制備所述第二圖形時(shí)，往往采用手工的方法，手工制備所述第二圖形的方法的缺陷率高，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，避免在所述黑光阻上制備所述第二圖形，有利于減少缺陷；接著，所述黑光阻與所述玻璃基板的附著力差，并且，所述黑光阻與其它光學(xué)組件(如鏡頭)的附著力差，所以，采用上述自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法制備遮光層，電鍍的所述遮光層與所述玻璃基板的附著力好，且電鍍的所述遮光層與其它光學(xué)組件(如鏡頭)的附著力好。
[0130]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括: 提供一襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層； 在所述導(dǎo)電層上制備一圖形； 在所述導(dǎo)電層上電鍍形成具有所述圖形的電鍍金屬層。
2.如權(quán)利要求1所述的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，采用刻蝕工藝在所述導(dǎo)電層上制備所述圖形。
3.一種自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括: 襯底，所述襯底包括一導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層上包括一圖形； 電鍍金屬層，形成于所述導(dǎo)電層上，所述電鍍金屬層具有所述圖形。
4.如權(quán)利要求3所述的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述導(dǎo)電層的材料為非金屬材料。
5.如權(quán)利要求3所述的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述電鍍金屬層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
6.—種鏡片的制備方法,其特征在于,包括: 提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面； 在所述第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層； 在所述第二面上制備一透明導(dǎo)電層； 在所述透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形； 在所述透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第二遮光層具有所述第二圖形。
7.如權(quán)利要求6所述的鏡片的制備方法，其特征在于，在所述第一面上制備具有一第一圖形的第一遮光層的步驟包括: 在所述第一面上制備另一透明導(dǎo)電層； 在所述另一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形； 在所述另一透明導(dǎo)電層上電鍍形成所述第一遮光層，所述第一遮光層具有所述第一圖形。
8.如權(quán)利要求7所述的鏡片的制備方法，其特征在于，采用刻蝕工藝在所述另一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形。
9.如權(quán)利要求6所述的自對準(zhǔn)金屬層結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，采用刻蝕工藝在所述的一透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形。
10.一種鏡片的制備方法，其特征在于，包括: 提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面； 在所述第一面上制備一第一透明導(dǎo)電層，在所述第二面上制備一第二透明導(dǎo)電層，所述第一透明導(dǎo)電層上具有一第一圖形； 在所述的第二透明導(dǎo)電層上制備正對所述第一圖形的一第二圖形； 在所述第一透明導(dǎo)電層上電鍍形成第一遮光層，同時(shí)在所述第二透明導(dǎo)電層上電鍍形成第二遮光層，所述第一遮光層具有所述第一圖形，所述第二遮光層具有所述第二圖形。
11.如權(quán)利要求10所述的鏡片的制備方法，其特征在于，采用刻蝕工藝在所述第一透明導(dǎo)電層上制備所述第一圖形。
12.如權(quán)利要求10所述的鏡片的制備方法，其特征在于，采用刻蝕工藝在所述第二透明導(dǎo)電層上制備所述第二圖形。
13.一種鏡片，其特征在于，包括: 玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及與所述第一面相對的第二面； 所述第一面上設(shè)置有第一透明導(dǎo)電層，所述第一透明導(dǎo)電層上包括一第一圖形； 第一遮光層，電鍍形成于所述第一透明導(dǎo)電層上，所述第一遮光層具有所述第一圖形； 所述第二面上設(shè)置有第二遮光層，所述第二遮光層中包括第二圖形，所述第二圖形正對所述第一圖形。
14.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第二面與所述第二遮光層之間還設(shè)置有一第二透明導(dǎo)電層，所述第二透明導(dǎo)電層具有所述第二圖形，所述第二遮光層電鍍形成于所述第二透明導(dǎo)電層上。
15.如權(quán)利要求14所述的鏡片，其特征在于，所述第二透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟。
16.如權(quán)利要求14所述的鏡片，其特征在于，所述第二透明導(dǎo)電層的厚度為0.1 μπι~2 μ m0
17.如權(quán)利要求14所述的鏡片，其特征在于，所述第二遮光層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
18.如權(quán)利要求14所述的鏡片，其特征在于，所述第二遮光層的厚度為0.05 μ m~1μ m0
19.如權(quán)利要求14所述的鏡片，其特征在于，所述第二圖形的寬度為0.1mm~50mm。
20.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第一透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化錫、氧化錫銻或氧化錫氟。
21.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第一透明導(dǎo)電層的厚度為0.1 μ m~2μ m0
22.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第一遮光層的材料為鉻、銅、鎢、鋁、銀、三氧化二鉻、氮化鉈或氧化銀。
23.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第一遮光層的厚度為0.05 μ m~Iμ m0
24.如權(quán)利要求13所述的鏡片，其特征在于，所述第一圖形的寬度為0.1mm~50mm。
25.一種鏡片模組，其特征在于，包括如權(quán)利要求13至24中任意一項(xiàng)所述鏡片。
【文檔編號】G02B5/00GK103969714SQ201410222803
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年5月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月23日
【發(fā)明者】鐘嘉明, 林建邦 申請人:豪威光電子科技（上海）有限公司