可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可簡化數(shù)組制程的微影成形方法，主要是在涂布光阻劑時連續(xù)涂布兩種或兩種以上的光阻劑，并配合單一光罩進行作用，則不同的光阻劑憑借其不同的感光條件與光源產(chǎn)生不同的反應(yīng)并能成形出不同的錐形體，因此，可簡化一般在成形不同錐形體時皆需分別配合一個光罩的數(shù)組制程工序及光罩?jǐn)?shù)量，而能大幅簡化制成工序、降低生產(chǎn)成本，提高制程效率及經(jīng)濟效益。
【專利說明】可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域，尤其涉及一種可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,簡稱TFT-1XD)，具有輕薄、高分辨率、高反應(yīng)速度、畫質(zhì)優(yōu)良之特點，因此已被廣泛運用于各種顯示設(shè)備中，而其基本結(jié)構(gòu)為兩片玻璃基板中間設(shè)置一層液晶，上方玻璃基板制作成彩色濾光片(Color Filter, CF),下方玻璃基板上則制作一包含一像素隔離層(Pixel DefineLayer,簡稱PDL薄膜晶體管數(shù)組(TFT Array),而兩基板之間則成形復(fù)數(shù)間隔子(Spacer)以維持兩基板之間的間距(Cell Gap)；
[0003]而上述制作薄膜晶體管數(shù)組及間隔子的制程均屬TFT-1XD的第一生產(chǎn)制程-薄膜晶體管數(shù)組制程(TFT Array Process),也可簡稱為數(shù)組制程(Array Process),于此制程主要是于玻璃基板上透過重復(fù)施作鍍膜、曝光、顯影、蝕刻的微影制程制成該薄膜晶體管數(shù)組及間隔子，整體工序復(fù)雜、費時且成本極高；
[0004]而以目前業(yè)界的制程來說，于形成該薄膜晶體管數(shù)組的像素隔離層及該間隔子的方式均是分別使用兩道光罩進行兩次的微影制程所制成，除了必須分別制作光罩而使得光罩成本居高不下之外，分別的微影制程具有不同的制程參數(shù)，例如軟烤溫度及時間、顯影時間均為不同，因此必須以兩道完全不同的參數(shù)進行制作，而本發(fā)明人潛心研究并更深入構(gòu)思，認(rèn)為此制程仍有更簡化工序的必要，因此在歷經(jīng)多次研發(fā)試作后，終于發(fā)明出一種可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種可簡化數(shù)組制程的微影成形方法，其主要目的是改善一般數(shù)組制程的工序繁雜且成本高昂的缺失。
[0006]為達到上述目的，本發(fā)明提供一種可簡化數(shù)組制程的微影成形方法，包含:
[0007]連續(xù)涂布光阻劑步驟，于一玻璃基板上依序?qū)拥坎紡?fù)數(shù)不同的光阻劑，各光阻劑的感光條件不同，且在先涂布的光阻劑干燥后才涂布另一種光阻劑；
[0008]曝光步驟，透過一光罩對已涂布不同光阻劑的玻璃基板進行曝光并使該光罩上的圖形轉(zhuǎn)移至光阻劑上，不同的光阻劑便能與該光罩的光源產(chǎn)生不同的感光反應(yīng)，并在同一曝光步驟下產(chǎn)生不同反應(yīng)；
[0009]顯影步驟，對曝光后的光阻劑進行顯影；
[0010]養(yǎng)護步驟，透過烘烤使顯影后的圖形部分穩(wěn)固地結(jié)合于該玻璃基板上；以及
[0011]蝕刻步驟，透過蝕刻工法去除不需要的圖樣，并形成不同錐形體。
[0012]本發(fā)明通過連續(xù)涂布具有不同感光條件的光阻劑，配合單一光罩進行曝光，使同一光源分別與不同的光阻劑產(chǎn)生作用，而能同時形成不同的錐形體，從而降低光罩的制作費用、成形不同錐形體的工序，提高制程效率及經(jīng)濟效益?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法的步驟流程圖。
[0014]圖2為以本發(fā)明可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法制成的成品結(jié)構(gòu)態(tài)樣。【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖以及【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明。
[0016]本發(fā)明可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法的較佳實施例如第I圖所示，含:
[0017]連續(xù)涂布光阻劑步驟10，于一玻璃基板上依序?qū)拥坎純煞N或兩種以上不同的光阻劑(Photoresist)，各光阻劑的感光條件不同，且在涂布一種光阻劑之后必須使先涂布的光阻劑干燥后才能進行下一種光阻劑的涂布，從而避免不同的光阻劑之間產(chǎn)生融合的現(xiàn)象發(fā)生；而使該光阻劑干燥的方式可為真空減壓干燥或熱板烘烤；
[0018]曝光步驟20，透過一光罩對已涂布不同光阻劑的玻璃基板進行曝光并使該光罩上的圖形轉(zhuǎn)移至光阻劑上，則不同的光阻劑便能與該光罩產(chǎn)的光源產(chǎn)生不同的感光反應(yīng)，本實施例是于玻璃基板上涂布一第一光阻劑A及一第二光阻劑B，并在同一曝光步驟下產(chǎn)生不同反應(yīng)；
[0019]顯影步驟30，對曝光后的光阻劑進行顯影；
[0020]養(yǎng)護(Curing)步驟40，透過烘烤使顯影后的圖形部分穩(wěn)固地結(jié)合于該玻璃基板上；以及
[0021]蝕刻步驟50，透過蝕刻工法去除不需要的圖樣，并成為如圖2所示的成形態(tài)樣，即能在同一曝光步驟下形成不同錐形體(Taper)，以本實施例來說，該第一光阻劑A成形為像素隔離層(Pixel Define Layer,簡稱F1DL) a,而第二光阻劑B成形為間隔子(Spacer)b,如圖2所示。
[0022]以上為本發(fā)明可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法的流程步驟，本發(fā)明主要于玻璃基板上同時涂布具有不同感光條件的光阻劑，便能以同一光罩進行同一曝光及顯影步驟后同時形成不同椎體形態(tài)之像素隔離層(Pixel Define Layer,簡稱F1DL)及間隔子(Spacer)，因此，本發(fā)明能確實降低光罩的制造數(shù)量及成本，更能大幅減少數(shù)組制程(Array)的工序、降低各工序所需成本之外，在減少工序的同時又能提高整體制程效率、降低各工序間的影響、提聞廣品良率，整體來說能確實提聞經(jīng)濟效益。
【權(quán)利要求】
1.一種可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法，其特征在于包含: 連續(xù)涂布光阻劑步驟，于一玻璃基板上依序?qū)拥坎紡?fù)數(shù)不同的光阻劑，各光阻劑的感光條件不同，且于在先涂布的光阻劑干燥后才涂布另一種光阻劑； 曝光步驟，透過一光罩對已涂布不同光阻劑的玻璃基板進行曝光并使該光罩上的圖形轉(zhuǎn)移至光阻劑上，不同的光阻劑便能與該光罩的光源產(chǎn)生不同的感光反應(yīng)，并在同一曝光步驟下產(chǎn)生不同反應(yīng)； 顯影步驟，對曝光后的光阻劑進行顯影； 養(yǎng)護步驟，透過烘烤使顯影后的圖形部分穩(wěn)固地結(jié)合于該玻璃基板上；以及 蝕刻步驟，透過蝕刻工法形成不同錐形體。
2.如權(quán)利要求1所述的可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法，其特征在于:光阻劑干燥的方式可為真空減壓干燥或熱板烘烤。
3.如權(quán)利要求1所述的可簡化數(shù)組制程工序的微影成形方法，其特征在于:所述連續(xù)涂布光阻劑步驟為于該玻璃基板上依序?qū)拥坎純煞N不同的光阻劑，依序經(jīng)過所述曝光步驟、顯影步驟、養(yǎng)護步驟及所述蝕刻步驟后形成像素隔離層及間隔子。
【文檔編號】G03F7/00GK103913947SQ201410166913
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年4月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月24日
【發(fā)明者】吳思宗 申請人:上海和輝光電有限公司