專利名稱：玻璃坯料的制造方法、磁記錄介質基板的制造方法以及磁記錄介質的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及玻璃坯料的制造方法、磁記錄介質基板的制造方法以及磁記錄介質的制造方法。
背景技術：
作為制造磁記錄介質基板(磁盤基板)的方式，可以具有代表性地舉出(I)經過利用一對沖壓成形模具對熔融玻璃塊沖壓成形的沖壓成形工序而制成的方式(以下，存在稱為“沖壓方式”的情況。參照專利文獻I等)，以及(2)經過利用浮法、下拉法等而將片狀玻璃切斷加工為圓盤狀的工序而制成的方法(以下，存在稱為“片狀玻璃切斷方式”的情 況。參照專利文獻2等)。在專利文獻2等例示的現有的片狀玻璃切斷方式中，在經過將片狀玻璃加工為圓盤狀的圓盤加工工序之后，實施作為研磨工序的磨削工序(粗研磨處理)、以及磨光工序(精密研磨處理)，從而得到磁記錄介質基板。然而，在專利文獻2所示的片狀玻璃切斷方式中，公開了作為研磨工序省去磨削工序(粗研磨處理)而僅實施磨光工序(精密研磨處理)的情況。與此相對地，在專利文獻I等例示的現有的沖壓方式中，通常在將熔融玻璃塊配置于下模上之后，在利用上模與下模以從垂直方向對熔融玻璃塊施加推壓力而對熔融玻璃塊沖壓成形的方式(以下，存在稱為“垂直直接沖壓”的情況)實施了沖壓成形工序之后，進而經過磨削工序、磨光工序等而得到磁記錄介質基板。另外，在專利文獻I所示的沖壓方式中，提出了以如下方式實施沖壓成形工序的方案利用在水平方向上對置配置的一對沖壓成形模具從水平方向對熔融玻璃塊施加推壓力(以下，存在稱為“水平直接沖壓”的情況)。而且，作為采用了水平直接沖壓時的優(yōu)點以及缺點，在專利文獻2中公開有如下四點(1)存在必須使一對沖壓成形模具高速移動的困難性；(2)能夠將熔融玻璃塊在其溫度高的狀態(tài)下沖壓成形；(3)能夠得到厚度更薄的玻璃基板前驅體(玻璃坯料)；以及(4)能夠減少或者省略研磨工序。然而，在專利文獻2中并未公開能夠減少、省略哪一種研磨工序。另外，在實施專利文獻I等例示的沖壓成形工序的情況下，被沖壓成形的熔融玻璃塊通常通過使一對剪切刀片交叉而將朝向垂直方向的下方側垂下的熔融玻璃流的前端部切斷而形成。因此，在熔融玻璃塊的表面上形成因與剪切刀片的接觸而產生的分離痕跡。因此，在利用垂直直接沖壓來制成磁記錄介質基板用的玻璃坯料的情況下，在玻璃坯料的雙面殘留緣于分離痕跡的微小的條紋、槽、氣泡等異質的部分(以下，存在稱為“切痕”的情況)。因此，為了減少具有此類切痕的玻璃坯料的研磨量、提高磁記錄介質基板的生產效率等，提出有在下模的成形面的中央部設置凹陷部的方案(參照專利文獻3)。(先行技術文獻)(專利文獻)
專利文獻I :日本、特許第4380379號(0031段、圖I 圖9等)專利文獻2 :日本公報、特開2003-36528號(圖3 圖6、圖8等)專利文獻3:日本公報、特開2001-192216號(權利要求I、段落號0002 0007、圖I等)

發(fā)明內容
(發(fā)明所要解決的課題)另一方面，在提高磁記錄介質基板的生產效率方面，確保磁記錄介質基板的平面度以及板厚的均勻性、以及以板厚的調整等為主要目的而實施的磨削工序的省略或者時間縮短化是非常有效果的。這是因為磨削工序的實施需要磨削裝置，用于制成磁記錄介質基板的工時變多，并且導致加工時間的增多。另外，也存在因為磨削工序而在玻璃表面產生裂縫的情況，現有情況下正在研究省略磨削工序。在此，從省略磨削工序的觀點出發(fā)，對片狀 玻璃切斷方式與沖壓方式進行比較時，利用由浮法、下拉法等制成的高平面度的片狀玻璃而進行加工的片狀玻璃切斷方式更有優(yōu)勢。然而，與片狀玻璃切斷方式相比，沖壓方式也具有玻璃的利用率高的優(yōu)點。當通過對利用垂直直接沖壓而制成的玻璃還料實施后續(xù)加工而制成磁記錄介質時，為了省略磨削工序或實現時間縮短化，需要減小玻璃坯料的板厚偏差，并且改善平面度。作為其理由是因為為了在從玻璃坯料生產磁記錄介質基板的過程中，在磨削工序后無需修正玻璃板的平面度的工序而省略磨削工序，必須準備與磁記錄介質基板的平面度相同的玻璃坯料。在此，在利用垂直直接沖壓來制造玻璃坯料的情況下，下模的溫度被設定為比熔融玻璃塊的溫度足夠低的溫度，以使高溫的熔融玻璃塊不會熔化。因此，在從熔融玻璃塊配置于下模上到開始沖壓成形期間，熔融玻璃塊熱量被與該熔融玻璃塊接觸的下模的面吸收。因此，配置于下模上的熔融玻璃塊的下表面的粘度局部上升。其結果是，由于沖壓成形是對產生了大的粘度分布(溫度分布)的熔融玻璃塊進行實施的，因此產生難以通過沖壓而延伸的部分。另外，沖壓成形后的冷卻速度也因被沖壓成形并延伸為板狀的玻璃成形體的部位而變得不同。因此，利用垂直直接沖壓而制成的玻璃坯料的板厚偏差容易增大、平面度容易變差。因此，當利用沖壓方式來制造磁記錄介質基板時，為了省略磨削工序或者實現時間縮短化，只要使即將進行沖壓成形之前的熔融玻璃塊的粘度分布均勻即可。為此，只要將從玻璃流出口朝向垂直方向的下方側流出的熔融玻璃流的前端部分離而形成熔融玻璃塊、并利用水平直接沖壓將落下的熔融玻璃塊沖壓成形即可。在該情況下，由于熔融玻璃塊在被沖壓成形之前的期間內不會暫時地與溫度比熔融玻璃塊低的下模那樣的部件接觸、或者不會暫時地被溫度比熔融玻璃塊低的下模那樣的部件保持，因此在即將開始沖壓成形之前，熔融玻璃塊的粘度分布被均勻地保持。由此，與利用垂直直接沖壓來制成玻璃坯料的情況相比，在利用水平直接沖壓來制成玻璃坯料的情況下，徹底地抑制板厚偏差的增大以及平面度的降低變得極其容易。因此，如果僅著眼于該點，則可以認為能夠容易地實現磨削工序的省略或者時間縮短化。然而，在利用垂直直接沖壓而制成的玻璃坯料中，切痕殘留在玻璃坯料的中央部附近，相對于此，在利用水平直接沖壓而制成的玻璃坯料中，切痕殘留在玻璃坯料的從中央部附近偏離的位置。而且，也存在下述情況當將玻璃坯料加工為磁記錄介質基板時，在經過形成中心孔的中心孔形成工序之后，殘留在玻璃坯料的從中央部附近偏離的位置的切痕仍殘留在成為磁記錄介質基板的主表面的位置。因此，通過采用水平直接沖壓，即使板厚偏差以及平面度被大幅度地改善，但為了除去切痕，也難以實現省略磨削工序或者時間縮短化。第一本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的，其課題在于提供在制造利用水平直接沖壓而制成的玻璃坯料的情況下，切痕局部存在于玻璃坯料的中央部附近的玻璃坯料的制造方法、利用了該玻璃坯料的制造方法的磁記錄介質基板的制造方法以及磁記錄介質的制造方法。另外，第二本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的，其課題在于提供對熔融玻璃進行沖壓成形而制成能夠實現板厚偏差小、平面度高、并且通過中心孔穿孔加工除去切痕的磁記錄介質基板用玻璃坯料的玻璃坯料的制造方法、以及將由上述方法制成的玻璃坯料不進行磨削工序而加工為磁記錄介質基板的磁記錄介質基板的制造方法和使用由上述方法
(用于解決課題的方法)本申請的發(fā)明人為了解決上述第一本發(fā)明作為對象的課題而進行了深入研究，其結果得到以下示出的見解。首先，當切斷熔融玻璃流時，在熔融玻璃塊的上部與熔融玻璃流的下端產生分離痕跡。然后，熔融玻璃流的下端的分離痕跡被周圍的高溫玻璃加熱而在下一次的切斷之前消失。然而，在熔融玻璃塊的上部形成的分離痕跡未消失而殘留。因此，在熔融玻璃塊的上部形成的分離痕跡使玻璃坯料產生切痕。因此,本申請的發(fā)明人利用高速照相機拍攝了落下的熔融玻璃塊，并對拍攝圖像進行緩慢再生，由此研究在利用水平直接沖壓而制成的玻璃坯料中、在玻璃坯料的從中央部附近偏離的位置殘留切痕的原因。首先，與沖壓成形模具的成形面接觸的熔融玻璃塊被成形面吸收熱量，以貼在成形面的方式進行固化。而且，熔融玻璃塊內部的低粘性的玻璃被沖壓而在被一對成形面所夾著的空間內擴展。在此，當熔融玻璃塊不改變切斷時的朝向而落下時，沖壓開始時的分離痕跡的位置存在于熔融玻璃塊的上部。而且，如果熔融玻璃塊以該狀態(tài)沖壓，分離痕跡朝向被沖壓成形成薄板狀的板狀玻璃的外緣擠出。然而，實際上以使分離痕跡位于板狀玻璃的除去中央部附近區(qū)域的主表面的方式被沖壓成形。因此，可以認為利用水平直接沖壓而制成的玻璃坯料在成為磁記錄介質基板的主表面的位置殘留切痕。另外，分離痕跡向上述位置移動的理由被推斷為，是因為熔融玻璃塊內部的低粘性的玻璃將分離痕跡朝成形面?zhèn)葦D出。因此，為了使殘留在玻璃坯料的切痕存在于在制成磁記錄介質基板時實施的中心孔形成工序中被除去的區(qū)域內，需要在沖壓成形時，存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡能夠比熔融玻璃塊的表面的其他任意部分更能最先與沖壓成形模具的成形面進行實質性地接觸。在該情況下，利用沖壓成形，能夠以存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡為中心而使熔融玻璃塊各向同性地延伸，其結果是，能夠使切痕殘留在玻璃坯料的中央部附近。因此，無需為了除去切痕而確保較大的磨削量和/或研磨量，便能夠實現磨削工序的省略或者時間縮短化。第一本發(fā)明是基于以上說明的見解而完成的。SP，
第一本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的特征在于，該玻璃坯料的制造方法至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料，所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊，所述沖壓成形工序中，利用在與熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的熔融玻璃塊進行沖壓成形，所述沖壓成形通過如下方式實施在對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面，一塊玻璃坯料用于制造一塊具有中心孔的磁記錄介質基板。第一本發(fā)明的玻璃還料的制造方法的一個實 施方式優(yōu)選為，熔融玻璃塊通過對朝向垂直方向的下方側連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成，在沖壓成形工序中，為了使熔融玻璃塊旋轉，從而使得在對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于熔融玻璃塊的上部表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面對置的狀態(tài)下，能夠使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面，實施從與垂直方向交叉的方向對被沖壓成形玻璃材料賦予外力的外力賦予工序，使得朝向與平行于垂直方向的被沖壓成形玻璃材料的中心軸正交的方向作用的力的矢量大小的總和實際上超過0，所述被沖壓成形玻璃材料為選自(I)在所述熔融玻璃塊形成工序的實施過程中，作為熔融玻璃塊而被分離的熔融玻璃流的前端部，以及(2)在從所述熔融玻璃塊形成工序剛結束之后到即將開始所述沖壓成形工序之前的期間，處于落下過程中的熔融玻璃塊，中的至少一個。第一本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，與熔融玻璃流的垂下方向正交的平面中的熔融玻璃流的前端部附近的截面的形狀形成為具有長徑和短徑的大致橢圓形狀，熔融玻璃流的前端部的分離通過如下方式實施從與熔融玻璃流的垂下方向大致正交且與熔融玻璃流的前端部附近的截面的長徑方向大致一致的方向，使一對剪切刀片從彼此相對方向且與垂直方向交叉的方向貫入熔融玻璃流。第一本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，熔融玻璃流的前端部的分離通過如下方式實施從與熔融玻璃流的垂下方向大致正交的方向，使一對剪切刀片從彼此相對方向且與垂直方向交叉的方向貫入熔融玻璃流，一對剪切刀片的刀刃部分支，其形狀是從V字形狀和U字形狀中選擇的任一種形狀。第一本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，在即將實施沖壓成形工序之前存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡，位于以最短距離將熔融玻璃塊的中心點、與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面連結的直線上。第一本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，當通過沖壓成形工序的實施，熔融玻璃塊在第一沖壓成形模具的成形面與第二沖壓成形模具的成形面之間被完全擠壓展開而成形為板狀玻璃時，第一沖壓成形模具以及第二沖壓成形模具的成形面的至少與板狀玻璃接觸的區(qū)域形成為平坦面。第一本發(fā)明的磁記錄介質基板的制造方法的特征在于，該磁記錄介質基板的制造方法在至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料之后，進而至少經過在玻璃坯料的主表面的中央部形成中心孔的中心孔形成工序以及研磨主表面的研磨工序而從一塊玻璃還料制造一塊磁記錄介質基板，所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊，所述沖壓成形工序中，利用在與熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的熔融玻璃塊進行沖壓成形，所述沖壓成形通過如下方式實施在對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面。
第一本發(fā)明的磁記錄介質的制造方法的特征在于，該磁記錄介質的制造方法在至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料，進而至少經過在玻璃坯料的主表面的中央部形成中心孔的中心孔形成工序以及研磨主表面的研磨工序而從一塊玻璃坯料制造一塊磁記錄介質基板之后，至少經過在磁記錄介質基板的主表面上形成磁記錄層的磁記錄層形成工序而制造磁記錄介質，所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊，所述沖壓成形工序中，利用在與熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的熔融玻璃塊進行沖壓成形，所述沖壓成形通過如下方式實施在對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面。第一本發(fā)明的剪切刀片的特征在于，該剪切刀片至少具備大致板狀的主體部；刀刃部，該刀刃部設置于該主體部的端部側，并將朝向垂直方向的下方側連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部從與熔融玻璃流的垂下方向大致正交的方向切斷；以及推壓部件，該推壓部件設置于主體部的下表面?zhèn)?，該推壓部件從主體部側朝向刀刃部側延伸，并且當切斷熔融玻璃流時，與刀刃部朝熔融玻璃流靠近并切入的動作連動而推壓前端部。第一本發(fā)明的剪切刀片的一個實施方式優(yōu)選為，推壓部件以能夠相對于主體部裝卸的方式設置于主體部，在主體部的下表面設置有用于安裝推壓部件的安裝部。另外，本申請的發(fā)明人為了解決上述第二本發(fā)明作為對象的課題而進行了深入研究，其結果得到以下示出的見解。當切斷熔融玻璃流時，在熔融玻璃塊的上部與熔融玻璃流的下端產生切斷痕跡，但熔融玻璃流的下端的切斷痕跡被周圍的高溫玻璃加熱而在下一次的切斷之前消失。成為問題的切痕是形成于熔融玻璃塊上部的切斷痕跡。當利用高速照相機拍攝對落下的熔融玻璃塊進行沖壓時的情況并進行緩慢再生時，與沖壓成形面接觸的玻璃被沖壓成形面吸收熱量，從而以貼著沖壓成形面的方式進行固化。而且，玻璃塊內部的低粘性的玻璃被沖壓而在被沖壓成形面所夾著的空間內擴展。當熔融玻璃塊不改變朝向而落下時，沖壓開始時的切痕的位置位于熔融玻璃塊的上部。如果以該狀態(tài)玻璃被沖壓，則切痕朝薄板玻璃的外緣擠出，但實際上玻璃塊內部的低粘性的玻璃將切痕朝向沖壓成形面推開，從而在薄板玻璃的主表面上殘留切痕。如果能夠使切痕在沖壓開始時與沖壓成形面接觸，并以貼著沖壓成形面的方式進行固化，則不會發(fā)生熔融玻璃塊內部的低粘性玻璃將切痕的位置推開到不能控制的位置的情況。因此，需要最先對形成有切痕的位置進行沖壓。進而，由于能夠以切痕為中心將玻璃均衡地向周圍擠壓展開，因此能夠使切痕局部存在于玻璃坯料的中央部。由于由以下所示的第二本發(fā)明的玻璃坯料制造方法制造的玻璃坯料加工為具有中心孔的磁記錄介質，因此通過使切痕局部存在于形成中心孔的區(qū)域，在中心孔穿孔加工時也能夠除去切痕。因此，不需要為了從主表面除去切痕而使磨削量或研磨量增大。為了解決上述第二本發(fā)明作為對象的課題，第二本發(fā)明是基于上述見解而完成的。即，第二本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法，從由玻璃流出口流出的熔融玻璃流分離出熔融玻璃塊，使用沖壓成形模具沖壓成形出薄板玻璃，從而制成用于加工為具有中心孔的磁記錄介質基板的玻璃坯料，該玻璃坯料的制造方法的特征在于，使熔融玻璃塊分離并落下，利用對置的沖壓成形面對空中的熔融玻璃塊沖壓，從而成形薄板玻璃；以及以從熔融玻璃流分離的部位朝向沖壓成形面的方式改變熔融玻璃塊的朝向，從而開始沖壓。 第二本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的一個實施方式優(yōu)選為，將熔融玻璃流的截面形狀控制為在水平截面中具有長徑和短徑，使用剪切刀片從長徑方向切斷熔融玻璃流。第二本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，使切斷刀刃形成為V字形狀或U字形狀的一對剪切刀片交叉來切斷熔融玻璃流。第二本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法的其他實施方式優(yōu)選為，當切斷熔融玻璃流時，向熔融玻璃塊施加扭矩而改變熔融玻璃塊的朝向。第二本發(fā)明的磁記錄介質基板的制造方法的特征在于，至少經過對由第二本發(fā)明的玻璃坯料的制造方法制成的玻璃坯料的主表面進行研磨的研磨工序、以及在主表面的中央設置中心孔的穿孔工序，從而制造磁記錄介質基板。第二本發(fā)明的磁記錄介質的制造方法的特征在于，至少經過在由第二本發(fā)明的磁記錄介質基板的制造方法制成的磁記錄介質基板上形成磁記錄層的磁記錄層形成工序，從而制造磁記錄介質。(發(fā)明效果)如以上所說明，根據第一本發(fā)明，能夠提供在制造利用水平直接沖壓而制成的玻璃坯料的情況下，切痕局部存在于玻璃坯料的中央部附近的玻璃坯料的制造方法、利用該玻璃還料的制造方法的磁記錄介質基板的制造方法以及磁記錄介質的制造方法。另外，根據第二本發(fā)明，能夠提供制成對熔融玻璃沖壓成形，而板厚偏差小、平面度高，并且通過中心孔穿孔加工能夠除去切痕的磁記錄介質基板用玻璃坯料的玻璃坯料的制造方法。另外，能夠提供將由上述方法制成的玻璃坯料不進行磨削工序而加工為磁記錄介質基板的磁記錄介質基板的制造方法、以及使用由上述方法制成的基板而制造磁記錄介質的方法。


圖I是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的一部分的模式剖面圖。圖2是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖3是說明對被沖壓成形玻璃材料的上半球朝向X軸方向作用的力的矢量的一例的圖表。圖4是說明對被沖壓成形玻璃材料的上半球朝向X軸方向作用的力的矢量的一例的圖表。圖5是表示落下過程中的熔融玻璃塊的一例的模式剖面圖。圖6是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖7是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖8是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其 他部分的模式剖面圖。圖9是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖10是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖11是說明在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例中的所有工序的其他部分的模式剖面圖。圖12是表示由一對剪切刀片分離熔融玻璃流的前端部的一例的模式剖面圖。圖13示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出從水平方向觀察時的、使用剪切刀片將從玻璃流出口流出的熔融玻璃流切斷的情況。圖14示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出切斷熔融玻璃流而將熔融玻璃塊分離，并且從水平方向對熔融玻璃塊上部施加力而改變其朝向的情況。圖15示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出分離的熔融玻璃塊一邊旋轉一邊落下的情況。圖16示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出熔融玻璃塊在對置的沖壓成形面之間一邊旋轉一邊落下的情況。圖17示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出表示熔融玻璃塊的沖壓開始的情況的沖壓成形模具以及熔融玻璃塊的垂直截面。圖18示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出表示利用沖壓而將玻璃擠壓伸展為薄板狀的過程的沖壓成形模具以及玻璃的垂直截面。圖19示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出利用沖壓而成形為薄板玻璃時的沖壓成形模具以及薄板玻璃的垂直截面。圖20示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且是示出使沖壓成形面追隨于薄板玻璃的同時對薄板玻璃進行冷卻的情況的沖壓成形模具以及薄板玻璃的垂直剖視圖。圖21示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且是示出將薄板玻璃從沖壓成形面的一方脫模的情況的垂直剖視圖。圖22示出第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，且示出將薄板玻璃從沖壓成形模具取出的情況。(符號說明)10玻璃流出管12玻璃流出口20熔融玻璃流22前端部(被沖壓成形玻璃材料)24熔融玻璃塊(被沖壓成形玻璃材料)24A分離痕跡26薄板玻璃30下側刀片(剪切刀片)32主體部32B (主體部的)下表面34刀刃部34A (刀刃部的)前端
34U (刀刃部的)上表面34B (刀刃部的)下表面36推壓部件36A (推壓部件的)前端38安裝部40上側刀片(剪切刀片)42主體部42B (主體部的)下表面44刀刃部44U (刀刃部的)上表面44B (刀刃部的)下表面50第一沖壓成形模具52沖壓成形模具主體52A成形面54引導部件54A弓丨導面60第二沖壓成形模具62沖壓成形模具主體62A成形面64引導部件64A引導面I玻璃流出管2熔融玻璃流3-1、3-2剪切刀片4熔融玻璃塊5、6沖壓成形模具5-1、5-2沖壓成形模具主體6-1、6-2引導部件
具體實施例方式<第一本實施方式>[玻璃坯料的制造方法]第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法，至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料，所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊，所述沖壓成形工序中，利用在與熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的熔融玻璃塊進行沖壓成形。在此，所述沖壓成形通過如下方式實施在對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于所述熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面，一塊所述玻璃坯料用于制造一塊具有中心孔的磁記錄介質基板。在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法中，從熔融玻璃流分離而形成的熔融玻璃塊落下，在到達第一沖壓成形模具的成形面與第二沖壓成形模具的成形面之間的狀態(tài)下，在分離時形成于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡與至少一個成形面?zhèn)葘χ?。而且，在該狀態(tài)下，熔融玻璃塊被第一沖壓成形模具與第二沖壓成形模具擠壓而被沖壓成形。即，在成為切痕的原因的分離痕跡與至少一個成形面?zhèn)葘χ玫臓顟B(tài)下實施沖壓成形工序。因此，殘留于玻璃坯料的切痕局部存在于玻璃坯料的中央部附近。在該情況下，在制成磁記錄介質基板時，切痕與用于形成中心孔的玻璃坯料的中央部部分(中心孔形成區(qū)域)一同被除去。因此，無需為了除去切痕而確保大的磨削量和/或研磨量，便能夠實現磨削工序的省略或者時間縮短化。另外，從由第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法制造的一塊玻璃坯料僅制成一塊磁記錄介質。在該情況下，從玻璃的利用效率的觀點出發(fā)，優(yōu)選在制成一塊玻璃坯料時使用的熔融玻璃塊的體積在一塊磁記錄介質基板的體積的2倍以下的范圍內，進一步優(yōu)選為在I. 3倍以下的范圍內。另外，下述內容僅供參考將玻璃坯料視為圓盤形狀，將其直徑設為q>b、將厚度設為tb、將磁記錄介質基板的直徑設為cpsub時，在滿足下式⑴的情況下，不能從與一塊熔融玻璃塊的體積相等的一塊玻璃坯料制成兩塊以 上的磁記錄介質基板。式(I)(psubx2>(pb另一方面，如果忽略因溫度變化而導致的玻璃的體積變化，則熔融玻璃塊的體積VgOb與玻璃坯料的體積相等，具體而言，由下式(2)表示。式(2)Vgob=Tix ((pb/2) 2Xtb由此，在滿足下式(3)的情況下，從一塊熔融玻璃塊的體積與一塊玻璃坯料僅能夠制成一塊磁記錄介質基板。式(3)Vgob<TrXtpsub2xtb另外，第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具在與熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置即可，但是，通常特別優(yōu)選在與熔融玻璃塊的落下方向正交的方向上對置配置。在以下的說明中，以第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具在與熔融玻璃塊的落下方向正交的方向上對置配置為前提進行說明。另外，從熔融玻璃流的前端部分離的熔融玻璃塊，可以是不進行任何旋轉而落于第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具之間并被沖壓成形，或者，也可以是在瞬間旋轉之后落于第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具之間并被沖壓成形或一邊旋轉一邊落于第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具之間并被沖壓成形。在此，熔融玻璃塊不進行任何旋轉而落于第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具之間的情況下，需要使形成于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡在熔融玻璃塊從熔融玻璃流的前端部分離的時刻位于熔融玻璃塊的側面。另一方面，熔融玻璃塊通常將朝向垂直方向的下方側連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部分離而形成。在該情況下，剛從熔融玻璃流分離之后的熔融玻璃塊的上部表面上形成分離痕跡。在該情況下，在沖壓成形工序中，為了使熔融玻璃塊旋轉，從而使得對熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于熔融玻璃塊的上部表面的分離痕跡與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面對置的狀態(tài)下，使熔融玻璃塊接觸于與分離痕跡對置的成形面，需要實施對選自(I)在熔融玻璃塊形成工序的實施過程中，作為熔融玻璃塊而被分離的熔融玻璃流的前端部，以及(2)在從熔融玻璃塊形成工序剛結束之后到即將開始沖壓成形工序之前的期間，處于落下過程中的熔融玻璃塊，中的至少一個被沖壓成形玻璃材料，從與垂直方向交叉的方向賦予外力的外力賦予工序，使得朝向與平行于垂直方向的被沖壓成形玻璃材料的中心軸正交的方向作用的力的矢量大小的總和實際上超過O。通過對被沖壓成形玻璃材料實施外力賦予工序，使得從熔融玻璃流分離而形成的熔融玻璃塊進行旋轉。因此，在熔融玻璃塊落下而到達第一沖壓成形模具的成形面與第二沖壓成形模具的成形面之間的階段，在分離時位于熔融玻璃塊的上部表面的分離痕跡，朝熔融玻璃塊的側面?zhèn)纫苿?，并與任一個成形面?zhèn)葘χ?。而且，在該狀態(tài)下，熔融玻璃塊被第一沖壓成形模具與第二沖壓成形模具從水平方向擠壓而被沖壓成形。即，在成為切痕的原因的分離痕跡與任一個成形面?zhèn)葘χ玫臓顟B(tài)下實施沖壓成形工序。因此，殘留于玻璃坯料的切痕局部存在于玻璃坯料的中央部附近。在該情況下，在制成磁記錄介質基板時，切痕能夠與用于形成中心孔的玻璃坯料的中央部部分(中心孔形成區(qū)域)一同被除去。因此，無需為了除去切痕而確保大的磨削量和/或研磨量，便能夠實現磨削工序的省略或者時間縮短化。在此，熔融玻璃塊以與任一個成形面對置的方式旋轉即可。在該情況下，“熔融玻 璃塊與任一個成形面對置”是指，不僅包括即將實施沖壓成形工序之前存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡，(I)位于以最短距離將熔融玻璃塊的中心點、與從第一沖壓成形模具的成形面以及第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面連結的直線上的情況，還包括即將實施沖壓成形工序之前存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡，(2)位于以熔融玻璃塊的中心點為起點而與所述直線形成45度左右以下的角度的范圍內的情況。另外，該角度優(yōu)選在30度以下，進一步優(yōu)選為在15度以下。在上述(I)所示的情況下，當沖壓成形時，分離痕跡與成形面最先接觸，并在該狀態(tài)下熔融玻璃塊被沖壓成形，因此，切痕位于玻璃坯料的大致中央部。另外，在上述(2)所示的情況下，當沖壓成形時，首先，分離痕跡附近的熔融玻璃塊的表面與成形面最先接觸。在該情況下，與上述(I)相比，雖然容易產生多少的位置偏移，但切痕也是位于玻璃坯料的中央部附近。另外，從能夠使切痕更可靠地存在于玻璃坯料的中央部或者其附近的觀點出發(fā)，最優(yōu)選上述(I)所示的方式。作為熔融玻璃塊形成工序中的熔融玻璃塊的形成方法，并沒有特別地限定，通常使用一對剪切刀片而加以實施。在該情況下，通過從與熔融玻璃流的垂下方向大致正交的方向使一對剪切刀片相對于熔融玻璃流交叉，而進行熔融玻璃流的前端部的分離。另外，剪切刀片的刀刃部的形狀只要是適用于熔融玻璃流的前端部的分離(切斷)的形狀便沒有特別地限定，優(yōu)選是從V字形狀或者U字形狀中選擇的任一個形狀。另外，在使用一對剪切刀片的情況下，需要在形成熔融玻璃塊時一對剪切刀片相互接近或者分離的移動方向、與在沖壓成形時一對沖壓成形模具相互接近或者分離的移動方向在水平面內大致平行。具體而言，上述兩個移動方向在水平面內形成的角度需要在10度以下，優(yōu)選在5度以下，最優(yōu)選為0度。在兩個移動方向在水平面內大致平行的情況下，熔融玻璃塊進行旋轉，由此當分離痕跡從熔融玻璃塊的上部表面朝向側面?zhèn)纫苿訒r，即將實施沖壓成形工序之前存在于熔融玻璃塊的表面的分離痕跡，能夠可靠地與一對沖壓成形模具的任一個成形面對置。另外，雖然一般使用一對剪切刀片來形成熔融玻璃塊，但在專利文獻2中并沒有任何關于上述兩個移動方向在水平面中的位置關系的公開。圖I、圖2是說明第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法的一例的模式剖面圖，具體而言，是表示利用一對剪切刀片來切斷熔融玻璃流的前端部的過程的圖。在此，圖I表示切斷熔融玻璃流的前端部之前的狀態(tài)，圖2表示熔融玻璃流的前端部切斷結束前后的狀態(tài)。首先，如圖I所示，使熔融玻璃流20從玻璃流出口 12朝向垂直方向的下方側連續(xù)地流出，其中，玻璃流出口 12設置在上端部與未圖示的熔融玻璃供給源連接的玻璃流出管10的下端部。另一方面，在比玻璃流出口 12靠下方側的位置，第一剪切刀片(下側刀片)30與第二剪切刀片(上側刀片)40在與熔融玻璃流20的垂下方向的中心軸D大致正交的方向上分別配置于熔融玻璃流20的兩側。而且，下側刀片30和上側刀片40分別朝箭頭Xl方向和箭頭X2方向移動，由此從熔融玻璃流20的兩側朝熔融玻璃流20的前端部22側靠近。在此，下側刀片30、上側刀片40具有大致板狀的主體部32、42 ;以及刀刃部34、44，該刀刃部34、44設置于主體部32、42的端部一側，并從與熔融玻璃流的垂下方向大致正交的方向切斷朝向垂直方向下方側連續(xù)流出的熔融玻璃流20的前端部22。另外，刀刃部34的上表面34U以及刀刃部44的下表面44B形成為與水平面大致一致的面，刀刃部34的下表面34B以及刀刃部44的上表面44U以與水平面交叉的方式形成為傾斜的面。進而，下 側刀片30還具備推壓部件36，該推壓部件36設置于主體部32的下表面32B側，該推壓部 件36從主體部32側朝刀刃部34側延伸，并且在切斷熔融玻璃流20時，與刀刃部34朝熔融玻璃流20靠近并切入的動作連動而推壓前端部22。另外，以刀刃部34的上表面34U和刀刃部44的下表面44B相對于垂直方向處于大致相同程度的高度位置的方式，配置下側刀片30和上側刀片40。另外，在圖I所示的例子中，該推壓部件36是以能夠相對于主體部32裝卸的方式設置于主體部32的棒狀部件，并且以與大致板狀的主體部32大致平行的方式安裝于主體部32的下部。另外，在主體部32設置有用于安裝該推壓部件36的安裝部38。而且，推壓部件36的刀刃部34側的前端36A的位置能夠通過交換為長度不同的推壓部件36、或者使推壓部件36相對于安裝部38沿水平方向滑動等的方式來進行調整。在此，在箭頭Xl方向中，以玻璃流出管10的中心軸D為基準，推壓部件36的前端36A的位置在與刀刃部34的前端34A的位置相比成為更加遠離中心軸D的位置的范圍內被調整。這是因為在前端36A的位置脫離該范圍的情況下，當進行前端部22的分離(切斷)時，推壓部件36先于刀刃部34與前端部22接觸，由此被分離的前端部22不是朝向正下方，而是朝斜下方向落下的可能性變高。另外，推壓部件36可以不可裝卸地一體設置于主體部32，另外，推壓部件36也可以是除了棒狀以外的板狀等其他形狀。另外，熔融玻璃流20的粘度只要是適于前端部22的分離或沖壓成形的粘度便沒有特別地限定，通常優(yōu)選在500dPa s 1050dPa s的范圍內被控制為恒定值。接著，如圖2所示，通過分別使下側刀片30和上側刀片40進一步朝箭頭Xl方向以及箭頭X2方向移動，以刀刃部34的上表面34U與刀刃部44的下表面44B局部幾乎無縫隙地重合的方式，分別使下側刀片30和上側刀片40朝水平方向移動。即，使下側刀片30和上側刀片40與中心軸D垂直地交叉。由此，下側刀片30和上側刀片40貫入熔融玻璃流20直到其中心軸D的附近為止，從而前端部22作為大致球狀的熔融玻璃塊24而被分離(切斷)。此時,分離痕跡(切斷痕跡)24A形成于熔融玻璃塊24的上部表面。另外，在切斷的大致前后，推壓部件36的前端36A與正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22和/或從熔融玻璃流20完全分離的熔融玻璃塊(被沖壓成形玻璃材料)24的上部側面接觸，并進行推壓。在該情況下，從與垂直方向交叉的方向對被沖壓成形玻璃材料22、24的上半球側賦予外力，以使得朝向與平行于垂直方向的被沖壓成形玻璃材料22、24的中心軸D正交的方向(圖中，與箭頭XI、箭頭X2平行的X軸方向)作用的力的矢量大小的總和實際上超過O。在此，圖3和圖4是說明對被沖壓成形玻璃材料22、24的上半球朝X軸方向作用的力的矢量的一例的圖表。在此，在圖3和圖4中，橫軸表示X軸方向，將原點0作為起點，右側方向表示切斷時的下側刀片30的行進方向亦即Xl方向，左側方向表示切斷時的上側刀片40的行進方向亦即X2方向。另外，圖3和圖4中所示的矢量，V(30A)、V(40)、以及V(36)分別表示緣于下側刀片30、上側刀片40、以及推壓部件36的矢量，即，在切斷前后，施加于被沖壓成形玻璃材料22、24的上部的緣于下側刀片30、上側刀片40、以及推壓部件36的三個外力中的、作用于X軸方向的成分的力。在此，緣于下側刀片30和上側刀片40的兩個矢量V(30A)以及V(40)是方向正相反、大小實際上相同的矢量。而且，在進行切斷時，當下側刀片30和上側刀片40開始貫入熔 融玻璃流20時，在V(30A)以及V(40)的矢量的大小從0增大而示出極大值之后切斷結束，并且在熔融玻璃塊24的上部表面與下側刀片30以及上側刀片40分離的時刻再次成為O。即，這兩個矢量V(30A)以及V(40)在熔融玻璃塊形成工序中處于大致抵消的關系，V(30A)以及V(40)的大小的差分從外觀看，實際上維持為O。而且，在正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22被推壓部件36的前端36A推壓的情況下，如圖3所示，在兩個總是抵消的矢量V(30A)以及V(40)的基礎上，其方向朝向Xl方向的矢量V(36)進行新的作用。因此，與V(36)進行新的作用相對應地，作用于X軸方向的力的矢量大小的總和實際上遠遠超過O。另外，在從熔融玻璃流20分離的熔融玻璃塊(被沖壓成形玻璃材料)24被推壓部件36的前端36A推壓的情況下，圖3所示的矢量V(30A)以及V(40)的大小均為0，并且如圖4所示，僅矢量V(36)進行作用。因此，作用于X軸方向的力的矢量大小的總和實際上遠遠超過O。另外，在圖2所示的例子中，可以僅以下側刀片30和下側刀片40正在貫入熔融玻璃流20的圖3所示的方式，使矢量V(36)進行作用，也可以僅以下側刀片30和下側刀片40向熔融玻璃流20的貫入結束之后的圖4所示的方式，使矢量V(36)進行作用，還可以以圖3和圖4所示兩種方式，使矢量V(36)進行作用。而且，在圖3和/或圖4所示的方式中，在向被沖壓成形玻璃材料22、24施加外力的情況下，由于矢量V(36)所作用的位置是在圖2中相對于被沖壓成形玻璃材料22、24的中心點C而靠上部左側的位置，因此被沖壓成形玻璃材料22、24相對于其中心點C而沿著圖2中的順時針方向R旋轉。因此，如圖5所示，在熔融玻璃塊24朝垂直方向的下方Yl (落下方向)側落下的過程中，在剛分離之后，相對于熔融玻璃塊24的中心點C而位于垂直方向正上方側的分離痕跡24A，相對于中心點C沿順時針方向移動。另外，在圖2所示的例子中，使用推壓部件36，該推壓部件36安裝于下側刀片30，并與下側刀片30連動而推壓被沖壓成形玻璃材料22、24的上部側。然而，作為推壓被沖壓成形玻璃材料22、24的推壓部件36，也可以配置于與下側刀片30、上側刀片40分離的位置而推壓被沖壓成形玻璃材料22、24。另外，如圖3和圖4所例示的那樣，基于推壓部件36的推壓只要是被實施為作用于被沖壓成形玻璃材料22、24的X軸方向的力的矢量大小的總和實際上超過O即可，能夠任意地選擇相對于被沖壓成形玻璃材料22、24的推壓位置、推壓方向。例如，能夠利用推壓部件36沿水平方向推壓被沖壓成形玻璃材料22、24的下部側。另夕卜，作用于被沖壓成形玻璃材料22、24的X軸方向的力的矢量大小的總和實際上不超過O的情況(在O附近的情況)是指，例如，僅以將熔融玻璃流20的前端部22單純地分離為目的，使一對剪切刀片在水平方向移動，以彼此的面滑動的方式使各個剪切刀片在Xl方向以及X2方向以大致相同的速度移動的情況等。另外，如圖3和圖4所例示的那樣，以旋轉為目的的產生朝X軸方向作用的力的矢量的外力，從與垂直方向交叉的方向對被沖壓成形玻璃材料22、24賦予即可,賦予外力的方向、向被沖壓成形玻璃材料22、24賦予外力的位置等并沒有特別地限定。然而，在賦予該外力的情況下，特別優(yōu)選被沖壓成形玻璃材料22、24的中心點C(其中，對于分離前的前端部22而言,在形成為熔融玻璃塊24時成為中心點的位置)不位于賦予外力的方向上。這是因為在被沖壓成形玻璃材料22、24的中心點C位于賦予外力的方向上的情況下難以產生旋轉。另外，更準確地說，在被沖壓成形玻璃材料22、24的中心點C位于賦予外力的方向上的情況下，在其瞬間不產生旋轉的力。但是，由于熔融玻璃塊24總是落下且中心點C的位置朝向下方移動，在此基礎上，前端部22也在極短時間內分離并作為熔融玻璃塊24而落下，因此在持續(xù)賦予外力的期間內，中心點C朝下方移動。因此，雖然難以產生旋轉，但也不是完全不產生旋轉。 另外，以熔融玻璃塊24的旋轉為目的的對被沖壓成形玻璃材料22、24的外力的賦予，可以代替使用推壓部件36，而是通過剪切刀片的形狀、或者控制一對剪切刀片的移動的速度、時機來實現。例如，在圖I和圖2中，在使用不具有推壓部件36的下側刀片的情況下，(I)相比于下表面44B與正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面接觸時間長的下表面34B上設置多個突起、或對下表面34B的表面進行粗面化處理、或利用對熔融玻璃的潤濕性較高的材料對下表面34B的表面進行表面涂層等，由此能夠更容易地朝Xl方向對正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面施加外力。在該情況下，正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面與下表面34B之間的摩擦力增大，是因為正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面以卷入下表面34B的移動的形態(tài)容易朝Xl方向移動。在該情況下，在切斷過程中，由于矢量V(30A)的大小總是大于矢量V(40)的大小，因此作用于X軸方向的力的矢量大小的總和實際上遠遠超過O。(2)另外，首先，在使上側刀片40朝X2方向移動而貫入熔融玻璃流20的過程中，在使不具有推壓部件36的下側刀片以比上側刀片40相對較高的速度朝Xl方向移動而貫入熔融玻璃流20中的情況下，除了因下側刀片30和上側刀片40相對于熔融玻璃流20的貫入而產生的兩個相反方向的外力以外，還有第三外力進行作用，該第三外力是利用與正在分離的前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面的接觸時間比下表面44B長的下表面34B，前端部(被沖壓成形玻璃材料)22的上部表面被朝箭頭Xl方向側強摩擦的力。在該情況下，在即將切斷之前和剛切斷之后的階段，第三外力較強地作用，由此作用于X軸方向的力的矢量大小的總和實際上遠遠超過O。在剛分離之后相對于熔融玻璃塊24的中心點C位于垂直方向正上方側的分離痕跡24A相對于中心點C而沿著圖5中順時針方向移動后的熔融玻璃塊24進而朝垂直方向的下方Yl側落下。而且，進入到在與熔融玻璃塊24的落下方向Yl正交的方向上對置配置的第一沖壓成形模具以及第二沖壓成形模具之間。在此，如圖6所示，實施沖壓成形之前的第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60以相對于落下方向Yl形成線對稱的方式相互分離而被配置。而且，為了與熔融玻璃塊24到達第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60的垂直方向中央部附近的時機相吻合地從兩側擠壓熔融玻璃塊24而沖壓成形，第一沖壓成形模具50朝箭頭Xl方向移動，第二沖壓成形模具60朝箭頭X2方向移動。在此，沖壓成形模具50、60具有沖壓成形模具主體52、62，該沖壓成形模具主體52,62具有大致圓盤形狀；以及引導部件54、64，該引導部件54、64以包圍該沖壓成形模具主體52、62的外周端的方式配置。另外，由于圖6是剖面圖，因此在圖6中，引導部件54、64被描繪成位于沖壓成形模具主體52、62的兩側。在此，沖壓成形模具主體52、62的一個面成為成形面52A、62A。而且，在圖6中，第一沖壓成形模具50與第二沖壓成形模具60以兩個成形面52A、62A相對置的方式對置配置。另外，引導部件54在相對于成形面52A而朝Xl方向略微突出的高度位置處設置有引導面54A，引導部件64在相對于 成形面62A而朝X2方向略微突出的高度位置處設置有引導面64A。因此，在沖壓成形時，由于引導面54A與引導面64A接觸，因此在成形面52A與成形面62A之間形成縫隙。因此，該縫隙厚度形成為在第一沖壓成形模具50與第二沖壓成形模具60之間被沖壓成形而形成為板狀的熔融玻璃塊24的厚度，即玻璃坯料的厚度。另外，如圖6所示，成形面52A、62A形成為通過沖壓成形工序的實施，在第一沖壓成形模具50的成形面52A與第二沖壓成形模具60的成形面62之間，當熔融玻璃塊24在垂直方向上被完全地擠壓展開而成形為板狀玻璃時，成形面52A、62A的至少與上述的板狀玻璃接觸的區(qū)域形成為平坦面。作為構成沖壓成形模具50、60的材料，當考慮耐熱性、可加工性、耐久性時，優(yōu)選金屬或者合金。在該情況下，構成沖壓成形模具50、60的金屬或者合金的耐熱溫度優(yōu)選在1000°C以上，進一步優(yōu)選為在1100°C以上。作為構成沖壓成形模具50、60的材料，具體而言，優(yōu)選球墨鑄鐵(TOD)、合金工具鋼(SKD61等)、高速鋼(SKH)、超硬合金、鉻化硼系化合物以及鶴絡鉆合金等。玻璃坯料通過利用成形面52A、62A來擠壓熔融玻璃塊24進行沖壓成形而制成。因此，成形面52A、62A的表面粗糙度與玻璃坯料主表面的表面粗糙度大致相等?？紤]到進行作為后述的后續(xù)工序而實施的劃線加工、以及使用金剛石片的磨削加工，玻璃坯料的主表面的表面粗糙度(中心線表面粗糙度Ra)優(yōu)選形成為IOym以下的范圍內，因此沖壓成形面的表面粗糙度(中心線表面粗糙度Ra)也優(yōu)選形成在IOym以下的范圍內。圖6所示的熔融玻璃塊24進一步朝下方落下，并進入到兩個沖壓成形面52A、62A之間。而且，如圖7所示，在到達與落下方向Yl平行的沖壓成形面52A、62A的上下方向的大致中央部附近時，熔融玻璃塊24的兩側表面與沖壓成形面52A、62A接觸。在該情況下，優(yōu)選分離痕跡24A和相對于熔融玻璃塊24的中心點C位于與分離痕跡24A呈點對稱位置的熔融玻璃塊24的表面部分，最初與沖壓成形面62A、沖壓面52A大致同時接觸。在即將實施該沖壓成形工序之前的階段，分離痕跡24A以中心點C為起點而存在于與以最短距離將熔融玻璃塊24的中心點C和沖壓成形面62A連結的直線X3形成零度角的位置上。另外，直到沖壓成形的開始時刻為止，熔融玻璃塊24也可以是一邊持續(xù)旋轉一邊落下的形態(tài)(以下，稱為“旋轉持續(xù)型落下”)。另外，也可以是下述形態(tài)當從與垂直方向交叉的方向對被沖壓成形玻璃材料22、24施加外力，以使得作用于X軸方向的力的矢量大小的總和實際上超過0時，在瞬間旋轉之后，直到沖壓成形的開始時刻為止，維持該狀態(tài)并使熔融玻璃塊24落下(以下，稱為“旋轉停止型落下”)。然而，如上所述，在任意情況下，在即將實施圖7所示的沖壓成形工序之前的階段，需要使分離痕跡24A位于以熔融玻璃塊24的中心點C為起點而與直線X3形成45度以下角度(以下，存在稱為“旋轉角”的情況)的范圍內。在此，為了將沖壓成形的開始時刻的旋轉角形成在上述范圍內，(I)在旋轉停止型落下的情況下，能夠控制旋轉時的外力的朝向、強度等，(2)在旋轉持續(xù)型落下的情況下，能夠控制a)旋轉時的外力的朝向、強度，以及b)落下距離等。在此，“落下距離”是指，從圖2所例示那樣的分離痕跡24A最初形成的位置、即下側刀片30與上側刀片40在垂直方向重合的位置，到從圖7所例示那樣的沖壓成形開始時刻的位置、即與落下方向Yl平行的沖壓成形面52A、62A的直徑方向的大致中央部附近為止的距離。另外，也考慮因落下過程中的熔融玻璃塊24的粘度增大而導致難以沖壓成形、或者因落下速度變得過大而導致產生沖壓位置的變動的觀點，落下距離優(yōu)選在IOOOmm以下的范圍內進行選擇，進一步優(yōu)選在500mm以下的范圍內進行選擇，進而優(yōu)選在300mm以下的范圍內進行選擇，最優(yōu)選在200mm以下的范圍內進行選擇。另外，落下距離的下限并沒有特別地限定，從實用性的角度出發(fā)優(yōu) 選在75謹以上。作為將沖壓成形開始時刻的旋轉角調整在上述范圍內的方法，例如，能夠采用下述示出的方法(I)、(2)。(I)在將熔融玻璃塊24的分離條件(例如，剪切刀片30、40的驅動時機)和沖壓成形模具50、60的驅動時機設為恒定的狀態(tài)下，利用高速照相機監(jiān)視熔融玻璃塊24落下的樣子。而且，基于該監(jiān)視結果，調整落下距離，以使得沖壓成形開始時刻的旋轉角形成在上述范圍內。(2)在將落下距離設為恒定的狀態(tài)下，利用高速照相機監(jiān)視熔融玻璃塊24落下的樣子。而且，基于該監(jiān)視結果，調整熔融玻璃塊24的分離條件(例如，剪切刀片30、40的驅動時機)，以使得沖壓成形開始時刻的旋轉角形成在上述范圍內。另外，沖壓成形開始時刻的第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60的溫度優(yōu)選設定為小于構成熔融玻璃塊24的玻璃材料的玻化溫度。由此，在熔融玻璃塊24被沖壓成形時，能夠更可靠地防止在薄薄地延伸的熔融玻璃塊24與成形面52A、62A之間產生熔化。而且，當熔融玻璃塊24的表面與成形面52A、62A接觸時，熔融玻璃塊24以貼著成形面52A、62A的方式進行固化。而且，如圖8所示，當利用第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60從兩側持續(xù)擠壓熔融玻璃塊24時，熔融玻璃塊24以熔融玻璃塊24與成形面52A、62A最初接觸的位置為中心以均勻的厚度擠壓展開。而且，如圖9所示，利用第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60持續(xù)擠壓，直到引導面54A與引導面64A接觸為止，由此在成形面52A、62A之間成形出圓盤狀或大致圓盤狀的薄板玻璃26。因此，如圖7所示，在分離痕跡24A最初與成形面62A接觸的情況下，分離痕跡24A位于薄板玻璃26的與成形面62A對置的面(圖9中，未圖示)。在此，圖9所示的薄板玻璃26具有與最終得到的玻璃坯料實際上相同的形狀、厚度。另外，從使熔融玻璃塊24薄板化的觀點出發(fā)，從圖7所示的沖壓成形開始時刻的狀態(tài)到圖9所示的引導面54A與引導面64A接觸的狀態(tài)所需要的時間(以下，存在稱為“沖壓成形時間”的情況)優(yōu)選在0.1秒以內。另外，在進行沖壓成形時，引導面54A與引導面64A呈接觸的狀態(tài)，由此能夠容易地維持成形面52A與成形面62A平行的狀態(tài)。另外，沖壓成形時間的上限并沒有特別地限定。另外，在形成為圖9所示的狀態(tài)之后，能夠持續(xù)施加比向第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60外加的沖壓壓力足夠小的壓力，以便維持引導面54A與引導面64A接觸的狀態(tài)，從而維持薄板玻璃26的兩個面與成形面52A、62A緊貼的狀態(tài)。而且，將該狀態(tài)持續(xù)數秒，對薄板玻璃26進行冷卻。在此，在第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60之間所夾持狀態(tài)下的薄板玻璃26的冷卻，優(yōu)選實施至成為在構成薄板玻璃26的玻璃材料的屈服點(屈伏點)以下。另外，在上述狀態(tài)下，如果將沖壓壓力變得更大，則存在薄板玻璃26破損的情況。接著，如圖10所示，使第一沖壓成形模具50朝X2方向移動，使第二沖壓成形模具60朝Xl方向移動，由此使第一沖壓成形模具50與第二沖壓成形模具60相互分離。由此，使成形面62A與薄板玻璃26分離(脫模)。接著，如圖11所示，使成形面52A與薄板玻璃26分離(脫模)，并使薄板玻璃26朝垂直方向的下方Yl側落下而取出。另外，當使成形面 52A與薄板玻璃26分離時，能夠從薄板玻璃26的外周方向施加力而以剝離薄板玻璃26的方式進行脫模，也能夠通過對薄板玻璃的表面進行空氣冷卻而使玻璃收縮來進行脫模。在該情況下，不對薄板玻璃26施加較大的力便能夠取出。另外，也可以在沖壓成形時使用水、空氣等冷卻用介質來對第一沖壓成形模具50和第二沖壓成形模具60進行冷卻，從而將成形面52A、62A的溫度控制為不會過度上升。最后，將取出的薄板玻璃26退火而減少、除去變形，從而得到用于加工磁記錄介質基板的母材、即玻璃坯料。而且，緣于分離痕跡24A的切痕局部存在于該玻璃坯料的主表面的中央部附近。因此，利用制成磁記錄介質基板時實施的中心孔的形成加工，能夠除去包含切痕的區(qū)域。另外，在熔融玻璃流20的粘度小于500dPa s的情況下，在將熔融玻璃流20朝空中垂下的狀態(tài)下，存在難以將需要量的熔融玻璃塊24分離的情況。因此，在熔融玻璃流20的粘度小于500dPa-s的情況下，在玻璃流出口 12的下方支承熔融玻璃流20的前端部22，積蓄得到熔融玻璃塊24所需要的量的熔融玻璃，然后將熔融玻璃塊24分離。而且，對這樣得到的熔融玻璃塊24以熔融玻璃塊24以中心點C為起點而進行旋轉的方式施加外力而使其落下，并以分離痕跡24A的位置朝向成形面52A或者成形面62A的方式開始沖壓成形即可。通過對落下過程中的熔融玻璃塊24沖壓成形，使即將沖壓成形開始之前的熔融玻璃塊24的粘度分布均勻化，容易使熔融玻璃塊24以均勻的厚度薄薄地延伸。在設置于磁記錄介質基板的中心孔的內徑小的情況下，減小形成于玻璃坯料的切痕的尺寸，使切痕被收納在供玻璃坯料的中心孔形成的范圍內。在該情況下，與熔融玻璃流20的垂下方向正交的平面中的熔融玻璃流20的前端部22附近的截面的形狀形成為具有長徑與短徑的大致橢圓形狀，從與熔融玻璃流20的垂下方向大致正交且是與熔融玻璃流20的前端部22附近的截面的長徑方向大致一致的方向，使一對剪切刀片從彼此相對方向且是與垂直方向交叉的方向貫入熔融玻璃流，由此使熔融玻璃流20的前端部22分離是有效的。通過這樣分離熔融玻璃流20的前端部22，能夠減小切痕。而且，在該情況下，即使中心孔的內徑小，也能夠使切痕局部存在于供玻璃坯料的中心孔形成的范圍內。另外，為了將熔融玻璃流20的前端部22附近的截面形狀形成為大致橢圓形狀，例如，能夠采用將玻璃流出口 12的開口形狀形成為細長的方法、或者將熔融玻璃流20從其垂下方向的兩側夾住而以使截面形狀變得細長的方式變形的方法等。另外，作為減小切痕的方法，使用刀刃部分支、且其形狀為V字形狀或U字形狀的一對剪切刀片來切斷熔融玻璃流的方法也是有效的。在該情況下，如圖2所例示的那樣，熔融玻璃流20的前端部22的分離通過下述方法而被實施，即，從與熔融玻璃流20的垂下方向大致正交的方向，使一對剪切刀片30、40從彼此相對方向且與垂直方向交叉的方向貫入熔融玻璃流20。另外，形成于玻璃坯料的切痕的大小與玻璃流出口 12的內周長對應而進行增減。伴隨著玻璃流出口 12的內周長的增加，切痕的大小也增加，伴隨著玻璃流出口 12的內周長的減少，切痕的大小也減小。因此，為了將切痕的大小形成為比中心孔徑小，只要在每單位時間的熔融玻璃流20的流出量成為規(guī)定量的范圍內減小玻璃流出口 12的內周長、即減小玻璃流出口 12的內徑即可。例如，當將流出的熔融玻璃的粘度設為700dPa s時，如果將玻璃流出口 12的內周長形成為47mm(玻璃流出口 12為圓形的情況下，相當于內徑約為15mm)，則每單位時間的熔融玻璃流20的流出量為500g/分鐘(50個玻璃坯料的量)，切痕 20mm小。另外，將流出的熔融玻璃流20的粘度保持為上述的值不變，如果玻璃流出口 12的內周長形成為41mm(相當于內徑約為13mm)，則每單位時間的熔融玻璃流20的流出量為350g/分鐘(35個玻璃坯料的量)，切痕的大小形成為15mm，從而能夠將切痕形成為比2. 5英制尺寸的磁記錄介質基板的中心孔徑20_小。這樣一來，能夠將切痕的大小控制為收納在磁記錄介質基板的中心孔徑內。圖12是表示利用一對剪切刀片來進行熔融玻璃流的前端部的分離的一例的模式剖面圖。在此，具體而言，圖11是表示了在圖I中與中心軸D正交的面中的熔融玻璃流20的截面(水平截面)形成為大致橢圓形狀的情況的圖。在此，在附圖中，點劃線S表示水平截面與橢圓形狀的熔融玻璃流20的長徑方向一致的方向，點劃線S與箭頭Xl方向以及箭頭X2方向平行。在圖11所示的例子中，從與熔融玻璃流20的垂下方向(中心軸D)正交且是與熔融玻璃流20的水平截面的長徑方向S —致的方向，使一對剪切刀片30、40從彼此相對方向且與垂直方向(中心軸D)交叉的方向貫入熔融玻璃流20 (通過使下側刀片30朝Xl方向移動、使上側刀片40朝X2方向移動而貫入)。在第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法中，由于利用水平直接沖壓來制造玻璃坯料，因此能夠容易地得到板厚偏差以及平面度小的玻璃坯料。另外，被制成的玻璃坯料的板厚偏差優(yōu)選在10 ii m以下,平面度優(yōu)選在10 ii m以下,進一步優(yōu)選在8 ii m以下,更進一步優(yōu)選在6iim以下，特別優(yōu)選在4iim以下。第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法優(yōu)選應用于直徑與板厚之比(直徑/板厚)為50 150的玻璃坯料的制造。在此，直徑是指玻璃坯料的長徑與短徑的相加平均值。由于不利用沖壓成形模具50、60來限制玻璃坯料的外周端面，因另外周端面形成為自由表面。在此，被制造的玻璃坯料的真圓度并沒有特別地限定，優(yōu)選形成在±0. 5mm以內。對于玻璃坯料的直徑并沒有特別地限制，如后述那樣，直徑的設定優(yōu)選以在基板的直徑加上在從玻璃坯料加工磁記錄介質基板時進行的劃線加工或外周加工時的除去量的值為目標而進行。玻璃還料的板厚優(yōu)選在0. 75mm I. Imm的范圍內，進一步優(yōu)選在0. 75mm I. Omm
的范圍內。玻璃坯料的板厚、板厚偏差、平面度、直徑、真圓度的測定使用三維測量儀、千分尺進行即可。所使用的玻璃的組成與磁記錄介質基板所被要求的性質對應而適當地選擇即可，例如，能夠舉出鋁硅酸鹽玻璃、堿石灰玻璃、鋁硅酸鈉玻璃、硅酸鋁毛刺玻璃、以及硅酸鹽毛刺玻璃等。另外，上述玻璃可以是通過加熱處理而結晶化的結晶化玻璃，也能夠在通過加熱處理而結晶化之后進行加工而完成磁記錄介質基板。在磁盤等的磁記錄介質的制造中被利用的磁記錄介質基板中所使用的玻璃，優(yōu)選具有化學耐久性、剛性大、具有高熱膨脹系數。進而，在重視提高抗折強度的情況下，被要求能夠進行化學強化的組成，另外，在磁記錄介質的制造過程中進行高溫熱處理的情況下，優(yōu)選耐熱性高的組成。作為具有化學耐久性、剛性大、具有高熱膨脹系數的玻璃，能夠例示一種玻璃，換算為氧化物基準，以摩爾百分比表示，該玻璃包括I)將 SiO2 計為 50 75 %，2)將 Al2O3 計為 0 15%，3)將從Li20、Na2O以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物合計為3 35%，4)將從MgO、CaO> SrO> BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物合計為0 35%，以及5)將從Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Ta2O5, Nb2O5以及HfO2中選擇的至少一種的金屬氧化物合計為0 15%。另外，為了改善澄清時的消泡，優(yōu)選以外分比(增量與增加之后的總量之比)合計含有量為0. I 3. 5質量百分比的范圍內添加Sn氧化物以及Ce氧化物。在該情況下，Sn氧化物的含有量相對于Sn氧化物與Ce氧化物的合計含有量的質量比(Sn氧化物的質量/(Sn氧化物的質量+Ce氧化物的質量))為0.01 0.99。以下，只要未進行特別的記述，玻璃成分的含有量、合計含有量以摩爾百分比表示，Sn氧化物、Ce氧化物的含有量以質量百分比表示。SiO2是玻璃的網絡形成成分，是起到提高玻璃穩(wěn)定性、化學耐久性、特別是提高耐酸性的作用的必需成分。如果SiO2的含有量小于50%，則不能充分地得到上述作用，當超過75 %時，存在在玻璃中產生未熔化物、澄清時的玻璃的粘性變得過高而消泡變得不充分的情況。因此，SiO2的含有量優(yōu)選為50 75%。Al2O3也有助于玻璃的網絡形成，起到提高玻璃穩(wěn)定性、化學耐久性的作用，并且也起到增加化學強化時的離子交換速度的作用。當Al2O3的含有量超過15%時，存在玻璃的熔融性降低、容易產生未熔化物的情況。另外，存在熱膨脹系數降低、楊氏模量降低的情況。因此，Al2O3的含有量優(yōu)選為0 15%。Li2O, Na2O以及K2O起到提高玻璃的熔融性以及成形性的作用。另外，還起到增加熱膨脹系數的作用。當Li20、Na20以及K2O的含有量小于3%時，存在不能充分地得到上述作用的情況，當Li20、Na2O以及K2O的含有量超過35%時，存在化學耐久性、特別是耐酸性降低、或者玻璃的熱穩(wěn)定性降低的情況。另外，還有玻化溫度降低、耐熱性也降低的情況。、因此，Li20、Na20以及K2O的含有量優(yōu)選為3 35%，進一步優(yōu)選為5 35%。另外，Li2O,Na2O以及K2O中起到降低玻化溫度的作用最大的是Li20。MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO起到提高玻璃的熔融性、成形性、以及楊氏模量的作用。另外，還起到增加熱膨脹系數、以及楊氏模量的作用。然而，當MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO的合計含有量超過35%時，存在化學耐久性或玻璃的熱穩(wěn)定性降低的情況。因此，MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO的合計含有量優(yōu)選為0 35%。ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2起到改善化學耐久性、特別是耐堿性、提高?；瘻囟榷纳颇蜔嵝浴⒁约疤岣邨钍夏Ａ炕蚱茐捻g性的作用。然而，當Zr02、TiO2,La203、Y203、Ta2O5, Nb2O5以及HfO2的合計含有量超過15%時，存在玻璃的熔融性降低、在玻璃中殘留玻璃原料的未熔化物的情況。因此，ZrO2, TiO2, La203、Y203、Ta2O5, Nb2O5以及HfO2的合計含有量優(yōu)選為0 15%。以下例示出上述的組成范圍所包含的組成范圍。另外，玻璃成分的含有量、合計含 有量只要未進行特別的記述，則以摩爾百分比表示。第一玻璃重視化學強化的效率，其組成范圍如下l)Si02 的含有量60 75%，2)A1203 的含有量3 12%，3)從Li20、Na2O以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量20 35% (優(yōu)選為20 30% )，4)從MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量0 5%，以及5)從 Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Yb2O3> Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量0 7%。第二玻璃重視化學耐久性，其組成范圍如下l)Si02 的含有量60 75%，2) Al2O3 的含有量I 15 %，3)從Li20、Na2O以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量15 25%,4)從MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量I 6%，以及5)從 Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Yb2O3> Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量0. I 9% (優(yōu)選為0. 5 9%，進一步優(yōu)選為I 9% )。第三玻璃重視高剛性，其組成范圍如下DSiO2 的含有量50 70%， 2) Al2O3 的含有量I 8 %，3)從Li20、Na2O以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量12 22%,4)從MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量10 20%，以及5)從 Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Yb2O3> Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量3 10%。第四玻璃重視高耐熱性，其組成范圍如下DSiO2 的含有量50 70%，2) Al2O3 的含有量:I 10 %，3)從Li20、Na20以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量5 17%(其中，Li2O的含有量0 5%，優(yōu)選為0 1% )，4)從MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量10 25%，5)從 Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Yb2O3> Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 中選擇的至少一種的金 屬氧化物的合計含有量1 12%。第五玻璃重視高耐熱性、高剛性、以及高熱膨脹，其組成范圍如下DSiO2 的含有量50 75%，2) Al2O3 的含有量0 5%，3)從Li20、Na20以及K2O中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量3 15%(其中，Li2O的含有量0 1%)，4)從MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量14 35%，以及5)從 Zr02、TiO2, La203、Y2O3> Yb2O3> Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 中選擇的至少一種的金屬氧化物的合計含有量2 9%。[磁記錄介質基板的制造方法]第一本實施方式的磁記錄介質基板的制造方法的特征在于，至少經過在由第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法制成的玻璃坯料的主表面的中央部形成中心孔的中心孔形成工序、以及研磨主表面的研磨工序，而制造磁記錄介質基板。首先，對由第一本實施方式的玻璃坯料的制造方法制造的玻璃坯料進行劃線。劃線是指，為了將成形了的玻璃坯料形成為規(guī)定尺寸的環(huán)狀，而利用由超硬合金制或者金剛石顆粒構成的劃線器在玻璃坯料的表面上設置兩個同心圓(內側同心圓和外側同心圓)狀的切斷線(線狀的痕跡)。另外，殘存于玻璃坯料的切痕局部存在于內側同心圓的內側。被劃線為兩個同心圓的形狀的玻璃坯料被局部加熱，利用玻璃的熱膨脹的差異而除去外側同心圓的外側部分以及內側同心圓的內側部分。由此，形成為圓形狀并且環(huán)狀的圓盤狀玻璃。內側同心圓的內側部分的除去相當于形成中心孔的中心孔形成工序，利用該加工而除去切痕。在進行劃線加工的情況下，只要玻璃坯料的主表面的粗糙度在Ium以下，就能夠使用劃線器而適宜地設置切斷線。另外，在玻璃坯料的主表面的粗糙度超過Iu m的情況下，有時劃線器不隨著表面凹凸而難以將切斷線一樣地設置。在該情況下，使玻璃坯料的主表面平滑化后進行劃線。接著，進行劃線了的玻璃的形狀加工。形狀加工包括倒角(外周端部以及內周端部的倒角)。在進行倒角時，利用金剛石砂輪對環(huán)狀玻璃的外周端部以及內周端部實施倒角。接著，進行圓盤狀玻璃的端面研磨。在進行端面研磨時，利用毛刷研磨來對圓盤狀玻璃的內周側端面以及外周側端面進行鏡面精加工。此時，使用將氧化鈰等微粒子作為浮懸磨粒而包含的泥漿(slurry)。通過進行端面研磨，來進行附著在玻璃端面的塵埃等污染、損壞或者劃傷等損傷的除去，由此能夠防止成為鈉或鉀等腐蝕的原因的離子析出的產生。接著，對圓盤狀玻璃的主表面實施第一研磨。第一研磨的目的在于除去殘留于主表面的劃傷、變形?；诘谝谎心サ挠嗔繛槔鐢祔m IOiim左右。第一研磨工序以及后述的第二研磨工序中使用雙面研磨裝置。雙面研磨裝置是使用研磨墊并使圓盤狀玻璃與研磨墊相對移動而進行研磨的裝置。
雙面研磨裝置具有研磨用行星架安裝部，該研磨用行星架安裝部具有分別以規(guī)定的旋轉比率被旋轉驅動的內部齒輪和太陽齒輪；以及上研磨盤和下研磨盤，該上研磨盤和下研磨盤夾著該研磨用行星架安裝部而相互反轉驅動。在上研磨盤和下研磨盤的與圓盤狀玻璃對置的面上分別貼著后述的研磨墊。以與內部齒輪以及太陽齒輪嚙合的方式安裝的研磨用行星架進行行星齒輪運動，并一邊在太陽齒輪的周圍自轉一邊公轉。在研磨用行星架上分別保持有多個圓盤狀玻璃。上研磨盤能夠沿上下方向移動，并且向圓盤狀玻璃的表面和背面的主表面加壓研磨墊。而且，當一邊供給含有研磨磨粒(研磨材料)的泥漿(研磨液)一邊進行研磨用行星架的行星齒輪運動時，通過上研磨盤以及下研磨盤相互反轉，圓盤狀玻璃與研磨墊相對移動，從而圓盤狀玻璃的表面和背面的主表面被研磨。另外，在第一研磨工序中，作為研磨墊而使用例如硬質樹脂磨光器，作為研磨材料而使用例如氧化鈰磨粒。接著，第一研磨后的圓盤狀玻璃被化學強化。作為化學強化使用的熔融鹽，能夠使用例如硝酸鉀(60質量百分比)與硝酸鈉(40質量百分比)的混合熔融鹽等。在化學強化中，熔融鹽被加熱為例如300°C 400°C，清洗過的圓盤狀玻璃在被預熱為例如200°C 300°C之后，玻璃在熔融鹽中浸潰例如3小時 4小時。在該浸潰時，優(yōu)選多個圓盤狀玻璃以被端面保持的方式收納于支架的狀態(tài)下進行，以使得圓盤狀玻璃的兩主表面整體被化學強化。這樣，通過將圓盤狀玻璃浸潰于熔融鹽中，圓盤狀玻璃的表層的鋰離子以及鈉離子分別被熔融鹽中的離子半徑相對較大的鈉離子以及鉀離子置換，從而形成約50 y m 200i!m厚度的壓縮應力層。由此，圓盤狀玻璃被強化而具備良好的耐沖擊性。另外，被化學強化處理過的玻璃被清洗。例如，在利用硫酸清洗之后，利用純水、IPA(異丙醇)等清洗。接著，對被化學強化并被充分清洗的圓盤狀玻璃實施第二研磨?；诘诙心サ挠嗔繛槔鏘 U m左右。第二研磨的目的在于將主表面精加工為鏡面狀。在第二研磨工序中與第一研磨工序相同地，使用雙面研磨裝置對圓盤狀玻璃進行研磨，但使用的研磨液(泥漿)所含有的研磨磨粒、以及研磨墊的組成有所不同。比起第一研磨工序，第二研磨工序中減小使用的研磨磨粒的顆粒直徑，并減小研磨墊的硬度。例如，在第二研磨工序中，作為研磨墊而使用例如軟質發(fā)泡樹脂磨光器，作為研磨材料而使用比例如在第一研磨工序中使用的氧化鈰磨粒微小的氧化鈰磨粒、或者硅膠等。在第二研磨工序中被研磨的圓盤狀玻璃被再次清洗。在清洗過程中使用中性洗劑、純水、以及IPA。根據第二研磨，例如，得到主表面的平面度在4 ii m以下、主表面的粗糙度在0. 2nm以下的磁盤用玻璃基板。之后，在磁盤用玻璃基板上成膜有磁性層等各層，從而制成磁盤。
另外，雖然化學強化工序在第一研磨工序與第二研磨工序之間進行，但該順序并沒有被限定。只要是在第一研磨工序之后進行第二研磨工序，便能夠適當地配置化學強化工序。例如，也可以是a)第一研磨工序、b)第二研磨工序、c)化學強化工序的順序(以下，存在稱為“工序順序I”的情況)。但是，由于在工序順序I中不能除去因化學強化工序而產生的表面凹凸，因此更優(yōu)選以a)第一研磨工序、b)化學強化工序、c)第二研磨工序的順序加以實施的工序順序。[磁記錄介質的制造方法]第一本實施方式的磁記錄介質的制造方法的特征在于，至少經過在由第一本實施方式的磁記錄介質基板的制造方法制成的磁記錄介質基板上形成磁記錄層的磁記錄層形成工序，而制造磁記錄介質。
在由第一本實施方式的磁記錄介質基板的制造方法制成的磁記錄介質基板(磁盤用玻璃基板)的主表面上成膜有磁性層等的層，從而制成磁記錄介質基板(磁盤)。例如，從基板主表面一側依次層疊附著層、軟磁性層、非磁性基底層、垂直磁記錄層、保護層以及潤滑層。在附著層使用例如Cr合金等，作為與玻璃基板之間的粘合層而發(fā)揮功能。在軟磁性層使用例如CoTaZr合金等，在非磁性基底層使用例如粒狀非磁性層等，在垂直磁記錄層使用例如粒狀磁性層等。另外，在保護層使用由氫化碳構成的材料，在潤滑層使用例如氟類樹脂等。更具體而言，對于玻璃基板，使用在線型濺射裝置向玻璃基板的兩主表面依次成膜CrTi的附著層、CoTaZr/Ru/CoTaZr的軟磁性層、CoCrSiO2的非磁性粒狀基底層、CoCrPt-SiO2 TiO2的粒狀磁性層、以及氫化碳保護膜。進而，利用浸泡法在被成膜的最上層成膜全氟聚醚潤滑層，從而得到磁記錄介質(磁盤)?！吹诙緦嵤┓绞健礫玻璃坯料的制造方法]第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法，是從熔融玻璃流分離熔融玻璃塊，該熔融玻璃流從玻璃流出口流出，使用沖壓成形模具沖壓成形出薄板玻璃，從而制成用于加工為具有中心孔的磁記錄介質基板的玻璃坯料的制造方法，該玻璃坯料的制造方法的特征在于，使熔融玻璃塊分離并落下，利用對置的沖壓成形面沖壓空中的熔融玻璃塊，從而成形薄板玻璃，以及以從熔融玻璃流分離的部位朝向沖壓成形面的方式改變熔融玻璃塊的朝向，并開始沖壓。以下，參照附圖對第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法進行說明。圖13示出將從在玻璃流出管I的下端開口的玻璃流出口流出的熔融玻璃流2朝空中垂下。使一對剪切刀片3-1、3-2的前端交叉而剪斷玻璃，由此進行熔融玻璃流2的切斷。在剪切刀片3-1的下表面設置有用于從水平方向推壓熔融玻璃塊的上部而施加旋轉的轉矩的突起3-1-a。突起3-1-a的水平方向的長度能夠進行調整。通過調整玻璃流出管I的溫度，熔融玻璃的流出粘度在500dPa s 1050dPa s的范圍內被控制為恒定粘度。圖14示出以不形成縫隙的方式使剪切刀片3-1、3_2的前端交叉而切斷熔融玻璃流2的下部，從而將熔融玻璃塊4分離的瞬間的情況。突起3-1-a在熔融玻璃塊4剛分離之后從水平方向推壓熔融玻璃塊4的上部并施加用于使熔融玻璃塊4朝順時針方向旋轉的轉矩。另外，也可以將突起3-1-a與剪切刀片分離并與剪切刀片3-1的動作同步而從水平方向推壓熔融玻璃塊4的上部并施加旋轉的轉矩，或者從水平方向推壓熔融玻璃塊的下部，從而使熔融玻璃塊4朝順時針方向旋轉。圖15示出分離的熔融玻璃塊一邊朝順時針方向旋轉一邊落下的情況。在切斷、分離時，在熔融玻璃塊4的頂部形成剪切刀片所導致的剪斷痕跡、即所謂的切痕4-a，該切痕
4-a隨著熔融玻璃塊4的旋轉朝水平方向旋轉。圖16示出沖壓成形模具5、6的垂直截面。沖壓成形模具5由沖壓成形模具主體
5-1和引導部件5-2等構成，其中，上述沖壓成形模具主體5-1具有沖壓成形面5-1-a;上述引導部件5-2安裝于沖壓成形模具主體5-1的周圍，該引導部件5-2以在沖壓成形時沖壓成形面彼此的間隔與薄板玻璃的板厚相等的方式與沖壓成形模具6抵接而確定沖壓成形面彼此的間隔，并且在使沖壓成形模具主體5-1隨薄板玻璃的主表面移動時對沖壓成形模具主體5-1進行引導。 作為構成沖壓成形模具的材料，當考慮耐熱性、加工性、耐久性時，優(yōu)選金屬或者合金。其中，進一步優(yōu)選作為沖壓成形模具而使用時的耐熱溫度在1000°c以上，優(yōu)選1100°C以上的金屬或者合金。具體而言，優(yōu)選球墨鑄鐵(TOD)、合金工具鋼(SKD61等)、高速鋼(SKH)、超硬合金、鉻化硼系化合物、以及鎢鉻鈷合金等。為了將沖壓成形面轉印于玻璃而成形玻璃坯料的主表面，沖壓成形面的表面粗糙度與玻璃坯料主表面的表面粗糙度形成為大致相等?？紤]到進行后述的劃線加工、以及使用金剛石片的磨削加工，玻璃坯料的主表面的表面粗糙度優(yōu)選形成為0. 01 10 i! m的范圍內，因此沖壓成形面的表面粗糙度也優(yōu)選形成在0. 01 10 y m的范圍內。沖壓成形模具6由沖壓成形模具主體6-1和引導部件6-2等構成，其中，上述沖壓成形模具主體6-1具有沖壓成形面6-1-a ;上述引導部件6-2安裝于沖壓成形模具主體
6-1的周圍，該引導部件6-2以在沖壓成形時沖壓成形面彼此的間隔與薄板玻璃的板厚相等的方式與沖壓成形模具5抵接而確定沖壓成形面彼此的間隔，并且在使沖壓成形模具主體6-1隨薄板玻璃的主表面移動時對沖壓成形模具主體6-1進行引導。在圖16中，為了對熔融玻璃塊4沖壓，使熔融玻璃塊4在前進驅動過程中的沖壓成形模具5、6之間一邊旋轉一邊落下。圖17示出利用沖壓成形面5-l-a、6-l_a開始對熔融玻璃塊4沖壓的瞬間。在此，切痕4-a最初與沖壓成形面6-1-a接觸。為了實現該狀態(tài)，對用于使熔融玻璃塊4旋轉的轉矩的大小、熔融玻璃塊4的落下距離進行調整。為了防止熔融玻璃塊的粘度上升而脫離適于沖壓成形的粘度范圍、或者為了防止落下速度變得過大而導致沖壓的位置發(fā)生變動，落下距離優(yōu)選在IOOOmm以下,進一步優(yōu)選在500mm以下,更進一步優(yōu)選在300mm以下,再更進一步優(yōu)選在200mm以下。當熔融玻璃塊的表面與沖壓成形面接觸時，以緊貼沖壓成形面的方式進行固化。當進行沖壓時，玻璃以熔融玻璃塊與沖壓成形面最初接觸的位置為中心而以均勻的厚度擴張，從而成形為圓盤狀或大致圓盤狀的薄板玻璃。圖18示出在上述沖壓的過程中玻璃被擴張的情況。由于切痕周邊最初與沖壓成形面6-1-a接觸，并以貼著沖壓成形面6-1-a的方式進行固化，因此切痕殘留在薄板玻璃的中央部表面。圖19示出使引導部件5-1的抵接面5-1-a與引導部件6-1的抵接面6_l_a抵接而將沖壓成形面5-1-a與沖壓成形面6-1-a的間隔規(guī)定為相當于玻璃坯料的板厚的距離的狀態(tài)。抵接面5-1-a與抵接面6-1-a的抵接也起到維持沖壓成形面5_l_a與沖壓成形面6-1-a的平行狀態(tài)的作用。為了使熔融玻璃塊薄板化，優(yōu)選將從圖17所示的沖壓開始到圖19所示的合模為止的時間設為0. I秒以內。在圖20中，在使抵接面5-1-a與抵接面6_l_a抵接的狀態(tài)下，對沖壓成形模具主體5-1、6_1施加比沖壓壓力足夠小的壓力，從而維持沖壓成形面5-l-a、6-l_a緊貼于薄板玻璃的主表面的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，當增大沖壓壓力時，存在使玻璃破損的危險。將該狀態(tài)持續(xù)數秒，從而對薄板玻璃進行冷卻。接著，如圖21所示，使沖壓成形模具5、6后退并將薄板玻璃4-B從沖壓成形面
6-1-a脫模。接著，如圖22所示，將薄板玻璃4-B從沖壓成形面5-1-a脫模并取出。在將薄板玻璃4-B從沖壓成形面5-1-a脫模時，如果以從薄板玻璃的外周方向施加力而剝離薄板·玻璃的方式進行脫模，則無需對薄板玻璃施加較大的力，便能夠從沖壓成形模具取出薄板玻璃。將取出的薄板玻璃退火而減少或除去變形，從而形成用于加工磁記錄介質用基板的母材、即玻璃坯料。由于切痕局部存在于玻璃坯料的主表面中央，因此利用制成基板時的中心孔穿孔加工，能夠除去包含切痕的區(qū)域。另外，當熔融玻璃的流出粘度小于500dPa *s時，難以在將熔融玻璃流朝空中垂下的狀態(tài)下分離出需要量的熔融玻璃塊。對于流出時的粘度小于500dPa s的熔融玻璃，在玻璃流出口下方支承熔融玻璃流的下端，積蓄得到熔融玻璃塊所需要的量的熔融玻璃后將熔融玻璃塊分離，向熔融玻璃塊施加旋轉的轉矩而使熔融玻璃塊落下，并以切痕的位置朝向沖壓成形面的方式開始沖壓即可。通過對落下過程中的熔融玻璃塊沖壓成形，容易使沖壓開始之前的熔融玻璃塊的粘度分布均勻化，使玻璃以均勻的厚度薄薄地延伸。在設置于基板的中心孔的內徑小的情況下，減小切痕的尺寸，使切痕收納在供中心孔設置的范圍內。具體而言，以垂下的熔融玻璃流的水平截面形成為細長形、即具有長徑和短徑的截面形狀的方式控制熔融玻璃流的截面形狀。例如，將玻璃流出口的形狀形成為細長而使熔融玻璃流的截面形狀形成為細長、或者從對置的兩個方向夾住熔融玻璃流的側面而將截面形狀形成為細長。而且，使用剪切刀片從長徑方向切斷熔融玻璃流。通過從長徑方向剪斷熔融玻璃流，能夠縮小切痕，而且即使在中心孔的內徑小的情況下也能夠使切痕局部存在于設置中心孔的范圍內。作為縮小切痕的方法，使切斷刃呈V字形狀或U字形狀的一對剪切刀片交叉而切斷熔融玻璃流的方法也有效。根據以上的方法，優(yōu)選能夠制成板厚偏差在10 y m以下、平面度在10 y m以下的玻璃坯料。玻璃坯料的平面度優(yōu)選的范圍在8 iim以下，進一步優(yōu)選的范圍在6 iim以下，更進一步優(yōu)選的范圍在4 ii m以下。第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法適用于直徑與板厚之比(直徑/板厚)為50 150的玻璃坯料的制造。在此，直徑是指玻璃坯料的長徑與短徑的相加平均值。由于不利用沖壓成形模具來限制玻璃坯料的外周面，因此上述外周面形成為自由表面，但成形的玻璃坯料的真圓度在±0. 5mm以內。對于玻璃坯料的直徑并沒有特別地限制，如后述那樣，上述直徑的設定優(yōu)選以在基板的直徑加上從玻璃坯料加工磁記錄介質基板時進行的劃線加工或外周加工時的除去量的值為目標而進行。玻璃坯料的板厚在0. 75 I. Imm的范圍內，優(yōu)選在0. 75 I. Omm的范圍內，進一步優(yōu)選在0. 90 0. 92mm的范圍內。玻璃坯料的板厚、板厚偏差、平面度、直徑、真圓度的測定使用三維測量儀、千分尺進行即可。使用的玻璃的組成與磁記錄介質基板所被要求的性質對應而適當地選擇即可，例如，能夠舉出鋁硅酸鹽玻璃、堿石灰玻璃、鋁硅酸鈉玻璃、硅酸鋁毛刺玻璃、以及硅酸鹽毛刺玻璃等。另外，上述玻璃可以是通過加熱處理而結晶化的結晶化玻璃，也能夠在通過加熱處理而結晶化之后進行加工而完成基板。在磁盤等的磁記錄介質的基板中使用的玻璃優(yōu)選具有化學耐久性、剛性大、具有高熱膨脹系數。進而，在重視提高抗折強度的情況下，被要求能夠進行化學強化的組成，另夕卜，在磁記錄介質的制造過程中進行高溫熱處理的情況下，優(yōu)選耐熱性高的組成。
作為具有化學耐久性、剛性大、具有高熱膨脹系數的玻璃，能夠例示一種玻璃，換算為氧化物基準，以摩爾百分比表示，該玻璃包括將SiO2 計為 50 75 %，將Al2O3 計為 0 15%，將Li20、Na2O 以及 K2O 合計為 3 35 %，將MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 合計為 0 35 %，以及將ZrO2、TiO2' La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5 以及 HfO2 合計為 0 15%。另外，為了改善澄清時的消泡，優(yōu)選以外分比合計含有量為0. I 3. 5質量百分比的范圍添加Sn氧化物以及Ce氧化物。在該情況下，Sn氧化物的含有量相對于Sn氧化物與Ce氧化物的合計含有量的質量比(Sn氧化物的質量/ (Sn氧化物的質量+Ce氧化物的質量))為0.01 0.99。以下，只要未進行特別的記述，玻璃成分的含有量、合計含有量以摩爾百分比表示，Sn氧化物、Ce氧化物的含有量以質量百分比表示。SiO2是玻璃的網絡形成成分，是起到提高玻璃穩(wěn)定性、化學耐久性、特別是提高耐酸性的作用的必需成分。如果SiO2的含有量小于50%，則不能充分地得到上述作用，當超過75 %時，在玻璃中產生未熔化物、或者澄清時的玻璃的粘性變得過高而消泡變得不充分。因此，SiO2的含有量優(yōu)選為50 75%。Al2O3也有助于玻璃的網格形成，也起到提高玻璃穩(wěn)定性、化學耐久性的作用，并且起到增加化學強化時的離子交換速度的作用。當Al2O3的含有量超過15%時，玻璃的熔融性降低、容易產生未熔化物。另外，熱膨脹系數降低、楊氏模量也降低。因此，Al2O3的含有量優(yōu)選為0 15%。Li2O, Na2O以及K2O起到提高玻璃的熔融性以及成形性的作用。另外，還起到增加熱膨脹系數的作用。當Li20、Na20以及K2O的含有量小于3%時，不能充分地得到上述作用，當Li20、Na20以及K2O的含有量超過35%時，化學耐久性、特別是耐酸性降低、或者玻璃的熱穩(wěn)定性降低。另外，?；瘻囟冉档汀⒛蜔嵝砸步档?。因此，Li20、Na20以及K2O的含有量優(yōu)選為3 35%，進一步優(yōu)選為5 35%。另外，Li2O, Na2O以及K2O中、降低玻化溫度的作用最大的是Li20。MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO起到提高玻璃的熔融性、成形性、以及楊氏模量的作用。另外，還起到增加熱膨脹系數、以及楊氏模量的作用。然而，當MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO的合計含有量超過35%時，化學耐久性或玻璃的熱穩(wěn)定性降低。因此，MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO的合計含有量優(yōu)選為0 35%。ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2起到改善化學耐久性、特別是耐堿性、提高?；瘻囟榷纳颇蜔嵝浴⒁约疤岣邨钍夏Ａ炕蚱茐捻g性的作用。然而，當Zr02、TiO2,La203、Y203、Ta2O5, Nb2O5以及HfO2的合計含有量超過15%時，玻璃的熔融性降低、在玻璃中殘留玻璃原料的未熔化物。因此，ZrO2, TiO2, La203、Y203、Ta2O5, Nb2O5以及HfO2的合計含有量優(yōu)選為0 15%。以下例示上述的組成范圍所包含的組成范圍。另外，只要未進行特別的記述，玻璃成分的含有量、合計含有量，以摩爾百分比表示。第一玻璃重視化學強化的效率，其組成范圍如下
SiO2 的含有量60 75%，Al2O3 的含有量3 12%，Li2O, Na2O以及K2O的合計含有量20 35% (優(yōu)選為23 35% )，MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 的合計含有量0 5 %，ZrO2, TiO2, La203、Y2O3> Yb203、Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 的合計含有量0 7%。第二玻璃重視化學耐久性，其組成范圍如下SiO2 的含有量60 75%，Al2O3 的含有量I 15 %，Li2O, Na2O以及K2O的合計含有量15 25%，MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 的合計含有量I 6 %，ZrO2, TiO2' La203、Y2O3> Yb2O3' Ta2O5' Nb2O5 以及 HfO2 的合計含有量:0. I 9% (優(yōu)選為0. 5 9%，進一步優(yōu)選為I 9% )。第三玻璃重視高剛性，其組成范圍如下SiO2 的含有量50 70%，Al2O3 的含有量I 8 %，Li2O, Na2O以及K2O的合計含有量12 22%，MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 的合計含有量10 20 %，ZrO2, TiO2, La203、Y2O3> Yb203、Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 的合計含有量3 10%。第四玻璃重視高耐熱性，其組成范圍如下SiO2 的含有量50 70%，Al2O3 的含有量I 10 %，Li20、Na20以及K2O的合計含有量5 17% (其中，Li2O的含有量0 5%，優(yōu)選為0 1% )，MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 的合計含有量10 25 %，ZrO2, TiO2, La203、Y2O3> Yb203、Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 的合計含有量1 12%。第五玻璃重視高耐熱性、高剛性、以及高熱膨脹，其組成范圍如下SiO2 的含有量50 75%，Al2O3 的含有量0 5%，
Li20、Na2O以及K2O的合計含有量3 15% (其中，Li2O的含有量0 I % )，MgO、CaO、SrO、BaO 以及 ZnO 的合計含有量14 35 %，ZrO2, TiO2, La203、Y2O3> Yb203、Ta2O5, Nb2O5 以及 HfO2 的合計含有量2 9%。[磁記錄介質基板的制造方法]第二本實施方式的磁記錄介質基板的制造方法的特征在于，至少經過研磨由第二本實施方式的玻璃坯料的制造方法制成的玻璃坯料的主表面的研磨工序、以及在主表面的中央設置中心孔的穿孔工序，而制造磁記錄介質基板。首先，對沖壓成形而得到的玻璃坯料進行劃線。劃線是指，為了將成形了的玻璃坯料形成為規(guī)定尺寸的環(huán)狀，利用由超硬合金制或者金剛石顆粒構成的劃線器在玻璃坯料的表面上設置兩個同心圓(內側同心圓和外側同心圓)狀的切斷線(線狀的痕跡)。另外，殘存于玻璃還料的切痕局部存在于內側同心圓的內側。被劃線為兩個同心圓的形狀的玻璃還 料被局部加熱，利用玻璃的熱膨脹的差異而除去外側同心圓的外側部分以及內側同心圓的內側部分。由此,形成為圓形狀的圓盤狀玻璃。內側同心圓的內側部分的除去相當于中心孔穿孔加工，利用該加工除去切痕。由于玻璃坯料的主表面的粗糙度在I U m以下，因此能夠使用劃線器而適宜地設置切斷線。另外，在玻璃坯料的主表面的粗糙度超過I U m的情況下，由于劃線器不追隨表面凹凸而不能將切斷線一樣地設置，因此使主表面平滑化后進行劃線。接著，對劃線了的玻璃進行形狀加工。形狀加工包括倒角(外周端部以及內周端部的倒角)。在進行倒角時，利用金剛石砂輪對環(huán)狀玻璃的外周端部以及內周端部實施倒角。接著，進行圓盤狀玻璃的端面研磨。在進行端面研磨時，利用毛刷研磨來對玻璃的內周側端面以及外周側端面進行鏡面精加工。此時，使用將氧化鈰等微粒子作為浮懸磨粒而包含的泥漿(slurry)。通過進行端面研磨，來進行附著在玻璃端面的塵埃等污染、損壞或者劃傷等損傷的除去，由此能夠防止成為鈉或鉀等腐蝕的原因的離子析出的產生。接著，對圓盤狀玻璃的主表面實施第一研磨。第一研磨的目的在于除去殘留于主表面的劃傷、變形?；诘谝谎心サ挠嗔繛槔鐢祔m IOiim左右。由于不進行余量大的磨削工序亦可，因此玻璃中不會產生緣于磨削工序的劃傷、變形等。由此，第一研磨工序中的余量較小。第一研磨工序、以及后述的第二研磨工序中使用雙面研磨裝置。雙面研磨裝置是使用研磨墊并使圓盤狀玻璃與研磨墊相對移動而進行研磨的裝置。雙面研磨裝置具有研磨用行星架安裝部，該研磨用行星架安裝部具有分別以規(guī)定的旋轉比率被旋轉驅動的內部齒輪和太陽齒輪；以及上研磨盤和下研磨盤，該上研磨盤和下研磨盤夾著該研磨用行星架安裝部而相互反轉驅動。在上研磨盤以及下研磨盤的與圓盤狀玻璃對置的面上分別貼著后述的研磨墊。以與內部齒輪以及太陽齒輪嚙合的方式安裝的研磨用行星架進行行星齒輪運動，并一邊在太陽齒輪的周圍自轉一邊公轉。在研磨用行星架分別保持有多個圓盤狀玻璃。上研磨盤能夠沿上下方向移動，向圓盤狀玻璃的表面和背面的主表面加壓研磨墊。而且，當一邊供給含有研磨磨粒(研磨材料)的泥漿(研磨液)一邊進行研磨用行星架的行星齒輪運動時，通過上研磨盤以及下研磨盤相互反轉，圓盤狀玻璃與研磨墊相對移動，從而圓盤狀玻璃的表面和背面的主表面被研磨。另外，在第一研磨工序中，作為研磨墊使用例如硬質樹脂磨光器，作為研磨材料使用例如氧化鈰磨粒。接著，第一研磨后的圓盤狀玻璃被化學強化。作為化學強化液，能夠使用例如硝酸鉀(60%)與硝酸鈉(40%)的混合液等。在化學強化中，化學強化液被加熱為例如300°C 400°C，清洗過的玻璃在被預熱為例如200°C 300°C之后，將玻璃在化學強化液中浸潰例如3小時 4小時。在該浸潰時，優(yōu)選多個玻璃以被端面保持的方式在收納于支架的狀態(tài)下進行，以使得玻璃的兩主表面整體被化學強化。這樣，通過將玻璃浸潰于化學強化液中，玻璃表層的鋰離子以及鈉離子分別被化學強化液中的離子半徑相對大的鈉離子以及鉀離子置換，從而形成約50 200 厚度的壓縮應力層。由此，玻璃被強化而具備良好的耐沖擊性。另外，被化學強化處理過的玻璃被清洗。例如，在利用硫酸清洗之后，利用純水、IPA(異丙醇)等清洗。接著，對被化學強化后被充分清洗的玻璃實施第二研磨。基于第二研磨的余量為例如Iiim左右。第二研磨的目的在于將主表面精加工為鏡面狀。第二研磨工序與第一研磨工序相同地，使用雙面研磨裝置對圓盤狀玻璃進行研磨，但使用的研磨液(泥漿)所含有 的研磨磨粒、以及研磨墊的組成有所不同。比起第一研磨工序，第二研磨工序中減小使用的研磨磨粒的顆粒直徑，并減小研磨墊的硬度。例如，在第二研磨工序中，作為研磨墊使用例如軟質發(fā)泡樹脂磨光器，作為研磨材料使用比例如在第一研磨工序中使用的氧化鈰磨粒微小的氧化鈰磨粒。在第二研磨工序中被研磨的圓盤狀玻璃被再次清洗。在清洗過程中使用中性洗齊[J、純水、以及IPA。根據第二研磨，例如，得到主表面的平面度在4 ii m以下、主表面的粗糙度在0. 2nm以下的磁盤用玻璃基板。之后，在磁盤用玻璃基板成膜有磁性層等各層，從而制成磁盤。另外，雖然化學強化工序在第一研磨工序與第二研磨工序之間進行，但該順序并沒有被限定。只要是在第一研磨工序之后進行第二研磨工序，便能夠適當地配置化學強化工序。例如，也可以是第一研磨工序一第二研磨工序一化學強化工序(以下，稱為工序順序I)的順序。但是，由于在工序順序I中不能除去因化學強化工序而產生的表面凹凸，因此更優(yōu)選為第一研磨工序一化學強化工序一第二研磨工序的工序順序。[磁記錄介質的制造方法]第二本實施方式的磁記錄介質的制造方法的特征在于，至少經過在由第二本實施方式的磁記錄介質基板的制造方法制成的磁記錄介質基板上形成磁記錄層的磁記錄層形成工序，而制造磁記錄介質。在由上述方法制成的磁記錄介質基板(磁盤用玻璃基板)的主表面上成膜磁性層等的層，從而制成磁記錄介質基板(磁盤)。例如，從基板主表面一側依次層疊附著層、軟磁性層、非磁性基底層、垂直磁記錄層、保護層以及潤滑層。附著層中使用例如Cr合金等，附著層作為與玻璃基板之間的粘合層而發(fā)揮功能。在軟磁性層中使用例如CoTaZr合金等，在非磁性基底層中使用例如粒狀非磁性層等，在垂直磁記錄層中使用例如粒狀磁性層等。另夕卜，在保護層中使用由氫化碳構成的材料，在潤滑層中使用例如氟類樹脂等。更具體而言，對于玻璃基板，使用在線型濺射裝置向玻璃基板的兩主表面依次成膜CrTi的附著層、CoTaZr/Ru/CoTaZr的軟磁性層、CoCrSiO2的非磁性粒狀基底層、CoCrPt-SiO2 TiO2的粒狀磁性層、以及氫化碳保護膜。進而，利用浸泡法在被成膜的最上層成膜全氟聚醚潤滑層，從而得到磁記錄介質(磁盤)。實施例<第一本發(fā)明的實施例>以下，根據實施例對第一本發(fā)明進行更詳細地說明，但第一本發(fā)明并不限于以下的實施例。(實施例I)-玻璃坯料的制成以及評價-為了得到表I所示組成的玻璃，將氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氫氧化物等原料進行
稱量并充分混合而形成為調合原料。將該原料投入玻璃熔化爐內的熔融槽內進行加熱、熔融，將得到的熔融玻璃從熔融槽流入澄清槽并在澄清槽內進行脫泡。進而，將熔融玻璃流入作業(yè)槽并在作業(yè)槽內攪拌而使其均勻化，并從安裝于作業(yè)槽的底部的玻璃流出管流出。熔融槽、澄清槽、作業(yè)槽、玻璃流出管的溫度分別被控制，在各槽以及玻璃流出管中，將熔融玻璃的溫度、粘度控制在規(guī)定的范圍內。將從玻璃流出管流出的熔融玻璃鑄入鑄模進行了成形。將得到的玻璃作為試樣，測定玻化溫度、液相溫度。以下示出玻化溫度與液相溫度的測定方法。(I)玻化溫度Tg使用熱機械分析裝置(TMA)來測定各玻璃的?；瘻囟萒g。⑵液相溫度向白金坩堝加入玻璃試樣，在規(guī)定溫度下保持兩個小時，在從爐中取出并冷卻之后，利用顯微鏡來觀察結晶析出的有無，將未確認出結晶的最低溫度設為液相溫度(L. T.)。表I示出各玻璃的?；瘻囟扰c液相溫度。[表 I]No. I No. 2 Na. 3 Mo. 4 No, 5 Ho- 6
玻璃組 g^~SiO^886S61846664
一. Al2O399250.55
— ,“— LigO 12 8 14 4 0 I- 5 ..........................................*-- ................................ ........................................ 1.-.—...........—....... ................—
Na2O10 Il563 S. 5
................................................ .......... . .....................................................-........................ . <W.. . ..T,T .TC.r.-
K2O0 0.2 0I 60
......................................................................* '-- — ........... ..................— .................. *—— ...................- ........................
Li20+Na20+K2022 19,2 1911 9W— MgO0 I 006. 54一‘—H—0L 8 1313is13............—■ ” n—- 0 " " " o OO OO
權利要求
1.一種玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 所述玻璃坯料的制造方法至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料， 所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊， 所述沖壓成形工序中，利用在與所述熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的所述熔融玻璃塊進行沖壓成形， 所述沖壓成形通過如下方式實施 在對所述熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于所述熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從所述第一沖壓成形模具的成形面以及所述第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使所述熔融玻璃塊接觸于與所述分離痕跡對置的成形面， 一塊所述玻璃坯料用于制造一塊具有中心孔的磁記錄介質基板。
2.根據權利要求I所述的玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 所述熔融玻璃塊通過對朝向垂直方向的下方側連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成， 在所述沖壓成形工序中，為了使所述熔融玻璃塊旋轉，從而使得在對所述熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于所述熔融玻璃塊的上部表面的分離痕跡與從所述第一沖壓成形模具的成形面以及所述第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面對置的狀態(tài)下，能夠使所述熔融玻璃塊接觸于與所述分離痕跡對置的成形面，實施從與垂直方向交叉的方向對被沖壓成形玻璃材料賦予外力的外力賦予工序，使得朝向與平行于垂直方向的所述被沖壓成形玻璃材料的中心軸正交的方向作用的力的矢量大小的總和實際上超過O，所述被沖壓成形玻璃材料為選自 (1)在所述熔融玻璃塊形成工序的實施過程中，作為所述熔融玻璃塊而被分離的所述熔融玻璃流的前端部，以及 (2)在從所述熔融玻璃塊形成工序剛結束之后到即將開始所述沖壓成形工序之前的期間，處于落下過程中的所述熔融玻璃塊， 中的至少一種。
3.根據權利要求2所述的玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 與所述熔融玻璃流的垂下方向正交的平面中的所述熔融玻璃流的前端部附近的截面形狀，形成為具有長徑和短徑的大致橢圓形狀， 所述熔融玻璃流的前端部的分離通過如下方式實施 從與所述熔融玻璃流的垂下方向大致正交且與所述熔融玻璃流的前端部附近的截面的長徑方向大致一致的方向，使一對剪切刀片從彼此相對方向且與垂直方向交叉的方向貫入所述熔融玻璃流。
4.根據權利要求2或3所述的玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 所述熔融玻璃流的前端部的分離通過如下方式實施從與所述熔融玻璃流的垂下方向大致正交的方向，使一對剪切刀片從彼此相對方向且與垂直方向交叉的方向貫入所述熔融玻璃流，所述一對剪切刀片的刀刃部分支，其形狀是從V字形狀和U字形狀中選擇的任一種形狀。
5.根據權利要求I至4中任一項所述的玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 在即將實施所述沖壓成形工序之前存在于所述熔融玻璃塊的表面的所述分離痕跡，位于以最短距離將所述熔融玻璃塊的中心點、與從所述第一沖壓成形模具的成形面以及所述第二沖壓成形模具的成形面中選擇的任一個成形面連結的直線上。
6.根據權利要求I至5中任一項所述的玻璃坯料的制造方法，其特征在于， 當通過所述沖壓成形工序的實施，所述熔融玻璃塊在所述第一沖壓成形模具的成形面與所述第二沖壓成形模具的成形面之間被完全擠壓展開而成形為板狀玻璃時， 所述第一沖壓成形模具以及所述第二沖壓成形模具的成形面中的至少與所述板狀玻璃接觸的區(qū)域形成為平坦面。
7.—種磁記錄介質基板的制造方法，其特征在于， 所述磁記錄介質基板的制造方法在至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料之后，進而至少經過在所述玻璃坯料的主表面的中央部形成中心孔的中心孔形成工序以及研磨所述主表面的研磨工序而從一塊所述玻璃坯料制造一塊磁記錄介質基板， 所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊， 所述沖壓成形工序中，利用在與所述熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的所述熔融玻璃塊進行沖壓成形， 所述沖壓成形通過如下方式實施 在對所述熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于所述熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從所述第一沖壓成形模具的成形面以及所述第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使所述熔融玻璃塊接觸于與所述分離痕跡對置的成形面。
8.—種磁記錄介質的制造方法,其特征在于， 所述磁記錄介質的制造方法在至少經過熔融玻璃塊形成工序和沖壓成形工序而制造玻璃坯料，進而至少經過在所述玻璃坯料的主表面的中央部形成中心孔的中心孔形成工序以及研磨所述主表面的研磨工序而從一塊所述玻璃坯料制造一塊磁記錄介質基板之后，至少經過在所述磁記錄介質基板的主表面上形成磁記錄層的磁記錄層形成工序而制造磁記錄介質， 所述熔融玻璃塊形成工序中，對連續(xù)流出的熔融玻璃流的前端部進行分離而形成熔融玻璃塊， 所述沖壓成形工序中，利用在與所述熔融玻璃塊的落下方向交叉的方向上對置配置的第一沖壓成形模具和第二沖壓成形模具，對在經過所述熔融玻璃塊形成工序之后朝下方落下的所述熔融玻璃塊進行沖壓成形， 所述沖壓成形通過如下方式實施 在對所述熔融玻璃流的前端部進行分離時形成于所述熔融玻璃塊表面的分離痕跡與從所述第一沖壓成形模具的成形面以及所述第二沖壓成形模具的成形面中選擇的至少一個成形面對置的狀態(tài)下，使所述熔融玻璃塊接觸于與所 述分離痕跡對置的成形面。
全文摘要
本發(fā)明利用一對沖壓成形模具從水平方向對熔融玻璃塊沖壓成形而制造玻璃坯料時，使切痕位于玻璃坯料的中央部附近；本發(fā)明提供當熔融玻璃塊(24)落到在水平方向上對置配置的一對沖壓成形模具之間時，在形成于熔融玻璃塊(24)的上部表面的分離痕跡(24A)與一對沖壓成形模具的至少一個成形面?zhèn)葘χ玫臓顟B(tài)下進行沖壓成形的玻璃坯料的制造方法、以及使用該玻璃坯料的制造方法的磁記錄介質基板和磁記錄介質的制造方法。
文檔編號G11B5/84GK102791642SQ20118001335
公開日2012年11月21日 申請日期2011年3月11日 優(yōu)先權日2010年3月31日
發(fā)明者佐藤崇, 大澤誠, 本橋孝朗, 杉山伸博, 村上明, 磯野英樹, 谷野秀和, 越阪部基延 申請人:Hoya株式會社