定影構件、定影裝置和成像設備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的名稱為定影構件、定影裝置和成像設備。一種定影構件、包括該定影構件的定影裝置和包括該定影裝置的成像設備。用于定影色粉的定影構件包括基底、提供在該基底的外圓周上的彈性層、和提供在該彈性層的外圓周上的釋放層。該彈性層包括硅橡膠、碳纖維、在室溫下具有液體形式的飽和烴、和孔部分。
【專利說明】定影構件、定影裝置和成像設備
【技術領域】
[0001]本公開的示例性實施方式一般地涉及定影構件、定影裝置和成像設備。
【背景技術】
[0002]近年來，諸如復印機和打印機的電子照相成像設備已經關注全色圖像形成，并且其比例已經逐漸增加。一般而言，彩色電子照相成像設備包括在記錄介質上形成由四種顏色(青色、品紅色、黃色和黑色)的色粉圖像形成的彩色圖像的成像單元，和將形成的色粉圖像定影在記錄介質上的定影裝置。該定影裝置包括用于加熱該記錄介質上的色粉圖像的加熱器、用于將色粉圖像定影至記錄介質上的定影構件、和在施壓構件和定影構件之間形成定影夾區(qū)的施壓構件。當記錄介質通過該定影夾區(qū)時通過對色粉圖像加熱和施壓，該色粉圖像被定影至記錄介質上。
[0003]具有帶形狀或輥形狀的定影構件是已知的。定影構件包括通過在諸如金屬輥或樹脂無縫帶的基底構件上提供由耐熱橡膠制成的彈性層所形成的那些，和通過在該彈性層上進一步提供釋放層所形成的那些。通常，通過在輥內部結合加熱器所形成的構件(加熱定影輥)用作具有輥形狀的定影構件。而且，在圍繞輥纏繞的帶內部提供加熱器的具有帶形狀的定影構件也是已知的。
[0004]定影構件需要柔性地附著于色粉圖像并且有效地傳導熱，以便構成全色的多種顏色的色粉圖像(通常是四種顏色的色粉圖像)被均勻地加熱。因此，具有柔性并且耐熱的硅橡膠經常用于定影構件。但是，硅橡膠具有低的熱導率并且對色粉圖像的熱傳導可能變得比較慢。
[0005]當對色粉圖像的熱傳導慢時，需要很多時間來將定影構件的表面加熱到定影色粉圖像的定影溫度。在高速機器的情況下，供熱可能太慢。此外，成像設備的預熱速度可能變慢。重要的是注意，整體上來說，當接通電源時，關于定影裝置的定影構件的溫度升高的預熱速度經常限制成像設備的預熱速度。
[0006]作為解決上述問題的一種方法，縮短成像裝置的預熱時間的技術公開在JP-2008-191557-A、JP-2008-197585-A 和 JP-2009-092826-A 中。在該技術中，彈性層的熱導率通過在硅橡膠中混合碳纖維來增強，并且彈性層的熱容通過在硅橡膠中提供孔部分來減小。上述的技術對于熱擴散是有效的。但是，當具有包含碳纖維和孔部分的硅橡膠構造的彈性層在靜止狀態(tài)下長時間地受到壓力時，可能出現(xiàn)變形(擠壓永久變形)不容易恢復的問題。當定影構件出現(xiàn)擠壓永久變形時，該定影構件不能均勻地加熱色粉圖像，并且可能出現(xiàn)圖像的不均勻光澤或有缺陷的圖像定影。
[0007]作為解決上述問題的一種方法，在硅橡膠中混合多元醇以增強抗擠壓永久變形的方法公開在JP-2011-227512-A和JP-4697493-B中。但是，多元醇和硅橡膠的相容性差。在將多元醇混合至硅橡膠的情況中，結果出現(xiàn)粘度增加和對制造條件的限制。此外，上述方法不足以解決圖像的不均勻光澤。當具有多元醇的硅橡膠長時間處在壓力下時，具有多元醇的硅橡膠出現(xiàn)擠壓永久變形并且出現(xiàn)圖像的不均勻光澤。[0008]JP-2006-154711-A描述了用于色粉圖像的定影構件，其具有固體材料分散在硅層中，而不是提供有孔部分的傳統(tǒng)的硅橡膠層，該傳統(tǒng)的硅橡膠層是對變形敏感的原因。JP-2006-154711-A還描述了當形成色粉圖像的定影構件時通過添加有機溶劑并且混合固體材料來降低硅樹脂的粘度。JP-2006-154711-A中描述的固體材料減少了定影構件的熱釋放的量并且抑制能量消耗，并且具有低熱導率和良好的隔熱性。典型的例子是硅珠。此外，JP-2006-154711-A描述了有機溶劑優(yōu)選具有相對低的沸點，例如C1-C4醇、C3-C12烴、苯、甲苯、二甲苯、四氫呋喃、乙腈、二甲基甲酰胺或二甲基亞砜。

【發(fā)明內容】

[0009]本發(fā)明的目的是提供一種新穎的定影構件、定影裝置和成像設備，即便當該定影構件長時間處在壓力下時，其也可以抑制圖像的不均勻光澤的出現(xiàn)。
[0010]鑒于前面所述，在本公開的一方面，提供了用于定影色粉的新穎的定影構件，其包括基底、提供在該基底的外圓周上的彈性層和提供在該彈性層的外圓周上的釋放層。該彈性層包括硅橡膠、碳纖維、在室溫下具有液體形式的飽和烴以及孔部分。
[0011]根據本發(fā)明，提供了定影構件、定影裝置和成像設備，即便當該定影構件長時間處在壓力下時其抗擠壓永久變形并且可以抑制圖像的不均勻光澤的出現(xiàn)。
[0012]由下面例證性實施方式的的詳細描述、附圖和相關權利要求，前面提及的和其他的方面、特征和優(yōu)點將變得更加完全顯而易見。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]當與附圖結合考慮時，通過參照以下【具體實施方式】將更好地理解本發(fā)明的前面提及的和其他的方面、特征和優(yōu)點，其中:
[0014]圖1是根據本發(fā)明實施方式的定影構件的一個實例的橫截面視圖；
[0015]圖2是根據本發(fā)明實施方式的定影構件的放大視圖；
[0016]圖3是根據本發(fā)明實施方式的定影裝置(輥型)的示意圖；
[0017]圖4是根據本發(fā)明實施方式的定影裝置(帶型)的一個實例的示意圖；
[0018]圖5是根據本發(fā)明實施方式的成像設備的一個實例的示意圖。
[0019]附圖旨在描繪本公開的示例性實施方式，并且不應當解釋為限制其范圍。除非清楚地指出，附圖不應當認為是按比例繪制。
【具體實施方式】
[0020]在下文中，將參考附圖詳細描述本發(fā)明的示例性實施方式。但是，本發(fā)明不限于下面描述的示例性實施方式，而是能夠在本發(fā)明的范圍內進行修改和改進。
[0021]在描述附圖中圖解的實施方式中，為了清楚采用專用的術語。但是，本專利說明書的公開內容不是意欲被限制于這樣選擇的專用術語，并且應當理解每個特定的元件包括以相似的方式運行并且實現(xiàn)相似的結果的所有的技術等同物。
[0022]根據前面所述，在本公開的一方面，提供了新穎的定影構件、定影裝置和成像設備，即便當該定影構件長時間處在壓力下時其可以抑制圖像的不均勻光澤的出現(xiàn)。
[0023]現(xiàn)在參考附圖，下面詳細描述本發(fā)明的定影構件、定影裝置和成像設備的示例性實施方式。
[0024]<定影構件>
[0025]圖1是根據本發(fā)明實施方式的定影構件的一個實例的橫截面視圖。根據本發(fā)明的定影構件可以具有諸如輥、帶或片的任何形狀。如圖1中所示，定影構件I包括基底2、提供在該基底2的外圓周上的彈性層3、和提供在該彈性層3的外圓周上的釋放層4。如需要，底漆層(primer layer)可以提供在該定影構件I的單個層之間
[0026](娃橡膠)
[0027]圖2是圖1中的定影構件I的實例的精細結構的放大視圖。彈性層3配置有硅橡膠5、碳纖維6、孔部分7和飽和烴(圖2中未示出)。
[0028]關于用于硅橡膠5所采用的硅橡膠沒有限制，只要所采用的硅橡膠包括有機硅氧烷結構。硅橡膠的具體實例包括但不限于KE-1950-30 (來自Shin-Etsu ChemicalC0.，Ltd.)和 DY35-2083 (來自 Dow Corning Toray C0.,Ltd.)。在硅橡膠中，具有在大約90°C到140°C范圍內的硬化溫度的加成型液體硅橡膠提供了極好的可使用性并且是優(yōu)選的。
[0029](碳纖維)
[0030]碳纖維6可以通過使前體(形成纖維的碳纖維的原材料)碳化而得到。根據制造條件碳纖維6包括浙青基碳纖維和PAN基(聚丙烯腈)碳纖維。浙青基碳纖維的具體例子包括但不限于 GRANOC(R)XN-100-05M 和 XN-100-15M(來自 Nippon Graphite FiberCorporation) ;DIALEAD (R) K223QM、K6361M 和 K223HM(來自 Mitsubishi Plastics, Inc.)；和 D0NACARB0 Middle S-2404、S-249、S-241 和 SG-249 (來自 Osaka Gas ChemicalsC0.，Ltd.)。PAN基碳纖維的具體例子包括但不限于TORAYCA(R)Milled Fibers MLD-30、MLD-300 和 MLD-1000(來自 Toray Industries, Inc.);和 PYR0FIL(R) Chopped Fibers (來自Mitsubishi Rayon C0.，Ltd.)。與PAN基碳纖維相比,浙青基碳纖維具有優(yōu)異的熱導率并且是優(yōu)選的。此外，具有大的縱橫比的碳納米管也可以用作碳纖維6。
[0031]關于以重量計100份硅橡膠，碳纖維6的添加量優(yōu)選在以重量計I份到以重量計60份的范圍，并且更優(yōu)選在以重量計5份到以重量計50份的范圍內。當添加量小于以重量計I份時，不表現(xiàn)熱導率的增強。當添加量大于以重量計60份時，形成的定影構件I的強度和表面性質(表面粗糙度)變弱并且不是優(yōu)選的。
[0032](孔部分)
[0033]孔部分7可以用發(fā)泡劑或發(fā)泡顆粒形成。發(fā)泡劑的具體例子包括但不限于碳酸氫鈉、偶氮二異丁腈和水。發(fā)泡顆粒的具體例子包括但不限于Matsumoto Microsphere (R)F-30、F-36、F-50、F-55、FN-80SDE、F-65DE 和 F-80DE (來自 Matsumoto Yush1-SeiyakuC0.，Ltd.)和 Expan(R)053-40、031-40、55lDE40d42、920DE40d30 和 EMC40(B)(來自 JapanFillite C0.，Ltd.)。當彈性層3被加熱模制時，發(fā)泡劑和發(fā)泡顆粒膨脹并且形成孔部分7。而且，未膨脹的發(fā)泡顆?？梢耘蛎浺孕纬深A發(fā)泡的顆粒并且然后混合至彈性層3。預發(fā)泡的顆粒是優(yōu)選的，因為預發(fā)泡的顆粒已經膨脹，并且預發(fā)泡的顆粒的形狀和體積在模制過程期間難以改變并且獲得極好的尺寸精度。
[0034]關于以重量計100份硅橡膠，用于形成孔部分的發(fā)泡材料的添加量優(yōu)選在以重量計0.1份到以重量計5份的范圍內。當添加量小于以重量計0.1份時，表現(xiàn)為熱容不減小。當添加量大于以重量計5份時，形成的定影構件I的強度和表面性質(表面粗糙度)變弱并且不是優(yōu)選的。
[0035](飽和烴)
[0036]鏈飽和烴或環(huán)飽和烴可以被用作飽和烴。飽和烴的具體例子包括但不限于環(huán)辛烷(沸點為149°C )、壬烷(沸點為151 °C )、癸烷(沸點為174°C )、異癸烷(沸點為166°C )、環(huán)癸烷(沸點為20rC)、十一烷(沸點為196°C)、十二烷(沸點為216°C )、異十二烷(沸點為177°C )、十三烷(沸點為235°C )、十四烷(沸點為253°C )、十五烷(沸點為270°C )、十六烷(沸點為287°C )、十五烷(沸點為303°C )、十八烷(沸點為317V )、十九烷(沸點為330°C )。飽和烴是優(yōu)選的，因為飽和烴具有低的反應性并且是穩(wěn)定的，與硅橡膠具有良好的相容性并且不影響硅橡膠的硬化。在飽和烴中，具有19或更少個碳原子的飽和烴是優(yōu)選的，因為具有19或更少個碳原子的飽和烴在彈性層3和釋放層4之間不滲出(bleedout)，并且使彈性層3和釋放層4之間的粘合強度變弱。
[0037]而且，在飽和烴中，在室溫下具有液體形式的飽和烴是優(yōu)選的，因為在室溫下具有液體形式的飽和烴與硅橡膠具有良好的相容性并且均勻地分散。
[0038]常規(guī)地，混合飽和烴作為硅橡膠的粘度調節(jié)劑。通常，飽和烴在硅橡膠的模制過程中被蒸發(fā)，并且極少量的飽和烴保持在模制的硅橡膠中。因此，不表現(xiàn)抑制硅橡膠的擠壓永久變形的效果。相比之下，根據本發(fā)明的飽和烴優(yōu)選具有比彈性層3的模制溫度高的沸點，并且因此在模制之后保留在彈性層3中。所以，表現(xiàn)抑制定影構件I的擠壓永久變形的效
果O
[0039]關于以重量計100份硅橡膠，飽和烴的添加量優(yōu)選在以重量計0.5份到以重量計50份的范圍，并且更優(yōu)選在以重量計1份到以重量計25份的范圍內。當添加量小于以重量計0.5份時，表現(xiàn)沒有抑制擠壓永久變形的效果。當添加量大于以重量計50份時，由于粘度下降出現(xiàn)混合的材料的分離和滲出并且不是優(yōu)選的。
[0040](彈性層組分的其他原料)
[0041]彈性層3的組分可以通過混合、捏合以及分散碳纖維6、用于形成孔部分7的材料、和飽和烴與硅橡膠進行調節(jié)。只要不損害本發(fā)明的效果，公眾熟知的交聯(lián)劑、填料、傳導性試劑、用于橡膠和塑料材料的防降解試劑以及耐熱試劑可以根據目的添加至彈性層3。
[0042](彈性層的形成)
[0043]關于形成彈性層3的方法沒有限制并且可以根據目的任意選擇。
[0044]例如，可使用通過刮刀涂覆、模涂覆和浸涂涂覆彈性層3組成并且用熱或電子束硬化彈性層3組成的方法。
[0045]彈性層3的膜厚度優(yōu)選在大約0.1mm到大約4mm的范圍，并且更優(yōu)選在大約0.2mm到大約2mm的范圍。當膜厚度小于0.1mm,可能不能形成足夠的定影夾區(qū)寬度。
[0046]而且，當膜厚度大于4mm時，出現(xiàn)熱導率下降或者熱容增加，并且成像設備的加速或預熱時間的迅速可能受到影響。
[0047]用于基底2的材料的具體例子包括但不限于樹脂，諸如聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚醚酮、聚醚砜、聚苯硫和氟樹脂；通過將導磁性顆粒分散在上面所述樹脂之一中得到的樹脂；以及金屬，諸如鎳、不銹鋼、鐵、鋁和銅；以及上面所述金屬的合金。
[0048]關于用于形成基底2的方法沒有限制，并且可以根據目的任意選擇。[0049]例如，可以采用利用模具來模制基底2的材料的方法。
[0050]基底2的層厚度優(yōu)選在大約30 μ m到大約500 μ m的范圍內，并且更優(yōu)選在大約50 μ m到大約150 μ m的范圍內。當膜厚度小于30 μ m時，可能出現(xiàn)基底2的強度下降。當膜厚度大于500 μ m時，出現(xiàn)熱容增加，并且成像設備的加速或者預熱時間的迅速可能受到影響。
[0051]可以采用氟樹脂作為釋放層4。氟樹脂的具體例子包括但不限于低分子量聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物(FEP)和四氟乙烯/全氟烷基-乙烯醚共聚物(PFA)。PTFE的具體例子包括但不限于LUBRON L-5和L-2 (來自DaikinIndustries, Ltd.)；和 MP1100、MP1200、MP1300 和 TLP-1OF-1 (來自 DuPont-MitsuiFluorochemicals, C0., Ltd.)。FEP 的具體例子包括但不限于 532-8000 (來自 DuPont)。PFA的具體例子包括但不限于 AC-5600 和 AC5539(來自 Daikin Industries, Ltd.) jPMP-102、MP-103、MP-300 和 950HP_Plus (來自 DuPont-Mitsui Fluorochemicals, C0., Ltd.)?PFA-FEP的具體例子包括但不限于SMT(來自Gunze Limited)。具有相對低熔點(優(yōu)選在大約250°C到大約300°C的范圍內)的氟樹脂提供良好的可使用性并且是優(yōu)選的。此外，氟硅橡膠可以用于釋放層4。
[0052]關于形成釋放層4的方法沒有限制，并且可以根據目的任意選擇。
[0053]例如，可以采用將釋放層4的材料形成為管形狀并且覆蓋彈性層3的方法，或者可以采用在濕噴涂或顆粒涂覆釋放層4的材料之后燒制(firing)的方法。
[0054]釋放層4的膜厚度優(yōu)選在大約Ιμπι到大約100 μ m的范圍，并且更優(yōu)選在大約10 μ m到大約100 μ m的范圍。當膜厚度小于I μ m時，釋放層4的耐久性差并且獲得定影構件I的足夠光滑的表面變難。相比之下，當膜厚度大于100 μ m時，可能出現(xiàn)圖像跟隨能力(image following capacity)的下降以及傳熱阻力的增大，并且不是優(yōu)選的。
[0055]<定影裝置>
[0056]圖3是根據本發(fā)明實施方式的定影裝置(輥型)的結構的示意圖。在圖3中，輥型定影裝置10包括加熱器12，諸如用作定影輥11內部的加熱器的鹵素燈，該定影輥11用作本發(fā)明的定影構件。在定影輥11中提供溫度傳感器(圖3中未示出)。壓力輥13壓緊并且接觸定影輥11并且形成夾區(qū)部分。具有色粉圖像T的記錄介質P通過該夾區(qū)部分并且該色粉圖像T被定影在記錄介質P上。定影輥11包括以彈性層和釋放層的順序提供在用作基底的芯棒的表面上的彈性層和釋放層，并且與圖1和圖2中所示的定影構件I具有相同的構造。壓力輥13包括以彈性層和釋放層的順序提供在用作基底的芯棒的表面上的由耐熱橡膠形成的彈性層和釋放層。
[0057]根據本發(fā)明的定影裝置可以具有圖4中所示的定影裝置(帶型)的構造。
[0058]帶型定影裝置20配置有用作根據本發(fā)明的定影構件的定影帶21、定影輥22、加熱輥23和壓力輥24。該定影帶21被定影輥22和加熱輥23拉伸并且支撐。壓力輥24壓緊并且接觸該定影帶21并且形成夾區(qū)部分。具有色粉圖像T的記錄介質P通過該夾區(qū)部分并且該色粉圖像T被定影在記錄介質P上。
[0059]本發(fā)明的定影裝置采用根據本發(fā)明的定影構件，并且因此即便當定影構件長時間處在壓力下時其可以抑制出現(xiàn)圖像的不均勻光澤。
[0060]<成像設備>[0061]圖5是根據本發(fā)明實施方式的成像設備的構造的一個實例的示意圖。在圖5中，成像設備30包括用于形成色粉圖像并將該色粉圖像轉印到記錄介質上的成像單元，和用于定影轉印到該記錄介質上的圖像的定影裝置。該成像單元包括潛像形成在其上的圖像載體31、接觸圖像載體31并且進行充電的充電輥32、曝光裝置33諸如激光束、將色粉附著至形成在圖像載體31上的靜電潛像的顯影輥34、對充電輥32提供DC電壓的電源35、進行圖像載體31上的色粉圖像至記錄介質P上的轉印過程的轉印輥36、在轉印過程之后清潔圖像載體31的清潔裝置37、以及測量圖像載體31的表面電勢的表面電位計38。該定影裝置39是根據本發(fā)明的定影裝置并且配置有定影帶40和壓力輥41。
[0062]在圖5中所示的本發(fā)明實施方式中，成像設備30用充電輥32對旋轉的圖像載體31的感光層進行均勻的充電，通過利用諸如激光束的曝光裝置33使感光層曝光將靜電潛像形成在感光層上，通過利用顯影輥34附著色粉以形成色粉圖像而顯影該靜電潛像，并且將該色粉圖像轉印至記錄介質P上。具有轉印的色粉圖像的記錄介質P壓緊并且接觸在定影裝置39的定影帶40和壓力輥41之間形成的夾區(qū)部分，并且通過加熱定影帶40以及施加壓力使色粉圖像變軟，將記錄介質P上的色粉圖像定影在該記錄介質P上。然后，將記錄介質P排放至排放構件。根據本發(fā)明的定影構件優(yōu)選用作定影帶40。應當指出，在圖5的構造的示意圖中，定影構件具有帶形狀，但是在本發(fā)明中定影構件也可以采取上面所述的輥形狀。
[0063]根據本發(fā)明的成像設備采用根據本發(fā)明的定影裝置，并且即便當該定影構件長時間處在壓力下時其可以抑制出現(xiàn)圖像的不均勻光澤。
[0064][實施例]
[0065]通過參考在下文中提供的具體實施例可以獲得進一步的理解。但是，應當理解本發(fā)明的實施方式不限于下面的實施例。
[0066][實施例1]
[0067]通過分散以重量計100份娃橡膠(DY35-2083,來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 45 份碳纖維(GRANOC (R) XN-100-05M,來自 Nippon Graphite FiberCorporation)、以重量計 1.0 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R) F-65DE,來自Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)和以重量計15份異十二燒(沸點為177。。)制備彈性層組分。
[0068]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有300 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備實施例1的定影構件。
[0069]如上所述得到的實施例1的定影構件被設置在成像設備(Imagio MPC3000，來自RICOH Company, Ltd.)的定影裝置中并且在壓力輥接觸并且壓緊該定影構件的狀態(tài)下靜置五天。其次該定影裝置設置在成像設備(Imagio MPC3000，來自RICOH Company, Ltd.)中并且進行經過100頁具有實心圖像的記錄介質的測試。所采用的記錄介質是超白多用紙(multipaper super white)(來自Askul C0., Ltd.)。用肉眼評估第I頁和第100頁記錄介質的實心圖像的光澤不均勻性并且劃分等級。
[0070][實施例2]
[0071]通過分散以重量計100份硅橡膠(DY35-2083，來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 45 份碳纖維(GRANOC (R) XN-100-05M，來自 Nippon Graphite FiberCorporation)、以重量計 1.0 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R) F-65DE,來自Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)、和以重量計15份環(huán)癸燒(沸點為20TC )制備彈性
層組分。
[0072]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有300 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備實施例2的定影構件。
[0073]對于如上所述得到的實施例2的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0074][實施例3]
[0075]通過分散以重量計100份娃橡膠(DY35-2083,來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 50 份碳纖維(GRANOC (R) XN-100-05M，來自 Nippon Graphite FiberCorporation)、以重量計 1.5 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R) FN-80SDE,來自Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)、和以重量計10份十二燒(沸點為216。。)制備彈性層組分。
[0076]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有300 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備實施例3的定影構件。
[0077]對于如上所述得到的實施例3的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0078][實施例4]
[0079]通過分散以重量計100 份娃橡膠(DY35-2083,由 Dow Corning Toray C0., Ltd.制造)、以重量計40份碳纖維(DIALEAD (R) K223HM,具有50 μ m的平均纖維長度，來自Mitsubishi Plastics, Inc.)、以重量計 1.2 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R)FN-80SDE,來自 Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)、和以重量計 5 份十四燒(沸點為253°C )制備彈性層組分。
[0080]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有200 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備實施例4的定影構件。
[0081]對于如上所述得到的實施例4的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0082][實施例5]
[0083]通過分散以重量計100份娃橡膠(DY35-2083,來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 40 份碳纖維(D0NACARB0 Middle S-249，來自 Osaka Gas ChemicalsC0.，Ltd.)、以重量計 1.2 份發(fā)泡顆粒(Expan(R)920DE40d30，來自 Japan FilliteC0.，Ltd..)、和以重量計2份十六烷(沸點為287V )制備彈性層組分。
[0084]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有200 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自GunzeLimited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備實施例5的定影構件。
[0085]對于如上所述得到的實施例5的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0086][比較實施例1]
[0087]通過分散以重量計100份娃橡膠(DY35-2083,來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 45 份碳纖維(GRANOC (R) XN-100-05M，來自 Nippon Graphite FiberCorporation)、和以重量計 1.0 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R) F-65DE,來自Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)制備彈性層組分。
[0088]將硅氧烷的的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘，并且形成具有300 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備比較實施例1的定影構件。
[0089]對于如上所述得到的比較實施例1的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0090][比較實施例2]
[0091]通過分散以重量計100份娃橡膠(DY35-2083,來自Dow Corning TorayC0.，Ltd.)、以重量計 45 份碳纖維(GRANOC (R) XN-100-05M，來自 Nippon Graphite FiberCorporation)、以重量計 1.0 份發(fā)泡顆粒(Matsumoto Microsphere (R) F-65DE,來自Matsumoto Yush1-Seiyaku C0., Ltd.)、和以重量計15份辛燒(沸點為126。。)制備彈性層組分。
[0092]將硅氧烷的底漆涂布在具有管狀形狀(直徑60mm，厚度50 μ m)的聚酰亞胺基底上并且干燥。其次，將彈性層組分涂布在聚酰亞胺基底的硅氧烷的底漆上，在130°C的溫度下加熱并且硬化10分鐘。在200°C的溫度下進一步使加熱并且硬化的彈性層組分經歷加熱4小時并且形成具有300 μ m厚度的彈性層。其次，將硅氧烷的底漆涂布在彈性層上。具有硅氧烷涂層的底漆的彈性層用氟樹脂管(SMT，來自Gunze Limited)覆蓋并且在200°C的溫度下加熱4小時。形成具有20 μ m厚度的釋放層。制備比較實施例2的定影構件。
[0093]對于如上所述得到的比較實施例2的定影構件，重復實施例1中的實心圖像的光澤不均勻性的評估。
[0094]評估結果在表1中示出。評估方法和評估標準如下:
[0095]I級:可見不均勻光澤，并且是異常的圖像，評定為差。
[0096]2級:雖然可見不均勻光澤，但是在可允許的水平內(不是異常圖像)，評定為良好。
[0097]3級:看不見不均勻光澤。評定為良好。
[0098]表1
[0099]
【權利要求】
1.用于定影色粉的定影構件，其包括: 基底； 提供在所述基底的外圓周上的彈性層；和 提供在所述彈性層的外圓周上的釋放層； 其中所述彈性層包括硅橡膠、碳纖維、在室溫下具有液體形式的飽和烴、和孔部分。
2.根據權利要求1所述的定影構件，其中所述飽和烴具有比所述彈性層的模制溫度高的沸點。
3.一種定影裝置，其包括根據權利要求1或2所述的定影構件。
4.一種成像設備，其包括根據權利要求3所述的定影裝置。
【文檔編號】G03G15/20GK104007646SQ201410059218
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年2月21日 優(yōu)先權日:2013年2月22日
【發(fā)明者】有住夕子, 菅原智明, 近藤玄章, 名取潤一郎 申請人:株式會社理光