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一種基板及具有該基板的顯示裝置制造方法

文檔序號(hào):2706159閱讀:245來(lái)源:國(guó)知局
一種基板及具有該基板的顯示裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種基板及具有該基板的顯示裝置,該基板包括PI壩,用于阻擋PI液噴涂過(guò)程中PI液的擴(kuò)散。本實(shí)用新型的用于液晶顯示器的基板,通過(guò)在基板上設(shè)置PI壩,使得PI液在噴涂過(guò)程中受到PI壩的阻擋而形成邊緣直線性和均勻性良好的液晶取向膜。減少由于液晶取向膜邊緣不均勻而帶來(lái)的不良以及邊緣尺寸,可以用于窄邊框液晶顯示技術(shù)。
【專利說(shuō)明】一種基板及具有該基板的顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種基板和具有該基板的顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器,包括陣列基板、彩膜基板以及位于陣列基板以及彩膜基板之間的液晶分子層。通常為了加速液晶分子的偏轉(zhuǎn)或形成不同的液晶分子的起偏方向以形成更大的觀看視角,在陣列基板和彩膜基板朝向液晶分子側(cè)的顯示區(qū)域內(nèi)都設(shè)有液晶取向膜。液晶取向膜是由如聚酰亞胺(PI)等親水疏油性的液體通過(guò)噴涂工藝噴涂在陣列基板或彩膜基板上。
[0003]目前常用的PI液噴涂工藝中,為了使滴下的PI液滴更好的融合成膜,所用PI液需要很好的流動(dòng)性,但正因如此,在成膜過(guò)程中PI液的邊緣自由擴(kuò)散,形成的不均勻區(qū)域大,直線性差,周邊膜品質(zhì)差,干燥成膜后邊緣呈現(xiàn)較大幅度的鋸齒狀。同時(shí)不均勻區(qū)域會(huì)占用周邊尺寸,不利于窄邊框技術(shù)的開(kāi)發(fā)。如圖1所述,現(xiàn)有技術(shù)的基板I (即陣列基板或彩膜基板)劃分為多個(gè)顯示面板,所述顯示面板包括非顯示區(qū)2和顯示區(qū)3,非顯示區(qū)2用于集成液晶顯示的電路結(jié)構(gòu)等,顯示區(qū)3用于噴涂PI液以形成液晶取向膜,但在噴涂過(guò)程中由于PI液的流動(dòng)性經(jīng)常使得形成的液晶取向膜邊緣均勻性和直線性非常差,如較大幅度的鋸齒狀等。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004](一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種提高液晶取向膜邊緣均勻性和直線性的基板和顯示裝置。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]為解決上述問(wèn)題,本實(shí)用新型一方面提供了一種用于液晶顯示器的基板,所述基板包括PI壩,用于阻擋PI液噴涂過(guò)程中PI液的擴(kuò)散。
[0008]優(yōu)選地,所述PI壩為一層惰性膜層。
[0009]優(yōu)選地,所述PI壩環(huán)繞所述基板上的顯示面板的顯示區(qū)域設(shè)置。
[0010]優(yōu)選地,所述PI壩的高度大于由PI液形成的液晶取向膜的膜層高度。
[0011]優(yōu)選地,所述PI壩為口字型條狀薄膜。
[0012]優(yōu)選地,所述基板為陣列基板或彩膜基板。
[0013]另一方面,本實(shí)用新型還提供一種顯示裝置,包括上述的基板。
[0014](三)有益效果
[0015]本實(shí)用新型實(shí)施例的用于液晶顯示器的基板,通過(guò)在基板上設(shè)置PI壩,使得PI液在噴涂過(guò)程中受到PI壩的阻擋而形成邊緣直線性和均勻性良好的液晶取向膜。減少由于液晶取向膜邊緣不均勻而帶來(lái)的不良以及邊緣尺寸,可以用于窄邊框液晶顯示技術(shù)。【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的用于液晶顯示器的基板結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的用于液晶顯示器的基板結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0019]如圖2所示,本實(shí)用新型提出的用于液晶顯示器的基板1,所述基板I包括PI壩4,用于噴涂PI液過(guò)程中阻擋PI液擴(kuò)散至非顯示區(qū)域。
[0020]在PI液涂覆工藝前,通過(guò)涂覆曝光顯影刻蝕等構(gòu)圖工藝在非顯示區(qū)域設(shè)置一層惰性膜層,所述膜層環(huán)繞在顯示區(qū)域周邊,可以稱為PI壩,然后再進(jìn)行PI液涂覆工藝。
[0021 ] 所述PI壩4可以為一層惰性膜層,例如光刻膠(PR膠)等,光刻膠在陣列基板和彩膜基板的制備工藝中有大量應(yīng)用,用于實(shí)現(xiàn)PI壩簡(jiǎn)單方便。一般地,所述PI壩4環(huán)繞所述基板I上的顯示面板的顯示區(qū)域3設(shè)置,使得PI液形成的液晶取向膜控制在顯示區(qū)域3內(nèi)。
[0022]為了避免PI液溢出,一般情況下,所述PI壩4的高度要大于將要噴涂的PI液形成的液晶取向膜的膜層高度。所述將要噴涂的PI液形成的液晶取向膜的膜層高度計(jì)算公式為:H=V/S,其中H為PI液形成的液晶取向膜的膜層高度,V為將要噴涂的PI液體積,S為將要噴涂的顯示面板的面積。PI壩的寬度不限定,根據(jù)工藝需求設(shè)置即可。
[0023]所述PI壩4可以為口字型條狀薄膜等,具體根據(jù)顯示區(qū)域3的形狀確定。
[0024]所述基板I 一般為陣列基板或彩膜基板。
[0025]上述用于液晶顯示器的基板,通過(guò)在基板上設(shè)置PI壩,使得PI液在噴涂過(guò)程中受到PI壩的阻擋而形成邊緣直線性和均勻性良好的液晶取向膜。減少由于液晶取向膜邊緣不均勻而帶來(lái)的不良以及邊緣尺寸。在液晶取向膜穩(wěn)定后,還可以通過(guò)刻蝕工藝將PI壩去除,不會(huì)對(duì)后續(xù)工藝產(chǎn)生影響。
[0026]另一方面,本實(shí)用新型還提供一種顯示裝置,包括上述的基板。
[0027]該顯示裝置可以為:液晶面板、電子紙、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0028]以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型,而并非對(duì)本實(shí)用新型的限制,有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下,還可以做出各種變化和變型,因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的范疇,本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種基板,其特征在于,所述基板上包括PI壩,用于阻擋PI液噴涂過(guò)程中PI液的擴(kuò)散。
2.如權(quán)利要求1所述的基板,其特征在于,所述PI壩為一層惰性膜層。
3.如權(quán)利要求1所述的基板,其特征在于,所述PI壩環(huán)繞所述基板上的顯示面板的顯示區(qū)域設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1所述的基板,其特征在于,所述PI壩的高度大于由PI液形成的液晶取向膜的膜層高度。
5.如權(quán)利要求1所述的基板,其特征在于,所述PI壩為口字型條狀薄膜。
6.如權(quán)利要求1所述的基板,其特征在于,所述基板為陣列基板或彩膜基板。
7.一種顯示裝置,包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的基板。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK203444196SQ201320530181
【公開(kāi)日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】任錦宇, 宋勇志, 王丹, 馬國(guó)靖, 胡滕滕 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
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