光學(xué)膜、液晶顯示器及液晶顯示器的背光模塊的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種光學(xué)膜、一種液晶顯示器及液晶顯示器的背光模塊，其中光學(xué)膜包含透明支持基材及結(jié)構(gòu)化層。該結(jié)構(gòu)化層整合地形成于該透明支持基材上，并具有多個(gè)光線聚集單元。液晶顯示器及其背光模塊包含該光學(xué)膜。該光線聚集單元包括沿長(zhǎng)度改變高度或改變棱鏡結(jié)構(gòu)的間距的設(shè)計(jì)，從而克服光學(xué)膜在光學(xué)上的缺陷問題，例如吸附，并能增進(jìn)光學(xué)膜的光學(xué)特性。
【專利說明】光學(xué)膜、液晶顯示器及液晶顯示器的背光模塊
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明關(guān)于一種光學(xué)膜，特別是能避免光學(xué)上缺陷(例如:吸附及光學(xué)干涉條紋等問題)的光學(xué)膜；尤其關(guān)于一種用于平面顯示器的背光模塊的光學(xué)膜。
【背景技術(shù)】
[0002]平面顯示器的背光模塊及其一般常使用的結(jié)構(gòu)已為該領(lǐng)域中具通常知識(shí)者所習(xí)知，目前平面顯示器在背光模塊中多采用兩個(gè)亮度增強(qiáng)片(light enhancement sheets)以得到較佳的輸出亮度。然而，隨著該兩個(gè)亮度增強(qiáng)片彼此間疊置的靠近，討厭的光學(xué)耦合現(xiàn)象(亦即吸附)卻更容易發(fā)生。
[0003]為了減少“吸附”(wet-out)的產(chǎn)生，傳統(tǒng)方法是在物理上使光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)盡可能分開，也就是改變相鄰近光學(xué)膜的高度。美國(guó)發(fā)明專利第5，771，328號(hào)揭露一種具有高棱鏡(參見該專利附圖的標(biāo)記56)及矮棱鏡(參見該專利附圖的標(biāo)記54)的光學(xué)膜，這樣若與另一光學(xué)膜接觸，可以限制和該另一光學(xué)膜間的物理上接近程度，從而降低視覺上可辨識(shí)的吸附狀況。然而，這種現(xiàn)有技術(shù)的高棱鏡可能會(huì)在光學(xué)膜的表面呈現(xiàn)視覺上仍可察覺到的直線。
[0004]綜上，本案 申請(qǐng)人:長(zhǎng)期觀察到上述現(xiàn)有技術(shù)所造成的光學(xué)缺陷，因此提出一種新的光學(xué)膜以克服這些光學(xué)缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種具結(jié)構(gòu)化表面的光學(xué)膜，該結(jié)構(gòu)化表面可以消除顯示器上光學(xué)缺陷的發(fā)生，特別是，該結(jié)構(gòu)化表面的隨機(jī)或非均勻的光學(xué)特性可以避免吸附及光學(xué)干涉條紋(moir6)等缺陷。
[0006]本發(fā)明提供一種光學(xué)膜，包含透明支持基材及結(jié)構(gòu)化層。該結(jié)構(gòu)化層整合地形成于該透明支持基材上，并具有多個(gè)光線聚集單元。該光線聚集單元包括沿長(zhǎng)度改變高度或改變棱鏡結(jié)構(gòu)的間距的設(shè)計(jì)，從而克服光學(xué)膜在光學(xué)上的缺陷問題(例如:吸附)，并能增進(jìn)光學(xué)膜的光學(xué)特性。
[0007]本發(fā)明提供一種光學(xué)膜，包含:透明支撐基材；結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上；其中至少一個(gè)該棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上變化，該高度的變化包含第一變化模式及第二變化模式，其中該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡沿著并疊加于該第一變化模式產(chǎn)生的軌跡上。
[0008]本發(fā)明提供一種光學(xué)膜，包含:透明支撐基材；結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上；其中這些棱鏡的間距以第一變化模式而改變，又這些棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上以第二變化模式而改變。
[0009]本發(fā)明提供一種光學(xué)膜，包含:透明支撐基材；結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上；其中這些棱鏡在其長(zhǎng)度方向上的延伸軌跡以第一變化模式而改變，又這些棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上以第二變化模式而改變。[0010]本發(fā)明提供一種液晶顯示器，包含上述光學(xué)膜。
[0011]本發(fā)明提供一種液晶顯示器的背光模塊，包含上述光學(xué)膜。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]為了充分了解本發(fā)明的本質(zhì)與優(yōu)點(diǎn)，以及較佳實(shí)施方式，結(jié)合附圖以了解以下詳細(xì)的說明。
[0013]圖1 a—:I c示為本發(fā)明的第一種的變化概念；
[0014]圖2a—2c示為本發(fā)明的第一種的變化概念的另一種范例；
[0015]圖3a—3d示為本發(fā)明的第一種的變化概念的一實(shí)施例；
[0016]圖4a — 4e示為本發(fā)明的第二種的變化概念；
[0017]圖5a — 5d示為本發(fā)明的第二種的變化概念的第一實(shí)施例；
[0018]圖6a—6d示為本發(fā)明的第二種的變化概念的第二實(shí)施例；
[0019]圖7a — 7c示為本發(fā)明的第三種的變化概念；
[0020]圖8a_— 8d示為本發(fā)明的第三種的變化概念的一實(shí)施例；
[0021]圖9a—9c示為本發(fā)明的又一種的變化概念；
[0022]圖1Oa?IOc示為本發(fā)明第二個(gè)概念(圖4)的另一種范例；
[0023]圖1Od示為實(shí)施圖1Oa?IOc中第二個(gè)概念的光學(xué)膜；
[0024]圖11示為本發(fā)明圖1Od的光學(xué)膜與液晶面板的擺放相對(duì)位置關(guān)系；
[0025]圖12示為本發(fā)明圖1Od的光學(xué)膜與另一光學(xué)膜的擺放相對(duì)位置關(guān)系；
[0026]圖13示為表一中樣本11在顯微鏡下的實(shí)際外觀圖；
[0027]圖14示為樣本11在3D輪廓儀(Kosaka ET4000a)下所測(cè)量到的2D輪廓圖；
[0028]圖15示為樣本11在3D輪廓儀(Kosaka ET4000a)下所測(cè)量到的3D輪廓圖。
[0029]主要部件附圖標(biāo)記:
[0030]30 亮度增強(qiáng)膜
[0031]31 棱鏡
[0032]33 透明支持基材
[0033]32 結(jié)構(gòu)化層
[0034]50 亮度增強(qiáng)膜
[0035]51 棱鏡
[0036]110光學(xué)膜
[0037]111液晶面板
[0038]112亮度增強(qiáng)膜
[0039]H 棱鏡高度
[0040]P 棱鏡間距
[0041]PRl第一變化的公稱周期
[0042]PR2第二變化的公稱周期
[0043]α 夾角【具體實(shí)施方式】[0044]本揭露內(nèi)容為目前實(shí)施本發(fā)明的最佳方式。本發(fā)明參照各種實(shí)施例以及附圖而描述于此。這些揭露供做描繪本發(fā)明的主要原理而不應(yīng)被限制。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)了解各種變化與改良可依照本發(fā)明精神所屬的范疇下的示例而達(dá)成。本發(fā)明的范疇?wèi)?yīng)由權(quán)利要求進(jìn)行限定。
[0045]一種光學(xué)膜具有沿長(zhǎng)度方向(棱鏡)改變高度或間距的結(jié)構(gòu)，該改變具有至少兩個(gè)公稱周期(nominal periods),其中第一變化周期是大于第二變化周期。然該改變可不具周期性，或有更廣義的改變方式，例如:無周期性隨機(jī)改變或兩(或多)周期性改變的重復(fù)出現(xiàn)，因此本案另以第一變化模式及第二變化模式作為更廣義的變化態(tài)樣。上述公稱周期指第一變化模式中周期長(zhǎng)度的平均值，即第一變化模式中各周期長(zhǎng)度或周期間距可以是不固定或固定。例如:第一變化模式以周期長(zhǎng)度P11、P12、P13、P11、P12、P13…呈現(xiàn)變化，其中P11、P12、P13可以是相同或是完全不同。以下實(shí)施例均以上述定義描述，其中第一變化周期及第二變化周期亦可以第一變化模式及第二變化模式取代。圖;In -1c示為本發(fā)明的第一種的變化概念。兩種變化周期均被表現(xiàn)于正弦波(sine wave),第一變化周期(圖1a ;或稱第一變化模式)結(jié)合第二變化周期(圖1b ;或稱第二變化模式)以形成復(fù)合變化周期(圖1c ;或稱復(fù)合變化模式)。實(shí)際上，這種復(fù)合變化周期可應(yīng)用于光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)沿其長(zhǎng)度方向上改變棱鏡高度或/及間距(即任兩相鄰棱鏡間的中心距離不固定)。第一及第二變化周期均以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式朝側(cè)向(此處側(cè)向指上述正弦波朝波前進(jìn)方向而側(cè)向或左右擺動(dòng)，并非指各棱鏡的側(cè)向)變動(dòng)。第一變化具有50μηι — 1.0OOnim公稱周期，又第二變化具有50μηι — 1，000μπι公稱周期，因此第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至1，000倍。或者第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至I，000倍。
[0046]為易于說明及了解，以下采用Χ、Υ、Ζ正交坐標(biāo)系統(tǒng)(圖1c)解釋變化的方向。X軸方向交越于棱鏡的波峰及波谷，或可稱為側(cè)方向。Y軸正交于X軸，即棱鏡通常的長(zhǎng)度方向。Z軸正交于X軸及Y軸，即棱鏡通常的高度方向。在這第一種概念中，棱鏡的高度(Z軸)沿著棱鏡的長(zhǎng)度方向(Y軸)而變化。該第一及第二變化周期均沿著Y軸呈現(xiàn)Z軸上的變化，即棱鏡的高度(Ζ軸)沿著棱鏡的長(zhǎng)度方向(Y軸)呈現(xiàn)有第一及第二變化模式疊加的變動(dòng)。該棱鏡間距為固定及平行。
[0047]圖2a — 2c示為本發(fā)明的第一種的變化概念的另一種范例。兩種變化周期均被表現(xiàn)于一方波(square wave),第一變化周期(圖2a)結(jié)合第二變化周期(圖2b)以形成復(fù)合變化周期(圖2c)。實(shí)際上，這種復(fù)合變化周期可應(yīng)用于光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)沿其長(zhǎng)度方向上改變棱鏡高度H或/及間距P。第一及第二變化周期均以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式朝側(cè)向變動(dòng)。第一變化具有50μιη — 1,000mm公稱周期，又第二變化具有50μπι — I,OOOmm公稱周期,因此第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至1，000倍。或者第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至1，000倍。此外，第一及第二變化周期可以是任何形式的波形，例如:正弦波、方波、鋸齒波、三角波等。
[0048]圖3a—3d示為本發(fā)明的第一種的變化概念的一實(shí)施例。圖3a示為本發(fā)明的亮度增強(qiáng)膜30 ;圖3b顯示圖3a中亮度增強(qiáng)膜30的俯視圖；圖3c顯示圖3a中亮度增強(qiáng)膜30的前視圖；圖3(1顯示沿圖3a中亮度增強(qiáng)膜30的棱鏡的棱線的剖視圖。該第一及第二變化周期均以方波方式呈現(xiàn)棱鏡結(jié)構(gòu)的高度改變。第一變化的公稱周期PRl為第二變化的公稱周期PR2的4倍至400倍?；蛘叩谝蛔兓墓Q周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至
I,000倍。亮度增強(qiáng)膜30的結(jié)構(gòu)(棱鏡31)的間距P較佳地介于10 μ m至200 μ m之間，又更佳地介于24 μ m至60 μ m之間。第一變化周期具有范圍為I μ m至5 μ m的平均振幅，即棱鏡31的結(jié)構(gòu)的高度整體變化范圍為I μ m至5 μ m。該棱鏡31的結(jié)構(gòu)表面的夾角α可以是70度至110度的范圍內(nèi)任一角度，較佳地介于80度至100度之間。本實(shí)施例的棱鏡結(jié)構(gòu)可降低棱鏡片(亮度增強(qiáng)膜)的結(jié)構(gòu)化表面與另一相鄰棱鏡片的平面間的接觸面積，從而減少光學(xué)耦合的發(fā)生。如圖3b所示，亮度增強(qiáng)膜30包含透明支持基材33及結(jié)構(gòu)化層32，該結(jié)構(gòu)化層32整合地形成于該透明支持基材33上。
[0049]圖4a—4e示為本發(fā)明的第二種的變化概念。棱鏡的高度(Z軸)沿著棱鏡的長(zhǎng)度方向(Y軸)及側(cè)方向(X軸)而變化。該第一變化周期(圖4a)沿著X軸呈現(xiàn)Z軸上的變化，又該第二變化周期(圖4b)沿著Y軸呈現(xiàn)Z軸上的變化。該棱鏡間距為固定及平行。
[0050]圖5a—5d示為本發(fā)明的第二種的變化概念的第一實(shí)施例；圖6&—6(1示為本發(fā)明的第二種的變化概念的第二實(shí)施例。第一及第二變化周期(若其他實(shí)施例為無周期性或隨機(jī)變化，則稱第一及第二變化模式，本發(fā)明不受此實(shí)施例的限制)均呈現(xiàn)于棱鏡結(jié)構(gòu)的高度上。第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至400倍?；蛘叩谝蛔兓墓Q周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至1，000倍。該棱鏡間距為固定及平行。亮度增強(qiáng)膜50的結(jié)構(gòu)(棱鏡51)的間距較佳地介于ΙΟμπι至200μπι之間，又更佳地介于24μπι至60 μ m之間。第一變化周期具有范圍為2μηι至ΙΟμπι的平均振幅,第二變化周期具有范圍為I μ m至10 μ m的平均振幅，即棱鏡51的結(jié)構(gòu)的高度整體變化范圍為I μ m至15 μ m。該棱鏡51的結(jié)構(gòu)的夾角可以是70度至110度范圍內(nèi)的任一角度，較佳地介于80度至100度之間。本實(shí)施例的棱鏡結(jié)構(gòu)可降低棱鏡片(亮度增強(qiáng)膜)的結(jié)構(gòu)化表面與另一相鄰棱鏡片的平面間的接觸面積，從而減少光學(xué)耦合的發(fā)生。
[0051]圖7a—7c示為本發(fā)明的第三種的變化概念。第一變化周期(圖7a)結(jié)合第二變化周期(圖7b)以形成復(fù)合變化周期(圖7c)。第一變化周期可應(yīng)用于光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)沿其長(zhǎng)度方向(Y軸)上改變棱鏡間距(X軸)，又第二變化周期可應(yīng)用于光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)沿其長(zhǎng)度方向(Y軸)上改變棱鏡的高度(Z軸)。在此實(shí)施例中，棱鏡的高度(Z軸)沿著該棱鏡的側(cè)向(X軸)有改變。該第一變化周期沿著Y軸呈現(xiàn)X軸上的變化，又該第二變化周期沿著Y軸呈現(xiàn)Z軸上的變化。第一及第二變化周期均以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式朝側(cè)向變動(dòng)。第一變化具有50μ-- — I ,OOOmm公稱周期,又第二變化具有50μιπ — I ,OOOmm公稱周期，因此第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至1，000倍?；蛘叩谝蛔兓墓Q周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至1，000倍。
[0052]圖8a — 8d示為本發(fā)明的第三種的變化概念的一實(shí)施例。第一變化周期均呈現(xiàn)于棱鏡結(jié)構(gòu)的間距上，又第二變化周期均呈現(xiàn)于棱鏡結(jié)構(gòu)的高度上。第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至400倍。該棱鏡間距為固定及平行。亮度增強(qiáng)膜的結(jié)構(gòu)(棱鏡)的間距較佳地介于10 μ m至200 μ m之間，又更佳地介于24 μ m至60 μ m之間。第一變化周期具有范圍為2μ m至10μ m的平均振幅,第二變化周期具有范圍為I μ m至10 μ m的平均振幅。該棱鏡的結(jié)構(gòu)的夾角可以是70度至110度范圍內(nèi)的任一角度，較佳地介于80度至100度之間。本實(shí)施例的棱鏡結(jié)構(gòu)借著第二變化周期可降低棱鏡片(亮度增強(qiáng)膜)的結(jié)構(gòu)化表面與另一相鄰棱鏡片的平面間的接觸面積，從而減少光學(xué)耦合(吸附)的發(fā)生。本實(shí)施例的棱鏡結(jié)構(gòu)借著第一變化周期可將能見光學(xué)干涉條紋(moire ;或莫爾紋)干涉減至最小。
[0053]在本發(fā)明的另一種的變化概念(圖中未示出)中，第一及第二變化周期均呈現(xiàn)于棱鏡結(jié)構(gòu)的間距及高度上。易言之，第一及第二變化周期可沿Y軸或X軸改變X軸及Z軸。圖9a — 9c示為本發(fā)明的又一種的變化概念。第一變化周期(圖9a)結(jié)合第二變化周期(圖9b)以形成復(fù)合變化周期(圖9c)。借由第一變化周期，光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)的間距(X軸)及高度(Z軸)沿其長(zhǎng)度方向(Y軸)上改變；又借由第二變化周期，在光學(xué)膜的棱鏡結(jié)構(gòu)的高度(Z軸)沿其長(zhǎng)度方向(Y軸)上改變。在此實(shí)施例中，棱鏡的高度(Z軸)沿著該棱鏡的側(cè)向(X軸)及長(zhǎng)度方向(Y軸)有同步改變。該第一變化周期沿著Y軸呈現(xiàn)X軸及Z軸上的變化，又該第二變化周期沿著Y軸呈現(xiàn)Z軸上的變化。第一及第二變化周期均以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式朝側(cè)向變動(dòng)。第一變化具有50um~1,000mm公稱周期，又第二變化具有50μm ~ 1 ,000mm公稱周期,因此第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的4倍至1，000倍。或者第一變化的公稱周期為第二變化的公稱周期的0.01倍至1，000倍。
[0054]圖1Oa~1Oc示為本發(fā)明第二個(gè)概念(圖4)的另一種范例。第一變化周期是沿著X軸呈現(xiàn)Z軸方向的變化(圖10b)，第二變化周期是沿著Y軸呈現(xiàn)Z軸方向的變化(圖10a)。第一變化周期和第二變化周期均是在棱鏡高度上做變化。第一與第二變化周期長(zhǎng)度均為亂數(shù)，第一變化周期公稱長(zhǎng)度是第二變化周期公稱長(zhǎng)度的0.01~400倍。圖1Od示為本發(fā)明的光學(xué)膜，即亮度增強(qiáng)膜(增亮膜或聚光片)的另一種實(shí)施例。
[0055]如下表一所示，是依照上述變化概念進(jìn)行的一項(xiàng)實(shí)驗(yàn)。光學(xué)干涉條紋與吸附(亮度增強(qiáng)膜至液晶面板)的缺陷產(chǎn)生采用一 47吋電視進(jìn)行評(píng)估，此電視的解析度為1920X1080。光學(xué)膜110的擺放相對(duì)于液晶面板(IXD Panel) 111位置關(guān)系如圖11所示，光學(xué)膜110為此本案所述的亮度增強(qiáng)膜，棱鏡延伸的方向與面板的長(zhǎng)邊平行，光源由光學(xué)膜的背面進(jìn)入由棱鏡面射出，進(jìn)入液晶面板111。以肉眼觀察液晶面板111是否與光學(xué)膜110產(chǎn)生光學(xué)干涉條紋與吸附缺陷。而另一種吸附(亮度增強(qiáng)膜至亮度增強(qiáng)膜)缺陷則直接將另一片亮度增強(qiáng)膜112放在上述亮度增強(qiáng)膜/光學(xué)膜上(如圖12所示)，以肉眼觀察兩張光學(xué)膜間是否會(huì)產(chǎn)生吸附缺陷。
[0056]由表一可發(fā)現(xiàn)，此光學(xué)膜不論是亮度增強(qiáng)膜至液晶面板或亮度增強(qiáng)膜至亮度增強(qiáng)膜均有良好抗吸附能力，而抗光學(xué)干涉條紋能力以樣本5、6、9、11與12效果最優(yōu)，其光學(xué)干涉條紋均無法被人眼所看見。
[0057]表一
[0058]
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)膜，其特征在于，包含: 透明支撐基材； 結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上； 其中至少一個(gè)該棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上變化，該高度的變化包含第一變化模式及第二變化模式，其中該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡沿著并疊加于該第一變化模式產(chǎn)生的軌跡上。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式是以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式變動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式具有第一變化公稱周期，及該第二變化模式具有第二變化公稱周期，該第一變化公稱周期為第二變化公稱周期的0.01 倍至 I, 000 倍。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化公稱周期的長(zhǎng)度為50pm—l，000mm,并具有范圍為2ym至10μ m的平均振幅。
5.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第二變化公稱周期的長(zhǎng)度為50μητ-".1，0()()ηιπι，并具有范圍為IumM 10 μ m的平均振幅。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡呈現(xiàn)正弦波、方波、鋸齒波或三角波。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于10μ m至200 μ m之間。`
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于24μ m至60 μ m之間。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是70度至110度范圍內(nèi)的任一角度。
10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是80度至100度范圍內(nèi)的任一角度。
11.一種光學(xué)膜，其特征在于，包含: 透明支撐基材； 結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上； 其中這些棱鏡的間距以第一變化模式而改變，又這些棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上以第二變化模式而改變。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式是以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式變動(dòng)。
13.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式具有第一變化公稱周期，及該第二變化模式具有第二變化公稱周期，該第一變化公稱周期為第二變化公稱周期的0.01倍至1,000倍。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化公稱周期的長(zhǎng)度為5()μη?— 1,000mm?并具有范圍為2 μ m至10 μ m的平均振幅。
15.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第二變化公稱周期的長(zhǎng)度為50μm — 1,000mm，并具有范圍為ι μ m至10μ m的平均振幅。
16.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡呈現(xiàn)正弦波、方波、鋸齒波或三角波。
17.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于10μm至200μm之間。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于24μ m至60 μ m之間。
19.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是70度至110度范圍內(nèi)的任一角度。
20.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是80度至100度范圍內(nèi)的任一角度。
21.一種光學(xué)膜，其特征在于，包含: 透明支撐基材； 結(jié)構(gòu)化層，包括多個(gè)棱鏡，這些棱鏡整體地以長(zhǎng)度方向排列于該透明支持基材上； 其中這些棱鏡在其長(zhǎng)度方向上的延伸軌跡以第一變化模式而改變，又這些棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上以第二變化模式而改變。
22.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式是以規(guī)則、半規(guī)則、隨機(jī)或類似隨機(jī)的方式變動(dòng)。
23.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式具有第一變化公稱周期，及該第二變化模式具有第二變化公稱周期，該第一變化公稱周期為第二變化公稱周期的0.01倍至1,000倍。
24.如權(quán)利要求23所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化公稱周期的長(zhǎng)度為50μm — 1,000mm，并具有范圍為2ym至10μ m的平均振幅。
25.如權(quán)利要求23所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第二變化公稱周期的長(zhǎng)度為50μm — 1,00Omm,并具有范圍為1μm至10μm的平均振幅。
26.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，該第一變化模式及該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡呈現(xiàn)正弦波、方波、鋸齒波或三角波。
27.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于10μm至200μm之間。
28.如權(quán)利要求27所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的間距介于24μ m至60 μ m之間。
29.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是70度至110度范圍內(nèi)的任一角度。
30.如權(quán)利要求29所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的表面的夾角是80度至100度范圍內(nèi)的任一角度。
31.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)膜，其特征在于，這些棱鏡的高度沿其長(zhǎng)度方向上以該第一變化模式而改變，該高度因該第二變化模式產(chǎn)生的軌跡沿著并疊加于該高度因該第一變化模式產(chǎn)生的軌跡上。
32.一種液晶顯示器，其特征在于，包含如權(quán)利要求1至31中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜。
33.一種液晶顯示器的背光模塊，其特征在于，包含如權(quán)利要求1至31中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜 。
【文檔編號(hào)】G02B5/04GK103630954SQ201310370151
【公開日】2014年3月12日 申請(qǐng)日期:2013年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月22日
【發(fā)明者】王康華, 楊景安, 王凱俊, 黃怡君, 葉芳君 申請(qǐng)人:友輝光電股份有限公司