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一種基于表面等離子體共振的金屬薄膜表面色散調(diào)制方法與流程

文檔序號(hào):11622961閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于金屬表面圖形化技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于表面等離子體共振的金屬薄膜表面色散調(diào)制方法。本發(fā)明利用不同組分配比的合金薄膜介電常數(shù)的不同導(dǎo)致表面等離子體共振峰位隨合金成分變化這一特點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了金屬薄膜的色散特性的自由調(diào)節(jié),是一種新型的非圖形加工方法的表面色散調(diào)控的技術(shù)。合金薄膜的制備使用了磁控濺射雙靶共濺射的方法,可靈活應(yīng)用于各類光學(xué)器件襯底,具有很強(qiáng)的兼容性,成本低且較易獲得。該方法可避免現(xiàn)行以金屬薄膜圖形化為主要方法的表面色散調(diào)控所帶來(lái)的散射損耗,加工成本高,難度高等缺點(diǎn),提高基于表面等離子體共振器件的靈敏度。

技術(shù)研發(fā)人員:江素華;劉哲郡
受保護(hù)的技術(shù)使用者:復(fù)旦大學(xué)
文檔號(hào)碼:201310354818
技術(shù)研發(fā)日:2013.08.15
技術(shù)公布日:2017.07.28

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