技術(shù)特征：
1.一種光刻膠剝離液，所述光刻膠剝離液由總?cè)軇?、有機(jī)溶劑、解交聯(lián)催化劑和防腐蝕保護(hù)劑組成；所述總?cè)軇槎谆鶃嗧?；所述解交?lián)催化劑是有機(jī)二元酸，所述有機(jī)二元酸是乙二酸、丙二酸、對(duì)苯二酸中的至少一種，所述解交聯(lián)催化劑占光刻膠剝離液總重量的4～6%。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述總?cè)軇┑闹亓堪俜直葹?8～78%。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述有機(jī)溶劑是苯酚類樹脂的良溶劑。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述有機(jī)溶劑是酮類、多元醇及其衍生物、環(huán)醚類、酯類、酰胺類中的一種或一種以上的混合液。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述酮類是丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異戊基酮、2-庚酮中的至少一種或一種以上的混合液。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述多元醇及其衍生物是1,2-亞乙基二醇、二甘醇、丙二醇、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二甘醇單乙醚、乙二醇單乙醚乙酸酯，丙二醇單甲醚乙酸酯中的一種或一種以上的混合液。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述環(huán)醚類是四氫呋喃、二惡烷中的一種或一種以上的混合液。8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述酯類是乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、γ-丁內(nèi)酯中的一種或一種以上的混合液。9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述酰胺類是二甲基甲酰胺、N－甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮中的一種或一種以上的混合液。10.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述有機(jī)溶劑占所述光刻膠剝離液總重量的20～30%。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述防腐蝕保護(hù)劑是具有兩個(gè)及兩個(gè)以上配位中心的材料，其與金屬離子形成絡(luò)合物。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述防腐蝕保護(hù)劑是乙?；?、2,2’－聯(lián)吡啶、乙二胺四乙酸中的至少一種。13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述防腐蝕保護(hù)劑占光刻膠剝離液總重量的0.05～2%。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光刻膠剝離液，其特征在于，所述防腐蝕保護(hù)劑占光刻膠剝離液總重量的0.5～1.5%。15.一種光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟：1）在形成于基片上的導(dǎo)電金屬膜或絕緣膜上涂覆光刻膠；2）經(jīng)過干燥、曝光的步驟，在該基片上形成光刻膠圖案；3）通過刻蝕、離子注入或金屬沉積等工藝步驟將圖形轉(zhuǎn)移到?jīng)]有光刻膠保護(hù)的基片上；4）將如權(quán)利要求1～14所述的光刻膠剝離液置于去膠槽中，加熱到合適的溫度之后并恒溫；5）將待剝離光刻膠的基片在恒溫的剝離液中浸泡后取出；6）用沖洗液沖洗基片并干燥，以徹底剝離光刻膠層；7）在顯影鏡或掃描電子顯微鏡（SEM）下觀察基片表面，確認(rèn)沒有光刻膠殘留；所述光刻膠剝離液包括解交聯(lián)催化劑，所述解交聯(lián)催化劑是有機(jī)二元酸，所述有機(jī)二元酸是乙二酸、丙二酸、對(duì)苯二酸中的至少一種，所述解交聯(lián)催化劑占光刻膠剝離液總重量的4～6%。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟1中，基片是硅板。17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟1中，所述光刻膠涂布方式為輥涂、刮涂、旋轉(zhuǎn)涂布中的任意一種。18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟4中，光刻膠剝離液被加熱到50～70℃之后并恒溫。19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟4中，光刻膠剝離液被加熱到50℃之后并恒溫。20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟4中，所述光刻膠剝離液被加熱到70℃之后并恒溫。21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟5中，所述基片在所述恒溫的剝離液中恒溫5-40min。22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟5中，所述基片在所述恒溫的剝離液中恒溫20-30min。23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟5中，所述基片在所述恒溫的剝離液中恒溫30min。24.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟6中，在沖洗液沖洗之前將基片從剝離液中取出，放入有機(jī)溶劑中浸泡。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，所述的有機(jī)溶劑是與水相容的有機(jī)溶劑。26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，所述的有機(jī)溶劑是異丙醇。27.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，基片在有機(jī)溶劑中浸泡5min。28.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，在步驟6中，沖洗液為去離子水。29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，所述去離子水為電阻至少是18MΩ的去離子水。30.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻膠剝離液的應(yīng)用工藝，其特征在于，干燥方式為用氮?dú)獯蹈苫虿捎眯D(zhuǎn)的方式將基片甩干。