電子照相感光構(gòu)件、電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法、處理盒和電子照相設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件、電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法、處理盒和電子照相設(shè)備。電子照相感光構(gòu)件的底涂層包含含有特定交聯(lián)劑、特定樹脂和特定電荷輸送物質(zhì)的組合物的聚合產(chǎn)物(固化材料)。
【專利說明】電子照相感光構(gòu)件、電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法、處理盒和電子照相設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件、生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法、包括所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)前，安裝在處理盒和電子照相設(shè)備上的主流電子照相感光構(gòu)件是包含有機(jī)光導(dǎo)電性物質(zhì)的那些電子照相感光構(gòu)件。此類電子照相感光構(gòu)件均典型地具有支承體和在所述支承體上的感光層。通常在支承體和感光層之間設(shè)置底涂層以抑制從支承體側(cè)到感光層側(cè)的電荷注入和圖像缺陷如起霧的出現(xiàn)。
[0003]近年來，具有較高感光度的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的使用已逐漸增加。然而，由于電荷產(chǎn)生的量隨電荷產(chǎn)生物質(zhì)的感光度增加而增加，電荷傾向于滯留在感光層中和傾向于出現(xiàn)重影問題。特別是，可能出現(xiàn)其中輸出圖像的濃度僅在前次旋轉(zhuǎn)過程中用光照射的部分變得較高的稱為正重影的現(xiàn)象。
[0004]此類重影現(xiàn)象已例如通過將電子輸送物質(zhì)加入至底涂層而抑制。
[0005]PCT日文翻譯專利公開2009-505156號(hào)公開了一種包含源自具有芳香族四羰基二酰亞胺(tetracarbonylbisimide)骨架和交聯(lián)部位的縮合聚合物(電子輸送物質(zhì))和交聯(lián)劑的聚合物的底涂層。PCT日文翻譯專利公開2009-505156號(hào)提出了一種在同樣將電子輸送物質(zhì)加入至底涂層的情況下，避免電子輸送物質(zhì)從形成在底涂層上的感光層中溶出的技術(shù)。根據(jù)該技術(shù)，在底涂層中使用難溶于包含在形成感光層的涂布液中的溶劑中的可固化材料。此外，日本專利特開2003-330209號(hào)和2008-299344號(hào)公開了一種底涂層，其包含源自具有不可水解的可聚合官能團(tuán)的電子輸送物質(zhì)的聚合物。
[0006]近年來，對(duì)電子照相圖像的質(zhì)量要求變得越來越嚴(yán)格，對(duì)正重影的允許范圍也變窄了。
[0007]本發(fā)明的發(fā)明人已進(jìn)行廣泛研究并發(fā)現(xiàn)，在PCT日文翻譯專利公開2009-505156號(hào)以及日本專利特開2003-330209和2008-299344號(hào)中公開的技術(shù)在抑制(降低)正重影和連續(xù)圖像輸出前后之間的正重影水平改變上存在改進(jìn)的余地。根據(jù)這些技術(shù)，由于具有相同結(jié)構(gòu)的組分聚集，底涂層是不均勻的，因而從初始點(diǎn)到重復(fù)使用后均未降低正重影。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明提供進(jìn)一步抑制正重影的電子照相感光構(gòu)件和生產(chǎn)所述電子照相感光構(gòu)件的方法。還提供包括所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
[0009]本發(fā)明的一方面提供一種電子照相感光構(gòu)件，其包括支承體、形成在支承體上的底涂層和形成在底涂層上的感光層。底涂層包括包含(i)至(iii)的組合物的聚合產(chǎn)物:
[0010]⑴選自下組中的至少一種:由下式(Cl)表示的化合物、由下式(Cl)表示的化合物的低聚物、由下式(C2)表示的化合物、由下式(C2)表示的化合物的低聚物、由下式(C3)表示的化合物、由下式(C3)表示的化合物的低聚物、由下式(C4)表示的化合物、由下式
(C4)表示的化合物的低聚物、由下式(C5)表示的化合物和由下式(C5)表示的化合物的低
聚物，
[0011]
【權(quán)利要求】
1.一種電子照相感光構(gòu)件，其包括:支承體；形成在所述支承體上的底涂層；和形成在所述底涂層上的感光層，其中所述底涂層包括包含α)至(iii)的組合物的聚合產(chǎn)物: (i)選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種:由下式(Cl)表示的化合物、由下式(Cl)表示的化合物的低聚物、由下式(C2)表示的化合物、由下式(C2)表示的化合物的低聚物、由下式(C3)表示的化合物、由下式(C3)表示的化合物的低聚物、由下式(C4)表示的化合物、由下式(C4)表示的化合物的低聚物、由下式(C5)表示的化合物和由下式(C5)表示的化合物的低聚物，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中，所述電子輸送物質(zhì)是選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種:由下式(Al)表示的化合物、由下式(A2)表示的化合物、由下式(A3)表示的化合物、由下式(A4)表示的化合物、由下式(A5)表示的化合物、由下式(A6)表示的化合物、由下式(A7)表示的化合物、由下式(AS)表示的化合物和由下式(A9)表示的化合物，
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中所述電子輸送物質(zhì)的分子量為150-1000。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中所述樹脂的重均分子量為5，000-400, 000。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中所述樹脂的重均分子量為5，000-300, 000。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中，所述⑴是選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種:由式(Cl)表示的化合物、由式(C2)表不的化合物、由式(C3)表不的化合物、由式(C4)表不的化合物和由式(C5)表不的化合物，和 所述(i)的分子量為150-1000。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光構(gòu)件， 其中，所述⑴是選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種:由式(Cl)表示的化合物、由式(C2)表不的化合物、由式(C3)表不的化合物、由式(C4)表不的化合物和由式(C5)表不的化合物，和 在式(Cl)至(C5)中，R11至R16中至少三個(gè)、R22至R25中至少三個(gè)、R31至R34中至少三個(gè)、R41至R44中至少三個(gè)和R51至R54中至少三個(gè)各自是由-CH2-OR1表示的一價(jià)基團(tuán)。
8.一種根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法，所述方法包括下述步驟: 通過使用底涂層用涂布液形成涂膜，所述涂布液包含所述組合物；和 加熱干燥所述涂膜以使所述組合物聚合并形成所述底涂層。
9.一種處理盒，其可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備的主體，所述處理盒包括:根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件；和選自由充電裝置、顯影裝置、轉(zhuǎn)印裝置和清潔裝置組成的組中的至少一種裝置，其中所述電子照相感光構(gòu)件和所述至少一種裝置被一體化支承。
10.一種電子照相設(shè)備，其包括:根據(jù) 權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件；充電裝置；曝光裝置；顯影裝置；和轉(zhuǎn)印裝置。
【文檔編號(hào)】G03G5/06GK103529664SQ201310268990
【公開日】2014年1月22日 申請(qǐng)日期:2013年6月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月29日
【發(fā)明者】奧田篤, 中村延博, 關(guān)戶邦彥, 關(guān)谷道代, 伊藤陽(yáng)太, 加來賢一, 友野寬之, 石塚由香 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社