技術(shù)特征：
1.一種光掩模坯料，其特征在于，在能夠通過氟類干蝕刻進(jìn)行蝕刻的無(wú)機(jī)材料膜上具備由含有錫的鉻系材料構(gòu)成的硬掩模膜，所述能夠通過氟類干蝕刻進(jìn)行蝕刻的無(wú)機(jī)材料膜為含有鉬和硅的膜，所述含有錫的鉻系材料中錫的含量相對(duì)于鉻的含量以原子比計(jì)為0.01倍以上且2倍以下，所述硬掩模膜的含氧的氯類干蝕刻的清除時(shí)間與氟類干蝕刻的清除時(shí)間之比為1:11以上。2.如權(quán)利要求1所述的光掩模坯料，其中，所述含有錫的鉻系材料為錫-鉻金屬、錫-氧化鉻、錫-氮化鉻、錫-碳化鉻、錫-氮氧化鉻、錫-碳氧化鉻、錫-碳氮化鉻、錫-碳氮化氧化鉻中的任意一種。3.如權(quán)利要求1所述的光掩模坯料，其中，所述含有鉬和硅的膜為遮光膜。4.一種光掩模的制造方法，其為使用權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的坯料的光掩模的制造方法，其具備：通過氯類干蝕刻對(duì)所述硬掩模膜進(jìn)行蝕刻而形成硬掩模圖案的工序；和將所述硬掩模圖案作為蝕刻掩模，通過氟類干蝕刻將所述圖案轉(zhuǎn)印到所述無(wú)機(jī)材料膜上的工序。