技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種運(yùn)用多個(gè)程序的光學(xué)鄰近校正方法和用于該方法的系統(tǒng)。標(biāo)記層放置于設(shè)計(jì)布局的如下區(qū)域中，在這些區(qū)域中，圖像斜率小于臨界圖像斜率或者周長與面積之比小于臨界周長與面積?？梢酝ㄟ^對(duì)其中誤差均值和/或誤差均方根(RMS)超過閾值的過程條件子集分組來生成多光學(xué)鄰近校正(OPC)。用運(yùn)用至少一個(gè)非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑模型的嚴(yán)格OPC處理用標(biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域，而用不及至少一個(gè)非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑模型嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)OPC程序處理布局的未標(biāo)記區(qū)域。此外，可以在布局剪輯之中比較邊數(shù)和區(qū)域圖像對(duì)比度以確定用于邊數(shù)和區(qū)域圖像對(duì)比度的閾值，這些閾值可以用來確定針對(duì)每個(gè)布局剪輯是否需要多OPC。

技術(shù)研發(fā)人員：S·巴雷
受保護(hù)的技術(shù)使用者：國際商業(yè)機(jī)器公司
文檔號(hào)碼：201310179090
技術(shù)研發(fā)日：2013.05.15
技術(shù)公布日：2017.07.28