技術(shù)特征：
1.一種對(duì)設(shè)計(jì)布局執(zhí)行光學(xué)鄰近校正的方法，所述方法包括：從所述設(shè)計(jì)布局生成至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯，其中所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯包括所述設(shè)計(jì)布局的子集；向所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯分配至少一個(gè)測(cè)量部位；針對(duì)在所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯之中的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，確定所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否滿足用于將所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯分類為包括至少一個(gè)復(fù)雜設(shè)計(jì)特征的預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括以下標(biāo)準(zhǔn)中的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)或者邏輯組合：所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比；以及所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在該測(cè)量部位處的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率；針對(duì)被標(biāo)識(shí)為滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，用標(biāo)記層標(biāo)記滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的區(qū)域；以及用OPC程序?qū)ξ从盟鰳?biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域執(zhí)行OPC，并且用與所述OPC程序不同的至少另一OPC程序?qū)τ盟鰳?biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域執(zhí)行OPC。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比的邏輯組合。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位的邏輯組合，在該測(cè)量部位處的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)是所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比，或者所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)是所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在該測(cè)量部位處的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：針對(duì)被標(biāo)識(shí)為包括滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的至少一個(gè)測(cè)量部位的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，移動(dòng)所述標(biāo)記層以包括所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯內(nèi)的滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的所有測(cè)量部位。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：通過在光學(xué)模型預(yù)測(cè)值和與劑量和聚焦深度條件的多個(gè)組合對(duì)應(yīng)的測(cè)量數(shù)據(jù)之間比較臨界尺度來生成包括所述OPC程序和所述至少另一OPC程序的多個(gè)OPC程序。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括：從與標(biāo)準(zhǔn)劑量和聚焦深度條件對(duì)應(yīng)的組合生成所述OPC程序；以及從與至少一個(gè)非標(biāo)準(zhǔn)劑量和聚焦深度條件對(duì)應(yīng)的至少另一組合生成所述至少另一OPC程序。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，還包括：針對(duì)所述多個(gè)組合中的每個(gè)組合生成在所述光學(xué)模型預(yù)測(cè)值與所述測(cè)量數(shù)據(jù)之間的誤差均值和誤差均方根(RMS)；標(biāo)識(shí)所述多個(gè)組合的具有絕對(duì)值超過預(yù)定義的閾值誤差均值絕對(duì)值的誤差均值或者具有超過預(yù)定義的閾值誤差RMS值的誤差RMS的子集；以及將所述子集分類成具有用于所述誤差均值和所述誤差RMS的非重疊范圍的類別。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，還包括：生成用于所述類別中的每個(gè)類別的不同抗蝕劑模型；以及構(gòu)造包括所述抗蝕劑模型中的一個(gè)抗蝕劑模型的所述至少另一OPC程序中的每個(gè)OPC程序。10.一種標(biāo)識(shí)具有不同設(shè)計(jì)復(fù)雜度水平的區(qū)域的方法，所述方法包括：從所述設(shè)計(jì)布局生成至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯，其中所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯包括所述設(shè)計(jì)布局的子集；向所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯分配至少一個(gè)測(cè)量部位；針對(duì)在所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯之中的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，確定所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)，所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括如下標(biāo)準(zhǔn)中的至少一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)：所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比，以及所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在該測(cè)量部位的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率；針對(duì)滿足所述標(biāo)準(zhǔn)的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，用標(biāo)記層標(biāo)記滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的每個(gè)區(qū)域；將用所述標(biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域分類為第一區(qū)域集合，并且將未用所述標(biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域分類為第二區(qū)域集合；以及在非暫時(shí)性的機(jī)器可讀數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)標(biāo)識(shí)所述第一區(qū)域集合和所述第二區(qū)域集合中的至少一個(gè)區(qū)域集合的數(shù)據(jù)。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括以下標(biāo)準(zhǔn)中的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)或者邏輯組合：所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比；以及所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在所述測(cè)量部位的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)是所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比，或者所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)是所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在所述測(cè)量部位的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率。13.一種用于對(duì)設(shè)計(jì)布局執(zhí)行光學(xué)鄰近校正的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：用于從所述設(shè)計(jì)布局生成至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯的裝置，其中所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯包括所述設(shè)計(jì)布局的子集；用于向所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯中的每個(gè)設(shè)計(jì)剪輯分配至少一個(gè)測(cè)量部位的裝置；用于針對(duì)在所述至少一個(gè)設(shè)計(jì)剪輯之中的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，確定所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否滿足用于將所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯分類為包括至少一個(gè)復(fù)雜設(shè)計(jì)特征的預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的裝置；其中所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括以下標(biāo)準(zhǔn)中的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)或者邏輯組合：所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否具有比預(yù)定義的臨界周長(zhǎng)與面積之比更大的周長(zhǎng)與面積之比；以及所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯是否包括如下測(cè)量部位，在該測(cè)量部位處的區(qū)域圖像斜率小于預(yù)定義的臨界區(qū)域圖像斜率；用于針對(duì)被標(biāo)識(shí)為滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，用標(biāo)記層標(biāo)記滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的區(qū)域的裝置；用于用OPC程序?qū)ξ从盟鰳?biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域執(zhí)行OPC，并且用與所述OPC程序不同的至少另一OPC程序?qū)τ盟鰳?biāo)記層標(biāo)記的區(qū)域執(zhí)行OPC的裝置。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，還包括：用于針對(duì)被標(biāo)識(shí)為包括滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的至少一個(gè)測(cè)量部位的每個(gè)選擇的設(shè)計(jì)剪輯，移動(dòng)所述標(biāo)記層以包括所述選擇的設(shè)計(jì)剪輯內(nèi)的滿足所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的所有測(cè)量部位的裝置。15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，還包括：用于通過在光學(xué)模型預(yù)測(cè)值和與劑量和聚焦深度條件的多個(gè)組合對(duì)應(yīng)的測(cè)量數(shù)據(jù)之間比較臨界尺度來生成包括所述OPC程序和所述至少另一OPC程序的多個(gè)OPC程序的裝置。