專利名稱：一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種光源系統(tǒng)，特別是ー種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
照明系統(tǒng)是平行光刻曝光機(jī)的的關(guān)鍵部件之一，在曝光能量源的選擇上，其他公司都是采用單燈光源。單燈價格較昂貴，一旦發(fā)生故障，維修費用較高。此外，單燈系統(tǒng)發(fā)光強(qiáng)度不可調(diào)節(jié)，而且隨著使用時間的増加，光強(qiáng)明顯衰弱。因此，單燈系統(tǒng)有效壽命短，使用成本較高。
發(fā)明內(nèi)容
·[0003]發(fā)明目的針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明公開了ー種維修簡單，可調(diào)節(jié)光強(qiáng)的成本低廉的多燈光源系統(tǒng)。技術(shù)方案本發(fā)明公開了ー種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，包括支架，陣列排布在支架上的ー組超高壓汞燈。其中，所述支架為反碗狀支架。其中，所述ー組超高壓汞燈至少為4個。其中，其特征是，所述超高壓汞燈的軸線匯聚于支架的球心處，形成單燈的照射效果。所述超高壓汞燈采用的都是江蘇森萊浦光電科技有限公司生產(chǎn)的P20型超超高壓汞燈，其燈杯為拋物線反射面，理論上可將大部分光線平行投射到前方。當(dāng)發(fā)現(xiàn)燈泡光強(qiáng)衰減至出廠值的60%_80%吋，電路監(jiān)控發(fā)現(xiàn)情況，此時可以啟動未使用的燈泡補(bǔ)償能量損失而不影響整個光源系統(tǒng)工作。與單燈系統(tǒng)相比，能大大提高光源的使用壽命，降低成本。此外，多燈系統(tǒng)還能夠通過控制點亮燈的數(shù)量來調(diào)節(jié)總體光強(qiáng)。這ー優(yōu)點是單燈系統(tǒng)無法實現(xiàn)的。光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)的核心技術(shù)是將若干超超高壓汞燈成矩陣分列在球面上，各燈的軸線匯聚于球心，形成單燈的照射效果。有益效果本發(fā)明公開的光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，維修方便，能夠調(diào)節(jié)光強(qiáng)。

附圖I為多燈光源系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為超聞壓萊燈的結(jié)構(gòu)不意圖；附圖3為支架的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)ー步的解釋。[0017]本發(fā)明公開了一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，包括支架1，陣列排布在支架I上的一組超高壓汞燈2。其中，所述支架I為反碗狀支架。其中，所述一組超高壓汞燈2至少為4個。其中，其特征是，所述超高壓汞燈2的軸線匯聚于支架I的球心處，形成單燈的照射效果。所述超高壓汞燈采用的都是江蘇森萊浦光電科技有限公司生產(chǎn)的P20型超超高壓汞燈，其燈杯為拋物線反射面，理論上可將大部分光線平行投射到前方。當(dāng)發(fā)現(xiàn)燈泡光強(qiáng)衰減至出廠值的60%_80%時，電路監(jiān)控發(fā)現(xiàn)情況，此時可以啟動未使用的燈泡補(bǔ)償能量損失而不影響整個光源系統(tǒng)工作。與單燈系統(tǒng)相比，能大大提高光源的使用壽命，降低成本。此外，多燈系統(tǒng)還能夠通過控制點亮燈的數(shù)量來調(diào)節(jié)總體光強(qiáng)。這一優(yōu)點是單燈系統(tǒng)無法實現(xiàn)的。光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)的核心技術(shù)是將若干超超高壓汞燈成矩陣分列在球面上，各燈的軸線匯聚于球心，形成單燈的照射效果。本發(fā)明提供了一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)的思路及方法，具體實現(xiàn)該技術(shù)方案的方法和途徑很多，以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍，本實施例中未明確的各組成部分均可用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求1.一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，其特征是，包括支架(I)，陣列排布在支架(I)上的一組超高壓汞燈(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，其特征是，所述支架(I)為反碗狀支架。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，其特征是，所述一組超高壓汞燈(2)至少為4個。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2或3所述的一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，其特征是，所述超高壓汞燈(2)的軸線匯聚于支架(I)的球心處。
專利摘要發(fā)明公開了一種光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，包括支架，陣列排布在支架上的一組超高壓汞燈。其中，所述支架為反碗狀支架。其中，所述一組超高壓汞燈至少為4個。其中，其特征是，所述超高壓汞燈的軸線匯聚于支架的球心處，形成單燈的照射效果。本實用新型公開的光刻曝光機(jī)的多燈光源系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，維修方便，能夠調(diào)節(jié)光強(qiáng)。
文檔編號G03F7/20GK202583695SQ201220167128
公開日2012年12月5日 申請日期2012年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月19日
發(fā)明者王政, 沈立, 周予濱, 周全, 周力, 張夢杰, 湯吉, 陳川 申請人:無錫歐米光電科技有限公司