專利名稱：一種掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及等離子顯示屏PDP制作領域，尤其涉及一種掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)。
背景技術：
光刻法是ー種精細結(jié)構(gòu)圖形制作方法，廣泛運用于等離子顯示屏制作領域。等離子顯示屏BUS電極的光刻エ藝具體如下(1)在清洗后的玻璃基板上涂覆ー層感光性PR膠；(2)將基板投入干燥爐進行干燥；(3)利用掩膜版進行選擇性曝光；(4)用顯影液除去未感光改性的PR膠；(5)用刻蝕液除去沒有PR膠附著的電極材料；(6)用剝膜液去除附著的PR膠。其中，曝光是光刻エ業(yè)中重要的組成部分，曝光用的掩膜版通常是鉻版，主要由基 板和不透光材料組成。基板通常是高純度、低反射率、低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃，鉻版的不透光層是通過噴濺的方法在玻璃下方鍍ー層鉻，再經(jīng)過一系列的加工形成圖形。掩膜版的作用是控制光線進行選擇性曝光，需要留下的進行曝光，不需要留下的進行遮光。玻璃基板上涂有感光材料，當曝光吋，紫外線通過掩膜版對玻璃基板上的感光材料進行選擇性曝光，再通過光刻エ藝將所需要的圖像轉(zhuǎn)移到玻璃基板上。為了避免掩膜版被劃傷或者被玻璃基板上的感光材料污染，通常采用非接觸式曝光，即掩膜版與玻璃基板之間有一定間隙，一般為幾百微米。在采用非接觸式曝光時，需要進行間隙Gap計測，還需要進行對準Alignment計測。Gap計測，即利用間隙傳感器Gap sensor測量掩膜版與玻璃基板之間的距離；Alignment計測，即利用攝像機Camera使掩膜版上的標識Mark中心與玻璃基板上的Mark中心精確對位。計測過程如下如圖I所示，Camera 12與Gap sensor 11連接在一起,ニ者只能整體移動，首先，Gap sensorll移動至正對間隙窗ロ Gap Windowl3的位置,進行Gap計測，Gap計測完成后，如圖2所示，Camera 12移動至掩膜版的對位Mark 14附近，進行Alignment計測。上述計測模式中，由于Gap計測和Alignment計測是先后進行的，因此,這種計測模式耗費的時間較長。

實用新型內(nèi)容有鑒于此，本實用新型提供了一種掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)，用以解決Gap計測和Alignment計測先后計測耗時長的問題。其技術方案如下一種掩膜版，所述掩膜版上設置有對位標識Mark和間隙窗Gap Window,所述掩膜版上Gap Window與對位Mark之間的相對位置與Camera與Gap sensor之間的相對位置一致。一種曝光裝置，包括上述的掩膜版和曝光計測裝置，所述曝光計測裝置包括uamera 和 bap sensor。ー種曝光系統(tǒng)，包括上述的曝光裝置，還包括曝光機，所述曝光機的操作界面中包括Gap和Alignment同時計測模式。本實用新型提供的掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)中，由于掩膜版上Gap Window與對位Mark之間的相對位置與Camera與Gap sensor之間的相對位置一致，因此當進行曝光計測時，Gap計測和Alignment計測同時進行,這樣節(jié)省了曝光計測的時間。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為現(xiàn)有技術中的Gap計測示意圖；圖2為現(xiàn)有技術中的Alignment計測示意圖；圖3為本實用新型實施例提供的Gap和Alignment同時計測示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。本實用新型實施例提供了一種掩膜版，該掩膜版上設置有對位標識Mark和間隙窗Gap Window,其中對位Mark的位置不可隨意更改,而Gap Window的位置相對靈活,可更改。本實用新型提供的掩膜版上的對位標識Mark和間隙窗Gap Window之間的相對位置與Camera和Gap sensor之間的相對位置一致。本實用新型實施例還提供了一種曝光裝置，該裝置包括上述掩膜版和曝光計測裝置。進ー步地，曝光計測裝置包括Camera和Gap sensor。其中，Camera和Gap sensor連接在一起，Camera和Gap sensor的相對位置可通過測量Camera和Gap sensor鏡頭光斑的中心距離來確定。掩膜版上Gap Window和對位Mark之間的相對位置可在繪制掩膜版的CAD圖紙時設定,在繪制圖紙時,使Gap Window與對位Mark之間的相對位置與測量的Camera和Gap sensor的中心距離一致。采用上述裝置中的掩膜版進行曝光計測，如圖3所示，Gap sensor 31與Camera32連接在一起，二者只能整體移動，Gap sensor 31移動至正對Gap Window 33的位置，進行Gap計測，即測量掩膜版和玻璃基板之間的距離，在將Gap sensor 31移動至正對Gap Window 33的位置的同時，與Gapsensor 31連接在一起的Camera32將掩膜版上的對位Mark 34的中心與玻璃基板上Mark的中心精確對位，即在進行Gap計測的同時實現(xiàn)了Alignment計測。當然，本實用新型的曝光裝置也可實現(xiàn)Gap和Alignment分開計測。本實用新型實施例還提供了ー種曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)除了包括上述的曝光裝置以外，還包括曝光機。在曝光過程中，由于采用上述的曝光裝置，因此在曝光計測吋，可實現(xiàn)Gap和Alignment同時計測，因此曝光機的操作界面中包括Gap和Alignment同時計測模式。當然，本實用新型提供的曝光系統(tǒng)的曝光機的操作界面中還包括有Gap和Alignment分開計測模式。本實用新型提供的掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)中，由于掩膜版上Gap Window與對位Mark之間的相對位置與Camera與Gap sensor之間的相對位置一致，因此當進行曝光計測時，Gap計測和Alignment計測同時進行,這樣節(jié)省了曝光計測的時間。對所公開的實施例的上述說明，使本領域?qū)I(yè)技術人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實用新型。對這些實施例的多種修改對本領域的專業(yè)技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因 此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
權利要求1.一種掩膜版，所述掩膜版上設置有對位標識和間隙窗，其特征在于，所述掩膜版上間隙窗與對位標識之間的相對位置、和攝像機與間隙傳感器之間的相對位置是一致的。
2.一種曝光裝置，其特征在于，包括如權利要求I所述的掩膜版和曝光計測裝置，所述曝光計測裝置包括攝像機和間隙傳感器。
3.一種曝光系統(tǒng)，其特征在干，包括如權利要求2所述的曝光裝置，還包括曝光機，所述曝光機支持間隙和對準同時計測模式。
專利摘要本實用新型提供了一種掩膜版、曝光裝置及系統(tǒng)，曝光裝置包括掩膜版和曝光計測裝置，所述曝光計測裝置包括攝像機Camera與間隙傳感器Gap sensor，曝光系統(tǒng)包括曝光裝置和曝光機。所述曝光裝置中的掩膜版上設置有間隙窗Gap Window和對位標識Mark，所述Gap Window與對位Mark之間的相對位置與所述Camera與Gap sensor之間的相對位置一致，當進行曝光計測時，可實現(xiàn)Gap和Alignment同時計測，相應的，曝光系統(tǒng)中曝光機的操作界面中包括Gap和Alignment同時計測模式。在曝光過程中，由于Gap計測和Alignment計測同時進行，因此節(jié)省了曝光計測的時間。
文檔編號G03F7/20GK202453647SQ201220037458
公開日2012年9月26日 申請日期2012年2月6日 優(yōu)先權日2012年2月6日
發(fā)明者張青 申請人:安徽鑫昊等離子顯示器件有限公司