一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，其特征在于，所述輔助邊設(shè)置在所述掩模板主體外側(cè)通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接；本發(fā)明還公開了相應(yīng)的制作方法。本發(fā)明公開的具有固定輔助邊的掩模板可以方便省力的將輔助邊切除，并大大降低了傳統(tǒng)工藝剪切過(guò)程中對(duì)原有掩模板上絲網(wǎng)的影響，也避免了傳統(tǒng)工藝中的掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落，大大提高了生產(chǎn)效率。
【專利說(shuō)明】一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種掩模板，具體涉及一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法，屬于OLED掩模板制造領(lǐng)域。
[0002]
【背景技術(shù)】
[0003]OLED顯示屏作為繼CRT、IXD之后最具有發(fā)展?jié)摿Φ牡谌@示技術(shù)，其發(fā)展日益受到人們的關(guān)注，目前，制備高質(zhì)量OLED屏的一種核心技術(shù)是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸鍍R、G、B三原色制得。作為掩模介質(zhì)的OLED掩模板的精度會(huì)直接影響到最終OLED屏的質(zhì)量，因此業(yè)內(nèi)非常重視OLED掩模板制作的每個(gè)環(huán)節(jié)。一個(gè)完整OLED掩模板制造過(guò)程包括:具有開口圖案掩模板的制作一掩模板的固定一掩模板的包裝。其中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃?yán)秸笸ㄟ^(guò)激光焊接或者其他連接方式固定在一個(gè)外框上，為了便于繃?yán)?，掩模板的外圍?huì)留有一個(gè)用于繃?yán)膮^(qū)域，掩模板固定好后，用于繃?yán)膮^(qū)域需要裁除，通常裁除手段是通過(guò)機(jī)械裁剪等方法，如此會(huì)引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落，影響最終產(chǎn)品質(zhì)量。因此，業(yè)界亟需一種能夠在OLED掩模板制造過(guò)程中解決此種缺陷的方法。
[0004]
【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本發(fā)明提供了一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
所述具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，所述輔助邊設(shè)置在所述掩模板主體外側(cè)通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
[0006]根據(jù)本專利【背景技術(shù)】中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，目前工藝中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃?yán)秸笸ㄟ^(guò)激光焊接或者其他連接方式固定在一個(gè)外框上，為了便于繃?yán)谀０宓耐鈬鷷?huì)留有一個(gè)用于繃?yán)膮^(qū)域，掩模板固定好后，用于繃?yán)膮^(qū)域需要裁除，通常裁除手段是通過(guò)機(jī)械裁剪等方法，如此會(huì)引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落，影響最終產(chǎn)品質(zhì)量；而本發(fā)明提供的所述具有固定輔助邊的掩模板具有與傳統(tǒng)工藝中功能類似的輔助邊，所述具有固定輔助邊的掩模板在連接并固定在外框上后由于所述半刻線區(qū)的存在，可以很方便省力的將輔助邊切除，并大大降低了傳統(tǒng)工藝剪切過(guò)程中對(duì)原有掩模板上絲網(wǎng)的影響，也避免了傳統(tǒng)工藝中的掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落，大大提聞了生廣效率。
[0007]另外，根據(jù)本發(fā)明公開的具有固定輔助邊的掩模板還具有如下附加技術(shù)特征: 可選地，所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)與所
述掩模板主體連接。
[0008]可選地，所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的兩對(duì)邊形成開放外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
[0009]通常情況下，所述掩模板主體為四邊形的絲網(wǎng)，所述輔助邊可以在所述掩模板主體的四個(gè)周邊設(shè)置形成一個(gè)四邊形的封閉的外圍邊框，并通過(guò)所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接；但在某些情況下，所述輔助邊只是在所述掩模板主體的兩個(gè)對(duì)邊設(shè)置形成一個(gè)平行的開放的外圍邊框，即僅有兩個(gè)對(duì)邊的外圍邊框，同時(shí)通過(guò)所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接。
[0010]進(jìn)一步地，所述半刻線區(qū)為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長(zhǎng)區(qū)域。
[0011]優(yōu)選地，所述半刻線與固定掩模板主體的外框形狀尺寸相適應(yīng)，即半刻線區(qū)形成的外邊形狀與外框形狀保持一致或基本一致，在去除輔助邊后，掩模板主體外邊能與外框邊緣吻合。
[0012]所述輔助邊及所述半刻線區(qū)的存在是為了在所述掩模板連接并固定在外框進(jìn)行裁切后降低裁切過(guò)程中對(duì)掩模板的影響，因此連接所述掩模板主體和所述輔助邊的半刻線區(qū)為所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長(zhǎng)區(qū)域，這樣一方面能將固定連接邊緣限制在所述半刻線區(qū)內(nèi)，避免裁切過(guò)程中對(duì)所述半刻線區(qū)內(nèi)的所述掩模板主體的影響，同時(shí)，大大降低了裁切力，節(jié)能且高效。
[0013]在實(shí)際應(yīng)用中，所述半刻線區(qū)的厚度設(shè)置應(yīng)由以下原則確定:半刻線區(qū)13能夠承受外界將掩模板拉緊繃平的水平拉力(相對(duì)圖中所示方位)而不斷裂，同時(shí)也能在相對(duì)較小的剪切力(垂直于掩模板板面)下斷開。
[0014]進(jìn)一步地，所述半刻線區(qū)設(shè)置有通孔。
[0015]優(yōu)選地，所述通孔均勻分布。
[0016]所述通孔的設(shè)置進(jìn)一步降低了裁切力，而均勻分布的通孔則可以使裁切力更加均勻，形成良好的切口斷面。
[0017]可選地，所述半刻線區(qū)邊緣設(shè)置有大開口。
[0018]優(yōu)選地，所述大開口對(duì)稱分布在所述半刻線邊緣。
[0019]所述大開口的設(shè)置可以更好地提供裁切的起始位置，使起始的裁切力更小，
本發(fā)明還提供了相應(yīng)的掩模板的制作方法，其特征包括:
Si，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側(cè)均壓貼感光干膜；
S2，曝光:按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)所述感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光； S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過(guò)顯影去除未曝光干膜區(qū)；
S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)。
[0020]褪膜后的掩模板經(jīng)過(guò)清潔處理后，需通過(guò)機(jī)械繃緊拉平固定在外框上，在繃?yán)^(guò)程中，機(jī)械繃?yán)b置可通過(guò)固定孔16進(jìn)行繃?yán)?，亦可以通過(guò)直接夾持掩模板輔助邊進(jìn)行繃?yán)??？嚲o拉平后的掩模板通過(guò)激光焊接或者是膠粘劑粘接的方式將掩模板主體部分固定在外框上，固定好后通過(guò)手工或者是機(jī)械手提供給半刻線區(qū)一個(gè)垂直于掩模板的剪切力，使得輔助邊與掩模板主體在半刻線處斷裂開，即將輔助邊與掩模板主體分離。掩模板固定后去除輔助邊的結(jié)構(gòu)示意圖如圖7所示，掩模板主體外形與外框外形相適應(yīng)。
[0021]本發(fā)明具有以下優(yōu)勢(shì):通過(guò)所述半刻線區(qū)的設(shè)計(jì)，可以比較輕易的將非掩模板主體區(qū)域(即本發(fā)明的輔助邊)裁除，可將所述掩模板主體和外框連接固定區(qū)域限制在所述半刻線區(qū)形成的邊框內(nèi)側(cè)，而不會(huì)引起掩模板主體部分邊緣的曲翹，也可以避免傳統(tǒng)機(jī)械裁剪所引起的焊點(diǎn)松弛脫落等現(xiàn)象。
[0022]本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
[0023]【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
圖1所示為本發(fā)明一種掩模板示意圖；
圖2所示為本發(fā)明掩模板另一種結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為圖1中15部分的一種結(jié)構(gòu)放大示意圖；
圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種橫截面示意圖；
圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種橫截面示意圖 圖6所示為為圖1中15部分的另一種結(jié)構(gòu)放大示意圖 圖7所示為將掩模板主體固定在外框上后去除輔助邊的平面示意圖 圖8為掩模板兩面貼感光干膜示意圖 圖9為曝光過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖；
圖10為去除未曝光干膜過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖；
圖11為蝕刻過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖；
圖1中，11為掩模板主體，12為封閉輔助邊，13為連接掩模板主體11與輔助邊12的封閉半刻線區(qū)，14為大開口，15為待放大區(qū)域，16為掩模板繃?yán)墓潭祝?br> 圖2中，22為開放輔助邊，23為連接掩模板主體11與輔助邊22的開放半刻線區(qū)；
圖3中，A-A為待視方向；
圖6中60為構(gòu)成半刻線的通孔，61為構(gòu)成半刻線的減薄塊；
圖7中71為固定掩模板主體，72為固定掩模板主體的外框；
圖8中80為掩模板、81、82為感光干膜；
圖9中90為未曝光干I吳區(qū)；
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0026]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0027]在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點(diǎn)與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0028]本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思如下，在傳統(tǒng)工藝中，將掩模板與外框進(jìn)行連接固定并將掩模板與外框固定區(qū)域外圍部分裁切后，容易產(chǎn)生掩模板主體部分邊緣的曲翹及傳統(tǒng)機(jī)械裁剪所引起的焊點(diǎn)松弛脫落等現(xiàn)象；而本發(fā)明提供的具有固定輔助邊的掩模板可以將傳統(tǒng)的連接固定區(qū)域通過(guò)半刻線區(qū)與裁切區(qū)域(及輔助邊)分割開來(lái)，截?cái)嗔瞬们羞^(guò)程中由于機(jī)械裁切對(duì)掩模板主體造成的不良影響，從而大大提高了生產(chǎn)效率降低了成本。
[0029]下面將參照附圖來(lái)描述本發(fā)明的粘鋼片的對(duì)位裝置，其中圖1所示為本發(fā)明一種掩模板示意圖；圖2所示為本發(fā)明掩模板另一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖7所示為將掩模板主體固定在外框上后去除輔助邊的平面示意圖；圖8為掩模板兩面貼感光干膜示意圖；圖9為曝光過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖；圖10為去除未曝光干膜過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖；圖11為蝕刻過(guò)程結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，一種具有固定輔助邊的掩模板，包括掩模板主體11、輔助邊12、22及半刻線區(qū)13、23，其特征在于，所述輔助邊12、22設(shè)置在所述掩模板主體11外側(cè)通過(guò)所述半刻線區(qū)13、23與所述掩模板主體11連接，如圖1、2所示。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助邊12設(shè)置在掩模板主體11的四周形成封閉外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)13與所述掩模板主體11連接，如圖1所示。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助邊22設(shè)置在掩模板主體11的兩對(duì)邊形成開放外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)23與所述掩模板主體11連接，如圖2所示。
[0033]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述半刻線區(qū)13、23為厚度小于所述掩模板主體11厚度且小于所述輔助邊12、22厚度的狹長(zhǎng)區(qū)域，如圖3、4、5、6所示。
[0034]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述半刻線區(qū)13、23是單邊凹槽形成的減薄區(qū)域，如圖4所示。
[0035]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述半刻線區(qū)13、23是雙邊凹槽形成的減薄區(qū)域，如圖5所示。
[0036]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述半刻線區(qū)13、23設(shè)置有通孔60，如圖6所示，即半刻線區(qū)13、23由通孔60和減薄塊61交錯(cuò)排布構(gòu)成。
[0037]優(yōu)選地，所述通孔60均勻分布，如圖6所示。
[0038]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述半刻線區(qū)13、23邊緣設(shè)置有大開口 14，如圖1所
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[0039]優(yōu)選地，所述大開口 14對(duì)稱分布在所述半刻線邊緣，如圖1所示。
[0040]其可以作為后續(xù)將輔助邊12從掩模主體11上去除的處理區(qū)(即可以通過(guò)此處作為起始點(diǎn)將掩模主體11與輔助邊12分離)，其中，作為一種比較合理的設(shè)計(jì)，大開口 14的位置及大小尺寸與固定掩模板的外框外形相適應(yīng)；另外，在掩模板輔助邊12上設(shè)置有固定孔16，固定孔16可作為后續(xù)將掩模板繃緊拉平的外接口。在圖2所示的掩模板輔助邊22上未設(shè)置固定孔，其拉緊繃平過(guò)程是可通過(guò)外界夾頭直接夾持掩模板的輔助邊22即可實(shí)現(xiàn)。
[0041]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，一種具有固定輔助邊的掩模板的制作方法，包括: SI，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側(cè)均壓貼感光干膜，如圖8所示，圖8為圖4所示區(qū)域截面圖，即在掩模板80兩面壓貼有感光干膜81、82 ；
S2，曝光:按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)所述感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光，圖9中除90部分，其它部分均為曝光區(qū)域；
S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過(guò)顯影去除未曝光干膜區(qū)，使得待制半刻線區(qū)的掩模板表面裸露，如圖10所；
S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)，將顯影后的掩模板通過(guò)蝕刻液蝕刻即可在90區(qū)域形成圖11所示凹槽結(jié)構(gòu)，在蝕刻過(guò)程中，通過(guò)控制蝕刻液的溶液配比、蝕刻時(shí)對(duì)掩模板的壓力、蝕刻的時(shí)間等參數(shù)來(lái)控制掩模板的蝕刻厚度。
[0042]蝕刻后的掩模板通過(guò)褪膜將之前曝光區(qū)域的干膜去除，即可得到圖4所示掩模板結(jié)構(gòu)。
[0043]作為本發(fā)明的另一種實(shí)施例，在對(duì)壓貼有感光干膜的掩模板進(jìn)行曝光的過(guò)程中，可以針對(duì)不同類型的半刻線區(qū)結(jié)構(gòu)(如圖5、圖6所示等)進(jìn)行曝光圖案設(shè)計(jì)。
[0044]任何提及“ 一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說(shuō)明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。
[0045]盡管參照本發(fā)明的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【權(quán)利要求】
1.一種具有固定輔助邊的掩模板，，包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū)，其特征在于，所述輔助邊設(shè)置在所述掩模板主體外側(cè)通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的兩對(duì)邊形成開放外框且通過(guò)所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長(zhǎng)區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)設(shè)置有通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述通孔均勻分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區(qū)邊緣設(shè)置有大開口。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述大開口對(duì)稱分布在所述半刻線邊緣。
9.一種具有固定輔助邊的掩模板的制作方法，其特征在于，包括: SI，壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側(cè)均壓貼感光干膜； S2，曝光:按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)所述感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光； S3，去除未曝光干膜:將曝光后的掩模板通過(guò)顯影去除未曝光干膜區(qū)； S4，蝕刻:將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區(qū)。
【文檔編號(hào)】G03F1/38GK103869601SQ201210524484
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月10日
【發(fā)明者】魏志凌 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司