光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝，該光配向光源系統(tǒng)對(duì)一第一基板及一第二基板進(jìn)行光配向工藝，并包括一傳輸裝置以及一光源模塊。傳輸裝置移動(dòng)第一基板及第二基板。光源模塊具有至少一發(fā)光元件，當(dāng)傳輸裝置移動(dòng)第一基板及第二基板經(jīng)過(guò)光源模塊時(shí)，發(fā)光元件對(duì)第一基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，及發(fā)光元件對(duì)第二基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光。其中，于進(jìn)行第一基板的第一次曝光及第二基板的第一次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反，或者于進(jìn)行第一基板的第二次曝光及第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反。通過(guò)本發(fā)明，可有效利用光源模塊降低光配向工藝的工站時(shí)間，以降低設(shè)備設(shè)置成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步，平面顯示裝置已經(jīng)廣泛的被運(yùn)用在各種領(lǐng)域，尤其是液晶顯示裝置，因具有體型輕薄、低功率消耗及無(wú)輻射等優(yōu)越特性，已經(jīng)漸漸地取代傳統(tǒng)陰極射線(xiàn)管顯示裝置，而應(yīng)用至許多種類(lèi)的電子產(chǎn)品中，例如移動(dòng)電話(huà)、便攜式多媒體裝置、筆記本電腦、液晶電視及液晶屏眷等等。
[0003]目前液晶顯示裝置的制造業(yè)者在提升薄膜電晶體液晶顯示裝置(TFTIXD)的廣視角技術(shù)上，已跨入利用光配向(Photo-alignment)技術(shù)來(lái)控制液晶分子的配置方向，藉此提高液晶顯示裝置的光學(xué)性能與良率。其中，光配向技術(shù)是使用一紫外光源照射在一基板的一高分子薄膜(配向膜)上，使薄膜表面上的高分子結(jié)構(gòu)發(fā)生不均勻性的光聚合、異構(gòu)化或裂解反應(yīng)，誘使薄膜表面上的化學(xué)鍵結(jié)構(gòu)產(chǎn)生特殊的方向性，以進(jìn)一步誘導(dǎo)液晶分子順向排列，而達(dá)到光配向的目的。其中，光配向技術(shù)所使用的光配向光源系統(tǒng)(或稱(chēng)偏光曝光系統(tǒng),Polarization exposure optical system)為設(shè)備成本中最高的部分。然而,現(xiàn)有的光配向光源系統(tǒng)的設(shè)計(jì)都是一組曝光機(jī)(可具有一支或多支的紫外光燈管)搭配一個(gè)基板平臺(tái)(Substrate stage)來(lái)進(jìn)行曝光作業(yè)(基板平臺(tái)是承載玻璃基板)，因此,光配向工藝的工站時(shí)間(Tact time)都浪費(fèi)在基板的非真正曝光時(shí)間上，例如浪費(fèi)在基板的交換、基板的對(duì)準(zhǔn)或基板曝光角度的調(diào)整工作上，造成曝光機(jī)無(wú)法被充分、有效地利用，導(dǎo)致為了增加產(chǎn)能時(shí)，需投資更多的光配向光源系統(tǒng)及廠房設(shè)置空間，使得生產(chǎn)線(xiàn)建置成本相對(duì)增加很多，造成液晶顯示裝置的生產(chǎn)成本提高而使得產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力下降。
[0004]因此，如何提供一種光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝，可有效利用光配向光源系統(tǒng)而降低光配向工藝的工站時(shí)間，以降低設(shè)備設(shè)置成本而提升產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力，已成為重要課
題之一。`

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的為提供一種可有效利用光配向光源系統(tǒng)而降低光配向工藝的工站時(shí)間，以降低設(shè)備設(shè)置成本而提升產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力的光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝。
[0006]為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種光配向光源系統(tǒng)是對(duì)一第一基板及一第二基板進(jìn)行光配向工藝，并包括一傳輸裝置以及一光源模塊。傳輸裝置移動(dòng)第一基板及第二基板。光源模塊具有至少一發(fā)光元件，當(dāng)傳輸裝置移動(dòng)第一基板及第二基板經(jīng)過(guò)光源模塊時(shí)，發(fā)光元件對(duì)第一基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，及發(fā)光元件對(duì)第二基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光。其中，于進(jìn)行第一基板的第一次曝光及第二基板的第一次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反，或者于進(jìn)行第一基板的第二次曝光及第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反。[0007]在一實(shí)施例中，發(fā)光兀件發(fā)出的光線(xiàn)為一偏振光線(xiàn)。
[0008]在一實(shí)施例中，于進(jìn)行第一基板的第二次曝光及第二基板的第一次曝光時(shí)，第一基板及第二基板同方向移動(dòng)。
[0009]在一實(shí)施例中，于進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光時(shí)，第一基板與第二基板是分別移動(dòng)或同時(shí)移動(dòng)。
[0010]在一實(shí)施例中，于進(jìn)行第一基板的第一次曝光時(shí)，第二基板進(jìn)行基板交換、對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)工作，于進(jìn)行第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板進(jìn)行基板交換、對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
[0011]在一實(shí)施例中，傳輸裝置為線(xiàn)型，并帶動(dòng)第一基板及第二基板線(xiàn)性移動(dòng)。
[0012]在一實(shí)施例中，光配向光源系統(tǒng)更包括至少一移動(dòng)平臺(tái)，其設(shè)置于傳輸裝置上。
[0013]在一實(shí)施例中，移動(dòng)平臺(tái)為一機(jī)械式平臺(tái)或一氣浮式平臺(tái)。
[0014]在一實(shí)施例中，該等移動(dòng)平臺(tái)為一第一移動(dòng)平臺(tái)及一第二移動(dòng)平臺(tái)，第一移動(dòng)平臺(tái)及第二移動(dòng)平臺(tái)分別承載第一基板及第二基板，傳輸裝置分別通過(guò)移動(dòng)第一移動(dòng)平臺(tái)及第二移動(dòng)平臺(tái)而移動(dòng)第一基板及第二基板。
[0015]在一實(shí)施例中，傳輸裝置包含一線(xiàn)性電機(jī)及一導(dǎo)軌，或一氣浮式移動(dòng)裝置。
[0016]在一實(shí)施例中，光配向光源系統(tǒng)更包括一第一基板裝載裝置及一第二基板裝載裝置，其分別設(shè)置于傳輸裝置的兩端，并分別裝載及卸載第一基板及第二基板。
[0017]為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種光配向工藝，其中一第一基板及一第二基板與一光配向光源系統(tǒng)配合，光配向光源系統(tǒng)包含一傳輸裝置及一光源模塊，光源模塊具有至少一發(fā)光元件，當(dāng)傳輸裝置移動(dòng)第一基板及第二基板經(jīng)過(guò)光源模塊時(shí)，發(fā)光元件對(duì)第一基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，及發(fā)光元件對(duì)第二基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，光配向工藝包括:傳輸裝置帶動(dòng)第一基板沿一第一方向移動(dòng)，以對(duì)第一基板進(jìn)行第一次曝光；傳輸裝置帶動(dòng)第一基板及第二基板分別沿一第二方向移動(dòng)，以對(duì)第一基板進(jìn)行第二次曝光，并對(duì)第二基板進(jìn)行第一次曝光；以及傳輸裝置帶動(dòng)第二基板沿第一方向移動(dòng)，以對(duì)第二基板進(jìn)行第二次曝光。
[0018]在一實(shí)施例中，第一方向與第二方向?yàn)橄喾捶较颉?br> [0019]在一實(shí)施例中，光配向工藝更包括:通過(guò)一第一基板裝載裝置于傳輸裝置的一端對(duì)第一基板進(jìn)行裝載及卸載；及通過(guò)一第二基板裝載裝置于傳輸裝置的另一端對(duì)第二基板進(jìn)行裝載及卸載。
[0020]在一實(shí)施例中，于進(jìn)行第一基板的第一次曝光時(shí)，第二基板進(jìn)行裝載及卸載，于進(jìn)行第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板進(jìn)行裝載及卸載。
[0021]在一實(shí)施例中，光配向工藝更包括分別對(duì)第一基板或第二基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
[0022]在一實(shí)施例中，第一基板進(jìn)行第一次曝光時(shí)，第二基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
[0023]在一實(shí)施例中，第二基板進(jìn)行第二次曝光時(shí)，第一基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
[0024]承上所述，因依據(jù)本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝中，傳輸裝置可移動(dòng)第一基板及第二基板，且光源模塊于進(jìn)行第一基板的第一次曝光及第二基板的第一次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反?；蛘?，光源模塊于進(jìn)行第一基板的第二次曝光及第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向亦相反。藉此，使得本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝可有效利用光配向光源系統(tǒng)的光源模塊而降低光配向工藝的工站時(shí)間，以降低設(shè)備設(shè)置成本而提升產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1A至圖1F分別為本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光配向光源系統(tǒng)的示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光配向工藝的步驟流程圖；以及
[0027]圖3為本發(fā)明另一實(shí)施態(tài)樣的光配向光源系統(tǒng)的示意圖。
[0028]附圖標(biāo)記
[0029]l、la:光配向光源系統(tǒng)
[0030]IlUla:傳輸裝置
[0031]12、12a、12b:光源模塊
[0032]121:發(fā)光元件
[0033]Dl:第一方向
[0034]D2:第 二方向
[0035]Pl:第一移動(dòng)平臺(tái)
[0036]P2:第二移動(dòng)平臺(tái)
[0037]P3:第三移動(dòng)平臺(tái)
[0038]P4:第四移動(dòng)平臺(tái)
[0039]P5:第五移動(dòng)平臺(tái)
[0040]SOl ?S05:步驟
[0041]S1:第一基板
[0042]S2:第二基板
[0043]S3:第三基板
[0044]S4:第四基板
[0045]S5:第五基板
【具體實(shí)施方式】
[0046]以下將參照相關(guān)圖式，說(shuō)明依本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝，其中相同的元件將以相同的參照符號(hào)加以說(shuō)明。
[0047]本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)可應(yīng)用于平面切換(in-plane switch, IPS)式液晶顯示裝置、邊緣電場(chǎng)切換(fringe field switching, FFS)式液晶顯示裝置、垂直配向模態(tài)(vertical alignment mode, VA mode)液晶顯示裝置或3D液晶顯示裝置的光配向工藝。
[0048]請(qǐng)參照?qǐng)D1A至圖1F所示，其分別為本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光配向光源系統(tǒng)I的示意圖。
[0049]光配向光源系統(tǒng)I可對(duì)一第一基板SI及一第二基板S2進(jìn)行光配向工藝。于此，并非限定只可對(duì)二塊基板進(jìn)行光配向工藝，當(dāng)然，光配向光源系統(tǒng)I也可通過(guò)基板交換裝置進(jìn)行基板的交換而對(duì)更多基板進(jìn)行光配向工藝。[0050]如圖1A所示，光配向光源系統(tǒng)I包括一傳輸裝置11以及一光源模塊12。其中，傳輸裝置11可例如包含一線(xiàn)性電機(jī)及一導(dǎo)軌，或包含一氣浮式(Air floating)基板移動(dòng)裝置。于此，傳輸裝置11為一機(jī)械式傳輸裝置，并包含線(xiàn)性電機(jī)及線(xiàn)性導(dǎo)軌為例(圖未顯示)。另外，光配向光源系統(tǒng)I更可包括至少一移動(dòng)平臺(tái)設(shè)置于傳輸裝置11上。其中，移動(dòng)平臺(tái)可為一機(jī)械式平臺(tái)或一氣浮式平臺(tái)(Air floating stage,以吹氣的方式移動(dòng)基板)。于此，如圖1A所示，光配向光源系統(tǒng)I是以具有兩移動(dòng)平臺(tái)(一第一移動(dòng)平臺(tái)Pl及一第二移動(dòng)平臺(tái)P2)，并分別為機(jī)械式移動(dòng)平臺(tái)為例。第一移動(dòng)平臺(tái)Pl及第二移動(dòng)平臺(tái)P2設(shè)置于傳輸裝置11上。其中，第一移動(dòng)平臺(tái)Pl及第二移動(dòng)平臺(tái)P2可分別對(duì)應(yīng)承載第一基板SI及第二基板S2，且傳輸裝置11可通過(guò)帶動(dòng)第一移動(dòng)平臺(tái)Pl及第二移動(dòng)平臺(tái)P2移動(dòng)而移動(dòng)第一基板SI及第二基板S2。在本實(shí)施例中，傳輸裝置11為線(xiàn)型，并可帶動(dòng)第一移動(dòng)平臺(tái)P1、第一基板SI及第二移動(dòng)平臺(tái)P2、第二基板S2線(xiàn)性移動(dòng)，且可同時(shí)或分別移動(dòng)第一基板SI第二基板S2。
[0051]光源模塊12具有至少一發(fā)光兀件121,于此,光源模塊12是以具有多個(gè)發(fā)光兀件121為例(圖中并未顯示有多少數(shù)量的發(fā)光元件121，可為一、二或三…，視工藝的需求而定)。其中，發(fā)光兀件121可為一燈管,而燈管發(fā)出的光線(xiàn)為一偏振光線(xiàn),偏振光可使第一基板SI或第二基板S2上的配向膜(材料例如為聚亞酰胺，polyimide，PI)的分子結(jié)構(gòu)發(fā)生不均勻性的光聚合、異構(gòu)化或裂解反應(yīng)，誘使配向膜表面上的化學(xué)鍵結(jié)構(gòu)產(chǎn)生特殊的方向性，以進(jìn)一步誘導(dǎo)液晶分子可順向排列而達(dá)到光配向的目的。另外，光源模塊12更可具有多個(gè)偏光片(圖未顯示)，光線(xiàn)通過(guò)該等偏光片后可形成一平行光，以均勻照射在第一基板SI或第二基板S2上。當(dāng)傳輸裝置11移動(dòng)第一基板SI及第二基板S2分別經(jīng)過(guò)光源模塊12時(shí)，發(fā)光兀件121所發(fā)出的偏振光可對(duì)第一基板SI分別進(jìn)行第一次曝光工藝及第二次曝光工藝，并對(duì)第二基板S2分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光。換言之，本實(shí)施例的第一基板SI或第二基板S2需各經(jīng)兩次曝光工藝，以完成其光配向工藝。于此，第一基板SI或第二基板S2通過(guò)光源12模塊時(shí)，該等發(fā)光元件121發(fā)出的光線(xiàn)照射第一基板SI或第二基板S2的配向膜，即為上 述所謂的“曝光”工藝。
[0052]另外，光配向光源系統(tǒng)I更可包括一第一基板裝載裝置及一第二基板裝載裝置(圖未顯示)，第一基板裝載裝置及第二基板裝載裝置可例如包含一機(jī)械手臂，并設(shè)置于傳輸裝置11的兩端，以分別夾持以將第一基板SI及第二基板S2裝載及卸載(load/unload)。換言之，第一基板裝載裝置可進(jìn)行第一基板SI的基板裝載及卸載等工作，而第二基板裝載裝置可進(jìn)行第二基板S2的基板裝載及卸載工作。于此，裝載是例如以機(jī)械手臂夾持一尚未進(jìn)行光配向工藝的基板置放于移動(dòng)平臺(tái)上，而卸載是指夾持已完成光配向工藝的基板離開(kāi)移動(dòng)平臺(tái)。另外，當(dāng)?shù)谝换錝I或第二基板S2裝載完成后，可對(duì)第一基板SI或第二基板S2進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)等曝光準(zhǔn)備工作。
[0053]以下，請(qǐng)分別參照?qǐng)D1A至圖1F及圖2所示，以詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的光配向工藝的流程。其中，圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光配向工藝的步驟流程圖。
[0054]本發(fā)明的光配向工藝可包括步驟SOl~步驟S03。
[0055]不過(guò)，于進(jìn)行步驟SOl之前，首先，如圖1A所示，需通過(guò)第一基板裝載裝置于傳輸裝置11的一端對(duì)第一基板Si進(jìn)行裝載，并通過(guò)一第二基板裝載裝置于傳輸裝置11的另一端對(duì)第二基板S2進(jìn)行裝載，以將第一基板SI置放于第一移動(dòng)平臺(tái)Pl上，并將第二基板S2置放于第二移動(dòng)平臺(tái)P2上。另外，裝載完成后，如果工藝需要的話(huà)，也可對(duì)第一基板SI或第二基板S2進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)等工作，以完成曝光前的準(zhǔn)備。
[0056]接著，再執(zhí)行步驟S01，如圖1B所示，傳輸裝置11帶動(dòng)第一基板SI沿一第一方向Dl移動(dòng)，以對(duì)第一基板SI進(jìn)行第一次曝光。此時(shí),第一基板SI單獨(dú)移動(dòng),而第二基板S2不移動(dòng)。如圖1C所示，第一基板SI線(xiàn)性移動(dòng)至第二基板S2的旁邊，使得第一基板SI及第二基板S2均位于傳輸裝置11的一側(cè)(圖1C是以右側(cè)為例)。
[0057]接著，執(zhí)行步驟S02，如圖1D所示，傳輸裝置11帶動(dòng)第一基板SI及第二基板S2沿一第二方向D2移動(dòng)，以對(duì)第一基板SI進(jìn)行第二次曝光,并對(duì)第二基板S2進(jìn)行第一次曝光。換言之，當(dāng)進(jìn)行第一基板SI的第二次曝光及第二基板S2的第一次曝光時(shí)，第一基板SI及第二基板S2是同時(shí)往第二方向D2移動(dòng)。其中，第一方向Dl與第二方向D2為相反的方向。如圖1E所示，第一基板SI及第二基板S2是分別移動(dòng)至傳輸裝置11的另一側(cè)(圖1E是以左側(cè)為例)。在本實(shí)施例中，第一方向Dl為圖示中的右側(cè)方向，而第二方向D2為圖示中的左側(cè)方向，當(dāng)然也可相反。
[0058]再來(lái)，執(zhí)行步驟S03，如圖1F所示，傳輸裝置11帶動(dòng)第二基板S2沿第一方向Dl移動(dòng)，以對(duì)第二基板S2進(jìn)行第二次曝光。于此，因于步驟S02中，第一基板SI已完成二次的曝光工藝，故于執(zhí)行步驟S03的第二基板S2的第二次曝光的同時(shí)，第二基板S2是單獨(dú)移動(dòng)，此時(shí)，第一基板SI可進(jìn)行基板的卸載，并裝載另一第一基板SI于第一移動(dòng)平臺(tái)Pl上。另夕卜，第一基板SI也可再進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)等工作，以完成曝光前的準(zhǔn)備。此時(shí)，可參照?qǐng)D1A所示，第二基板S2完成第二次曝光后，是位于傳輸裝置11的右側(cè)。
[0059]由于步驟S03中，第二基板S2進(jìn)行第二次曝光的同時(shí)，第一基板SI已完成曝光前的準(zhǔn)備工作，因此，可再重復(fù)圖1B至圖1F的流程，使另一第一基板SI沿第一方向Dl移動(dòng)，以對(duì)另一第一基板SI進(jìn)行第一次曝光工作。于此,于進(jìn)行另一第一基板SI的第一次曝光時(shí)，因第二基板S2已完成二次曝光的工藝，故第二基板S2也可進(jìn)行基板交換(卸載及裝載另一第二基板S2)、對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)等曝光前準(zhǔn)備工作。
[0060]因此，于本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)I及光配向工藝中，如圖1B及圖1D所示，于進(jìn)行第一基板SI的第一次曝光(往第一方向Dl移動(dòng))及第二基板S2的第一次曝光(往第二方向D2移動(dòng))時(shí)，第一基板SI及第二基板S2的移動(dòng)方向相反。
[0061]另外，如圖1D及圖1F所示，于進(jìn)行第一基板SI的第二次曝光(往第二方向D2移動(dòng))及第二基板S2的第二次曝光(往第一方向Dl移動(dòng))時(shí)，第一基板SI與第二基板S2的移動(dòng)方向亦相反。換言之，于進(jìn)行第一次曝光時(shí)，第一基板SI與第二基板S2的移動(dòng)方向相反，且于進(jìn)行第二次曝光時(shí)，第一基板SI與第二基板S2的移動(dòng)方向亦相反。
[0062]此外，如圖1B及圖1F所示，進(jìn)行第一基板SI的第一次曝光及第二基板S2的第二次曝光時(shí)，第一基板S I與第二基板S2均往第一方向Dl移動(dòng),且為分別移動(dòng)。另外,如圖1D所不,進(jìn)行第一基板SI的第二次曝光及第二基板S2的第一次曝光時(shí),第一基板SI與第二基板S2均往第二方向D2移動(dòng)，且為同時(shí)移動(dòng)。
[0063]承上，于本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)I及光配向工藝中，傳輸裝置11可移動(dòng)第一基板SI及第二基板S2,且光源模塊12于進(jìn)行第一基板SI的第一次曝光及第二基板S2的第一次曝光時(shí)，第一基板SI及第二基板S2的移動(dòng)方向相反。或者，光源模塊12于進(jìn)行第一基板SI的第二次曝光及第二基板S2的第二次曝光時(shí)，第一基板SI及第二基板S2的移動(dòng)方向亦相反。藉此，使得本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)I及光配向工藝可有效利用光配向光源系統(tǒng)I的光源模塊12而降低光配向工藝的工站時(shí)間(Tact time),以降低設(shè)備設(shè)置成本而提升產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0064]另外，請(qǐng)參照?qǐng)D3所示，其為本發(fā)明另一實(shí)施態(tài)樣的光配向光源系統(tǒng)Ia的示意圖。
[0065]在本實(shí)施態(tài)樣中，與光配向光源系統(tǒng)I主要的不同在于，光配向光源系統(tǒng)Ia具有的傳輸裝置Ila是圍設(shè)成環(huán)狀，且光配向光源系統(tǒng)Ia具有第一移動(dòng)平臺(tái)Pl?第五移動(dòng)平臺(tái)P5，并可分別對(duì)應(yīng)承載第一基板SI?第五基板S5。當(dāng)然并不以此為限，也可因應(yīng)工藝需求而配置高于5組或小于5組的移動(dòng)平臺(tái)及基板。在本實(shí)施例中，傳輸裝置Ila可通過(guò)帶動(dòng)第一移動(dòng)平臺(tái)Pl?第五移動(dòng)平臺(tái)P5移動(dòng)而移動(dòng)第一基板SI?第五基板S5通過(guò)光源模塊12a、12b。于此，移動(dòng)方向是以順時(shí)針為例，當(dāng)然也可逆時(shí)針移動(dòng)。
[0066]如圖3所示，當(dāng)一基板通過(guò)光源模塊12a時(shí)，光源模塊12a的該等發(fā)光元件121所發(fā)出的光線(xiàn)可照射該基板，此為該基板的第一次曝光工藝。當(dāng)該基板移動(dòng)而通過(guò)光源模塊12b時(shí)，光源模塊12b的該等發(fā)光元件121所發(fā)出的光線(xiàn)照射該基板，此為該基板的第二次曝光工藝。如此，可完成該基板的光配向工藝。
[0067]以第一基板SI為例，當(dāng)?shù)谝换錝I完成裝載工作后(基板交換)，第一基板SI可進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)等曝光前的準(zhǔn)備工作，接著逆時(shí)針?lè)较蛞佬蛲ㄟ^(guò)光源模塊12a、12b，以完成兩次的曝光工藝。其中，當(dāng)?shù)谝换錝I移動(dòng)至圖3的第二基板S2處時(shí)，此時(shí)第二基板S2已同時(shí)移動(dòng)至光源模塊12a處,依此類(lèi)推,第五基板P5可移動(dòng)至原第一基板SI處。由于第五基板S5已完成光配向(二次曝光)工藝,故可于原第一基板SI位置處進(jìn)行基板卸載及裝載等基板交換工作。換言之，當(dāng)圖3的第一基板SI移動(dòng)至下一位置時(shí)，第五基板S5也可同時(shí)移動(dòng)至原第一基板SI處，以進(jìn)行基板交換等工作。
[0068]綜上所述，因依據(jù)本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝中，傳輸裝置可移動(dòng)第一基板及第二基板，且光源模塊于進(jìn)行第一基板的第一次曝光及第二基板的第一次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向相反?；蛘撸庠茨K于進(jìn)行第一基板的第二次曝光及第二基板的第二次曝光時(shí)，第一基板及第二基板的移動(dòng)方向亦相反。藉此，使得本發(fā)明的光配向光源系統(tǒng)及光配向工藝可有效利用光配向光源系統(tǒng)的光源模塊而降低光配向工藝的工站時(shí)間，以降低設(shè)備設(shè)置成本而提升產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0069]以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對(duì)其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于權(quán)利要求書(shū)的范圍中。
【權(quán)利要求】
1.一種光配向光源系統(tǒng)，對(duì)一第一基板及一第二基板進(jìn)行光配向工藝，其特征在于，所述光配向光源系統(tǒng)包括: 一傳輸裝置，移動(dòng)所述第一基板及所述第二基板；以及 一光源模塊，具有至少一發(fā)光元件，當(dāng)所述傳輸裝置移動(dòng)所述第一基板及所述第二基板經(jīng)過(guò)所述光源模塊時(shí)，所述發(fā)光元件對(duì)所述第一基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，及所述發(fā)光元件對(duì)所述第二基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光， 其中，于進(jìn)行所述第一基板的第一次曝光及所述第二基板的第一次曝光時(shí)，所述第一基板及所述第二基板的移動(dòng)方向相反，或者于進(jìn)行所述第一基板的第二次曝光及所述第二基板的第二次曝光時(shí)，所述第一基板及所述第二基板的移動(dòng)方向相反。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述發(fā)光元件發(fā)出的光線(xiàn)為一偏振光線(xiàn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，于進(jìn)行所述第一基板的第二次曝光及所述第二基板的第一次曝光時(shí)，所述第一基板及所述第二基板同方向移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，于進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光時(shí)，所述第一基板與所述第二基板是分別移動(dòng)或同時(shí)移動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，于進(jìn)行所述第一基板的第一次曝光時(shí)，所述第二基板進(jìn)行基板交換、對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)工作，于進(jìn)行所述第二基板的第二次曝光時(shí)，所述第一基板進(jìn)行基板交換、對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述傳輸裝置為線(xiàn)型，并帶動(dòng)所述第一基板及所述第二基板線(xiàn)性移動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述光配向光源系統(tǒng)更包括: 至少一移動(dòng)平臺(tái)，設(shè)置于所述傳輸裝置上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述移動(dòng)平臺(tái)為一機(jī)械式平臺(tái)或一氣浮式平臺(tái)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述移動(dòng)平臺(tái)為一第一移動(dòng)平臺(tái)及一第二移動(dòng)平臺(tái)，所述第一移動(dòng)平臺(tái)及所述第二移動(dòng)平臺(tái)分別承載所述第一基板及所述第二基板，所述傳輸裝置分別通過(guò)移動(dòng)所述第一移動(dòng)平臺(tái)及所述第二移動(dòng)平臺(tái)而移動(dòng)所述第一基板及所述第二基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述傳輸裝置包含一線(xiàn)性電機(jī)及一導(dǎo)軌，或一氣浮式移動(dòng)裝置。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向光源系統(tǒng)，其特征在于，所述光配向光源系統(tǒng)更包括: 一第一基板裝載裝置及一第二基板裝載裝置，分別設(shè)置于所述傳輸裝置的兩端，并分別裝載及卸載所述第一基板及所述第二基板。
12.一種光配向工藝，其特征在于，一第一基板及一第二基板與一光配向光源系統(tǒng)配合，所述光配向光源系統(tǒng)包含一傳輸裝置及一光源模塊，所述光源模塊具有至少一發(fā)光元件，當(dāng)所述傳輸裝置移動(dòng)所述第一基板及所述第二基板經(jīng)過(guò)所述光源模塊時(shí)，所述發(fā)光元件對(duì)所述第一基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，及所述發(fā)光元件對(duì)所述第二基板分別進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光，所述光配向工藝包括:所述傳輸裝置帶動(dòng)所述第一基板沿一第一方向移動(dòng)，以對(duì)所述第一基板進(jìn)行第一次曝光; 所述傳輸裝置帶動(dòng)所述第一基板及所述第二基板沿一第二方向移動(dòng)，以對(duì)所述第一基板進(jìn)行第二次曝光，并對(duì)所述第二基板進(jìn)行第一次曝光；以及 所述傳輸裝置帶動(dòng)所述第二基板沿所述第一方向移動(dòng)，以對(duì)所述第二基板進(jìn)行第二次曝光。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光配向工藝，其特征在于，所述第一方向與所述第二方向?yàn)橄喾捶较颉?br> 14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光配向工藝，其特征在于，于進(jìn)行第一次曝光及第二次曝光時(shí)，所述第一基板與所述第二基板是分別移動(dòng)或同時(shí)移動(dòng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光配向工藝，其特征在于，所述光配向工藝更包括: 通過(guò)一第一基板裝載裝置于所述傳輸裝置的一端對(duì)所述第一基板進(jìn)行裝載及卸載；及 通過(guò)一第二基板裝載裝置于所述傳輸裝置的另一端對(duì)所述第二基板進(jìn)行裝載及卸載。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光配向工藝，其特征在于，于進(jìn)行所述第一基板的第一次曝光時(shí)，所述第二基板進(jìn)行裝載及卸載，于進(jìn)行所述第二基板的第二次曝光時(shí)，所述第一基板進(jìn)行裝載及卸載。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光配向工藝，其特征在于，所述光配向工藝更包括: 分別對(duì)所述第一基板或所述第二基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)?！?br> 18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光配向工藝，其特征在于，于所述第一基板進(jìn)行第一次曝光時(shí)，所述第二基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光配向工藝，其特征在于，于所述第二基板進(jìn)行第二次曝光時(shí)，所述第一基板進(jìn)行基板對(duì)準(zhǔn)及曝光角度旋轉(zhuǎn)。
20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光配向工藝,其特征在于,所述傳輸裝置包含一線(xiàn)性電機(jī)及一導(dǎo)軌，或一氣浮式移動(dòng)裝置。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK103852938SQ201210524064
【公開(kāi)日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2012年12月7日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月7日
【發(fā)明者】高克毅, 陳贊仁, 李建興 申請(qǐng)人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司