專(zhuān)利名稱(chēng)：屏幕及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及屏幕及其制造方法。
背景技術(shù)：
以往，已知對(duì)從投影機(jī)等的投影型顯示裝置投影的投影光以屏幕進(jìn)行反射而使圖像進(jìn)行顯示的屏幕。在專(zhuān)利文獻(xiàn)I中，公開(kāi)了如下屏幕:呈凹形狀，具有排列于平面上的多個(gè)凹面部，隨著離開(kāi)平面或平面的延伸面上的基準(zhǔn)點(diǎn)，使以基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的放射方向上的凹面部的間距增大而使凹面部排列。由此，能夠使來(lái)自投影機(jī)的光以適當(dāng)?shù)慕嵌确植几咝У叵蛘嫘羞M(jìn)，可得到高亮度且高對(duì)比度的圖像。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2010— 96883號(hào)公報(bào)
公開(kāi)于專(zhuān)利文獻(xiàn)I的屏幕為了使來(lái)自投影機(jī)的投影光高效地反射到正面方向，在形成于屏幕上的各凹面部的特定位置形成包括金屬薄膜的反射膜。投影機(jī)例如相對(duì)于屏幕置于下方，來(lái)自那里的投影光通過(guò)屏幕面朝向正面進(jìn)行反射。在專(zhuān)利文獻(xiàn)I公開(kāi)了:為了使該投影光高效地向正面行進(jìn)、且減少來(lái)自外部的光的反射，在屏幕的凹面部比的中心附近靠上的位置形成反射膜。
在此，為了來(lái)自投影機(jī)的投影光高效地反射到圖像觀看者側(cè)、進(jìn)而可得到對(duì)比度高的圖像，形成于凹面部和/或凹面部的特定位置的反射膜相對(duì)于屏幕的程度方向的中心軸和/或從投影機(jī)投影的投影光的光軸必需高精度地形成。
期望具有如此高的光學(xué)性能、且廉價(jià)的屏幕及可以容易地制造如此的屏幕的屏幕的制造方法。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決所述的問(wèn)題的至少一部分而作出，可以作為以下的方式或應(yīng)用例而實(shí)現(xiàn)。
應(yīng)用例I本應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:使投影光反射而在顯示區(qū)域進(jìn)行顯示；具備屏幕基體材料；所述屏幕基體材料在屏幕坯料的一方的面形成凹面形狀或凸面形狀；在對(duì)應(yīng)于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述屏幕基體材料的任一個(gè)面，具備由形成于轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層轉(zhuǎn)印形成的金屬反射膜。
根據(jù)如此的屏幕，能夠使來(lái)自投影機(jī)等的投影光以金屬反射膜進(jìn)行反射、高效地行進(jìn)到圖像觀看者側(cè)。
并且，因?yàn)樾纬捎谄聊换w材料的顯示區(qū)域內(nèi)的金屬反射膜由形成于轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層轉(zhuǎn)印形成，所以能夠不依賴(lài)于采用現(xiàn)有的蒸鍍裝置的斜向蒸鍍法地連續(xù)而容易地形成，能夠更加廉價(jià)地提供屏幕。
應(yīng)用例2所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:在對(duì)應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的未轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜的部位形成反射降低膜。
根據(jù)如此的屏幕，能夠降低來(lái)自投影機(jī)的投影光以外的來(lái)自周?chē)耐夤獾姆瓷?，能夠廉價(jià)地提供對(duì)比度更高的屏幕。
應(yīng)用例3所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:在對(duì)應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述金屬反射膜上的一部分形成反射降低膜。
根據(jù)如此的屏幕，能夠降低來(lái)自投影機(jī)的投影光以外的來(lái)自周?chē)耐夤獾姆瓷?，能夠廉價(jià)地提供對(duì)比度更高的屏幕。
應(yīng)用例4所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:在所述顯示區(qū)域內(nèi)的凸面形狀的大致中心，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。
根據(jù)如此的屏幕，即使在投影機(jī)與圖像觀看者的眼睛的位置為基本相同的高度或設(shè)置于圖像觀看者的后方的環(huán)境條件下，也能夠廉價(jià)地提供更加明亮的對(duì)比度高的屏幕。
應(yīng)用例5所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:所述屏幕基體材料包括光不透射基體材料。
根據(jù)如此的屏幕，能夠?qū)?lái)自投影機(jī)的投影光以外的來(lái)自周?chē)耐夤膺M(jìn)行吸收，能夠廉價(jià)地提供對(duì)比度更高的屏幕。
應(yīng)用例6所述應(yīng)用例I涉及的屏幕其特征在于:所述屏幕基體材料為光透射基體材料，在相對(duì)于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或凸面形狀的中心的背面的位置，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。
根據(jù)如此的屏幕，在與圖像觀看者的眼睛的高度基本相同的高度存在投影機(jī)且在圖像觀看者的后方不存在照明的環(huán)境下，位于圖像觀看者和/或屏幕的上方的照明等的外光透射屏幕基體材料，并且無(wú)用的外光反射光減少。因此，能夠容易地提供高效地反射從投影機(jī)發(fā)出的投影光、具備有明亮的顯示性能的更廉價(jià)的屏幕。并且，所述的反射降低膜也變得不需要。
應(yīng)用例7所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:對(duì)所述金屬反射膜進(jìn)行保護(hù)的保護(hù)膜與所述金屬反射膜同時(shí)轉(zhuǎn)印形成。
如果為如此的屏幕，則能夠防止空氣中的水分等成為原因的反射率的變差。并且，能夠廉價(jià)提供保護(hù)膜能夠容易地制造、難以弄臟的長(zhǎng)壽命的商品性高的屏幕。
應(yīng)用例8所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:所述金屬反射膜為鋁薄膜。
根據(jù)如此的屏幕，來(lái)自投影機(jī)等的投影光的反射率在可見(jiàn)光區(qū)域中約為80%以上，能夠提供顯示特性近于自然色、無(wú)著色、表面亮度更高、廉價(jià)的屏幕。
應(yīng)用例9所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:所述屏幕坯料包括硬質(zhì)氯乙烯樹(shù)脂。
如果為如此的屏幕，則能夠提供熱成型溫度為150°C 190°C程度相比而言比較低、成型性又好、形成金屬反射膜的表面的表面粗糙度也小的屏幕基體材料。并且，能夠提供相對(duì)于金屬反射膜的緊貼性方面也優(yōu)異、長(zhǎng)壽命的屏幕。而且，也不會(huì)產(chǎn)生卷摺。即，通過(guò)具備卷收機(jī)構(gòu)，能夠提供具有更小型的收置方式的屏幕。
應(yīng)用例10所述應(yīng)用例涉及的屏幕其特征在于:所述反射降低膜包括黑色樹(shù)脂涂料的固態(tài)物。
如果為如此的屏幕，則位于圖像觀看者的上方的照明等的外光的反射光強(qiáng)度進(jìn)一步降低，無(wú)用的外光反射光不會(huì)進(jìn)入圖像觀看者的眼睛。因此，能夠容易地提供從投影機(jī)發(fā)出的投影光高效地反射到圖像觀看者、具備有明亮的顯示性能的屏幕。
應(yīng)用例11本應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:所述屏幕使投影光反射而在顯示區(qū)域進(jìn)行顯示，所述屏幕的制造方法包括反射膜轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序，所述反射膜轉(zhuǎn)印工序在屏幕坯料的任一個(gè)面，通過(guò)轉(zhuǎn)印箔至少轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜；所述基體材料變形工序在所述屏幕坯料的任一個(gè)面，通過(guò)平面模具使凹面形狀或凸面形狀成型并形成屏幕基體材料。
如果為如此的屏幕，則能夠不依賴(lài)于作為金屬反射膜的形成方法之一例的金屬材料的蒸鍍法地更加廉價(jià)地制造與蒸鍍膜為同等的高反射率的反射膜。并且，通過(guò)預(yù)先在大面積的轉(zhuǎn)印箔形成金屬反射層，能夠?qū)崿F(xiàn)屏幕制造成本大幅度的削減。
應(yīng)用例12所述應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:同時(shí)進(jìn)行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序和所述基體材料變形工序。
如果為如此的屏幕的制造方法，則能夠與屏幕基體材料的基體材料變形工序同時(shí)進(jìn)行反射膜形成工序。其結(jié)果，能夠?qū)崿F(xiàn)屏幕制造的加工費(fèi)用的大幅度的削減，能夠更廉價(jià)地制造屏眷。
應(yīng)用例13所述應(yīng)用例的涉及屏幕的制造方法其特征在于:進(jìn)一步具有在所述屏幕基體材料的任一個(gè)面形成反射降低膜的反射降低膜形成工序。
如果為如此的屏幕的制造方法，則因?yàn)榘ㄐ纬煞瓷浣档湍さ墓ば?，所以能夠制造?duì)比度更高的屏幕。
應(yīng)用例14所述應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:同時(shí)進(jìn)行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序、所述基體材料變形工序和所述反射降低膜形成工序。
如果為如此的屏幕的制造方法，則能夠更廉價(jià)地制造屏幕。
應(yīng)用例15所述應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:包括位置對(duì)齊工序，該位置對(duì)齊工序使所述平面模具與所述轉(zhuǎn)印箔的位置對(duì)齊，以使得形成于對(duì)應(yīng)于在所述基體材料變形工序中使用的所述平面模具的面上的至少2個(gè)以上的隅角的位置的位置標(biāo)記與形成于對(duì)應(yīng)于成為對(duì)所述金屬反射膜進(jìn)行轉(zhuǎn)印的基體的所述轉(zhuǎn)印箔上的至少2個(gè)以上的隅角的位置的位置標(biāo)記相重疊。
如果為如此的屏幕的制造方法，則能夠在轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層或屏幕上的各個(gè)凹面形狀或凸面形狀的預(yù)期的位置自如且可靠地形成金屬反射膜。
更具體地，對(duì)轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層或熱熔融粘接層預(yù)先采用印刷法、光刻法等進(jìn)行精細(xì)圖形化加工。如此地制造的大面積轉(zhuǎn)印箔加工費(fèi)用低廉。通過(guò)使如此的轉(zhuǎn)印箔的位置標(biāo)記與平面模具的位置標(biāo)記重疊地進(jìn)行位置對(duì)齊、進(jìn)行作為屏幕基體材料的基體材料變形工序之一例的加熱壓接，能夠在屏幕基體材料上預(yù)期的位置形成金屬反射膜。其結(jié)果，能夠?qū)崿F(xiàn)屏幕制造的加工費(fèi)用大幅度的削減。
應(yīng)用例16所述應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:所述基體材料變形工序及所述反射膜轉(zhuǎn)印工序包含加熱壓接工序。
如果為如此的屏幕的制造方法，則能夠與屏幕基體材料的基體材料變形工序同時(shí)進(jìn)行反射膜形成工序。其結(jié)果，能夠?qū)崿F(xiàn)屏幕制造的加工費(fèi)用的大幅度的削減。
應(yīng)用例17所述應(yīng)用例涉及的屏幕的制造方法其特征在于:包括反射降低劑的噴霧工序。
如果為如此的屏幕的制造方法，則不用擔(dān)心損傷形成于屏幕的一個(gè)面的凹面形狀和/或凸面形狀，能夠通過(guò)損傷等的防止提高外觀成品率。并且，因?yàn)榘济嫘螤詈?或凸面形狀不會(huì)損傷，所以能夠?qū)?lái)自投影機(jī)等的投影光高效地進(jìn)行反射。


圖1是實(shí)施方式涉及的屏幕S的I簡(jiǎn)要剖面圖。
圖2是實(shí)施方式涉及的屏幕S2的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖3是實(shí)施方式涉及的屏幕S3的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖4是實(shí)施方式涉及的屏幕S4的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖5是實(shí)施方式涉及的屏幕S5的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖6是實(shí)施方式涉及的屏幕S6的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖7是實(shí)施方式涉及的反射膜轉(zhuǎn)印工序的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖8是實(shí)施方式涉及的基板變形工序的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖9是實(shí)施方式涉及的反射降低膜形成工序的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖10是實(shí)施方式涉及的反射膜形成及基板變形工序的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖11是實(shí)施方式涉及的反射降低膜形成工序的簡(jiǎn)要剖面圖。
圖12是實(shí)施方式涉及的反射膜形成及基板變形工序的簡(jiǎn)要圖。
圖13是表示實(shí)施方式涉及的屏幕SI的光的行進(jìn)路徑的圖。
圖14是表示實(shí)施方式涉及的屏幕S4的光的行進(jìn)路徑的圖。
圖15是表示實(shí)施方式涉及的對(duì)齊標(biāo)記與判別標(biāo)記之一例的俯視圖。
圖16是表示標(biāo)記實(shí)施方式涉及的對(duì)齊標(biāo)記與判別標(biāo)記的記載的位置的斜視圖。
圖17是表示實(shí)施 方式涉及的屏幕SI S4的凹面形狀或凸面形狀的排列位置的圖。
圖18是表示實(shí)施方式涉及的屏幕S5 S6的凹面形狀或凸面形狀的排列位置的圖。
圖19是同時(shí)進(jìn)行反射膜轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序的工序的簡(jiǎn)要圖。
圖20是印刷形成有反射降低層的帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔的概念圖。
圖21是同時(shí)進(jìn)行金屬反射層和金屬反射層的保護(hù)層和反射降低層的轉(zhuǎn)印的工序的簡(jiǎn)要圖。
符號(hào)說(shuō)明
1…帶凹凸屏幕基體材料，100a...凹面形狀，100b...凸面形狀，2…金屬反射膜，3…保護(hù)膜，4...反射降低膜,5...熱熔融粘接層,6...粘接層,7...金屬反射層,8...保護(hù)層,9...上壓盤(pán)，10...下壓盤(pán)，11...屏幕還料，12...轉(zhuǎn)印箔基體材料，13...凸平模具，14...噴霧裝置，15…凹平模具，16…投影機(jī),17…轉(zhuǎn)印箔，18…屏幕還料，19…轉(zhuǎn)印箔，19a、19b、19c、19d...孔，20...屏幕中間體，21...排列位置，22...帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔，23...反射降低層，la、lb、lc、Id…判定標(biāo)記，1S、2S、3S、4S、5S、6S…屏幕，A、B、C、D、E…行進(jìn)路徑。
具體實(shí)施方式
對(duì)以下的實(shí)施方式參照附圖進(jìn)行說(shuō)明。
在本實(shí)施方式中，以附圖的上側(cè)為鉛直線方向的上側(cè)(上部)，以附圖的下側(cè)為鉛直線方向的下側(cè)(下部)進(jìn)行說(shuō)明。
圖1 圖6作為使用狀態(tài)之一例示出屏幕投影面延伸于鉛直線方向地豎立、在作為投影面方向的圖的右側(cè)方向配置有圖像觀看者(觀看者)及投影機(jī)的狀態(tài)。
實(shí)施方式I
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖1是示意性地表示本實(shí)施方式涉及的屏幕SI的剖面的圖。
如示于圖1地，屏幕SI具備作為屏幕基體材料的帶凹凸屏幕基體材料1，帶凹凸屏幕基體材料I在包括光不透射基體材料的屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凹面形狀I(lǐng)OOa0
在各凹面形狀I(lǐng)OOa的表面整個(gè)區(qū)域形成金屬反射膜2。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。并且，在形成于帶凹凸屏幕基體材料I的各凹面形狀I(lǐng)OOa的一部分形成反射降低膜4。
屏幕坯料11包括硬質(zhì)氯乙烯。另外，也可以采用聚乙烯、聚丙烯、苯乙烯樹(shù)脂、丁二烯樹(shù)脂、異丁烯樹(shù)脂、氯乙烯、聚酰胺、聚縮醛、聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、甲基戊烯、丁酯戊烯、聚碳酸酯等的熱塑性樹(shù)脂。
形成于屏幕坯料11的凹面形狀I(lǐng)OOa如示于圖17地，以相對(duì)于屏幕SI設(shè)置于下部的點(diǎn)為中心，沿著圓弧狀的排列位置21而形成。凹面形狀I(lǐng)OOa的曲率半徑例如為100 μ m程度。在圖17中，概念性地以開(kāi)有間隔的線表示凹面形狀I(lǐng)OOa的排列位置21。實(shí)際的排列位置21的圓弧接近，通過(guò)相鄰凹面形狀I(lǐng)OOa彼此形成的棱線的對(duì)角方向的距離的最小值例如為100 μ m程度。
金屬反射膜2用于使入射于屏幕SI的光其中主要來(lái)自投影機(jī)的光反射而形成。金屬反射膜2包括厚度約0.1 μ m的鋁蒸鍍膜。另外也可以為銀等的蒸鍍膜、光學(xué)多層膜。
保護(hù)膜3用于對(duì)金屬反射膜2的表面進(jìn)行保護(hù)而形成。保護(hù)膜3包括60重量份的厚度為2 μ m的聚甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂和40重量份的特氟隆(注冊(cè)商標(biāo))粉的混合物。并且，其他的熱塑性樹(shù)脂例如環(huán)氧樹(shù)脂等能夠使用。另一方面，作為其他的耐摩擦劑也能夠使用聚乙烯粉、天然蠟、合成蠟等。并且，也可以采用氧化硅、氧化鋁等的薄膜。
反射降低膜4用于降低入射于屏幕SI的光其中尤其是來(lái)自投影機(jī)的光以外的光(所謂的外光)反射到圖像觀看者側(cè)而形成。在本實(shí)施方式中，反射降低膜4通過(guò)具備對(duì)入射進(jìn)來(lái)的光進(jìn)行吸收的性質(zhì)，結(jié)果性地使反射降低。反射降低膜4包括厚度2 μ m的丙烯酸樹(shù)脂粘合劑和碳微粒的混合物。也可以采用其他的樹(shù)脂例如聚酰胺樹(shù)脂、聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯等的樹(shù)脂作為粘合劑。除了碳微粒之外，也可以采用黑色顏料微粒。
圖13是表示投影機(jī)16的投影光及外光入射于屏幕SI的情況下的光的行進(jìn)路徑的概念圖。在圖13中，來(lái)自相對(duì)于屏幕SI置于下方的投影機(jī)16的投影光之中的通過(guò)行進(jìn)路徑A的光在凹面形狀I(lǐng)OOa內(nèi)由金屬反射膜2反射，通過(guò)行進(jìn)路徑B行進(jìn)到觀看者側(cè)。另一方面，來(lái)自設(shè)置于房間的天花板的照明裝置等的外光相對(duì)于屏幕SI從上方照射。從而，在屏幕SI的凹面形狀I(lǐng)OOa的表面，外光入射于對(duì)置于照明裝置的下側(cè)的面。沿著行進(jìn)路徑C入射于帶凹凸屏幕基體材料I的外光通過(guò)形成于其入射的位置的反射降低膜4被吸收，反射光的強(qiáng)度變得極小，不向觀看者側(cè)行進(jìn)。
(屏幕的制造方法)
關(guān)于記載于圖1的屏幕SI的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。
在本實(shí)施方式中，屏幕SI經(jīng)由反射膜轉(zhuǎn)印工序、基體材料變形工序、反射降低膜形成工序而制造。
在圖7表示反射膜轉(zhuǎn)印工序的簡(jiǎn)要圖。
反射膜轉(zhuǎn)印工序通過(guò)在位于上部的上壓盤(pán)9和位于下部的下壓盤(pán)10之間重疊夾置屏幕坯料11和轉(zhuǎn)印箔17進(jìn)行加熱壓接而進(jìn)行轉(zhuǎn)印。
如示于圖7地，在預(yù)先加熱了的下壓盤(pán)10的基本平坦的面的頂面設(shè)置屏幕坯料11，進(jìn)而在屏幕坯料11的頂面設(shè)置轉(zhuǎn)印箔17。
轉(zhuǎn)印箔17為20 μ程度的厚度的按轉(zhuǎn)印箔基體材料12、粘接層6、金屬反射層7的保護(hù)層8、金屬反射層7及熱熔融粘接層5的順序疊層的疊層體。這些層分別為低于μ 幾μ的層，以金屬的連續(xù)蒸鍍法或樹(shù)脂材料的涂敷法、印刷涂覆法等疊層于轉(zhuǎn)印箔基體材料12的一個(gè)面(表面)上而形成。
在屏幕坯料11的頂面設(shè)置轉(zhuǎn)印箔17的情況下，屏幕坯料11的頂面與熱熔融粘接層5對(duì)置，未疊層轉(zhuǎn)印箔基體材料12的另一方的面與上壓盤(pán)9的基本平坦的面對(duì)置。
將如此地進(jìn)行了設(shè)置的各構(gòu)件采用加熱過(guò)的上壓盤(pán)9和下壓盤(pán)10進(jìn)行加熱壓接。熱熔融粘接層5由于熱而熔融、金屬反射層7和保護(hù)層8轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11。該工序相當(dāng)于加熱壓接工序。
因?yàn)闅埩粲谵D(zhuǎn)印箔基體材料12的表面上的粘接層6由于加熱壓接失去粘接功能，所以從轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11的保護(hù)膜3剝離轉(zhuǎn)印箔基體材料12。如此一來(lái)，形成轉(zhuǎn)印有金屬反射膜2及保護(hù)膜3的屏幕坯料18。
還有，在本實(shí)施方式中，以150°C 160°C進(jìn)行加熱壓接。
在圖8表不基體材料變形工序的簡(jiǎn)要圖。
基體材料變形工序在位于上部的上壓盤(pán)9和位于下部的下壓盤(pán)10之間，重疊夾置一方的面基本平坦而對(duì)置的另一面為凹凸形狀的平板狀的凸平模具13和所述的屏幕坯料18，通過(guò)邊加熱邊施加壓力在屏幕坯料18的任一個(gè)面形成凹面形狀。
如示于圖8地，在下壓盤(pán)10的基本平坦的面的頂面，凸平模具13的一方的面設(shè)置為與下壓盤(pán)10對(duì)置。
接下來(lái)，將所述的屏幕坯料18設(shè)置于預(yù)先加熱過(guò)的凸平模具13的頂面，以使得屏幕坯料11與上壓盤(pán)9的基本平坦的面對(duì)置、保護(hù)膜3與凸平模具13對(duì)置。之后采用進(jìn)行了加熱的上壓盤(pán)9和下壓盤(pán)10進(jìn)行加熱壓接。該工序相當(dāng)于加熱壓接工序。
通過(guò)該基體材料變形工序，進(jìn)行屏幕坯料11的成型和保護(hù)膜3及金屬反射膜2的變形，可得到在一方的面形成有凹面形狀的屏幕中間體20。
在圖9表示反射降低膜形成工序的簡(jiǎn)要圖。
反射降低膜形成工序在作為屏幕基體材料的屏幕中間體20，進(jìn)行反射降低劑的噴霧工序，形成反射降低膜。
如圖示于9地，將屏幕中間體20設(shè)置為，例如帶凹凸屏幕基體材料I成為下側(cè)，保護(hù)膜3及金屬反射膜2成為上側(cè)，長(zhǎng)度方向沿著水平方向。在圖9中，屏幕中間體20載置為，在屏幕SI的示于圖1的使用狀態(tài)下，成為鉛直線方向的上側(cè)的部位成為附圖中左側(cè)，成為下側(cè)的部位成為附圖中右側(cè)。
被填充到噴霧裝置14的反射降低劑，在從附圖中左側(cè)噴射之后通過(guò)行進(jìn)路徑E，噴霧涂敷于屏幕中間體20上。之后固化而形成反射降低膜4。
反射降低劑通過(guò)相對(duì)于屏幕中間體20的凹面形狀I(lǐng)OOa的形成面傾斜行進(jìn)的行進(jìn)路徑E，從圖中左上方的斜向方向噴霧。通過(guò)行進(jìn)路徑E噴霧的反射降低劑受位于凹面形狀I(lǐng)OOa的端部的凸部阻礙，涂敷不到凹面形狀I(lǐng)OOa的基本左半部分的部位。若換言之，則位于凹面形狀I(lǐng)OOa的端部的凸部遮蔽涂敷的反射降低劑，反射降低劑僅涂敷到在圖1中相當(dāng)于下部的凹面形狀I(lǐng)OOa的基本右半部分的部位。如此一來(lái)提供示于圖1的屏幕SI。
實(shí)施方式2
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式2涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
本實(shí)施方式涉及的屏幕的結(jié)構(gòu)與實(shí)施方式I相同。
(屏幕的制造方法)
雖然在所述的實(shí)施方式I中，屏幕SI經(jīng)由反射膜轉(zhuǎn)印工序、基體材料變形工序、反射降低膜形成工序而制造，但是在本實(shí)施方式中，同時(shí)進(jìn)行反射膜轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序。
在圖19,表不同時(shí)進(jìn)行反射I旲轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序的工序的簡(jiǎn)要圖。
如示于圖19地，在預(yù)先加熱過(guò)的下壓盤(pán)10上，凸平模具13的基本平坦的一方的面設(shè)置為與下壓盤(pán)10對(duì)置。
而且在凸平模具13的頂面，對(duì)轉(zhuǎn)印箔17進(jìn)行設(shè)置，以使得轉(zhuǎn)印箔基體材料12的未疊層的另一方的面與凸平模具13對(duì)置。在轉(zhuǎn)印箔17的頂面，對(duì)屏幕坯料11進(jìn)行設(shè)置，以使得與熱熔融粘接層5對(duì)置。
轉(zhuǎn)印箔17為與實(shí)施方式I相同的疊層體。在本實(shí)施方式2中，使實(shí)施方式I的反射膜轉(zhuǎn)印工序(參照?qǐng)D7)的設(shè)置方向上下反轉(zhuǎn)而設(shè)置，將如此地進(jìn)行了設(shè)置的各構(gòu)件采用加熱過(guò)的上壓盤(pán)9和下壓盤(pán)10進(jìn)行加熱壓接。于是，熱熔融粘接層5由于熱而熔融、金屬反射層7和保護(hù)層8轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11。與轉(zhuǎn)印同時(shí)通過(guò)凸平模具13進(jìn)行屏幕坯料11的變形。
S卩，屏幕坯料11的成型和保護(hù)層8 (保護(hù)膜3)及金屬反射層7 (金屬反射膜2)的變形同時(shí)進(jìn)行。在進(jìn)行了加熱壓接之后，將轉(zhuǎn)印箔基體材料12從轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11的保護(hù)膜3進(jìn)行剝離。如此一來(lái)，可得到屏幕中間體20。
然后，與實(shí)施方式I同樣地形成反射降低膜4并得到屏幕SI。
實(shí)施方式3
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式3涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
本實(shí)施方式涉及的屏幕的結(jié)構(gòu)與實(shí)施方式I相同。
(屏幕的制造方法)
在本實(shí)施方式中，代替在實(shí)施方式I中使用的轉(zhuǎn)印箔17，采用追加印刷有反射降低層23的帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔22同時(shí)進(jìn)行反射膜轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序。由此，與反射膜轉(zhuǎn)印工序及基體材料變形工序同時(shí)進(jìn)行所述的反射降低層形成工序。
圖20是印刷形成有反射降低層23的帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔22的概念圖。帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔22為以下疊層體:與實(shí)施方式I同樣地，在20 μ程度的厚度的轉(zhuǎn)印箔基體材料12形成熱熔融粘接層5、金屬反射層7、金屬反射層7的保護(hù)層8，另外印刷形成有反射降低層23。
而且，在帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔22，還印刷有對(duì)齊標(biāo)記。采用該對(duì)齊標(biāo)記和判別標(biāo)記進(jìn)行位置對(duì)齊。關(guān)于對(duì)齊標(biāo)記和/或位置對(duì)齊的詳情后述。
如示于圖21地，在本實(shí)施方式中，采用帶反射降低層轉(zhuǎn)印箔22與實(shí)施方式2 (參照?qǐng)D19)同樣地進(jìn)行加熱壓接。通過(guò)如此的方法，金屬反射層7、金屬反射層7的保護(hù)層8及反射降低層23的轉(zhuǎn)印與屏幕坯料11的成型同時(shí)進(jìn)行，而且保護(hù)層8 (保護(hù)膜3)、金屬反射層7 (金屬反射膜2)及反射降低層23的變形也同時(shí)進(jìn)行。
實(shí)施方式4
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式4涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖2是示意性地表示本實(shí)施方式涉及的屏幕S2的剖面的圖。
如示于圖2地，屏幕S2的帶凹凸屏幕基體材料I與屏幕SI同樣地，在屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凹面形狀100a。
在各凹面形狀I(lǐng)OOa的表面，金屬反射膜2形成于凹面形狀I(lǐng)OOa的上側(cè)的部分。這是因?yàn)?，?lái)自相對(duì)于屏幕S2置于下方的投影機(jī)16的投影光在凹面形狀I(lǐng)OOa的表面入射到對(duì)置于投影機(jī)16的上側(cè)的面，所以使該入射光朝向圖像觀看者反射。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。
并且，在各凹面形狀I(lǐng)OOa的表面未轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜2的部位形成反射降低膜4。在本實(shí)施方式中，反射降低膜4雖然也可以具有對(duì)光進(jìn)行吸收的功能，但是也可以?xún)H具有防止反射的功能。具有反射防止功能的反射降低膜4例如以聚四氟乙烯甲基丙烯酸甲酯等的高分子化合物而形成。
入射到本實(shí)施方式涉及的屏幕S2的來(lái)自投影機(jī)的投影光與所述的實(shí)施方式涉及的屏幕SI同樣地，朝向圖像觀看者反射。另一方面，外光在反射降低膜4具有對(duì)光進(jìn)行吸收的功能的情況下在彼處被吸收，在反射降低膜4僅具有反射防止功能的情況下對(duì)其透射，通過(guò)包括光不透射基體材料的屏幕坯料11吸收。
(屏幕的制造方法)
在圖10表示反射膜形成工序及基體材料變形工序的簡(jiǎn)要圖。
在本實(shí)施方式中，代替在實(shí)施方式2中使用的轉(zhuǎn)印箔17，采用散布金屬反射層7、保護(hù)層8、粘接層6的轉(zhuǎn)印箔19同時(shí)進(jìn)行反射膜轉(zhuǎn)印工序和基體材料變形工序。由此，與反射膜轉(zhuǎn)印工序及基體材料變形工序同時(shí)進(jìn)行所述的反射降低層形成工序。
如示于圖10地，在預(yù)先加熱過(guò)的下壓盤(pán)10的基本平坦的平面上，凸平模具13的基本平坦的一方的面設(shè)置為與下壓盤(pán)10對(duì)置，進(jìn)而在凸平模具13的頂面，對(duì)轉(zhuǎn)印箔19進(jìn)行設(shè)置，以使得轉(zhuǎn)印箔基體材料12未疊層的另一面與凸平模具13的頂面對(duì)置。
轉(zhuǎn)印箔19為20 μ程度的厚度的、轉(zhuǎn)印箔基體材料12、粘接層6、金屬反射層7的保護(hù)層8、金屬反射層7及熱熔融粘接層5的疊層體。金屬反射層7、保護(hù)層8及粘接層6事前如下地圖形化而散布存在:形成于屏幕坯料11表面的凹面形狀I(lǐng)OOa的配置位置及各自的凹面形狀I(lǐng)OOa內(nèi)預(yù)期的金屬反射膜2的轉(zhuǎn)印位置相一致。各個(gè)層如所述地厚度為低于μ 幾μ，以金屬鋁的連續(xù)蒸鍍法或樹(shù)脂材料的涂敷法、印刷涂覆法、光刻法等精細(xì)加工。
在轉(zhuǎn)印箔19的頂面屏幕坯料11設(shè)置為對(duì)置。
對(duì)于如此地進(jìn)行了設(shè)置的各構(gòu)件，采用加熱過(guò)的上壓盤(pán)9和下壓盤(pán)10進(jìn)行加熱壓接。
熱熔融粘接層5由于熱而熔融、金屬反射層7和保護(hù)層8轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11的預(yù)期的位置而成型(變形)。在進(jìn)行了加熱壓接之后，將轉(zhuǎn)印箔基體材料12從轉(zhuǎn)印到帶凹凸屏幕基體材料I的金屬反射膜2的保護(hù)膜3進(jìn)行剝離。如此一來(lái)，形成屏幕S2的屏幕中間體20。
在此，需要使凸平模具13的凹面形狀I(lǐng)OOa的形成位置和散布于轉(zhuǎn)印箔19的金屬反射層7的位置精密地位置對(duì)齊。接下來(lái)關(guān)于該位置對(duì)齊工序利用圖15、16進(jìn)行說(shuō)明。
圖15是表示使凸平模具13和轉(zhuǎn)印箔19重疊時(shí)呈現(xiàn)于隅角的對(duì)齊標(biāo)記和判別標(biāo)記之一例的俯視圖，圖16是表示在凸平模具13的頂面設(shè)置轉(zhuǎn)印箔19時(shí)的對(duì)齊標(biāo)記和判別標(biāo)記的記載的位置的斜視圖的簡(jiǎn)要圖。
如示于圖16地，在凸平模具13的頂面，在重疊設(shè)置轉(zhuǎn)印箔19的情況下，在轉(zhuǎn)印箔19的4個(gè)隅角形成4個(gè)將如示于圖15的圓形四等分所成的扇形形狀的孔19a、19b、19c、19d。
這4個(gè)扇形形狀的孔19a、19b、19c、19d,與通過(guò)圓形中心、俯視成為十字的均勻的寬度的轉(zhuǎn)印箔基體材料12相接而設(shè)置。以下將該形狀稱(chēng)為對(duì)齊標(biāo)記。
散布于轉(zhuǎn)印箔19內(nèi)的金屬反射層7等的配置分布以所述的對(duì)齊標(biāo)記為基準(zhǔn)而形成。
另一方面，在凸平模具13的4個(gè)隅角，形成如示于圖15的L字狀的判別標(biāo)記la、IbUcUd0形成于凸平模具13的凸形狀決定以所述的判別標(biāo)記la、lb、lc、ld為基準(zhǔn)形成的排列位置。
S卩，通過(guò)所述的對(duì)齊標(biāo)記的孔19a、19b、19c、19d與判別標(biāo)記la、lb、lc、Id重疊地使凸平模具13和轉(zhuǎn)印箔19的位置對(duì)齊，能夠在帶凹凸屏幕基體材料I的預(yù)期的位置，形成金屬反射膜2和保護(hù)膜3。
本實(shí)施方式的對(duì)齊標(biāo)記(孔19a、19b、19c、19d)和判別標(biāo)記la、lb、lc、Id相當(dāng)于位置標(biāo)記。
形成于屏幕S2形成的反射降低膜4因?yàn)槟軌蚺c記載為所述的屏幕SI的制造方法的方法同樣地形成，所以反射降低膜形成工序的說(shuō)明進(jìn)行省略。
實(shí)施方式5
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式5涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖3是示意性地表示屏幕S3的剖面的圖。
如示于圖3地，屏幕S3的帶凹凸屏幕基體材料I在屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凸面形狀100b。形成的凸面形狀I(lǐng)OOb的俯視配置與屏幕SI的凹面形狀I(lǐng)OOa相同。
在各凸面形狀I(lǐng)OOb的表面，在對(duì)置于相對(duì)于屏幕置于下方的投影機(jī)的下側(cè)的部分形成金屬反射膜2。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。并且，在各凸面形狀I(lǐng)OOb的表面，在未轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜2的部位形成反射降低膜4。
在投影機(jī)的投影光及外光入射于屏幕S3的情況下，來(lái)自設(shè)置于屏幕S3的下部的投影機(jī)的投影光以凸面形狀I(lǐng)OOb的金屬反射膜2反射而行進(jìn)向觀看者側(cè)。另一方面，入射于反射降低膜4的外光的反射光的強(qiáng)度變得極小，不向觀看者側(cè)行進(jìn)。該情形因?yàn)榕c實(shí)施方式的屏幕SI和/或S2的情況相同所以詳細(xì)的說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的制造方法)
屏幕S3的制造方法相對(duì)于所述的實(shí)施方式涉及的屏幕S2的制造方法，不同為采用凹平模具代替凸平模具13。因而，關(guān)于反射膜轉(zhuǎn)印工序及基體材料變形工序的說(shuō)明進(jìn)行省略。
所述實(shí)施方式的凸平模具及本實(shí)施方式的凹平模具相當(dāng)于平面模具。
接下來(lái)，關(guān)于反射降低膜形成工序進(jìn)行說(shuō)明。
圖11是表示本實(shí)施方式的反射降低膜形成工序的剖面圖。
與所述的實(shí)施方式I的屏幕中間體20同樣地設(shè)置屏幕中間體20。在圖11中，屏幕中間體20載置為:在屏幕S3的示于圖3的使用狀態(tài)下，成為鉛直線方向的上側(cè)的部位成為附圖中左側(cè)，成為下側(cè)的部位成為附圖中右側(cè)。
被填充到噴霧裝置14的反射降低劑在從附圖中左側(cè)噴射后通過(guò)行進(jìn)路徑E，噴霧涂敷于屏幕中間體20上。此后固化并形成反射降低膜4。
反射降低劑通過(guò)相對(duì)于屏幕中間體20的凸面形狀I(lǐng)OOb的形成面傾斜進(jìn)行的行進(jìn)路徑E，從附圖中左上方的斜向方向噴霧。通過(guò)行進(jìn)路徑E噴霧的反射降低劑因?yàn)橥姑嫘螤領(lǐng)OOb為凸形狀，所以受位于凸面形狀I(lǐng)OOb的中央的凸部阻礙而涂敷不到凸面形狀I(lǐng)OOb的基本右半部分的部位。若換言之，則凸面形狀I(lǐng)OOb表面的基本左半部分的部位遮蔽反射降低劑，反射降低劑未能涂敷凸面形狀I(lǐng)OOb表面的基本右半部分的部位，僅涂敷圖3中位于上部的凸面形狀I(lǐng)OOb表面的基本左半部分的部位。如此一來(lái)可提供示于圖3的屏幕S3。
實(shí)施方式6
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式6涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖4是示意性地表示本實(shí)施方式涉及的屏幕S4的剖面的圖。
如示于圖4地，屏幕S4的帶凹凸屏幕基體材料I與屏幕S3同樣地，在屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凸面形狀100b。
并且，在各凸面形狀I(lǐng)OOb的形成面的中心附近形成金屬反射膜2。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。
圖14是表示投影機(jī)的投影光及外光入射于屏幕S4的情況下的光的行進(jìn)路徑的概念圖。在圖14中，投影機(jī)置于觀看者的視線高度的后方。來(lái)自投影機(jī)16的投影光通過(guò)行進(jìn)路徑A，以形成于帶凹凸屏幕基體材料I上的凸面形狀I(lǐng)OOb的中心附近的金屬反射膜2反射，并通過(guò)行進(jìn)路徑B行進(jìn)向觀看者側(cè)。
另一方面，外光通過(guò)行進(jìn)路徑C入射于帶凹凸屏幕基體材料1，并入射于所述的凸面形狀I(lǐng)OOb間的谷部，反射光極少向觀看者方向行進(jìn)。
(屏幕的制造方法)
關(guān)于屏幕S4的制造方法，與屏幕S3的制造方法相同，僅金屬反射膜2及保護(hù)膜3的轉(zhuǎn)印位置不同。因此詳細(xì)的說(shuō)明進(jìn)行省略。
如以上地，在實(shí)施方式2 5涉及的屏幕SI S4中，存在能夠同時(shí)進(jìn)行使屏幕坯料11的形狀成型的基板變形工序和將形成于轉(zhuǎn)印箔17、19的金屬反射膜轉(zhuǎn)印到屏幕坯料11的反射膜轉(zhuǎn)印工序的優(yōu)點(diǎn)。
實(shí)施方式7
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式7涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖5是示意性地表示本實(shí)施方式涉及的屏幕S5的剖面的圖。
如示于圖5地，屏幕S5的帶凹凸屏幕基體材料I在包括光透射性樹(shù)脂的屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凸面形狀100b。在相對(duì)于各凸面形狀I(lǐng)OOb的中心附近的背面?zhèn)鹊奈恢眯纬山饘俜瓷淠?。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。
關(guān)于形成于屏幕坯料11的凸面形狀I(lǐng)OOb的排列間距進(jìn)行說(shuō)明。
如示于圖18地，凸面形狀I(lǐng)OOb沿著相對(duì)于如圖5地設(shè)置的屏幕S5延伸于水平方向在垂直方向并排的直線狀的排列位置21而形成。在圖18中，概念性地以線表示凸面形狀I(lǐng)OOb的排列位置21。
關(guān)于投影機(jī)的投影光及外光入射于屏幕S5的情況下的光的行進(jìn)路徑參考圖5進(jìn)行說(shuō)明。投影機(jī)按觀看者的視線的高度置于后方。來(lái)自投影機(jī)的投影光通過(guò)具有光透射性的帶凹凸屏幕基體材料1，以金屬反射膜2反射，再次通過(guò)帶凹凸屏幕基體材料1，行進(jìn)向觀看者側(cè)。
另一方面，從屏幕S5的斜上方入射于凸面形狀I(lǐng)OOb的形成面的外光之中，通過(guò)具有光透射性的帶凹凸屏幕基體材料I并通過(guò)相鄰的金屬反射膜2之間的光因?yàn)槊撾x凸面形狀I(lǐng)OOb形成面的對(duì)置面，所以反射光極少向觀看者方向行進(jìn)。
(屏幕的制造方法)
關(guān)于屏幕S5的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。
屏幕S5的制造方法相對(duì)于所述的實(shí)施方式涉及的屏幕SI 4的制造方法，金屬反射膜2及保護(hù)膜3的轉(zhuǎn)印形成面不同。并且，通過(guò)采用包括光透射性樹(shù)脂的屏幕坯料11省略反射降低膜形成工序。
在圖12，表示實(shí)施方式涉及的反射膜形成工序及基體材料變形工序的簡(jiǎn)要圖。
如示于圖12地，在預(yù)先加熱過(guò)的下壓盤(pán)10上，凹平模具15的基本平坦的一方的面設(shè)置為與下壓盤(pán)10對(duì)置。
而且，在凹平模具15的頂面，夾著屏幕坯料11，轉(zhuǎn)印箔19設(shè)置為，熱熔融粘接層5與屏幕坯料11對(duì)置。
轉(zhuǎn)印箔19如所述地，為轉(zhuǎn)印箔基體材料12、粘接層6、保護(hù)層8、金屬反射層7及熱熔融粘接層5的疊層體。這些層事前預(yù)先如下地圖形化而散布存在:與屏幕S5表面的凸面形狀I(lǐng)OOb的配置位置及各自的凸面形狀I(lǐng)OOb內(nèi)的預(yù)期的金屬反射膜2的位置相一致。
將如此地進(jìn)行了設(shè)置的各構(gòu)件采用加熱過(guò)的上壓盤(pán)9和下壓盤(pán)10進(jìn)行加熱壓接。然后，將轉(zhuǎn)印箔基體材料12從轉(zhuǎn)印到帶凹凸屏幕基體材料I的保護(hù)膜3進(jìn)行剝離。如此一來(lái)，形成屏幕S5。
實(shí)施方式8
接下來(lái)，關(guān)于實(shí)施方式8涉及的屏幕及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于與所述的實(shí)施方式重復(fù)的內(nèi)容將說(shuō)明進(jìn)行省略。
(屏幕的結(jié)構(gòu))
圖6是示意性地表示本實(shí)施方式涉及的屏幕S6的剖面的圖。
屏幕S6的帶凹凸屏幕基體材料I在包括光透射性樹(shù)脂的屏幕坯料11的一方的面形成有多個(gè)凹面形狀100a。在相對(duì)于各凹面形狀I(lǐng)OOa的中心附近的背面?zhèn)鹊奈恢眯纬山饘俜瓷淠?。而且，在金屬反射膜2的表面形成保護(hù)膜3。凹面形狀I(lǐng)OOa的屏幕坯料11中的俯視配置與屏幕S5相同。
關(guān)于投影機(jī)的投影光及外光入射于屏幕S6的情況下的光的行進(jìn)路徑參考圖6進(jìn)行說(shuō)明。投影機(jī)按觀看者的視線高度置于后方。來(lái)自投影機(jī)的投影光通過(guò)具有光透射性的帶凹凸屏幕基體材料1，以金屬反射膜2反射，再次通過(guò)帶凹凸屏幕基體材料1，行進(jìn)向觀看者側(cè)。
另一方面，從屏幕S6的斜上方入射于凹面形狀I(lǐng)OOa的形成面的外光之中，通過(guò)具有光透射性的帶凹凸屏幕基體材料I并通過(guò)相鄰的金屬反射膜2之間的光因?yàn)槊撾x凹面形狀I(lǐng)OOa形成面的對(duì)置面，所以反射光極少向觀看者方向行進(jìn)。
(屏幕的制造方法)
屏幕S6的制造方法相對(duì)于所述的實(shí)施方式涉及的屏幕S5的制造方法，不同為采用凸平模具代替凹平模具15。因而，詳細(xì)的說(shuō)明進(jìn)行省略。
形成于屏幕S5及屏幕S6的帶凹凸屏幕基體材料I的背面的金屬反射層7的轉(zhuǎn)印形成位置雖然位于各個(gè)屏幕S5、S6的凹面形狀I(lǐng)OOa的中心或凸面形狀I(lǐng)OOb的中心而形成，但是關(guān)于該位置對(duì)齊的方法，通過(guò)采用作為所述的位置標(biāo)記的對(duì)齊標(biāo)記及判別標(biāo)記能夠達(dá)到。
根據(jù)所述的實(shí)施方式，在屏幕SI S6中，因?yàn)閷?duì)應(yīng)于帶凹凸屏幕基體材料I上的凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜2，所以能夠使來(lái)自投影機(jī)16的投影光以金屬反射膜2反射，使其高效地行進(jìn)向觀看者側(cè)。
并且，因?yàn)閷?duì)應(yīng)于凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb而形成反射降低膜4，所以外光其反射光的強(qiáng)度變得極小，能夠使其不向觀看者側(cè)行進(jìn)。
而且，通過(guò)在帶凹凸屏幕基體材料I采用光不透射性樹(shù)脂，能夠使外光高效地被屏幕坯料11吸收，進(jìn)入不了觀看者的眼睛。
進(jìn)而，通過(guò)在帶凹凸屏幕基體材料I采用光透射性樹(shù)脂，能夠使外光高效地向屏幕的背側(cè)透射，進(jìn)入不了觀看者的眼睛。
并且，如果金屬反射膜2為鋁薄膜，則能夠使來(lái)自投影機(jī)的投影光高效地行進(jìn)到觀看者的眼睛。
根據(jù)所述的屏幕SI S6的制造方法，能夠使帶凹凸屏幕基體材料I的凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb的形成和金屬反射層7及保護(hù)層8的變形同時(shí)進(jìn)行。而且，能夠與形成凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb的基板變形工序同時(shí)地，進(jìn)行轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜2的反射膜轉(zhuǎn)印工序。由此，能夠提供通過(guò)現(xiàn)有的作為在凹面形狀或凸面形狀形成金屬反射膜的工序公知的基于金屬的真空蒸鍍所實(shí)現(xiàn)的方法無(wú)法達(dá)到的高效率的制造方法。
而且，通過(guò)在凸平模具13賦予判別標(biāo)記及在轉(zhuǎn)印箔19賦予對(duì)齊標(biāo)記，在轉(zhuǎn)印金屬反射膜2時(shí)，能夠使金屬反射膜2的位置和凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb的形成面的中心位置容易地對(duì)齊。
而且，容易在預(yù)期的位置進(jìn)行凹面形狀I(lǐng)OOa或凸面形狀I(lǐng)OOb的配置、相對(duì)于凹面形狀I(lǐng)OOa和/或凸面形狀I(lǐng)OOb的金屬反射膜2等的配置，能夠提供更廉價(jià)的屏幕。
權(quán)利要求
1.一種屏幕，其特征在于: 使投影光反射而在顯示區(qū)域進(jìn)行顯示； 具備屏.基體材料； 所述屏幕基體材料在屏幕坯料的一方的面形成凹面形狀或凸面形狀； 在對(duì)應(yīng)于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述屏幕基體材料的任一個(gè)面，具備由形成于轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層轉(zhuǎn)印形成的金屬反射膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于: 在對(duì)應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的未轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜的部位形成反射降低膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于: 在對(duì)應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述金屬反射膜上的一部分形成反射降低膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中的任一項(xiàng)所述的屏幕，其特征在于: 在所述顯示區(qū)域內(nèi)的凸面形狀的大致中心，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中的任一項(xiàng)所述的屏幕，其特征在于: 所述屏幕基體材料包括光不透射基體材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于: 所述屏幕基體材料為光透射基體材料，在相對(duì)于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或凸面形狀的中心的背面的位置，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中的任一項(xiàng)所述的屏幕，其特征在于: 對(duì)所述金屬反射膜進(jìn)行保護(hù)的保護(hù)膜與所述金屬反射膜同時(shí)轉(zhuǎn)印形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7中的任一項(xiàng)所述的屏幕，其特征在于: 所述金屬反射膜為鋁薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中的任一項(xiàng)所述的屏幕，其特征在于: 所述屏幕坯料包括硬質(zhì)氯乙烯樹(shù)脂。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的屏幕，其特征在于: 所述反射降低膜包括黑色樹(shù)脂涂料的固態(tài)物。
11.一種屏幕的制造方法，其特征在于: 所述屏幕使投影光反射而在顯示區(qū)域進(jìn)行顯示， 所述屏幕的制造方法包括以下工`序: 反射膜轉(zhuǎn)印工序，其在屏幕坯料的任一個(gè)面，通過(guò)轉(zhuǎn)印箔至少轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜；和基體材料變形工序，其在所述屏幕坯料的任一個(gè)面，通過(guò)平面模具使凹面形狀或凸面形狀成型并形成屏幕基體材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的屏幕的制造方法，其特征在于: 同時(shí)進(jìn)行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序和所述基體材料變形工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的屏幕的制造方法，其特征在于: 進(jìn)一步具有在所述屏幕基體材料的任一個(gè)面形成反射降低膜的反射降低膜形成工序。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的屏幕的制造方法，其特征在于: 同時(shí)進(jìn)行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序、所述基體材料變形工序和所述反射降低膜形成工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求11 14中任一項(xiàng)所述的屏幕的制造方法，其特征在于: 包括位置對(duì)齊工序，該位置對(duì)齊工序使所述平面模具與所述轉(zhuǎn)印箔的位置對(duì)齊，以使得形成于對(duì)應(yīng)于在所述基體材料變形工序中使用的所述平面模具的面上的至少2個(gè)以上的隅角的位置的位置標(biāo)記與形成于對(duì)應(yīng)于成為對(duì)所述金屬反射膜進(jìn)行轉(zhuǎn)印的基體的所述轉(zhuǎn)印箔上的至少2個(gè)以上的隅角的位置的位置標(biāo)記相重疊。
16.根據(jù)權(quán)利要求11 15中任一項(xiàng)所述的屏幕的制造方法，其特征在于: 所述基體材料變形工序及所述反射膜轉(zhuǎn)印工序包括加熱壓接工序。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的屏幕的制造方法，其特征在于:包括反射降低劑的噴霧工序。`
全文摘要
本發(fā)明涉及屏幕及其制造方法。根據(jù)本發(fā)明的屏幕，使來(lái)自投影機(jī)的光以適當(dāng)?shù)慕嵌确植几咝У叵蛘嫘羞M(jìn)，可廉價(jià)且容易地得到高亮度且高對(duì)比度的圖像。屏幕(S1)具有使投影光反射而進(jìn)行顯示的帶凹凸屏幕基體材料(1)，金屬反射膜(2)通過(guò)轉(zhuǎn)印箔(17)轉(zhuǎn)印形成，在金屬反射膜(2)的表面形成保護(hù)膜(3)。屏幕(S1)的制造方法包括將轉(zhuǎn)印箔(17)加熱轉(zhuǎn)印到屏幕坯料(11)的工序和形成屏幕坯料(11)的凹凸部的基板變形工序。
文檔編號(hào)G03B21/60GK103105721SQ20121039471
公開(kāi)日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月14日
發(fā)明者青木和雄, 北林雅志 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社