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一種取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法

文檔序號:2688579閱讀:192來源:國知局
專利名稱:一種取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示面板制造領(lǐng)域,尤其涉及一種取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法。
背景技術(shù)
一般而言,液晶顯示器的主體結(jié)構(gòu)包括相互對盒的陣列基板和彩膜基板、以及填充于陣列基板和彩膜基板之間的液晶。液晶顯示器工作時,可以利用作用在液晶分子兩端的電壓控制液晶分子的轉(zhuǎn)向,進而通過液晶分子折射率的各向異性使光線透過率發(fā)生變化并顯示圖像。為了使得液晶分子排列具有一致性,在陣列基板和彩膜基板的內(nèi)表面上均涂覆有取向膜。目前的取向技術(shù)通常是采用摩擦布按一定方向摩擦取向膜,在取向膜上形成具有一定取向的溝槽,最終固化該形成有溝槽的取向膜以形成取向?qū)印R壕Х肿釉陉嚵谢搴筒誓せ逯g位于一定的溝槽內(nèi),從而呈現(xiàn)均勻一致的排列。 但是由于制作工藝水平的限制以及必需的運輸存儲過程,使得摩擦布上會粘染許多灰塵或毛羽不牢。使用這樣的摩擦布來摩擦取向膜,極大地影響了取向膜的質(zhì)量,會對液晶分子的性能產(chǎn)生影響,最終導(dǎo)致液晶顯示器顯示不良。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供一種取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法,能夠在制備取向膜時清理摩擦布上的毛羽,提高制備的取向膜的質(zhì)量。為達到上述目的,本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案一方面,提供一種取向膜摩擦裝置,包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,其特征在于,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。另一方面,提供一種制備取向膜的方法,摩擦裝置包括至少一個摩擦棍,所述摩擦棍上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置;利用所述摩擦裝置制備所述取向膜的步驟,包括所述摩擦裝置的所述摩擦輥在取向膜上方轉(zhuǎn)動,使得所述摩擦輥上的所述第一毛羽摩擦取向膜;所述摩擦裝置的清理裝置清理所述摩擦輥上的所述第一毛羽。本實用發(fā)明實施例提供的取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法,取向膜摩擦裝置中包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。這樣一來,清理裝置可以清理第一毛羽由于長時間使用而造成脫落的毛羽或粘染的灰塵,從而減少了脫落的毛羽或沾染的灰塵對第一毛羽摩擦制備的取向膜的影響,保證了取向膜的質(zhì)量,進而保證了使用該取向膜的面板或顯示器最終的成像效果。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,可以對這些附圖做出合理的修改和變型。圖I為本發(fā)明實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明另一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖; 圖5為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖6為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖7為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖8為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖9為本發(fā)明又一實施例提供的摩擦裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所做出的合理的改動和變型,都屬于本發(fā)明保護的范圍。本發(fā)明實施例提供的取向膜摩擦裝置10,如圖I所示,包括至少一個摩擦輥101,摩擦輥101上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽102,且取向膜摩擦裝置10上還設(shè)置有用于清理第一毛羽102的清理裝置103。由于清理裝置103對第一毛羽102的清理作用,使得摩擦輥101上的灰塵、雜屑或者脫落的毛羽能夠?qū)崟r地被清除,提高了取向膜上溝槽的精準(zhǔn)度,提升了取向膜的質(zhì)量。值得指出的是,清理裝置103的具體結(jié)構(gòu)有多種可選的方案,只要能夠?qū)Φ谝幻?02起到清理作用即可,清理裝置103的位置也不以圖I中處于摩擦輥101上方為限定,也可以設(shè)置在多個摩擦輥101之間,或者也可以針對每個摩擦輥101在與每個摩擦輥101的任一相接觸位置設(shè)置一個清理裝置103等。可選地,如圖2所示,取向膜摩擦裝置10上還可以設(shè)置有第一摩擦布104,第一毛羽102可以設(shè)置在第一摩擦布104上。第一摩擦布104,可以使用尼龍等硬度較大的材料,優(yōu)選地,纏繞在摩擦輥101上的第一摩擦布104各處具有相同的厚度。第一毛羽102可以使用人造纖維或棉絨等材料,第一毛羽102的長度可以相等,但是由于第一毛羽102的長度增加可以增加摩擦強度,但是會降低形成的溝槽的排列均勻效果,因此可以將第一毛羽102的長度設(shè)置為逐漸增加或減少,而且第一毛羽102的長度的最大值與最小值之差小于或等于I. 5mm,這樣一來,可以保證第一毛羽102既具有較大的摩擦效果,又可以形成均勻的溝槽,對液晶分子具有較好的錨定作用。示例性地,如圖3所示,清理裝置103包括裝置本體1031,設(shè)置在裝置本體1031上的第二毛羽1032。進一步的,如圖4所示,第二摩擦布1033,設(shè)置在第二摩擦布1033上的第二毛羽1032,第二毛羽1032與第一毛羽102相接觸,用于清理第一毛羽102?;蛘撸謇硌b置103上可以設(shè)置有清潔刷頭,該清潔刷頭的刷毛與第一毛羽102接觸,并向與第一毛羽102的移動方向相反的方向傾斜,本實施例僅以清理裝置103上設(shè)置有清潔刷頭或裝置1031上設(shè)置有第二毛羽1032為舉例說明,其他設(shè)置毛羽、刷頭或毛刷等方式均在保護范圍之內(nèi)。當(dāng)取向膜摩擦裝置10進行取向膜摩擦?xí)r,基板可以沿水平方向運動,如果向左運動,摩擦輥101順時針轉(zhuǎn)動,第一毛羽102在取向膜上摩擦,取向膜上會按預(yù)定方向形成溝槽。當(dāng)然,基板也可以水平向右運動;或者,基板不動而摩擦輥順時針或逆時針轉(zhuǎn)動,也可以實現(xiàn)對取向膜的摩擦。值得指出的是,由于摩擦棍101轉(zhuǎn)動,如順時針轉(zhuǎn)動或逆時針轉(zhuǎn)動,第一毛羽102會相對于第二毛羽1032產(chǎn)生相對運動,因此不同的第一毛羽102每次與第二毛羽1032接觸并相對運動時,第二毛羽1032可以撥動第一毛羽102,打落第一毛羽102的灰塵或沾染的掉落的毛羽;第二毛羽1032不僅可以起到清潔第一毛羽102的作用,還可以起到整理第一毛羽102的作用,通過撥動第一毛羽102可以整理第一毛羽102,如可以將偏離預(yù)定方向的第一毛羽102向預(yù)定方向調(diào)整,以此保證第一毛羽102在取向膜上形成的溝槽不會過多地偏離預(yù)定方向。優(yōu)選地,設(shè)置在清理裝置103中裝置本體1031上的第二摩擦布1033各處具有相同的厚度;優(yōu)選地,排列在第二摩擦布1033上的第二毛羽1032的長度相等,第二毛羽1032 的長度可以大于或等于第一毛羽102長度的最大值與最小值之差,如可以為1.5_,這樣,如果第一毛羽102的長度的最大值與最小值之差小于或等于I. 5mm時,可以保證第二毛羽1032既可以清理到最長的第一毛羽102,也可以清理到最短的第一毛羽102,且,第二毛羽1032可以使用人造纖維或棉絨等材料,以便于清理第一毛羽102。進一步地,第二摩擦布1033上的第二毛羽1032可以設(shè)置成傾斜狀,可以使得第二毛羽1032在長度較長的情況下,即摩擦力較大的情況下保證一定的均勻性,如可以使第二毛羽1032與其根部處的第二摩擦布1033表面的夾角小于10度。這樣一來,可以有效地保證第二毛羽1032與第一毛羽102接觸時,第二毛羽1032對第一毛羽102的摩擦力更大但不至于影響均勻性,從而更好地調(diào)整第一毛羽102毛羽傾斜度,進而使得第一毛羽102在取向膜上摩擦?xí)r產(chǎn)生的溝槽均勻度更好。示例性地,如圖5所示,取向膜摩擦裝置10中清理裝置103的裝置本體為滾動軸1031,設(shè)置于摩擦輥101的上方。當(dāng)設(shè)置于基板(如彩膜基板或陣列基板)上方的兩個摩擦輥101順時針運動時,假設(shè)設(shè)置于摩擦輥101上方的滾動軸1031順時針運動,這時第二毛羽1032分別與兩個摩擦輥101上的第一毛羽102相接觸,第一毛羽102順時針轉(zhuǎn)動,第二毛羽1032順時針轉(zhuǎn)動,第一毛羽102和第二毛羽1032產(chǎn)生相對運動,以使得第二毛羽1032清理第一毛羽102,即第二毛羽1032與第一毛羽102接觸并相互造成微小的震動和摩擦,震落第一毛羽102沾染的灰塵或其他脫落的毛羽;而且,如圖5所示,第一毛羽102沿順時針方向轉(zhuǎn)動,第二毛羽1032沿順時針方向撥動第一毛羽102,將與第一摩擦布104的角度變小的第一毛羽102的角度調(diào)大,以此整理第一毛羽102,使得第一毛羽102在取向膜上形成的溝槽不會過多的偏離預(yù)定方向?;蛘?如圖6所示,兩個摩擦棍101逆時針運動,設(shè)置于摩擦棍101上方的滾動軸1031逆時針運動,第二毛羽1032分別與兩個摩擦輥101上的第一毛羽102相接觸,并產(chǎn)生相對運動,以使得第二毛羽1032清潔并整理第一毛羽102,需要說明的是,兩個摩擦輥101的轉(zhuǎn)動方向也可以與滾動軸1031的轉(zhuǎn)動方向相反,不以圖5、圖6為限定。進一步地,兩個摩擦輥101的轉(zhuǎn)動方向也可以與滾動軸1031的轉(zhuǎn)動方向相反,則設(shè)置滾動軸1031的轉(zhuǎn)動時,使得第二毛羽1032轉(zhuǎn)動的線速度與兩個摩擦輥101轉(zhuǎn)動的線速度不同,優(yōu)選使第二毛羽1032轉(zhuǎn)動的線速度大于兩個摩擦輥101轉(zhuǎn)動時使第一毛羽102轉(zhuǎn)動產(chǎn)生的線速度,使得第二毛羽1032分別與兩個摩擦輥101上的第一毛羽102相接觸,并產(chǎn)生相對運動后產(chǎn)生的清潔、整理效果更好。值得指出的是,本發(fā)明實施例以設(shè)置有兩個摩擦輥101為例進行說明,只設(shè)置有 一個摩擦輥101或設(shè)置有兩個以上摩擦輥101的摩擦裝置10均在保護范圍之內(nèi),不以設(shè)置有兩個摩擦輥101為限定。示例性地,如圖7所示,清理裝置103包括裝置本體1031,其中,裝置本體1031可以為固定模塊,如長方體模塊或梯形棱柱模塊,也可以為滾動軸。裝置本體1031上設(shè)置有清潔布1034,清潔布1034與第一毛羽102相接觸,用于清理第一毛羽102。需要說明的是,清潔布1034可以選用對微粒如灰塵、毛羽吸附性較強的材料制成,如清潔布1034可以是錦滌超細纖維雙面料潔凈布等。或者,清潔布也可以涂覆有粘合物,并利用涂覆的粘合物如膠水,對第一毛羽102上的灰塵、毛羽等進行粘除。進一步的,清潔布1034可以拉展后固定在裝置本體1031上,與第一毛羽102接觸時,清潔布1034吸附第一毛羽102上的灰塵等微粒。進一步地,裝置本體1031為滾動軸時,清潔布1034纏繞在滾動軸外側(cè),摩擦輥101轉(zhuǎn)動時,滾動軸也同時轉(zhuǎn)動,清潔布1034不同接觸面與第一毛羽102接觸,優(yōu)化清潔效果。示例性地,如圖8所示,清理裝置103包括吸塵裝置105,如吸塵裝置105為電動抽風(fēng)機。由于電動抽風(fēng)機的轉(zhuǎn)軸上設(shè)有風(fēng)葉輪。當(dāng)電動抽風(fēng)機通電后,風(fēng)葉輪以預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)速,如500圈/秒轉(zhuǎn)動而產(chǎn)生較大的吸力和壓力,在該吸力和壓力的作用下,將吸附范圍內(nèi)的第一毛羽102上的灰塵或散落的毛羽吸入抽風(fēng)機中,以達到除塵的目的。除此之外,其他具有吸塵作用的吸塵裝置簡單替換電動抽風(fēng)機用于清理第一毛羽均在保護范圍之內(nèi)。此外,清理裝置103也可以包括吹塵裝置,如吹風(fēng)機,吹風(fēng)機可將第一毛羽102上的灰塵或散落的毛羽吹除,以清理第一毛羽102,或者,如圖9所示,清理裝置103包括吸塵裝置1035和吹塵裝置1036,其中,吸塵裝置1035可以將吹塵裝置1036從第一毛羽102上吹落的灰塵或散落的毛羽吸入,以此保證灰塵或散落的毛羽不會落入其他的第一毛羽102上。需要說明的是,圖4到圖9中的摩擦輥101上都設(shè)置有第一摩擦布104,且第一毛羽102設(shè)置于第一摩擦布104上,但本發(fā)明實施例的保護范圍不限于此,第一毛羽102設(shè)置于摩擦輥101上也在保護范圍之內(nèi),并不以上述舉例為限定;圖9中的吸塵裝置1035和吹塵裝置1036的位置也不限于圖中所示,例如,吸塵裝置1035也可以設(shè)置在摩擦輥的下方側(cè)位,或與吹塵裝置1036相對的位置上,以便于更好地吸取第一毛羽上掉落的灰塵或脫落的毛羽。本實用發(fā)明實施例提供的取向膜摩擦裝置,取向膜摩擦裝置中包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。這樣一來,清理裝置可以清理第一毛羽由于長時間使用而造成脫落的毛羽或粘染的灰塵,從而減少了脫落的毛羽或沾染的灰塵對第一毛羽摩擦制備的取向膜的影響,保證了取向膜的質(zhì)量,進而保證了使用該取向膜的面板或顯示器最終的成像效果。利用該裝置制備取向膜的方法,包括如下步驟摩擦裝置包括至少一個摩擦棍,摩擦棍上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,摩擦裝置還包括用于清理第一毛羽的清理裝置;利用摩擦裝置通過以下方式制備取向膜摩擦裝置的摩擦輥在取向膜上方轉(zhuǎn)動,使得摩擦輥上的第一毛羽摩擦取向膜;摩擦裝置的清理裝置清理摩擦輥上的第一毛羽。
進一步地,該裝置可以采用摩擦法在基板上,如陣列基板、彩膜基板上形成取向膜的取向結(jié)構(gòu),其工序分兩步,首先在基板,如彩膜基板和陣列基板上分別涂上取向膜,目前使用的取向膜材料主要是聚酰亞胺(PI),然后利用第一摩擦布上的第一毛羽對取向膜進行摩擦處理如先將第一摩擦布纏繞在摩擦輥上,然后再利用摩擦輥在取向膜上轉(zhuǎn)動,依靠第一毛羽對取向膜的摩擦,在一方向上形成對液晶分子具有一定的錨定作用的溝槽,使液晶分子能夠沿著溝槽方向有序排列。進一步的,該方向可以是針對不同顯示面板或顯示器,使得液晶分子排列達到最優(yōu)的顯示效果的方向。與此同時,清理裝置清理摩擦輥上,未摩擦取向膜的第一毛羽。如清理裝置中的第二毛羽或清潔布與第一毛羽相接觸以清理第一毛羽,或吸塵裝置吸附第一毛羽上的灰塵等。需要說明的是,本發(fā)明提供的取向膜制備方法使用上述實施例提供的取向膜摩擦裝置進行制備,取向膜摩擦裝置的使用方法與上述實施例提供的相同,在此不再贅述。本實用發(fā)明實施例提供利用取向膜摩擦裝置制備取向膜的方法,取向膜摩擦裝置中包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。這樣一來,清理裝置可以清理第一毛羽由于長時間使用而造成脫落的毛羽或粘染的灰塵,從而減少了脫落的毛羽或沾染的灰塵對第一毛羽摩擦制備的取向膜的影響,保證了取向膜的質(zhì)量,進而保證了使用該取向膜的面板或顯示器最終的成像效果。以上,僅為本發(fā)明的具體實施方式
,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種取向膜摩擦裝置,包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,其特征在于, 所述裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述清理裝置包括裝置本體;設(shè)置在所述裝置本體上的第二毛羽,所述第二毛羽與所述第一毛羽相接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述清理裝置包括裝置本體;設(shè)置在所述裝置本體上的清潔布,所述清潔布與所述第一毛羽相接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于,所述裝置本體為固定模塊或滾動軸。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述清理裝置包括吸塵裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述清理裝置包括吹塵裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述第二毛羽的長度大于或等于所述第一毛羽長度的最大值與最小值之差。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述第二毛羽的材料為人造纖維或棉絨。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于, 所述裝置本體為滾動軸,所述第二毛羽轉(zhuǎn)動的線速度大于所述第一毛羽轉(zhuǎn)動的線速度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于,所述第二毛羽的轉(zhuǎn)動方向與所述第一毛羽的轉(zhuǎn)動方向相反。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的取向膜摩擦裝置,其特征在于,所述清理裝置上設(shè)置有清潔刷頭,所述清潔刷頭的刷毛與所述第一毛羽接觸,并向與所述第一毛羽的移動方向相反的方向傾斜。
12.—種制備取向膜的方法,其特征在于, 摩擦裝置包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述摩擦裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置; 利用所述摩擦裝置通過以下步驟制備所述取向膜 所述摩擦裝置的所述摩擦輥在取向膜上方轉(zhuǎn)動,使得所述摩擦輥上的所述第一毛羽摩擦所述取向膜;以及 所述摩擦裝置的清理裝置清理所述摩擦輥上的所述第一毛羽。
13.如權(quán)利要求12所述的方法,其特征在于,所述摩擦裝置的清理裝置清理所述摩擦輥上的所述第一毛羽的步驟包括 用所述清理裝置上的第二毛羽或摩擦布清理所述第一毛羽。
14.如權(quán)利要求12所述的方法,其特征在于,所述摩擦裝置的清理裝置清理所述摩擦輥上的所述第一毛羽的步驟包括用 所述清理裝置上的吸塵裝置和/或吹塵裝置清理所述第一毛羽。
全文摘要
本發(fā)明提供一種取向膜摩擦裝置及利用該裝置制備取向膜的方法,涉及顯示面板制造領(lǐng)域。能夠在制備取向膜時清理摩擦布上的毛羽,提高形成的取向膜的質(zhì)量。取向膜摩擦裝置包括至少一個摩擦輥,所述摩擦輥上設(shè)置有用于摩擦取向膜的第一毛羽,所述裝置還包括用于清理所述第一毛羽的清理裝置。本發(fā)明實施例用于制備取向膜。
文檔編號G02F1/1337GK102866541SQ20121036243
公開日2013年1月9日 申請日期2012年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月25日
發(fā)明者魯姣明, 柳在健 申請人:京東方科技集團股份有限公司
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