專利名稱：光擴(kuò)散部件及其制造方法、顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光擴(kuò)散部件及其制造方法、顯示裝置。
背景技術(shù)：
作為以便攜電話機(jī)等為代表的便攜式電子設(shè)備或電視機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)等的顯示器，廣泛使用液晶顯示裝置?？墒?，液晶顯示裝置通常來(lái)自正面的視認(rèn)性優(yōu)異，不利的一個(gè)面是視角狹窄，這些都是一直以來(lái)所共知的，用于擴(kuò)展視角的各種研究正在進(jìn)行中。作為其一，考慮在顯示體的觀看側(cè)設(shè)置用于使從液晶面板等顯示體射出的光擴(kuò)散的部件(以下稱為光擴(kuò)散部件)的結(jié)構(gòu)。例如，在專利文獻(xiàn)I中公開(kāi)了一種具備基膜層、配置在基膜層上的光學(xué)功能片層和配置在光學(xué)功能片層上的含擴(kuò)散材料層的光學(xué)片。在該光學(xué)片中，光學(xué)功能片層構(gòu)成為 具有沿著基膜層的上表面并列地形成的大致梯形形狀的棱鏡部，在棱鏡部間的大致楔形部分配置有光吸收部。專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)2010-145469號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題在專利文獻(xiàn)I記載的光學(xué)片制造時(shí)，在將粘結(jié)劑樹(shù)脂填入楔形部分時(shí)，存在在棱鏡部即光透過(guò)的路徑上殘留粘結(jié)劑樹(shù)脂、光的透過(guò)率下降的情況。而且，由于槽并列地形成在一維方向上，因此光僅沿單軸方向擴(kuò)散。另外，由于光擴(kuò)散層具有規(guī)則的結(jié)構(gòu)，因此在顯示圖像時(shí)，會(huì)產(chǎn)生光的干涉引起的莫爾條紋，顯示品質(zhì)下降。本發(fā)明是為了解決上述的課題而完成的，其目的在于，提供一種不使制造工藝復(fù)雜化就能夠得到所期望的光擴(kuò)散性能的光擴(kuò)散部件及其制造方法。另外，其目的在于提供一種具備上述的光擴(kuò)散部件且顯示品質(zhì)優(yōu)異的顯示裝置。用于解決課題的手段為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件，包括具有透光性的基材；在上述基材的一個(gè)面形成的多個(gè)光擴(kuò)散部；在上述基材的一個(gè)面，在與上述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域不同的區(qū)域形成的遮光層；和光散射體，上述光擴(kuò)散部在上述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與上述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比上述光射出端面的面積大的光入射端面，上述光擴(kuò)散部的從上述光入射端面到上述光射出端面的高度比上述遮光層的層厚(厚度)大，上述光散射體比上述光擴(kuò)散部更靠光射出側(cè)地配置。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，上述光散射體包含于上述基材的至少一部分。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，上述基材的至少一部分構(gòu)成為使得從上述基材的至少一部分的與上述光擴(kuò)散部相反的一側(cè)的面射入，并由上述光散射體反射或折射而改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行前向散射(前方散射)。
本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，在上述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面還設(shè)置有防眩處理層，上述防眩處理層構(gòu)成為包含上述光散射體。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，還具備比上述基材更靠光射出側(cè)地形成的層，上述光散射體包含于比上述基材更靠光射出側(cè)地形成的層。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，比上述基材更靠光射出側(cè)地形成的層構(gòu)成為使得從比上述基材更靠光射出側(cè)地形成的層的與上述光擴(kuò)散部相反的一側(cè)的面射入，并由上述光散射體反射或折射而改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行前向散射。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，在上述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面還設(shè)置有防眩處理層，上述防眩處理層構(gòu)成為包含上述光散射體。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)光擴(kuò)散部分散地配置，上述遮光層連續(xù)地形成于與上述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域不同的區(qū)域。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)光擴(kuò)散部非周期地配置。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)光擴(kuò)散部具有相互相同的形狀。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)光擴(kuò)散部具有相互不同的多種尺寸、形狀中的至少一種。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，在上述多個(gè)光擴(kuò)散部間的間隙存在空氣。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，上述多個(gè)光擴(kuò)散部中，至少一個(gè)光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度與其他光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度不同。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，上述多個(gè)光擴(kuò)散部中，至少一個(gè)光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度根據(jù)場(chǎng)所而不同。本發(fā)明的一個(gè)方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述光擴(kuò)散部的平面形狀為圓形、橢圓形或多邊形。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件，包括具有透光性的基材；在上述基材的一個(gè)面分散地形成的多個(gè)遮光層；和在上述基材的一個(gè)面，在與上述遮光層的形成區(qū)域不同的區(qū)域形成的光擴(kuò)散部，上述光擴(kuò)散部在上述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與上述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比上述光射出端面的面積大的光入射端面，上述光擴(kuò)散部的從上述光入射端面到上述光射出端面的高度比上述遮光層的層厚大，比上述光擴(kuò)散部更靠光射出側(cè)地配置有光散射體。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，上述光散射體包含于在上述基材的至少一部分形成或比上述基材更靠光射出側(cè)地形成的層中的至少一個(gè)層。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)上述多個(gè)遮光層分散地配置，上述光擴(kuò)散部連續(xù)地形成于上述遮光層的形成區(qū)域以外的區(qū)域。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)遮光層非周期地配置。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)遮光層具有相互相同的形狀。
本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述多個(gè)遮光層具有相互不同的多種尺寸、形狀中的至少一種。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，在上述遮光層的形成區(qū)域形成有由上述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域劃分而成的中空部，在上述中空部存在空氣。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，從上述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，上述遮光層的平面形狀為圓形、橢圓形或多邊形。本發(fā)明另一方式的光擴(kuò)散部件中，在上述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面，設(shè)置有反射防止層、帶電防止層、防眩處理層、防污處理層中的至少一個(gè)。本發(fā)明的另一方式的光擴(kuò)散部件的制造方法，包括在具有透光性并且至少一部分包含光散射體的基材的一個(gè)面形成具有開(kāi)口部的遮光層的工序；在上述基材的一個(gè)面，以覆蓋上述遮光層的方式形成具有透光性的負(fù)型感光性樹(shù)脂層的工序；從形成有上述遮光層和上述負(fù)型感光性樹(shù)脂層的上述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面，通過(guò)上述遮光層的開(kāi)口 部，使上述負(fù)型感光性樹(shù)脂層曝光的工序；和使上述曝光結(jié)束后的上述負(fù)型感光性樹(shù)脂層顯影，在上述基材的一個(gè)面形成多個(gè)光擴(kuò)散部的工序，上述多個(gè)光擴(kuò)散部在上述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與上述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比上述光射出端面的面積大的光入射端面。本發(fā)明的另一方式的光擴(kuò)散部件的制造方法中，作為上述遮光層的材料，使用黑色樹(shù)脂、黑色墨液、金屬單體和金屬單體與金屬氧化物的多層膜中的任一種。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置，包括顯示體；和視角擴(kuò)大部件，其設(shè)置于上述顯示體的觀看側(cè)，使光以從上述顯示體射入的光的角度分布比入射前更廣的狀態(tài)射出，上述視角擴(kuò)大部件包括本發(fā)明的光擴(kuò)散部件。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置中，上述顯示體具有形成顯示圖像的多個(gè)像素，上述光擴(kuò)散部件的上述多個(gè)光擴(kuò)散部中的相鄰的光擴(kuò)散部間的最大間距比上述顯示體的上述像素間的間距小。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置中，上述顯示體具有形成顯示圖像的多個(gè)像素，上述光擴(kuò)散部件的多個(gè)遮光層中的相鄰的遮光層間的最大間距比上述顯示體的上述像素間的間距小。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置中，在上述視角擴(kuò)大部件的觀看側(cè)設(shè)置有信息輸入
>J-U裝直。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置中，上述顯示體具有光源和對(duì)來(lái)自上述光源的光進(jìn)行調(diào)制的光調(diào)制元件，上述光源射出具有指向性的光。本發(fā)明的另一方式的顯示裝置中，上述顯示體為液晶顯示元件。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的方式，能夠提供一種不使制造工藝復(fù)雜化就能夠得到所期望的光擴(kuò)散性能的光擴(kuò)散部件及其制造方法。根據(jù)本發(fā)明的方式，能夠提供一種具備上述的光擴(kuò)散部件且顯示品質(zhì)優(yōu)異的顯示裝置。


圖IA是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。
圖IB是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖2是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的液晶面板的截面圖。圖3A是用于對(duì)本發(fā)明第一實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。圖3B是用于對(duì)本發(fā)明第一實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。圖4是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的截面圖。圖5A是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖5B是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。 圖5C是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖5E是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖5F是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖6A是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第一變形例的立體圖。圖6B是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第一變形例的截面圖。圖7A是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。圖7B是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖8A是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖8B是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖SC是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖8D是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖8E是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖8F是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖9A是表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。圖9B是表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖IOA是用于對(duì)本發(fā)明第三實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。圖IOB是用于對(duì)本發(fā)明第三實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。圖IlA是用于對(duì)本發(fā)明第三實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。圖IlB是用于對(duì)本發(fā)明第三實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的示意圖。
圖12是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖13A是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的截面圖。圖13B是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的制造所使用的光掩模的平面圖。圖14A是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的曝光工序的作用的截面圖。圖14B是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的曝光工序的作用的截面圖。圖15是表示本發(fā)明第五實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖16是表示本發(fā)明第五實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的截面圖。圖17是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。 圖18是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的平面圖。圖19A是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19B是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19C是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19D是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19E是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19F是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19G是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19H是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖191是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖19J是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的另一例的平面圖。圖20A是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。圖20B是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖21A是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖21B是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖21C是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖21D是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖21E是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖22A是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22B是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22C是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22D是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22E是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22F是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22G是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。
圖22H是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖221是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖22J是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的遮光層的另一例的平面圖。圖23A是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的第一變形例的立體圖。圖23B是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的第一變形例的截面圖。圖24A是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。圖24B是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖25A是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。 圖25B是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖25C是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖2邪是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖25E是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的液晶顯示裝置的視角擴(kuò)大膜的制造工序的立體圖。圖26A是表示本發(fā)明第九實(shí)施方式的液晶顯示裝置的立體圖。圖26B是表示本發(fā)明第九實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖27是表示本發(fā)明第十實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖28是表示視角擴(kuò)大膜的制造裝置之一例的立體圖。圖29A是表示視角擴(kuò)大膜的制造裝置的主要部分的立體圖。圖29B是表示視角擴(kuò)大膜的制造裝置的主要部分的立體圖。圖30A是表示指向性背光源的亮度角度特性的圖。圖30B是表示來(lái)自背光源的光透過(guò)視角擴(kuò)大膜的情形的示意圖。圖30C表示來(lái)自背光源的出射角度和成為臨界角的錐角度之間的關(guān)系。附圖標(biāo)記說(shuō)明1、1B、1C、1D、1E、1F、101、101A、101B、101C、84 液晶顯示裝置(顯示裝置)2背光源(光源)4液晶面板(光調(diào)制元件)6液晶顯示體(顯示體)7、7八、78、7(、70、7￡、7 、107、1074、1078、107(視角擴(kuò)大膜(光擴(kuò)散部件、視角擴(kuò)大
部件)39、50B、150B 基材40、40C、40D、40E、40F、40G、40H、40I、40J、40K、40L、40M、40N、40P、140、140A、140C
光擴(kuò)散部40a、40Ca、40Da、40Ea、40Fa、140a、140Ca 光射出端面40b、40Cb、40Db、40Eb、40Fb、140b、140Cb 光入射端面40c、40Cc、40Ec、40Dc、140c、140Cc 側(cè)面
41、41C、41D、41E、41F、141、141A、141C、141G、141H、141I、141J、141K、141L、141M、141N、141P遮光層48涂膜(負(fù)型感光性樹(shù)脂層)52、52B、152B 光散射體85觸摸面板(信息輸入裝置)
具體實(shí)施例方式[第一實(shí)施方式]下面，利用圖I 圖5對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。在本實(shí)施方式中，作為 顯示體，以具備透過(guò)型液晶面板的液晶顯示裝置為例進(jìn)行說(shuō)明。另外，在下面的全部的附圖中，為了便于看各構(gòu)成要素，有時(shí)使尺寸的縮尺隨著構(gòu)成要素而改變來(lái)表示。圖IA是從斜下方(背面?zhèn)?看本實(shí)施方式的液晶顯示裝置I的立體圖。圖IB是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。如圖IA和圖IB所示,本實(shí)施方式的液晶顯示裝置I (顯示裝置)包括液晶顯示體6 (顯示體)和視角擴(kuò)大膜7 (視角擴(kuò)大部件、光擴(kuò)散部件)，所述液晶顯示體6具有背光源2 (光源)、第一偏光板3、液晶面板4 (光調(diào)制兀件)和第二偏光板5。在圖IB中,將液晶面板4示意地圖示為一塊板狀，但是對(duì)其詳細(xì)的構(gòu)造在后面進(jìn)行描述。觀察者從配置有視角擴(kuò)大膜7的圖IB中的液晶顯示裝置I的上側(cè)觀看顯示。由此，在下面的說(shuō)明中，將配置有視角擴(kuò)大膜7的一側(cè)稱為觀看側(cè)，將配置有背光源2的一側(cè)稱為背面?zhèn)取Ｔ诒緦?shí)施方式的液晶顯示裝置I中，由液晶面板4對(duì)從背光源2射出的光進(jìn)行調(diào)制，利用調(diào)制后的光，來(lái)顯示規(guī)定的圖像和文字等。另外，當(dāng)從液晶面板4射出的光透過(guò)視角擴(kuò)大膜7時(shí)，射出光的角度分布成為比射入視角擴(kuò)大膜7之前廣的狀態(tài)，光從視角擴(kuò)大膜7射出。由此，觀察者能夠觀看具有廣視角的顯示。下面，對(duì)液晶面板4的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。在此，以有源矩陣方式的透過(guò)型液晶面板為例進(jìn)行說(shuō)明，但是能夠應(yīng)用于本實(shí)施方式的液晶面板不限于有源矩陣方式的透過(guò)型液晶面板。能夠應(yīng)用于本實(shí)施方式的液晶面板也可以為例如半透過(guò)型(透過(guò)、反射兼用型)液晶面板和反射型液晶面板，而且，也可以為各像素不具備開(kāi)關(guān)用膜晶體管(Thin Film Transistor，以下簡(jiǎn)稱為T(mén)FT)的單純矩陣方式的液晶面板。圖2是液晶面板4的縱截面圖。如圖2所示，液晶面板4具有TFT基板9、彩色濾光片基板10和液晶層11。TFT基板9作為開(kāi)關(guān)元件基板設(shè)置于液晶面板4。彩色濾光片基板10與TFT基板9相對(duì)配置。液晶層11夾持在TFT基板9與彩色濾光片基板10之間。液晶層11被封入由TFT基板9、彩色濾光片基板10、將TFT基板9和彩色濾光片基板10隔開(kāi)規(guī)定的間隔貼合的框狀的密封部件(未圖示)包圍的空間內(nèi)。本實(shí)施方式的液晶面板4例如以VA(Vertical Alignment,垂直取向)模式進(jìn)行顯示，液晶層11使用介電常數(shù)各向異性為負(fù)的垂直取向液晶。在TFT基板9和彩色濾光片基板10之間配置有用于將這兩個(gè)基板間的間隔保持為一定的球狀的間隔物12。另外，關(guān)于顯示模式，不局限于上述的VA模式，能夠使用TN(Twisted Nematic,扭曲向列)模式、STN(Super Twisted Nematic,超級(jí)扭曲向列)模式、IPS (In-Plane Switching,面內(nèi)開(kāi)關(guān))模式等。在TFT基板9呈矩陣狀地配置有多個(gè)顯示的最小單位區(qū)域即像素(未圖示)。在TFT基板9以相互平行地延伸的方式形成多個(gè)源極總線(未圖示)，并且以相互平行地延伸且與多個(gè)源極總線正交的方式形成有多個(gè)柵極總線(未圖示)。因此，在TFT基板9上，呈格子狀地形成有多個(gè)源極總線和多個(gè)柵極總線，由相鄰的源極總線和相鄰的柵極總線劃分而成的矩形狀的區(qū)域成為一個(gè)像素。源極總線與后述的TFT的源極電極連接，柵極總線與TFT的柵極電極連接。在構(gòu)成TFT基板9的透明基板14的液晶層11側(cè)的面形成有TFT19，該TFT19具有 半導(dǎo)體層15、柵極電極16、源極電極17、漏極電極18等。作為透明基板14，能夠使用例如玻璃基板。在透明基板14上形成有包含例如CGS(Continuous Grain Silicon :連續(xù)晶界娃)、LPS(Low -temperature Poly-Silicon :低溫多晶娃)、a -Si (Amorphous Silicon :非晶娃)等半導(dǎo)體材料的半導(dǎo)體層15。另外，在透明基板14上以覆蓋半導(dǎo)體層15的方式形成有柵極絕緣膜20。作為柵極絕緣膜20的材料，能夠使用例如硅氧化膜、硅氮化膜或兩者的疊層膜等。在柵極絕緣膜20上以與半導(dǎo)體層15相對(duì)的方式形成有柵極電極16。作為柵極電極16的材料，使用例如W(鎢)/TaN(氮化鉭)的疊層膜、Mo(鑰)、Ti(鈦)、A1(鋁)等。
在柵極絕緣膜20上以覆蓋柵極電極16的方式形成有第一層間絕緣膜21。作為第一層間絕緣膜21的材料，能夠使用例如硅氧化膜、硅氮化膜或兩者的疊層膜等。在第一層間絕緣膜21上形成有源極電極17和漏極電極18。源極電極17經(jīng)由將第一層間絕緣膜21和柵極絕緣膜20貫通的接觸孔22，與半導(dǎo)體層15的源極區(qū)域連接。同樣，漏極電極18經(jīng)由將第一層間絕緣膜21和柵極絕緣膜20貫通的接觸孔23，與半導(dǎo)體層15的漏極區(qū)域連接。作為源極電極17和漏極電極18的材料，能夠使用與上述的柵極電極16同樣的導(dǎo)電性材料。在第一層間絕緣膜21上以覆蓋源極電極17和漏極電極18的方式形成有第二層間絕緣膜24。作為第二層間絕緣膜24的材料，能夠使用與上述的第一層間絕緣膜21同樣的材料或有機(jī)絕緣性材料。在第二層間絕緣膜24上形成有像素電極25。像素電極25經(jīng)由貫通第二層間絕緣膜24的接觸孔26，與漏極電極18連接。由此，像素電極25以漏極電極18作為中繼用電極，與半導(dǎo)體層15的漏極區(qū)域連接。作為像素電極25的材料，能夠使用例如IT0(IndiumTin Oxide,銦錫氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide,銦鋅氧化物)等透明導(dǎo)電性材料。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在通過(guò)柵極總線供給掃描信號(hào)、TFT19成為導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)，通過(guò)源極總線供給到源極電極17的圖像信號(hào)經(jīng)半導(dǎo)體層15、漏極電極18被供給到像素電極25。另外，以覆蓋像素電極25的方式在第二層間絕緣膜24上的整個(gè)面形成有取向膜27。該取向膜27具有使構(gòu)成液晶層11的液晶分子垂直取向的取向限制力。此外，作為T(mén)FT的形態(tài)，既可以為圖2所示的底柵型TFT，也可以為頂柵型TFT。另一方面，在構(gòu)成彩色濾光片基板10的透明基板29的液晶層11 一側(cè)的面，依次形成有黑色矩陣30、彩色濾光片31、平坦化層32、對(duì)置電極33、取向膜34。黑色矩陣30具有在像素間區(qū)域隔斷光的透過(guò)的功能。黑色矩陣30由例如Cr(鉻)、Cr/氧化Cr的多層膜等使金屬或碳粒子分散于感光性樹(shù)脂中所得到的光致抗蝕劑形成。彩色濾光片31含有紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色⑶的各顏色的色素。R、G、B中的任一個(gè)的彩色濾光片31與TFT基板9上的一個(gè)像素電極25相對(duì)配置。此外，彩色濾光片31也可以采用R、G、B這三個(gè)顏色以上的多顏色構(gòu)成。平坦化層32包括覆蓋黑色矩陣30和彩色濾光片31的絕緣膜。平坦化層32具有緩和由黑色矩陣30和彩色濾光片31產(chǎn)生的臺(tái)階來(lái)平坦化的功能。在平坦化層32上形成有對(duì)置電極33。作為對(duì)置電極33的材料，使用與像素電極25同樣的透明導(dǎo)電性材料。另夕卜，在對(duì)置電極33上的整個(gè)面形成有具有垂直取向限制力的取向膜34。返回到圖1B，背光源2具有發(fā)光二極管、冷陰極管等光源36 ;和利用從光源36射出的光的內(nèi)部反射而使光向液晶面板4射出的導(dǎo)光板37。背光源2既可以為光源配置于導(dǎo)光體的端面的邊光型，也可以為光源配置于導(dǎo)光體的正下方的正下方型。作為本實(shí)施方式使用的背光源2，優(yōu)選使用控制光的射出方向、具有指向性的背光源即所謂的指向性背 光源。通過(guò)使用使準(zhǔn)直或大致準(zhǔn)直的光射入后述的視角擴(kuò)大膜7的光擴(kuò)散部那樣的指向性背光源，能夠減少模糊，提高光的利用效率。上述的指向性背光源能夠通過(guò)使形成于導(dǎo)光板37內(nèi)的反射圖案的形狀和配置最佳化來(lái)實(shí)現(xiàn)。另外，也可以通過(guò)在背光源上配置格柵(louver)來(lái)實(shí)現(xiàn)指向性。另外，在背光源2和液晶面板4之間設(shè)置有作為偏振子發(fā)揮功能的第一偏光板3。另外，在液晶面板4和視角擴(kuò)大膜7之間設(shè)置有作為偏振子發(fā)揮功能的第二偏光板5。下面，對(duì)視角擴(kuò)大膜7進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。圖3A是視角擴(kuò)大膜7的截面圖。如圖I和圖3A所不,視角擴(kuò)大膜7包括基材39、形成于基材39的一個(gè)面(與觀看側(cè)相反一側(cè)的面)的多個(gè)光擴(kuò)散部40、形成于基材39的一個(gè)面的遮光層41和由粘接層51固定于基材39的另一個(gè)面(觀看側(cè)的面)的擴(kuò)散膜50。如圖IB所示，該視角擴(kuò)大膜7以使設(shè)置有光擴(kuò)散部40的一側(cè)朝向第二偏光板5、使基材39的一側(cè)朝向觀看側(cè)的姿勢(shì)配置于第二偏光板5上。作為基材39，通常使用熱塑性聚合物和熱固化性樹(shù)脂、光聚合性樹(shù)脂等樹(shù)脂類等。能夠使用包含丙烯酸系聚合物、烯烴系聚合物、乙烯系聚合物、纖維素系聚合物、酰胺系聚合物、氟系聚合物、聚氨酯系聚合物、硅系聚合物、酰亞胺(亞胺)系聚合物等的適當(dāng)?shù)耐该鳂?shù)脂制的基材。例如，優(yōu)選使用三乙?；w維素(TAC)膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、環(huán)烯烴聚合物(COP)膜、聚碳酸酯(PC)膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜、聚醚砜(PES)膜、聚酰亞胺(PD膜等透明樹(shù)脂制的基材。在后述的制造工藝中，基材39成為在后面涂布遮光層41和光擴(kuò)散部40的材料時(shí)的基底，需要具備制造工藝中的熱處理工序的耐熱性和機(jī)械強(qiáng)度。因此，作為基材39，除樹(shù)脂制的基材以外，也可以使用玻璃制的基材等。但是，基材39的厚度優(yōu)選無(wú)損耐熱性和機(jī)械強(qiáng)度的程度地薄。其理由是，基材39的厚度越厚，越有可能產(chǎn)生顯示的模糊。另外，基材39的總光線透過(guò)率優(yōu)選以JIS K7361-1的規(guī)定為90%以上。當(dāng)總光線透過(guò)率為90%以上時(shí)，能夠得到充分的透明性。在本實(shí)施方式中，作為一個(gè)例子，使用厚度為IOOiim的PET膜。光擴(kuò)散部40包含例如丙烯酸樹(shù)脂和環(huán)氧樹(shù)脂、硅樹(shù)脂等具有透光性和感光性的有機(jī)材料。能夠使用在這些樹(shù)脂中混合有聚合引發(fā)劑、偶聯(lián)劑、單體、有機(jī)溶劑等的透明樹(shù)脂制的混合物。而且，聚合引發(fā)劑也可以含有如穩(wěn)定劑、禁止劑、可塑劑、熒光增白劑、脫模齊U、鏈轉(zhuǎn)移劑、其他光聚合性單體等那樣的各種追加成分。此外，還能夠使用專利第4129991號(hào)記載的材料。另外，光擴(kuò)散部40的總光線透過(guò)率優(yōu)選以JIS K7361-1的規(guī)定為90%以上。當(dāng)總光線透過(guò)率為90%以上時(shí)，能夠得到充分的透明性。如圖IA所示，用與基材39的一個(gè)面平行的面(xy平面)將光擴(kuò)散部40切斷時(shí)的水平截面為圓形。光擴(kuò)散部40的直徑為例如20 左右。多個(gè)光擴(kuò)散部40都為同一直徑，光擴(kuò)散部40的成為光射出端面40a的基材39 —側(cè)的水平截面的面積小，隨著遠(yuǎn)離基材39，水平截面的面積逐漸變大。即，光擴(kuò)散部40在從基材39 —側(cè)看時(shí)，具有所謂的倒錐狀的圓錐臺(tái)狀的形狀。光擴(kuò)散部40是在視角擴(kuò)大膜7中有助于光透過(guò)的部分。即，射入光擴(kuò)散部40的光由光擴(kuò)散部40的錐狀的側(cè)面40c進(jìn)行全反射，且在光擴(kuò)散部40的內(nèi)部以大致封閉的狀 態(tài)進(jìn)行導(dǎo)光并射出。如圖IA所示，多個(gè)光擴(kuò)散部40分散地配置在基材39上。通過(guò)多個(gè)光擴(kuò)散部40分散地形成在基材39上，遮光層41連續(xù)地形成在基材39上。另外，多個(gè)光擴(kuò)散部40在從基材39的主面的法線方向看時(shí)，隨機(jī)地(非周期地)配置。因此，相鄰的光擴(kuò)散部40間的間距不固定，但是將相鄰的光擴(kuò)散部40間的間距平均而得到的平均間距設(shè)定為例如25 u m。如圖1A、圖IB和圖3A所示，遮光層41在基材39的形成有光擴(kuò)散部40 —側(cè)的面中的、多個(gè)光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域以外的區(qū)域形成。作為一個(gè)例子，遮光層41由黑色抗蝕劑等具有光吸收性和感光性的有機(jī)材料構(gòu)成。作為遮光層41，除此以外，只要使用Cr (鉻)和Cr/氧化Cr等金屬單體、金屬氧化物、或金屬單體與金屬氧化物的多層膜等金屬膜、將用作黑色墨液的顏料、染料、黑色樹(shù)脂、多顏色的墨液混合而制成黑色墨液的材料等具有遮光性的材料即可。遮光層41的層厚設(shè)定為比光擴(kuò)散部40的從光入射端面40b到光射出端面40a的高度小。在本實(shí)施方式的情況下，遮光層41的層厚作為一個(gè)例子為150nm左右,光擴(kuò)散部40的從光入射端面40b到光射出端面40a的高度作為一個(gè)例子為75 y m左右。因此，多個(gè)光擴(kuò)散部40間的間隙，在與基材39的一個(gè)面接觸的部分存在有遮光層41，在其以外的部分
存在空氣。另外，基材39的折射率和光擴(kuò)散部40的折射率優(yōu)選為大致同等。其理由是，例如，當(dāng)基材39的折射率和光擴(kuò)散部40的折射率有較大差異時(shí)，在從光入射端面40b入射的光要從光擴(kuò)散部40射出時(shí)，就會(huì)在光擴(kuò)散部40和基材39的界面產(chǎn)生不需要的光的折射和反射，有可能產(chǎn)生得不到所期望的光擴(kuò)散角度且射出光的光量減少等現(xiàn)象。如圖IB所示，視角擴(kuò)大膜7以基材39朝向觀看側(cè)的方式配置，因此圓錐臺(tái)狀的光擴(kuò)散部40的兩個(gè)相對(duì)面中，面積小的一個(gè)面成為光射出端面40a，面積大的一個(gè)面成為光入射端面40b。另外，光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c的傾斜角(光射出端面40a和側(cè)面40c所成的角)作為一個(gè)例子為80°左右。但是，光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c的傾斜角度如果是從視角擴(kuò)大膜7射出時(shí)能夠充分地使入射光擴(kuò)散的角度，就不作特別限定。在本實(shí)施方式的情況下，由于在相鄰的光擴(kuò)散部40間存在空氣，因此當(dāng)由例如丙烯酸樹(shù)脂形成光擴(kuò)散部40時(shí)，光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c成為丙烯酸樹(shù)脂和空氣的界面。假設(shè)由其他低折射率材料將光擴(kuò)散部40的周圍充填，光擴(kuò)散部40的內(nèi)部和外部的界面的折射率差，與外部存在任何低折射率材料的情況相比存在空氣的情況下為最大。因此，根據(jù)Snell定律,在本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，臨界角成為最小,光在光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c進(jìn)行全反射的入射角范圍成為最大。其結(jié)果是，能夠進(jìn)一步抑制光的損失，得到較高的亮度。但是，相對(duì)于光擴(kuò)散部40的光入射端面40b以較大地偏離90度的角度射入的光，相對(duì)于光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c以臨界角以下的角度射入，不會(huì)進(jìn)行全反射，而是透過(guò)光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c。盡管如此，由于在光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域以外的區(qū)域設(shè)置有遮光層41，因此透過(guò)光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c的光被遮光層41吸收。因此，既不會(huì)產(chǎn)生顯示的模糊，又不會(huì)使對(duì)比度下降。但是，當(dāng)透過(guò)光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c的光增加時(shí)，就會(huì)產(chǎn)生光量損失，得不到亮度高的圖像。因此，在本實(shí)施方式的液晶顯示裝置I中，優(yōu)選使用以在臨界角以下不射入光擴(kuò)散部40的側(cè)面40c這樣的角度射出光的背光源，即所謂的具有指向性的背光源。 圖30A是表示指向性背光源的亮度角度特性的圖。圖30A關(guān)于從指向性背光源出射的光，橫軸表示出射角度(° )，縱軸表示亮度(cd/m2)?？芍敬问褂玫闹赶蛐员彻庠磳⒊錾涞拇笾氯康墓馐諗吭诔錾浣嵌取?0°以內(nèi)。通過(guò)將該指向性背光源和視角擴(kuò)大膜組合，能夠?qū)崿F(xiàn)減少模糊且光的利用率高的結(jié)構(gòu)。圖30B是表示來(lái)自背光源的光透過(guò)視角擴(kuò)大膜的情形的示意圖，如圖30B所示，定義9 I :從背光源的出射角度，定義0 2 :光透過(guò)部40的錐角度。射入光透過(guò)部40的光La在錐部發(fā)生全反射，從基材39表面向觀看側(cè)射出，但入射角度大的光Lb有時(shí)不由錐部進(jìn)行全反射地透過(guò)，產(chǎn)生入射光的損失。圖30C表示來(lái)自背光源的出射角度和成為臨界角的錐角度的關(guān)系。例如，來(lái)自背光源的出射角度為30°的光在透明樹(shù)脂折射率n = 1.6的光透過(guò)部40為不到57°的錐角度的情況下，在錐形狀不發(fā)生全反射地透過(guò)，產(chǎn)生光的損失。為了使出射角度±30°以內(nèi)的光不損失地在錐形狀發(fā)生全反射，優(yōu)選光擴(kuò)散部40的錐角度為57°以上 不到90°。如圖IB所示，擴(kuò)散膜50由粘接層51固定于基材39的另一個(gè)面(觀看側(cè)的面)。擴(kuò)散膜50通過(guò)在例如丙烯酸樹(shù)脂等粘結(jié)劑樹(shù)脂的內(nèi)部分散有許多丙烯酸珠等光散射體52而構(gòu)成。擴(kuò)散膜50的厚度作為一個(gè)例子為20iim左右。球狀的光散射體52的球徑為0. 5iim 20iim左右。粘接層51的厚度作為一個(gè)例子為25 y m左右。另外，擴(kuò)散膜50為各向同性擴(kuò)散件。擴(kuò)散膜50將由光擴(kuò)散部40擴(kuò)散的光各向同性地?cái)U(kuò)散，進(jìn)一步廣角地?cái)U(kuò)散。另外，光散射體52不局限于此，也可以由樹(shù)脂片、玻璃珠等適當(dāng)?shù)耐该鞯奈镔|(zhì)構(gòu)成，該樹(shù)脂片包括丙烯酸系聚合物、烯烴系聚合物、乙烯系聚合物、纖維素系聚合物、酰胺系聚合物、氟系聚合物、聚氨酯系聚合物、硅系聚合物、酰亞胺系聚合物等。另外，除這些透明的物質(zhì)以外，也能夠使用沒(méi)有光吸收的散射體、反射體?；蛘?，也可以采用使光散射體52為在光擴(kuò)散部40內(nèi)擴(kuò)散的氣泡。各光散射體52的形狀能夠形成為例如球形、橢球形、平板形、多邊形立方體等各種形狀。光散射體52的尺寸也只要以均勻或不均勻的方式形成即可。在本實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜50也兼作防眩處理層(防眩層)。防眩處理層也能夠通過(guò)例如對(duì)基材39實(shí)施噴砂處理和壓花處理等而形成，但在本實(shí)施方式中，通過(guò)在基材39形成包含多個(gè)光散射體52的層，來(lái)實(shí)施防眩處理。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于擴(kuò)散膜50作為防眩處理層發(fā)揮功能，因此不需要重新設(shè)置防眩處理層。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的簡(jiǎn)化、薄型化。另外，在本實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜50配置在粘接層51的外側(cè)，但不局限于此，例如，也可以使粘接層51自身具有光擴(kuò)散性。例如，能夠通過(guò)使許多光散射體分散于粘接層51來(lái)實(shí)現(xiàn)。作為粘接層51，能夠使用橡膠系和丙烯酸系、硅系和烷基乙烯基醚系、聚乙烯醇系和聚乙烯吡咯烷酮系、聚丙烯酰胺系和纖維素系等粘接劑等與粘接對(duì)象對(duì)應(yīng)的適當(dāng)?shù)恼辰有晕镔|(zhì)。特別優(yōu)選使用透明性和耐久性等優(yōu)異的粘接性物質(zhì)。另外，粘接層51優(yōu)選在直到供實(shí)際使用為止的期間，臨時(shí)粘貼分隔物等進(jìn)行保護(hù)。在本實(shí)施方式的情況下，如圖3A所示，在視角擴(kuò)大膜7的最表面配置有擴(kuò)散膜50。由此，相對(duì)于光擴(kuò)散部40的光入射端面40b垂直射入的光L由光擴(kuò)散部40擴(kuò)散，然后由擴(kuò)散膜50進(jìn)一步擴(kuò)散。因此，從擴(kuò)散膜50射出各種角度的光。與此相對(duì)，如圖3B所示，在未配置有擴(kuò)散膜的視角擴(kuò)大膜7X的情況下，相對(duì)于光 擴(kuò)散部40X的光入射端面40Xb垂直射入的光L集中于特定的擴(kuò)散角度而射出。其結(jié)果是，不能使光在大角度范圍內(nèi)均勻地?cái)U(kuò)散，僅在特定的視角能夠進(jìn)行明亮的顯示。這樣，在本實(shí)施方式的情況下，由于在視角擴(kuò)大膜7的最表面配置有擴(kuò)散膜50，因此不會(huì)使光的擴(kuò)散角度集中成一個(gè)。其結(jié)果是，能夠使視角擴(kuò)大膜7的光擴(kuò)散特性更加平緩，能夠得到廣視角且明亮的顯示。另外,在本實(shí)施方式中,視角擴(kuò)大膜7以擴(kuò)散膜50構(gòu)成為,使得從擴(kuò)散膜50的光擴(kuò)散部40的相反一側(cè)的面50f 射入，在粘結(jié)劑樹(shù)脂等基材和光散射體52的界面反射或者在光散射體52折射從而改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行前向散射。這種全反射條件能夠通過(guò)例如對(duì)擴(kuò)散膜50所含的光散射體52的粒子的大小進(jìn)行適當(dāng)變更來(lái)滿足。圖4是本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的截面圖。如圖4所示，在本實(shí)施方式的情況下，視角擴(kuò)大膜7的擴(kuò)散膜50構(gòu)成為在擴(kuò)散膜50的面50f，使從面50f射入內(nèi)部且由光散射體52改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行Mie散射，不發(fā)生所謂的后向散射(反向散射)。由此，能夠抑制顯示品質(zhì)和對(duì)比度的下降。接著，利用圖5對(duì)上述結(jié)構(gòu)的液晶顯示裝置I的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。以下，以視角擴(kuò)大膜7的制造工序?yàn)橹行倪M(jìn)行說(shuō)明。當(dāng)先對(duì)液晶顯示體6的制造工序的概略進(jìn)行說(shuō)明時(shí)，首先，分別制作TFT基板9和彩色濾光片基板10。然后，使TFT基板9的形成有TFT19的面和彩色濾光片基板10的形成有彩色濾光片31的面相對(duì)配置，且將TFT基板9和彩色濾光片基板10通過(guò)密封部件貼合。然后，向由TFT基板9、彩色濾光片基板10和密封部件圍成的空間內(nèi)注入液晶。然后，利用光學(xué)粘接劑等，在這樣形成的液晶面板4的兩面分別貼合第一偏光板3、第二偏光板5。經(jīng)過(guò)以上工序,完成液晶顯示體6。另外，由于TFT基板9和彩色濾光片基板10的制造方法使用現(xiàn)有公知的方法，因此省略說(shuō)明。首先，如圖5A所示，準(zhǔn)備IOcm見(jiàn)方且厚度為100 ii m的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的基材39，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在該基材39的一個(gè)面涂布含有碳的黑色負(fù)性抗蝕劑(blacknegative resist)作為遮光層材料,形成膜厚150nm的涂膜44。
接下來(lái)，將形成有上述的涂膜44的基材39載置在加熱板上，以90°C的溫度，進(jìn)行涂膜的預(yù)焙烘。由此，黑色負(fù)性抗蝕劑中的溶劑揮發(fā)。接下來(lái)，利用曝光裝置，如圖5B所示，經(jīng)由設(shè)置有多個(gè)遮光圖案46的光掩模45，向涂膜44照射光E，進(jìn)行 曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nm的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為100mJ/cm2。在本實(shí)施方式的情況下,在下個(gè)工序中，以遮光層41為掩模，進(jìn)行透明負(fù)性抗蝕劑的曝光，形成光擴(kuò)散部40，因此光掩模45的遮光圖案46的位置與光擴(kuò)散部40的形成位置對(duì)應(yīng)。多個(gè)遮光圖案46全都是直徑20 ii m的圓形圖案，且隨機(jī)地配置。因此，相鄰的遮光圖案46間的間隔(間距)不固定，但將多個(gè)遮光圖案46間的間隔平均所得到的平均間隔為25 u m。遮光圖案46的平均間隔優(yōu)選比液晶面板4的像素的間隔(間距)小。由此，在像素內(nèi)至少形成一個(gè)光擴(kuò)散部40，因此例如，在與移動(dòng)設(shè)備等使用的像素間距小的液晶面板組合時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)廣視角化。利用上述的光掩模45進(jìn)行了曝光以后，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含黑色負(fù)性抗蝕劑的涂膜44的顯影，以100°C進(jìn)行干燥，如圖5C所示，將具有多個(gè)圓形開(kāi)口部的遮光層41形成在基材39的一個(gè)面。圓形開(kāi)口部與下個(gè)工序的光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域?qū)?yīng)。另外，在本實(shí)施方式中，通過(guò)使用黑色負(fù)性抗蝕劑的光刻法形成了遮光層41，但是如果代替該結(jié)構(gòu)，使用本實(shí)施方式的遮光圖案46和光透過(guò)部反轉(zhuǎn)后的光掩模，則也能夠使用正性抗蝕劑。或者，也可以利用蒸鍍法和印刷法、噴墨法等，直接形成圖案化的遮光層41。接下來(lái)，如圖所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在遮光層41的上表面涂布包含丙烯酸樹(shù)脂的透明負(fù)性抗蝕劑以作為光擴(kuò)散部材料，形成膜厚25 y m的涂膜48。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜48的基材39載置在加熱板上，以95°C的溫度，進(jìn)行涂膜48的預(yù)焙烘。由此，透明負(fù)性抗蝕劑中的溶劑揮發(fā)。接下來(lái)，以遮光層41為掩模，從基材39側(cè)向涂膜48照射擴(kuò)散光F，進(jìn)行曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nm的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為600mJ/cm2。在曝光工序中，使用平行光或擴(kuò)散光。另外，作為使從曝光裝置射出的平行光成為擴(kuò)散光F而照射到基材39的裝置，在從曝光裝置射出的光的光路上配置霧度(haze)為50左右的擴(kuò)散板即可。通過(guò)用擴(kuò)散光F進(jìn)行曝光，涂膜48從遮光層41間的開(kāi)口部被放射狀地曝光，形成光擴(kuò)散部40的倒錐狀的側(cè)面。其后，將形成有上述的涂膜48的基材39載置在加熱板上，以95°C的溫度，進(jìn)行涂膜48的曝光后烘烤(PEB)。接下來(lái)，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48的顯影，以100°C進(jìn)行顯影后烘烤，如圖5E所示，將多個(gè)光擴(kuò)散部40形成在基材39的一個(gè)面。接下來(lái)，如圖5F所示，將許多丙烯酸珠等光散射體52分散于丙烯酸樹(shù)脂等粘結(jié)劑樹(shù)脂的內(nèi)部而構(gòu)成的擴(kuò)散膜50經(jīng)由粘接層51配置在基材39的另一個(gè)面。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7。視角擴(kuò)大膜7的總光線透過(guò)率優(yōu)選為90%以上。當(dāng)總光線透過(guò)率為90%以上時(shí)，能夠得到充分的透明性，能夠充分發(fā)揮對(duì)視角擴(kuò)大膜要求的光學(xué)性能。總光線透過(guò)率根據(jù)JIS K7361-1的規(guī)定。另外，在上述的例子中，在遮光層41和光擴(kuò)散部40的形成時(shí)，涂布液狀的抗蝕劑，但也可以將膜狀的抗蝕劑粘貼在基材39的一個(gè)面，來(lái)代替該結(jié)構(gòu)。最后，如圖2所示，利用光學(xué)粘接劑等，將完成后的視角擴(kuò)大膜7以使基材39朝向觀看側(cè)且使光擴(kuò)散部40與第二偏光板5相對(duì)的狀態(tài)，粘貼于液晶顯示體6。通過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的液晶顯示裝置I。根據(jù)本實(shí) 施方式，如圖3A所示，射入視角擴(kuò)大膜7的光L以角度分布比射入視角擴(kuò)大膜7以前更廣的狀態(tài)從視角擴(kuò)大膜7射出。因此，即使觀察者的視線偏離液晶顯示體6的正面方向(法線方向)也能夠觀看良好的顯示。特別是，在本實(shí)施方式的情況下，光擴(kuò)散部40的平面形狀為圓形，因此以液晶顯示體6的畫(huà)面的法線方向?yàn)橹行牡娜轿坏財(cái)U(kuò)大角度分布。因此，觀察者能夠全方位地觀看良好的顯示。另一方面，相對(duì)于視角擴(kuò)大膜7傾斜地射入的光L是傾斜地透過(guò)液晶面板4的光，是與所期望的雙折射相位差(retardation)不同的光，所謂的成為使顯示對(duì)比度下降的主要原因的光。本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7用遮光層41將這種光切斷，因此能夠提高顯示的對(duì)比度。而且，相對(duì)于視角擴(kuò)大膜7從觀看側(cè)射入的外部光也由遮光層41切斷，因此能夠抑制外部光的散射，能夠提高明亮場(chǎng)所的顯示的觀看性。通常，在使條紋和格子等這樣有規(guī)則性的圖案彼此重合的情況下，已知當(dāng)各圖案的周期稍微錯(cuò)開(kāi)時(shí)，觀看到干涉條紋(莫爾條紋)圖形。例如，當(dāng)矩陣狀地排列有多個(gè)光擴(kuò)散部的視角擴(kuò)大膜和矩陣狀地排列有多個(gè)像素的液晶面板重合時(shí)，在視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的周期圖案和液晶面板的像素的周期圖案之間產(chǎn)生莫爾條紋，有可能使顯示品質(zhì)降低。與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置1，由于平面且隨機(jī)地配置有多個(gè)光擴(kuò)散部40，因此不會(huì)在與液晶面板4的像素的規(guī)則的排列之間產(chǎn)生干涉的莫爾條紋，能夠維持顯示品質(zhì)。而且，在形成光擴(kuò)散部40的工序中，假設(shè)利用光掩模從包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48側(cè)進(jìn)行曝光時(shí)，形成有微小尺寸的遮光層41的基材39和光掩模的對(duì)準(zhǔn)很困難，不可避免地產(chǎn)生偏離。其結(jié)果是，在光擴(kuò)散部40和遮光層41之間形成間隙，通過(guò)從該間隙漏光，對(duì)比度有可能下降。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的情況下，以遮光層41為掩模，從基材39的背面?zhèn)日丈涔猓虼斯鈹U(kuò)散部40以自對(duì)準(zhǔn)(自調(diào)整)的狀態(tài)形成于遮光層41的開(kāi)口部的位置。其結(jié)果是，成為光擴(kuò)散部40和遮光層41密接的狀態(tài)，不會(huì)在兩者之間形成間隙，能夠可靠地維持對(duì)比度。另外，光擴(kuò)散部40也可以至少在一部分進(jìn)行連結(jié)。由此，各光擴(kuò)散部40難以傾倒，視角擴(kuò)大膜7的形態(tài)穩(wěn)定性提高。另外，射入視角擴(kuò)大膜7的光被遮光層41吸收的比例變小，因此光的利用率提聞。[第一實(shí)施方式的第一變形例]圖6A和圖6B是表示上述實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第一變形例的示意圖。圖6A是本變形例的液晶顯示裝置IA的立體圖。圖6B是本變形例的液晶顯示裝置IA的截面圖。在上述實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜50配置于基材39的另一個(gè)面(觀看側(cè)的面)，但也可以如圖6A和圖6B所示的視角擴(kuò)大膜7A那樣，擴(kuò)散膜50配置于基材39的一個(gè)面(觀看側(cè)的相反側(cè)的面)。即，擴(kuò)散膜50只要配置在比光擴(kuò)散部40更靠光射出側(cè)即可。在本變形例中，成為如下所述的結(jié)構(gòu)，即，擴(kuò)散膜50經(jīng)由粘接層51固定于基材39的一個(gè)面，在擴(kuò)散膜50的一個(gè)面(觀看側(cè)的相反側(cè)的面)形成有光擴(kuò)散部40和遮光層41。
在該結(jié)構(gòu)中，也能夠不產(chǎn)生莫爾條紋，得到能夠維持顯示品質(zhì)的與第一實(shí)施方式同樣的效果。[第二實(shí)施方式]下面，利用圖7A 圖8F對(duì)本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯不裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，基材含有光散射體這一點(diǎn)與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖7A和圖7B是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意圖。圖7A是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IB的立體圖。圖7B是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IB的截面圖。圖8A 圖8F是表示視角擴(kuò)大膜的制造工序的截面圖。 在圖7 圖8F中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第一實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜50配置于基材39的另一個(gè)面(觀看側(cè)的面)。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7B中，如圖7A和圖SB所示，在基材未配置有擴(kuò)散膜，而是基材自身作為擴(kuò)散膜發(fā)揮功能。即，在基材50B的內(nèi)部分散有許多光散射體52B。在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7B的制造工序中，首先，如圖8A所示，準(zhǔn)備在內(nèi)部分散有許多光散射體52B的基材50B。接下來(lái)，如圖SB所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在該基材50B的一個(gè)面涂布含有碳的黑色負(fù)性抗蝕劑以作為遮光層材料，形成涂膜44。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜44的基材39載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜的預(yù)焙烘。接下來(lái)，利用曝光裝置，如圖8C所示，經(jīng)由設(shè)置有多個(gè)遮光圖案46的光掩模45，向涂膜44照射光E，進(jìn)行曝光。利用上述的光掩模45進(jìn)行了曝光以后，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含黑色負(fù)性抗蝕劑的涂膜44的顯影，并進(jìn)行干燥，如圖8D所示，將具有多個(gè)圓形開(kāi)口部的遮光層41形成在基材50B的一個(gè)面。圓形開(kāi)口部與下個(gè)工序的光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域?qū)?yīng)。接下來(lái)，如圖8E所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在遮光層41的上表面涂布包含丙烯酸樹(shù)脂的透明負(fù)性抗蝕劑以作為光擴(kuò)散部材料，形成涂膜48。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜48的基材50B載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜48的預(yù)焙烘
Zvn o接下來(lái)，以遮光層41為掩模，從基材50B側(cè)向涂膜48照射擴(kuò)散光F，進(jìn)行曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nm的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為600mJ/cm2。在曝光工序中，使用平行光或擴(kuò)散光。另外，在本實(shí)施方式中，由于在基材50B的內(nèi)部分散有光散射體52B，因此從曝光裝置射出的光通過(guò)基材50B以后，成為擴(kuò)散光而到達(dá)涂膜48。因此，通過(guò)將基材50B設(shè)定為規(guī)定的霧度值，作為變成擴(kuò)散光F而照射到基材50B的裝置，不需要在從曝光裝置射出的光的光路上配置擴(kuò)散板。通過(guò)用擴(kuò)散光F進(jìn)行曝光，涂膜48從遮光層41間的開(kāi)口部被放射狀地曝光，形成光擴(kuò)散部40的倒錐狀的側(cè)面。其后，將形成有上述的涂膜48的基材50B載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜48的曝光后烘烤(PEB)。
接下來(lái)，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48的顯影，然后進(jìn)行顯影后烘烤，如圖8F所示，將多個(gè)光擴(kuò)散部40形成在基材50B的一個(gè)面。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7B。最后，如圖7B所示，利用光學(xué)粘接劑等，將完成后的視角擴(kuò)大膜7B以使基材50B朝向觀看側(cè)且使光擴(kuò)散部40與第二偏光板5相對(duì)的狀態(tài)，粘貼于液晶顯示體6。通過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的液晶顯示裝置1B。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置1B，由于基材50B自身作為擴(kuò)散膜發(fā)揮功能，因此不需要新設(shè)置粘接層及擴(kuò)散膜。因而，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的簡(jiǎn)化、薄型化。另外，在視角擴(kuò)大膜7B的制造工序中，基材50B也作為擴(kuò)散板發(fā)揮功能，因此在形成光擴(kuò)散部40時(shí)，也不需要在從曝光裝置射出的光的光路上配置擴(kuò)散板。因而，能夠?qū)崿F(xiàn)制造工序的簡(jiǎn)化。
[第三實(shí)施方式]下面，利用圖9A 圖IlB對(duì)本發(fā)明的第三實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖9A和圖9B是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意圖。圖9A是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IC的立體圖。圖9B是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IC的截面圖。圖IOA 圖IlB是用于對(duì)視角擴(kuò)大膜的作用進(jìn)行說(shuō)明的圖。另外，在圖9 圖IlB中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第一實(shí)施方式中，多個(gè)光擴(kuò)散部40全都是同一尺寸。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7C中，如圖9A所示，多個(gè)光擴(kuò)散部40C的尺寸(直徑)不同。例如，多個(gè)光擴(kuò)散部40C的直徑以15 25iirn的范圍分布。即，多個(gè)光擴(kuò)散部40C具有多種尺寸。另夕卜，多個(gè)光擴(kuò)散部40C與第一實(shí)施方式同樣，平面且隨機(jī)地配置。其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式同樣。在本實(shí)施方式的情況下，如圖IOA和圖IlA所示，光擴(kuò)散部40C的xy平面的截面形狀是與第一實(shí)施方式的光擴(kuò)散部40(參照?qǐng)DIOB和圖11B)同樣的圓形。因此，在xz平面內(nèi)，視角擴(kuò)大膜7C擴(kuò)大光的角度分布的作用也與第一實(shí)施方式同樣?？墒?，在第一實(shí)施方式中，多個(gè)光擴(kuò)散部40全都為同一尺寸，與此相對(duì),如圖IOA和圖IlA所不,在本實(shí)施方式中，多個(gè)光擴(kuò)散部40C的尺寸不同。如圖IOB所示，當(dāng)光擴(kuò)散部40為一定形狀時(shí)，為了增大光透過(guò)部分(光擴(kuò)散部)的比例，即使減小光擴(kuò)散部的間距，也會(huì)大面積地殘留遮光部分(遮光層)。其結(jié)果是，由遮光層遮擋的光的比例增大。另外，如圖IlB所示，當(dāng)隨機(jī)地配置一定形狀的光擴(kuò)散部40時(shí)，產(chǎn)生多個(gè)光擴(kuò)散部40直線地并列的部分。與此相對(duì)，如圖IlA所示，當(dāng)隨機(jī)地配置尺寸不同的形狀的光擴(kuò)散部40C時(shí)，多個(gè)光擴(kuò)散部40C直線地并列的比例減小。即，通過(guò)將多個(gè)光擴(kuò)散部的尺寸設(shè)為多種，或隨機(jī)地變化，例如，能夠由直徑小的圓形的光擴(kuò)散部填充直徑大的圓形的光擴(kuò)散部之間，能夠提高光擴(kuò)散部的配置密度。其結(jié)果是，能夠減小由遮光層遮擋的光的比例，能夠提高光的利用效率。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置1C，除隨機(jī)地配置有多個(gè)光擴(kuò)散部40C以外，光擴(kuò)散部40C的大小也不同，因此能夠更可靠地抑制光的衍射現(xiàn)象造成的莫爾條紋。[第四實(shí)施方式]下面，利用圖12 圖14B對(duì)本發(fā)明的第四實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的形狀與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖12是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖13A是本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7D的截面圖。圖13B是表示視角擴(kuò)大膜的制造所使用的光掩模的平面圖。圖14A和圖14B是用于對(duì)本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的制造方法進(jìn)行說(shuō)明的圖。 另外，在圖12 圖14B中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第一實(shí)施方式中，多個(gè)光擴(kuò)散部全都是同一形狀。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7D中，如圖12和圖13A所示，在多個(gè)光擴(kuò)散部40D中，光射出端面40Da的尺寸(遮光層41D的開(kāi)口部的尺寸)不同，側(cè)面40Dc的傾斜角度也不同。即，當(dāng)看多個(gè)光擴(kuò)散部40D整體時(shí)，多個(gè)光擴(kuò)散部40D的光射出端面40Da具有多種尺寸，多個(gè)光擴(kuò)散部40D的側(cè)面40Dc具有多種傾斜角度。另外，在多個(gè)光擴(kuò)散部40D中，隨著側(cè)面40Dc的傾斜角度不同，光入射端面40Db的尺寸也不同。其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式同樣。如圖13B所示，遮光層41的形成時(shí)使用的光掩模69的多個(gè)遮光圖案70的尺寸不同，直徑以5 25 ii m的范圍分布。當(dāng)利用該光掩模69形成遮光層41D時(shí)，能夠得到多個(gè)開(kāi)口部的尺寸不同的遮光層41D。其后，如圖14A所示，當(dāng)以遮光層41D為掩模從基材39側(cè)進(jìn)行包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48的曝光時(shí)，如圖14A的附圖標(biāo)記A所示的部位那樣，在遮光層41D的開(kāi)口部41Da的尺寸大的部位，擴(kuò)散光F中，相對(duì)于基材39以較大的入射角射入的光難以由遮光層41D遮光。因此,在該部位,相對(duì)于基材39以較大的入射角射入的光有助于涂膜48的曝光，因此如圖14B所示，光擴(kuò)散部40D的側(cè)面40Dc的傾斜角度變陡。另一方面，如圖14A的附圖標(biāo)記B所示的部位那樣，在遮光層41D的開(kāi)口部41Da的尺寸小的部位，以較大的入射角射入的光容易由遮光層41D遮擋。因此，在該部位，相對(duì)于基材39以較大的入射角射入的光不能有助于涂膜48的曝光，因此如圖14B所示，光擴(kuò)散部40D的側(cè)面40Dc的傾斜角度變平緩。這樣，通過(guò)使遮光層41D的開(kāi)口部41Da的尺寸不同，不僅能夠使光擴(kuò)散部40D的光射出端面40Da的尺寸不同，而且還能夠使側(cè)面40Dc的傾斜角度不同。當(dāng)然，也可以如第一實(shí)施方式那樣，使擴(kuò)散光的擴(kuò)散角度因場(chǎng)所而變化。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置1D，多個(gè)光擴(kuò)散部40D的側(cè)面40Dc的傾斜角度互不相同，因此能夠在側(cè)面40Dc的傾斜角度不同的多個(gè)光擴(kuò)散部40D之間互補(bǔ)地?cái)U(kuò)大光的全反射角度的范圍。其結(jié)果是，在改變角度觀察液晶顯示裝置ID時(shí)，亮度隨著觀察角度而平緩地變化，能夠提高視角特性。另外，在本實(shí)施方式中，優(yōu)選將光擴(kuò)散部40D的側(cè)面40Dc的傾斜角度設(shè)為多種，因此亮度平緩地變化。但是，至少使一部分光擴(kuò)散部的傾斜角度與其他光擴(kuò)散部不同，即使僅設(shè)定兩種傾斜角度，也能夠得到視角特性的提高效果。
[第五實(shí)施方式]下面，利用圖15、圖16對(duì)本發(fā)明的第五實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的形狀與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖15是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖16是本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的截面圖。另外，在圖15、圖16中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在上述的第一實(shí)施方式中，在著眼于一個(gè)光擴(kuò)散部時(shí)，光擴(kuò)散部的側(cè)面具有一定的傾斜角度。與此相對(duì)，如圖15和圖16所示，本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7E的各光擴(kuò)散部40E的側(cè)面40Ec從光射出端面40Ea到光入射端面40Eb平緩地彎曲成凸?fàn)睿瑑A斜角度因場(chǎng)所而不同。其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式同樣。在本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IE中，能夠不產(chǎn)生莫爾條紋地維持顯示品質(zhì)，得到與第一實(shí)施方式同樣的效果。另外，在光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度為一定的情況下，在使觀察角度沿畫(huà)面的水平方向或垂直方向變化時(shí)，有時(shí)因觀察角度不同會(huì)看到顯示不均勻。作為該顯示不均勻的對(duì)策，在第四實(shí)施方式中，多個(gè)光擴(kuò)散部整體地側(cè)面具有多種傾斜角度。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7E中，在各個(gè)光擴(kuò)散部40E，傾斜角度也因側(cè)面40Ec的場(chǎng)所而不同，因此與側(cè)面的傾斜角度為一定的情況相比，光的反射角度分布廣。由此，亮度能夠隨著觀察角度而平緩地變化，能夠提高視角特性。[第六實(shí)施方式]下面，利用圖17 圖19J對(duì)本發(fā)明的第六實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部的形狀與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖17是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的截面圖。圖18是表示本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的平面圖。另外，在圖17、圖18中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第一實(shí)施方式中,光擴(kuò)散部的各光擴(kuò)散部為大致圓錐臺(tái)形狀,光入射端面、光射出端面的平面形狀都為圓形。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7F中，如圖17、圖18所示，各光擴(kuò)散部40F為八角錐臺(tái)形狀，光入射端面40Fb、光射出端面40Fa的平面形狀都為八邊形。在各光擴(kuò)散部40F的平面形狀即八邊形的八個(gè)邊中，以相互平行的兩個(gè)邊為一組的四組邊分別配置為朝向平行于X軸的方向、朝向平行于y軸的方向、朝向與X軸成45°的角度的方向(以X軸的正方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)看到的角度)、朝向與X軸成135°的角度的方向。其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式同樣。在制作上述結(jié)構(gòu)的視角擴(kuò)大膜7F時(shí),在遮光層41F的形成工序中使用具有八邊形的遮光圖案的光掩模即可。在本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IF中，也能夠不產(chǎn)生莫爾條紋地維持顯示品質(zhì)，得到與第一實(shí)施方式同樣的效果。而且，根據(jù)第一實(shí)施方式，由于光擴(kuò)散部的平面形狀為圓形，因此光以液晶顯示體6的法線方向?yàn)橹行亩轿坏財(cái)U(kuò)散，全方位地發(fā)揮視角擴(kuò)大效果。與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式，光擴(kuò)散部40F的平面形狀為八邊形，上述的四組邊分別朝向平行于X軸的方向、平行于y軸的方向、與X軸成45°的角度的方向、與X軸成135°的角度的方向，因此光集中到上述的四個(gè)方位擴(kuò)散。因此，在液晶顯示裝置中特別重視視角特性的畫(huà)面的水平方向、垂直方向和斜方向上，發(fā)揮視角擴(kuò)大效果。另外，光擴(kuò)散部40F的平面形狀不局限于八邊形，能夠采用其他多邊形。在該情況下，根據(jù)多邊形的形狀和邊的配置，光集中地在特定的方向擴(kuò)散，因此能夠提供在特定的觀察方位上發(fā)揮優(yōu)異的視角擴(kuò)大效果的液晶顯示裝置。另外,在第一實(shí)施方式中，如圖19A所不,表不了平面形狀為圓形的光擴(kuò)散部40的例子，但也可以使用例如如圖19B所示那樣的平面形狀為正方形的光擴(kuò)散部40G?；蛘?，如 圖19C所示，也可以使用平面形狀為正八邊形的光擴(kuò)散部40H?；蛘撸鐖D19D所示，也可以 使用使正方形的相對(duì)的兩個(gè)邊向外側(cè)彎曲而成的形狀的光擴(kuò)散部401?；蛘?，如圖19E所示，也可以使用使兩個(gè)長(zhǎng)方形在正交的兩個(gè)方向上交叉的形狀的光擴(kuò)散部40J。或者，如圖19F所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的橢圓形狀的光擴(kuò)散部40K?；蛘撸鐖D19G所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形狀的光擴(kuò)散部40L?；蛘?，如圖19H所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的八邊形狀的光擴(kuò)散部40M?；蛘?，如圖191所示，也可以使用使細(xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形的相對(duì)的兩個(gè)邊向外側(cè)彎曲的形狀的光擴(kuò)散部40N?；蛘撸鐖D19J所示，也可以使用使縱橫比不同的兩個(gè)長(zhǎng)方形在正交的兩個(gè)方向上交叉的形狀的光擴(kuò)散部40P。另外，圖19A 圖19J的形狀也可以在多個(gè)方向上旋轉(zhuǎn)。例如，如果是圖19B所示的正方形狀的光擴(kuò)散部40G，則光向垂直于正方形的各邊的方向擴(kuò)散。另外，如果是圖19G所示的長(zhǎng)方形狀的光擴(kuò)散部40L，則向垂直于長(zhǎng)邊的方向的光的擴(kuò)散比向垂直于短邊的方向的光的擴(kuò)散強(qiáng)。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)因邊的長(zhǎng)度不同光的擴(kuò)散強(qiáng)度在垂直方向(上下方向)和水平方向(左右方向)上不同的視角擴(kuò)大膜。這樣，在要求視角的各向異性的情況下，通過(guò)適當(dāng)變更遮光部的形狀，能夠得到不同的光擴(kuò)散特性。[第七實(shí)施方式]下面，利用圖20A 圖22J對(duì)本發(fā)明的第七實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的光擴(kuò)散部和遮光層的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖20A和圖20B是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意圖。圖20A是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101的立體圖。圖20B是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101的截面圖。圖21A 圖21E是表示視角擴(kuò)大膜的制造工序的截面圖。在圖20 圖21E中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。第一實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜7具備形成于基材39的一個(gè)面的多個(gè)光擴(kuò)散部40 ；和在基材39的一個(gè)面，形成于光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域以外的區(qū)域的遮光層41，多個(gè)光擴(kuò)散部40在從基材39的一個(gè)面的法線方向看時(shí)分散地配置，遮光層41連續(xù)地形成于光擴(kuò)散部40的形成區(qū)域以外的區(qū)域。與此相對(duì)，本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107具備形成于基材39的一個(gè)面的多個(gè)遮光層141 ;和在基材39的一個(gè)面，形成于遮光層141的形成區(qū)域以外的區(qū)域的光擴(kuò)散部140，多個(gè)遮光層141在從基材39的一個(gè)面的法線方向看時(shí)分散地配置，光擴(kuò)散部140連續(xù)地形成于遮光層141的形成區(qū)域以外的區(qū)域。多個(gè)遮光層141分散且隨機(jī)(非周期地)地配置在基材39上。隨之，形成于與多個(gè)遮光層141相同的位置的多個(gè)中空部143也隨機(jī)地配置在基材39上。在本實(shí)施方式中，從基材39的法線方向看各遮光層141時(shí)的平面形狀為圓形。各遮光層141的直徑為例如lOiim。多個(gè)遮光層141全都成為同一直徑。通過(guò)多個(gè)遮光層141分散地形成在基材39上，本實(shí)施方式的光擴(kuò)散部140連續(xù)地形成在基材39上。在視角擴(kuò)大膜107的遮光層141的形成區(qū)域形成有中空部143，該中空部143具有用平行于基材39的一個(gè)面的平面切斷時(shí)的截面積在遮光層141側(cè)較大，隨著遠(yuǎn)離遮光層141逐漸變小的形狀。即，中空部143在從基材39側(cè)看時(shí)，具有所謂的順錐狀的大致圓錐臺(tái)狀的形狀。在中空部143的內(nèi)部存在空氣。視角擴(kuò)大膜107的中空部143以外的部分即光 擴(kuò)散部140連續(xù)存在的部分是有助于光透過(guò)的部分。射入光擴(kuò)散部140的光在該光擴(kuò)散部140和中空部143的界面全反射，并且以大致封閉的狀態(tài)在光擴(kuò)散部140的內(nèi)部進(jìn)行傳導(dǎo)，并經(jīng)由基材39射出到外部。在本實(shí)施方式的情況下，由于在中空部143存在空氣，因此當(dāng)由例如透明樹(shù)脂形成光擴(kuò)散部140時(shí)，光擴(kuò)散部140的側(cè)面140c成為透明樹(shù)脂和空氣的界面。在此，光擴(kuò)散部140的內(nèi)部和外部的界面的折射率差，在中空部143由空氣充填時(shí)，比光擴(kuò)散部140的周圍由其他一般的低折射率材料充填時(shí)大。因此，由斯內(nèi)爾定律可知，光在光擴(kuò)散部140的側(cè)面140c發(fā)生全反射的入射角范圍大。其結(jié)果是，能夠進(jìn)一步抑制光的損失，能夠得到高亮度。另外，也可以在中空部143充填有氮等惰性氣體(不活潑氣體)，來(lái)代替空氣。或者，中空部143的內(nèi)部也可以為真空狀態(tài)。接著，利用圖21A 圖21E對(duì)上述結(jié)構(gòu)的液晶顯示裝置101的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。在下述中，以視角擴(kuò)大膜107的制造工序?yàn)橹行倪M(jìn)行說(shuō)明。首先，如圖21A所示，準(zhǔn)備IOcm見(jiàn)方且厚度為100 ii m的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate)的基材39,利用旋轉(zhuǎn)涂布法,在該基材39的一個(gè)面涂布含有碳的黑色負(fù)性抗蝕劑以作為遮光層材料，形成膜厚150nm的涂膜44。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜44的基材39載置在加熱板上，以90°C的溫度，進(jìn)行涂膜的預(yù)焙烘。由此，黑色負(fù)性抗蝕劑中的溶劑揮發(fā)。接下來(lái)，利用曝光裝置，經(jīng)由形成有平面形狀為圓形的多個(gè)開(kāi)口圖案146的光掩模145，向涂膜44照射光E，進(jìn)行曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nm的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為100mJ/cm2。如圖21A所不,遮光層141的形成時(shí)使用的光掩模145具有隨機(jī)配置的多個(gè)圓形的開(kāi)口圖案146。在設(shè)計(jì)該光掩模145時(shí)，首先，將開(kāi)口圖案146以一定的間距規(guī)則地配置，接著，利用隨機(jī)函數(shù)，例如，通過(guò)使開(kāi)口圖案146的中心點(diǎn)等各開(kāi)口圖案146的基準(zhǔn)位置數(shù)據(jù)搖擺(波動(dòng))，且使開(kāi)口圖案146的位置分散開(kāi)，能夠制作具有隨機(jī)配置的多個(gè)開(kāi)口圖案146的光掩模145。另外，開(kāi)口圖案146的平均間隔優(yōu)選比液晶面板4的像素的間隔(間距)小。由此，在像素內(nèi)至少形成一個(gè)遮光層141，因此在與例如移動(dòng)設(shè)備等使用的像素間距小的液晶面板組合時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)廣視角化。利用上述的光掩模145進(jìn)行曝光以后，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含黑色負(fù)性抗蝕劑的涂膜44的顯影，以100°C進(jìn)行干燥，如圖21B所示，將平面形狀為圓形的多個(gè)遮光層141形成在基材39的一個(gè)面。在本實(shí)施方式的情況下，在下個(gè)工序中，以包含黑色負(fù)性抗蝕劑的遮光層141為掩模，進(jìn)行透明負(fù)性抗蝕劑的曝光，形成中空部143。因此，光掩模145的開(kāi)口圖案146的位置與中空部143的形成位置對(duì)應(yīng)。圓形的遮光層141與下個(gè)工序的光擴(kuò)散部140的非形成區(qū)域(中空部143)對(duì)應(yīng)。多個(gè)開(kāi)口圖案146全都是直徑為IOiim的圓形圖案。另外，在本實(shí)施方式中，通過(guò)利用黑色負(fù)性抗蝕劑的光刻法，形成遮光層141，但是，如果代替該結(jié)構(gòu)，使用本實(shí)施方式的開(kāi)口圖案146和遮光圖案反轉(zhuǎn)后的光掩模，則也能夠使用具有光吸收性的正性抗蝕劑?；蛘?，也可以利用蒸鍍法、印刷法等，直接形成圖案化 的遮光層141。接下來(lái)，如圖21C所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在遮光層141的上表面涂布包含丙烯酸樹(shù)脂的透明負(fù)性抗蝕劑以作為光透過(guò)部材料，形成膜厚25 y m的涂膜48。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜48的基材39載置在加熱板上，以95°C的溫度，進(jìn)行涂膜48的預(yù)焙烘。由此，透明負(fù)性抗蝕劑中的溶劑揮發(fā)。接下來(lái)，以遮光層141為掩模，從基材39側(cè)向涂膜48照射擴(kuò)散光F，進(jìn)行曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nm的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為600mJ/crn2。在曝光工序中，利用平行光或擴(kuò)散光。另外，作為使從曝光裝置射出的平行光成為擴(kuò)散光F來(lái)照射到基材39的裝置，在從曝光裝置射出的光的光路上配置霧度為50左右的擴(kuò)散板。通過(guò)用擴(kuò)散光F進(jìn)行曝光，涂膜48以從遮光層141的非形成區(qū)域向外側(cè)擴(kuò)大的方式被放射狀地曝光，由此，形成順錐狀的中空部143，在光擴(kuò)散部140的與中空部143面對(duì)的部分形成倒錐狀的側(cè)面。其后，將形成有上述的涂膜48的基材39載置在加熱板上，以95°C的溫度，進(jìn)行涂膜48的曝光后烘烤(PEB)。接下來(lái)，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48的顯影，以100°C進(jìn)行顯影后烘烤，如圖21D所示，將具有多個(gè)中空部143的光擴(kuò)散部140形成在基材39的
一個(gè)面。接下來(lái)，如圖21E所示，將許多丙烯酸珠等光散射體52分散于丙烯酸樹(shù)脂等粘結(jié)劑樹(shù)脂的內(nèi)部而構(gòu)成的擴(kuò)散膜50通過(guò)粘接層51配置在基材39的另一個(gè)面。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107。視角擴(kuò)大膜107的總光線透過(guò)率優(yōu)選為90%以上。當(dāng)總光線透過(guò)率為90%以上時(shí)，能夠得到充分的透明性，能夠充分發(fā)揮對(duì)視角擴(kuò)大膜107要求的光學(xué)性能?？偣饩€透過(guò)率基于JIS K7361-1的規(guī)定。另外，在上述的例子中，在遮光層141及光擴(kuò)散部140的形成時(shí)，涂布液狀的抗蝕齊U，但也可以將膜狀的抗蝕劑粘貼在基材39的一個(gè)面，來(lái)代替該結(jié)構(gòu)。最后，如圖20B所示，利用光學(xué)粘接劑等，將完成后的視角擴(kuò)大膜107以使基材39朝向觀看側(cè)且使光擴(kuò)散部140與第二偏光板5相對(duì)的狀態(tài)，粘貼于液晶顯示體6。通過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101。
在本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101中，也能夠不會(huì)使制造工藝復(fù)雜化地制作能夠發(fā)揮所期望的光擴(kuò)散性能的視角擴(kuò)大膜，得到與第一實(shí)施方式同樣的效果。另外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于多個(gè)遮光層141平面且隨機(jī)地配置，因此不會(huì)在與液晶面板4的像素的規(guī)則排列之間產(chǎn)生干涉造成的莫爾條紋，能夠維持顯示品質(zhì)。另外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，設(shè)置于視角擴(kuò)大膜107的多個(gè)中空部143孤立，成為光擴(kuò)散部140的部分為在面內(nèi)連續(xù)的形狀。由此，例如，即使為提高光的擴(kuò)散程度而提高中空部143的密度并減小光擴(kuò)散部140的體積，也能夠充分確保光擴(kuò)散部140和基材39的接觸面積，因此光擴(kuò)散部140和基材39之間的密接力強(qiáng)。因此，難以產(chǎn)生外力等造成的光擴(kuò)散部140的缺陷，能夠?qū)崿F(xiàn)所期望的光擴(kuò)散功能。另外，以遮光層140為掩模，從基材39的背面?zhèn)认蛲该鳂?shù)脂層照射光F，因此光擴(kuò)散部140以自對(duì)準(zhǔn)(自調(diào)整)的狀態(tài)形成在遮光層141的非形成區(qū)域。其結(jié)果是，光擴(kuò)散部140和遮光層141不重疊，能夠可靠地維持透光率。另外，由于不需要精密的對(duì)準(zhǔn)作業(yè)， 因此能夠縮短制造所需要的時(shí)間。另外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于各中空部143的體積相同，因此在將透明樹(shù)脂層顯影時(shí)除去的樹(shù)脂的體積一定。因此，在形成各中空部143的工序中，各中空部143的顯影速度一定，能夠形成所期望的錐形狀。其結(jié)果是，視角擴(kuò)大膜107的微細(xì)形狀的均勻性提高，提高成品率。另外，在本實(shí)施方式中，如圖22A所示，表示了平面形狀為圓形的遮光層141的例子，但也可以使用例如如圖22B所示的平面形狀為正方形的遮光層141G?；蛘?，如圖22C所示，也可以使用平面形狀為正八邊形的遮光層141H?；蛘撸鐖D22D所示，也可以使用使正方形的相對(duì)的兩個(gè)邊向外側(cè)彎曲的形狀的遮光層1411?；蛘?，如圖22E所示，也可以使用使兩個(gè)長(zhǎng)方形在正交的兩個(gè)方向上交叉的形狀的遮光層141J。或者，如圖22F所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的橢圓形狀的遮光層141K?；蛘撸鐖D22G所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形狀的遮光層141L?；蛘?，如圖22H所示，也可以使用細(xì)長(zhǎng)的八邊形狀的遮光層141M?；蛘?，如圖221所示，也可以使用使細(xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形的相對(duì)的兩個(gè)邊向外側(cè)彎曲的形狀的遮光層141N?；蛘撸鐖D22J所示，也可以使用使縱橫比不同的兩個(gè)長(zhǎng)方形在正交的兩個(gè)方向上交叉的形狀的遮光層141P。另外，圖22A J的形狀也可以在多個(gè)方向上旋轉(zhuǎn)。本實(shí)施方式的遮光層141的平面形狀為如圖22A所示的圓形，因此光擴(kuò)散部140的側(cè)面140c即反射面的截面形狀也為圓形。因此，在光擴(kuò)散部140的側(cè)面140c反射的光向360度、全方位擴(kuò)散。與此相對(duì)，例如，如果是圖22B所示的正方形狀的遮光層141G，則光向垂直于正方形的各邊的方向擴(kuò)散。另外，如果是圖22G所示的長(zhǎng)方形狀的遮光層141L，則向垂直于長(zhǎng)邊的方向的光的擴(kuò)散比向垂直于短邊的方向的光的擴(kuò)散強(qiáng)。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)因邊的長(zhǎng)度不同光的擴(kuò)散強(qiáng)度在垂直方向(上下方向)和水平方向(左右方向)上不同的光擴(kuò)散片。另外，如果是圖22C所示的八邊形狀的遮光層141H，則能夠使光集中地向在液晶顯示裝置中特別重視視角特性的垂直方向、水平方向和斜45度方向擴(kuò)散。這樣，在要求視角的各向異性的情況下，通過(guò)適當(dāng)改變遮光部的形狀，能夠得到不同的光擴(kuò)散特性。[第七實(shí)施方式的第一變形例]圖23A和圖23B是表示上述實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的第一變形例的示意圖。圖23A是本變形例的視角擴(kuò)大膜107A的立體圖。圖23B是本變形例的視角擴(kuò)大膜107A的截面圖。在上述實(shí)施方式中，將多個(gè)遮光層141分別獨(dú)立地形成在基材39的一個(gè)面，但也可以如圖23A和圖23B所示的視角擴(kuò)大膜107A那樣，多個(gè)遮光層141A至少在一部分進(jìn)行連結(jié)。在本變形例中，相鄰的兩個(gè)遮光層141A連結(jié)，形成于被連結(jié)的遮光層141A的形成區(qū)域的中空部143A也成為一部分連接的結(jié)構(gòu)。另外，如圖23B所示，中空部143A也可以由光擴(kuò)散部140A封閉。在該結(jié)構(gòu)中，也能夠充分地確保光擴(kuò)散部140A和基材39的接觸面積，因 此光擴(kuò)散部140A和基材39之間的密接力強(qiáng)。另外，在光擴(kuò)散部140A連結(jié)時(shí)，入射到視角擴(kuò)大膜107A的光被遮光層141A吸收的比例小，因此光的利用效率提高。[第八實(shí)施方式]下面，利用圖24A 圖25E對(duì)本發(fā)明的第八實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯不裝置的基本結(jié)構(gòu)與第七實(shí)施方式相同，基材含有光散射體這一點(diǎn)與第七實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖24A和圖24B是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意圖。圖24A是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IOlB的立體圖。圖24B是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IOlB的截面圖。圖25A 圖25E是按照制造工序的順序來(lái)表示視角擴(kuò)大膜的截面圖。在圖24A 圖25E中，對(duì)與第七實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第七實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜50配置于基材39的另一個(gè)面(觀看側(cè)的面)。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107B，如圖24A和圖24B所示，在基材未配置有擴(kuò)散膜，而是基材自身作為擴(kuò)散膜發(fā)揮功能。即，在基材150B的內(nèi)部分散有許多光散射體152B。在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107B的制造工序中，首先，如圖25A所示，準(zhǔn)備在內(nèi)部分散有許多光散射體152B的基材150B。接下來(lái)，如圖25B所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在該基材150B的一個(gè)面涂布含有碳的黑色負(fù)性抗蝕劑以作為遮光層材料，形成涂膜44。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜44的基材39載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜的預(yù)焙烘。接下來(lái)，利用曝光裝置，經(jīng)由設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口圖案146的光掩模145，向涂膜44照射光E,進(jìn)行曝光。利用上述的光掩模145進(jìn)行了曝光以后，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含黑色負(fù)性抗蝕劑的涂膜44的顯影，并進(jìn)行干燥，如圖25C所示，將平面形狀為圓形的多個(gè)遮光層141形成在基材150B的一個(gè)面。接下來(lái)，如圖2 所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法，在遮光層141的上表面涂布包含丙烯酸樹(shù)脂的透明負(fù)性抗蝕劑以作為光擴(kuò)散部材料，形成涂膜48。接下來(lái)，將形成有上述的涂膜48的基材150B載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜48的預(yù)焙烘。接下來(lái)，以遮光層141為掩模，從基材150B側(cè)向涂膜48照射擴(kuò)散光F，進(jìn)行曝光。此時(shí)，使用的是利用波長(zhǎng)365nm的i線、波長(zhǎng)404nm的h線、波長(zhǎng)436nrn的g線的混合線的曝光裝置。曝光量設(shè)為600mJ/cm2。在曝光工序中，使用平行光或擴(kuò)散光。另外，在本實(shí)施方式中，由于在基材150B的內(nèi)部分散有光散射體152B，因此從曝光裝置射出的光在通過(guò)基材150B以后成為擴(kuò)散光，到達(dá)涂膜48。因此，作為通過(guò)將基材150B設(shè)定為規(guī)定的霧度值，來(lái)制成擴(kuò)散光F照射到基材150B的裝置，不需要在從曝光裝置射出的光的光路上配置擴(kuò)散板。通過(guò)用擴(kuò)散光F進(jìn)行曝光，涂膜48以從遮光層141的非形成區(qū)域向外側(cè)擴(kuò)展的方式被放射狀地曝光。由此，形成順錐狀的中空部143，在光擴(kuò)散部140的與中空部143面對(duì)的部分形成倒錐狀的側(cè)面。其后，將形成有上述的涂膜48的基材150B載置在加熱板上，進(jìn)行涂膜48的曝光后烘烤(PEB)。接下來(lái)，利用專用的顯影液，進(jìn)行包含透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜48的顯影，并進(jìn)行顯影后烘烤，如圖25E所示，將具有多個(gè)中空部143的光擴(kuò)散部140形成在基材150B的一個(gè)面。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107B。 最后，如圖24B所示，利用光學(xué)粘接劑等，將完成后的視角擴(kuò)大膜107B以使基材150B朝向觀看側(cè)、使光擴(kuò)散部140與第二偏光板5相對(duì)的狀態(tài)，粘貼于液晶顯示體6。通過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101B。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置101B，由于基材150B自身作為擴(kuò)散膜發(fā)揮功能，因此不需要重新設(shè)置粘接層和擴(kuò)散膜。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的簡(jiǎn)化、薄型化。另外，在視角擴(kuò)大膜107B的制造工序中，基材150B也作為擴(kuò)散板發(fā)揮功能，因此在形成光擴(kuò)散部140時(shí)，也不需要在從曝光裝置射出的光的光路上配置擴(kuò)散板。因而，能夠?qū)崿F(xiàn)制造工序的簡(jiǎn)化。[第九實(shí)施方式下面，利用圖26A和圖26B對(duì)本發(fā)明的第九實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第七實(shí)施方式相同，視角擴(kuò)大膜的遮光層的結(jié)構(gòu)與第七實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)視角擴(kuò)大膜進(jìn)行說(shuō)明。圖26A和圖26B是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意圖。圖26A是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IOlC的立體圖。圖26B是本實(shí)施方式的液晶顯示裝置IOlC的截面圖。另外，在圖26中，對(duì)與第七實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。在第七實(shí)施方式中，多個(gè)遮光層141全都是同一尺寸。與此相對(duì),在本實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜107C，如圖26A所示，多個(gè)遮光層141C的尺寸(直徑)不同。例如，多個(gè)遮光層141C的直徑以IOiim 25iim的范圍分布。即，多個(gè)遮光層141C具有多種尺寸。另外，多個(gè)遮光層141C與第七實(shí)施方式同樣，平面且隨機(jī)地配置。另外，在多個(gè)中空部143C中，至少一個(gè)中空部143C的體積與其他中空部143C的體積不同。其他結(jié)構(gòu)與第七實(shí)施方式同樣。在本實(shí)施方式的情況下，除了多個(gè)遮光層141C隨機(jī)(任意)地配置以外，遮光層141C的大小也不同，因此能夠更可靠地抑制光的衍射現(xiàn)象造成的莫爾條紋。另外，由于至少一個(gè)中空部143C的體積與其他中空部143C的體積不同，因此能夠提高光擴(kuò)散性。[第十實(shí)施方式]下面，利用圖27對(duì)本發(fā)明的第十實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同，具備觸摸面板這一點(diǎn)與第一實(shí)施方式不同。因此，在本實(shí)施方式中，省略液晶顯示裝置的基本結(jié)構(gòu)的說(shuō)明，僅對(duì)觸摸面板的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖27是表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置84的截面圖。另外，在圖27中，對(duì)與第一實(shí)施方式使用的附圖共同的構(gòu)成要素標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，省略其詳細(xì)的說(shuō)明。 在本實(shí)施方式的液晶顯示裝置84中，如圖27所示，從背光源2到光擴(kuò)散片7的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。而且，在構(gòu)成光擴(kuò)散片7的基材39的觀看側(cè)配置有觸摸面板85 (信息輸入裝置)。在以下的說(shuō)明中，將構(gòu)成光擴(kuò)散片7的基材39稱為“光擴(kuò)散片用基材”。觸摸面板85在光擴(kuò)散片用基材39的周緣部，通過(guò)雙面膠帶等粘接件86，被粘貼在光擴(kuò)散片用基材39上。在觸摸面板85和光擴(kuò)散片用基材39之間形成有粘接件86的厚度大小的間隙。即，在觸摸面板85和光擴(kuò)散片用基材39之間存在空氣層87。觸摸面板85具有基材88和位置檢測(cè)用電極89。在以下的說(shuō)明中，將構(gòu)成觸摸面板85的基材88稱為“觸摸面板用基材”。在包括玻璃等的觸摸面板用基材88的一個(gè)面，形成有包含ITO、ATO (Antimony-doped Tin Oxide (摻銻二氧化錫)摻雜有銻的錫氧化物)等透明導(dǎo)電材料的位置檢測(cè)用電極89。位置檢測(cè)用電極89是利用IT0、AT0等的濺射(噴濺)形成的，具有數(shù)百 2kQ/ 口左右的均勻的片電阻。在本實(shí)施方式中，使用靜電容量方式的觸摸面板85。在靜電容量方式的觸摸面板85中，例如，對(duì)俯視觸摸面板85時(shí)的位置檢測(cè)用電極89的四個(gè)角部施加微小電壓。當(dāng)手指觸摸到位置檢測(cè)用電極89上方的任意位置時(shí)，接觸手指的點(diǎn)經(jīng)由人體的靜電容量而接地。由此，各角部的電壓隨著接地點(diǎn)和四個(gè)角部之間的電阻值而變化。位置檢測(cè)電路將該電壓變化作為電流變化來(lái)計(jì)測(cè)，然后從其計(jì)測(cè)值，來(lái)檢測(cè)接地點(diǎn)即手指觸摸的位置。另外，能夠應(yīng)用于本實(shí)施方式的觸摸面板不局限于靜電容量方式，電阻膜方式、超聲波方式、光學(xué)方式等任意的觸摸面板都能夠應(yīng)用。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯不裝置84,由于具備與第一實(shí)施方式同樣的光擴(kuò)散片7，因此能夠?qū)崿F(xiàn)視角特性優(yōu)異而且具備信息輸入功能的液晶顯示裝置。例如，使用者通過(guò)看廣視角的圖像，并且用手指、筆觸碰觸摸面板85，能夠以對(duì)話形式將信息輸入到信息處理
目.-rf* o圖28是表示視角擴(kuò)大膜的制造裝置之一例的概略結(jié)構(gòu)圖。圖28所示的制造裝置150是用輥對(duì)輥來(lái)輸送長(zhǎng)的基材39，且在其間進(jìn)行各種處理的裝置。另外，該制造裝置150在遮光層41的形成上，利用印刷法、噴墨法，來(lái)代替上述的使用光掩模45的光刻法。在制造裝置150的一端設(shè)置有送出基材39的送出輥151，在另一端設(shè)置有卷取基材39的卷取輥152。制造裝置150采用基材39從送出輥151側(cè)向卷取輥152側(cè)移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。在基材39的上方，從送出輥151側(cè)向卷取輥152側(cè)依次配置有印刷裝置153、第一干燥裝置154、涂布裝置155、顯影裝置156、第二干燥裝置157。在基材39的下方配置有曝光裝置158。印刷裝置153是用于在基材39上印刷遮光層41的裝置。第一干燥裝置154是用于使通過(guò)印刷而形成的遮光層41干燥的裝置。涂布裝置155是用于在遮光層41上涂布透明負(fù)性抗蝕劑的裝置。顯影裝置156是用于通過(guò)顯影液使曝光后的透明負(fù)性抗蝕劑顯影的裝置。第二干燥裝置157是使形成有包含顯影后的透明抗蝕劑的光擴(kuò)散部40的基材39干燥的裝置。此后，還可以將形成有光擴(kuò)散部40的基材39與第二偏光板5貼合，使視角擴(kuò)大膜與偏光板一體化。曝光裝置158是用于從基材39側(cè)進(jìn)行透明負(fù)性抗蝕劑的涂膜149、150的曝光的裝置。圖29A、圖29B是從制造裝置150中僅取出曝光裝置158的部分而表示的圖。如圖29A所不,曝光裝置158具備多個(gè)光源159,也可以米用來(lái)自各光源159的擴(kuò)散光F的強(qiáng)度隨著基材39的行進(jìn)而逐漸變?nèi)醯仁箶U(kuò)散光F的強(qiáng)度變化那樣的結(jié)構(gòu)?；蛘撸鐖D29B所示，曝光裝置158也可以使來(lái)自各光源159的擴(kuò)散光F的射出角度隨著基材39的行進(jìn)而逐漸變化。通過(guò)使用這種曝光裝置158，能夠?qū)⒐鈹U(kuò)散部40的側(cè)面的傾斜角度控制到所期望的角度。另外，在上述的例子中，在遮光層41和光擴(kuò)散部40的形成時(shí)，涂布液狀的抗蝕劑，但是也可以將膜狀的抗蝕劑粘貼在基材39的一個(gè)面，來(lái)代替該結(jié)構(gòu)。
最后，如圖2所示，利用光學(xué)粘接劑等，將完成后的視角擴(kuò)大膜以使基材39朝向觀看側(cè)且使光擴(kuò)散部40與第二偏光板5相對(duì)的狀態(tài)，粘貼于液晶顯示體6。通過(guò)以上的工序，完成本實(shí)施方式的液晶顯示裝置。另外，本發(fā)明方式的技術(shù)范圍不局限于上述實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明精神的范圍內(nèi)，能夠加以種種變更。例如，在上述實(shí)施方式中，作為顯示體，舉出液晶顯示裝置的例子，但不局限于此，有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、等離子體顯示器等都可以應(yīng)用本發(fā)明。另外，在上述實(shí)施方式中，表示了將視角擴(kuò)大膜粘接在液晶顯示體的第二偏光板上的例子，但也可以不必使視角擴(kuò)大膜和液晶顯示體接觸。例如，也可以在視角擴(kuò)大膜和液晶顯示體之間插入其他光學(xué)膜及光學(xué)部件等。或者，視角擴(kuò)大膜和液晶顯示體也可以位于分離的位置。另外，在有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、等離子體顯示器等的情況下，不需要偏光板，因此視角擴(kuò)大膜和偏光板不接觸。另外，也可以采用在上述實(shí)施方式的視角擴(kuò)大膜的基材的觀看側(cè)設(shè)置有防反射層、偏振濾光層、帶電防止層、防眩處理層、防污處理層中的至少一個(gè)的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠根據(jù)設(shè)置于基材的觀看側(cè)的層的種類，來(lái)附加降低外部光反射的功能、防止塵埃及污物附著的功能、防止損傷的功能等，能夠防止視角特性的隨時(shí)間的劣化。另外，在上述實(shí)施方式中，使光擴(kuò)散部為夾著中心軸對(duì)稱的形狀，但也可以不必為對(duì)稱的形狀。例如，在根據(jù)顯示裝置的用途及使用方法而有意識(shí)地要求非對(duì)稱的角度分布的情況下，例如，在具有希望僅在畫(huà)面的上方側(cè)或僅在右側(cè)擴(kuò)大視角等要求的情況下，也可以使光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度為非對(duì)稱。另外，也可以具有多個(gè)含有光散射體的層。此外，光擴(kuò)散部和遮光層的配置及形狀、視角擴(kuò)大膜的各部的尺寸及材料、制造工藝的制造條件等相關(guān)的具體結(jié)構(gòu)不局限于上述實(shí)施方式，能夠適當(dāng)變更。本發(fā)明的方式能夠利用于液晶顯示裝置、有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、等離子體顯示器等各種顯示裝置。
權(quán)利要求
1.一種光擴(kuò)散部件，其特征在于，包括 具有透光性的基材；在所述基材的一個(gè)面形成的多個(gè)光擴(kuò)散部；在所述基材的一個(gè)面，在與所述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域不同的區(qū)域形成的遮光層；和光散射體， 所述光擴(kuò)散部在所述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與所述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比所述光射出端面的面積大的光入射端面， 所述光擴(kuò)散部的從所述光入射端面到所述光射出端面的高度比所述遮光層的厚度大， 所述光散射體比所述光擴(kuò)散部更靠光射出側(cè)地配置。
2.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 所述光散射體包含于所述基材的至少一部分。
3.如權(quán)利要求2所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 所述基材的至少一部分構(gòu)成為使得從所述基材的至少一部分的與所述光擴(kuò)散部相反的一側(cè)的面射入，并由所述光散射體反射或折射而改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行前向散射。
4.如權(quán)利要求2所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 在所述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面還設(shè)置有防眩處理層， 所述防眩處理層構(gòu)成為包含所述光散射體。
5.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 還具備比所述基材更靠光射出側(cè)地形成的層， 所述光散射體包含于比所述基材更靠光射出側(cè)地形成的層。
6.如權(quán)利要求5所述的光擴(kuò)散部件,其特征在于 比所述基材更靠光射出側(cè)地形成的層構(gòu)成為使得從比所述基材更靠光射出側(cè)地形成的層的與所述光擴(kuò)散部相反的一側(cè)的面射入，并由所述光散射體反射或折射而改變行進(jìn)方向后的光進(jìn)行前向散射。
7.如權(quán)利要求5所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 在所述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面還設(shè)置有防眩處理層， 所述防眩處理層構(gòu)成為包含所述光散射體。
8.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)光擴(kuò)散部分散地配置， 所述遮光層連續(xù)地形成于與所述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域不同的區(qū)域。
9.如權(quán)利要求8所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)光擴(kuò)散部非周期地配置。
10.如權(quán)利要求8所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)光擴(kuò)散部具有相互相同的形狀。
11.如權(quán)利要求8所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)光擴(kuò)散部具有相互不同的多種尺寸、形狀中的至少一種。
12.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 在所述多個(gè)光擴(kuò)散部間的間隙存在空氣。
13.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 所述多個(gè)光擴(kuò)散部中，至少一個(gè)光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度與其他光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度不同。
14.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 所述多個(gè)光擴(kuò)散部中，至少一個(gè)光擴(kuò)散部的側(cè)面的傾斜角度根據(jù)場(chǎng)所而不同。
15.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述光擴(kuò)散部的平面形狀為圓形、橢圓形或多邊形。
16.—種光擴(kuò)散部件,其特征在于,包括 具有透光性的基材；在所述基材的一個(gè)面分散地形成的多個(gè)遮光層；和在所述基材的一個(gè)面，在與所述遮光層的形成區(qū)域不同的區(qū)域形成的光擴(kuò)散部， 所述光擴(kuò)散部在所述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與所述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比所述光射出端面的面積大的光入射端面， 所述光擴(kuò)散部的從所述光入射端面到所述光射出端面的高度比所述遮光層的層厚大， 比所述光擴(kuò)散部更靠光射出側(cè)地配置有光散射體。
17.如權(quán)利要求16所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 所述光散射體包含于所述基材的至少一部分或比所述基材更靠光射出側(cè)地形成的層中的至少一個(gè)層。
18.如權(quán)利要求16所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)所述多個(gè)遮光層分散地配置，所述光擴(kuò)散部連續(xù)地形成于所述遮光層的形成區(qū)域以外的區(qū)域。
19.如權(quán)利要求18所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)遮光層非周期地配置。
20.如權(quán)利要求18所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)遮光層具有相互相同的形狀。
21.如權(quán)利要求18所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述多個(gè)遮光層具有相互不同的多種尺寸、形狀中的至少一種。
22.如權(quán)利要求16所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 在所述遮光層的形成區(qū)域形成有由所述光擴(kuò)散部的形成區(qū)域劃分而成的中空部， 在所述中空部存在空氣。
23.如權(quán)利要求16所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 從所述基材的一個(gè)面的法線方向看時(shí)，所述遮光層的平面形狀為圓形、橢圓形或多邊形。
24.如權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件，其特征在于 在所述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面，設(shè)置有反射防止層、帶電防止層、防眩處理層和防污處理層中的至少一個(gè)。
25.一種光擴(kuò)散部件的制造方法，其特征在于，包括 在具有透光性并且至少一部分包含光散射體的基材的一個(gè)面，形成具有開(kāi)口部的遮光層的工序； 在所述基材的一個(gè)面，以覆蓋所述遮光層的方式形成具有透光性的負(fù)型感光性樹(shù)脂層的工序； 從形成有所述遮光層和所述負(fù)型感光性樹(shù)脂層的所述基材的一個(gè)面的相反一側(cè)的面，通過(guò)所述遮光層的開(kāi)口部，將所述負(fù)型感光性樹(shù)脂層曝光的工序；和 將所述曝光結(jié)束后的所述負(fù)型感光性樹(shù)脂層顯影，在所述基材的一個(gè)面形成多個(gè)光擴(kuò)散部的工序，所述多個(gè)光擴(kuò)散部在所述基材側(cè)具有光射出端面，并且在與所述基材側(cè)相反的一側(cè)具有面積比所述光射出端面的面積大的光入射端面。
26.如權(quán)利要求25所述的光擴(kuò)散部件的制造方法，其特征在于 作為所述遮光層的材料，使用黑色樹(shù)脂、黑色墨液、金屬單體以及金屬單體與金屬氧化物的多層膜中的任一種。
27.—種顯示裝置，其特征在于，包括 顯示體；和 視角擴(kuò)大部件，其設(shè)置于所述顯示體的觀看側(cè)，使光以從所述顯示體射入的光的角度分布比入射前更廣的狀態(tài)射出， 所述視角擴(kuò)大部件包括權(quán)利要求I所述的光擴(kuò)散部件。
28.如權(quán)利要求27所述的顯示裝置，其特征在于 所述顯示體具有形成顯示圖像的多個(gè)像素， 所述多個(gè)光擴(kuò)散部中的相鄰的光擴(kuò)散部間的最大間距比所述顯示體的所述像素間的間距小。
29.如權(quán)利要求27所述的顯示裝置，其特征在于 在所述視角擴(kuò)大部件的觀看側(cè)設(shè)置有信息輸入裝置。
30.如權(quán)利要求27所述的顯示裝置，其特征在于 所述顯示體具有光源和對(duì)來(lái)自所述光源的光進(jìn)行調(diào)制的光調(diào)制元件， 所述光源射出具有指向性的光。
31.如權(quán)利要求27所述的顯示裝置，其特征在于 所述顯示體為液晶顯示元件。
32.一種顯示裝置，其特征在于，包括 顯示體；和 視角擴(kuò)大部件，其設(shè)置于所述顯示體的觀看側(cè)，使光以從所述顯示體射入的光的角度分布比入射前更廣的狀態(tài)射出， 所述視角擴(kuò)大部件包括權(quán)利要求16所述的光擴(kuò)散部件。
33.如權(quán)利要求32所述的顯示裝置，其特征在于 所述顯示體具有形成顯示圖像的多個(gè)像素， 所述多個(gè)遮光層中的相鄰的遮光層間的最大間距比所述顯示體的所述像素間的間距小。
34.如權(quán)利要求32所述的顯示裝置，其特征在于 在所述視角擴(kuò)大部件的觀看側(cè)設(shè)置有信息輸入裝置。
35.如權(quán)利要求32所述的顯示裝置，其特征在于 所述顯示體具有光源和對(duì)來(lái)自所述光源的光進(jìn)行調(diào)制的光調(diào)制元件， 所述光源射出具有指向性的光。
36.如權(quán)利要求32所述的顯示裝置，其特征在于所述顯示體為液晶顯示元件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光擴(kuò)散部件及其制造方法、顯示裝置。光擴(kuò)散部件具備具有透光性的基材；在基材的一個(gè)面形成的多個(gè)光擴(kuò)散部；在基材的一個(gè)面，在與光擴(kuò)散部的形成區(qū)域不同的區(qū)域形成的遮光層；和光散射體。光擴(kuò)散部在基材側(cè)具有光射出端面，并且在與基材側(cè)的相反的一側(cè)具有面積比光射出端面的面積大的光入射端面。光擴(kuò)散部的從光入射端面到上述光射出端面的高度比上述遮光層的層厚大。光散射體比所述光擴(kuò)散部更靠光射出側(cè)地配置。
文檔編號(hào)G02B5/02GK102778711SQ20121014452
公開(kāi)日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2012年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月13日
發(fā)明者前田強(qiáng), 山本惠美, 菅野透 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社