專利名稱：電子裝置及其積層結(jié)構(gòu)及積層結(jié)構(gòu)的制造方法
電子裝置及其積層結(jié)構(gòu)及積層結(jié)構(gòu)的制造方法技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于一種電子裝置的積層結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)：
許多電子產(chǎn)品在現(xiàn)代人的生活中已是不可或缺的日常用品，且因應(yīng)市場(chǎng)的激烈競(jìng)爭(zhēng)以及消費(fèi)者的要求不斷提高，電子產(chǎn)品的外觀也成為業(yè)者設(shè)計(jì)的重要考量之一。
請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，其為一種已知的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)I的示意圖。于此，積層結(jié)構(gòu)I例如為移動(dòng)通訊裝置中的觸控面板的積層結(jié)構(gòu)。根據(jù)設(shè)計(jì)的考量，已知的積層結(jié)構(gòu)I包含一基板10、一邊框S以及一有源顯示區(qū)D，為了在有源顯示區(qū)D以外的邊框S部分在視覺上呈白色的裝飾外觀，已知技術(shù)多會(huì)利用白色色阻11以旋轉(zhuǎn)涂布等濕式制程，借由重復(fù)涂布多次來制作邊框S的區(qū)域。
這是為了讓邊框S的視覺效果夠”白”且遮光性佳的情形下，白色色阻11的膜厚不宜太薄，且要讓光學(xué)密度值(Optical Density, 0.D.)大于4。然而,但為了提高光學(xué)密度值大于4，白色色阻11的厚度必須達(dá)到20微米左右，此厚度在后續(xù)制程上，容易造成在邊框S上的導(dǎo)線層12與有源顯示區(qū)D中的感測(cè)電極層13因?yàn)閿嗖钐蠖a(chǎn)生斷線(圓形虛線處)等問題，而降低了產(chǎn)品的良率。另外，在進(jìn)行濕式制程的過程所產(chǎn)生的廢液也會(huì)造成環(huán)境的污染，而且在厚度的要求下，白色色阻11的材料成本也隨之提高。再者，以濕式制程形成的白色色阻11，因其耐熱性不佳，當(dāng)后續(xù)制程的溫度大于150°C時(shí)，即可能出現(xiàn)黃化現(xiàn)象，因而降低產(chǎn)品的良率。發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的為提供一種較環(huán)保、成本較低，且能降低膜厚并維持高光學(xué)密度值的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)及其制造方法。
為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種積層結(jié)構(gòu)，用于一電子裝置，積層結(jié)構(gòu)包括一基板以及一散射層?；寰哂幸坏谝粎^(qū)域及一第二區(qū)域，第二區(qū)域設(shè)置于第一區(qū)域周圍。散射層設(shè)置于第二區(qū)域，且散射層的厚度介于0.5 4微米，光學(xué)密度值大于4，散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的 L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種電子裝置，包括如上述的積層結(jié)構(gòu)，以及一觸控顯示面板與積層結(jié)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。
在一實(shí)施例中，基板系為玻璃基板。而第一區(qū)域系對(duì)應(yīng)一有源顯示區(qū)，而第二區(qū)域系對(duì)應(yīng)一非有源顯示區(qū)。
在一實(shí)施例中，散射層的材質(zhì)為一金屬氧化物。散射層的材質(zhì)包含A10x、Ti0x、Ag0x或CrOx或其組合。其中，散射層的含氧量為漸變的。
在一實(shí)施例中，散射層的表面粗糙度介于100納米至I微米之間。
在一實(shí)施例中，積層結(jié)構(gòu)還包括一反射層，設(shè)置于散射層之上。
在一實(shí)施例中，積層結(jié)構(gòu)還包括一感測(cè)電極層，圖案化設(shè)置于第一區(qū)域；一介電層，設(shè)置于反射層及部分感測(cè)電極層上；一導(dǎo)線層，設(shè)置于介電層及第二區(qū)域之上，并與感測(cè)電極層電性連結(jié)。為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種電子裝置，包括一如上述實(shí)施例的積層結(jié)構(gòu)，以及一顯示面板與積層結(jié)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。在一實(shí)施例中，積層結(jié)構(gòu)還包括一感測(cè)電極層，圖案化設(shè)置于第一區(qū)域，反射層電性連結(jié)于感測(cè)電極層；一介電層，設(shè)置于部分感測(cè)電極層上；一導(dǎo)線層，設(shè)置于介電層上，并與感測(cè)電極層電性連結(jié)。為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種電子裝置，包括一如上述實(shí)施例的積層結(jié)構(gòu)，以及一顯示面板，與積層結(jié)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。在一實(shí)施例中，積層結(jié)構(gòu)還包括:一保護(hù)層，設(shè)置于第一區(qū)域的感測(cè)電極層及第二區(qū)域的導(dǎo)線層或反射層之上。為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的制作方法，包括:以干式制程形成一散射層于一基板的一第二區(qū)域，第二區(qū)域設(shè)置于一第一區(qū)域周圍，其中散射層的厚度介于0.5 4微米，光學(xué)密度值大于4，散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間。在一實(shí)施例中,利用物理氣相沉積或化學(xué)氣相沉積形成散射層。在一實(shí)施例中，散射層的含氧量為漸變的。在一實(shí)施例中，制作方法還包括:形成一反射層于散射層之上。在一實(shí)施例中，制作方法還包括:圖案化形成一感測(cè)電極層于基板的第一區(qū)域；形成一介電層于反射層及·部分感測(cè)電極層上；形成一導(dǎo)線層于介電層及第二區(qū)域之上，并與感測(cè)電極層電性連結(jié)。在一實(shí)施例中，制作方法還包括:圖案化形成一感測(cè)電極層于基板的第一區(qū)域；電性連結(jié)反射層與感測(cè)電極層；形成一介電層于部分感測(cè)電極層上；形成一導(dǎo)線層于介電層上，并與感測(cè)電極層電性連結(jié)。在一實(shí)施例中，制作方法還包括:形成一保護(hù)層于第一區(qū)域的感測(cè)電極層及第二區(qū)域的導(dǎo)線層或反射層之上。承上所述，本發(fā)明的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)及其制造方法是利用一厚度介于0.5 4微米，且光學(xué)密度值大于4的散射層，再者，本發(fā)明的散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間(換言之，即散射層的顏色趨近于白色)。另夕卜，與已知的白色色阻相較，由于本發(fā)明的散射層的材質(zhì)利用A10x、Ti0x、Ag0x或CrOx等，因此材料成本較低，且因散射層是利用干式制程來形成，亦可避免污染問題。借此，本發(fā)明的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)不僅環(huán)保、成本較低，且能降低厚度并維持高光學(xué)密度(換言之，遮光性較佳)。再者，本發(fā)明更可利用散射層的含氧量為漸變的，或者借由一設(shè)置于散射層之上的反射層，來進(jìn)一步增加光學(xué)密度值。


為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作詳細(xì)說明，其中:
圖1為一種已知的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)示意圖2A至圖2C為本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的制作過程示意圖3為本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的散射層的一變化態(tài)樣示意圖4為本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的制造方法的流程步驟圖5A至圖5E為本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的制作過程示意圖6為本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的積層結(jié)構(gòu)的俯視圖7A為本發(fā)明的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)的又一變化態(tài)樣示意圖；以及
圖7B為圖7A的積層結(jié)構(gòu)的俯視圖。
主要元件符號(hào)說明:
1、2、2a 2c:積層結(jié)構(gòu)
11:白色色阻
12、26:導(dǎo)線層
10、21:基板
13、24:感測(cè)電極層
22、22a:散射層
221:下 側(cè)
23、23a:反射層
25:介電層
27:保護(hù)層
Al:第一區(qū)域
A2:第二區(qū)域
D:有源顯示區(qū)
dl、d2:線寬
S:邊框
SOl S06:本發(fā)明的積層結(jié)構(gòu)的制造方法的流程步驟具體實(shí)施方式
以下將參照相關(guān)圖式，說明依本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種電子裝置的積層結(jié)構(gòu)及其制造方法，其中相同的元件將以相同的元件符號(hào)加以說明。
請(qǐng)參照?qǐng)D2A及圖2B所示，其中圖2A為本實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2的示意圖，圖2B為沿圖2A中的A-A剖線的剖面圖。
本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2包含一散射層22設(shè)置于一基板21的一第二區(qū)域A2。本實(shí)施例中，電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2是以一電子裝置的保護(hù)基板為例，例如為一觸控顯示裝置的保護(hù)玻璃(cover glass)?；?1例如可為玻璃基板、或其他透明材質(zhì)的基板，且具有一第一區(qū)域Al及一第二區(qū)域A2，第二區(qū)域A2設(shè)置于第一區(qū)域Al周圍。當(dāng)電子裝置為一觸控顯示裝置時(shí)，則第一區(qū)域Al是對(duì)應(yīng)一有源顯示區(qū)，而第二區(qū)域A2對(duì)應(yīng)一非有源顯示區(qū)，且第二區(qū)域A2位于第一區(qū)域Al的四周。當(dāng)然，若電子裝置為其他的裝置時(shí)，則可依產(chǎn)品需求，而設(shè)計(jì)第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2的相對(duì)位置。
散射層22的材質(zhì)例如為一金屬氧化物，可包含A10x、TiOx, AgOx或CrOx或其組合(X為正整數(shù))，散射層22的厚度介于0.5 4微米，光學(xué)密度值(Optical Density, 0.D.)大于4，散射層22的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間(換言之，即散射層的顏色趨近于白色)，而散射層22的表面粗糙度(Ra)可介于100納米至I微米之間。另外，散射層22例如可利用派鍍、物理氣相沉積(Physical VaporDeposition, PVD)或化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)等干式制程來形成。借由干式制程，本實(shí)施例的散射層22可降低厚度并維持高光學(xué)密度(換言之，遮光性較佳)，且由于散射層22的材質(zhì)利用A10x、Ti0x、Ag0x或CrOx等，可使材料成本降低，且因散射層22可利用干式制程來形成，亦可減少廢液污染的問題。積層結(jié)構(gòu)2完成后，保護(hù)玻璃可因散射層的關(guān)系而成為一裝飾玻璃，即具有白色裝飾性鍍膜的玻璃，其可再與一觸控顯示面板(圖未表示)或顯示面板連接，以成為例如移動(dòng)通訊裝置、觸控移動(dòng)通訊裝置或觸控平板電腦等電子裝置。借此，本實(shí)施例的積層結(jié)構(gòu)2可降低膜層厚度并維持高光學(xué)密度，且可降低材料成本，并減少污染的問題。請(qǐng)參照?qǐng)D2C所示，本實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2a還可包括一反射層23設(shè)置于散射層22之上。反射層23的材質(zhì)例如可為鋁(Al)、銀(Ag)、鑰(Mo)等，或于可見光波段380 780nm其反射率系大于60%的材質(zhì)。由于金屬的材質(zhì)更為致密，并能反射外界入射的光線，因此反射層23可用以進(jìn)一步提高積層結(jié)構(gòu)的光學(xué)密度值，使位于第二區(qū)域A2的散射層的遮光性更為提升。另外，請(qǐng)參照?qǐng)D3所示，借由干式制程中氧氣供給量的控制，所形成的散射層22a內(nèi)的含氧量亦可為漸變的。例如，若散射層22a的下側(cè)221連接于圖2B的基板21，則散射層22a沿圖3中的Dl方向(即遠(yuǎn)離基板21的方向)含氧量可逐漸減少，而使得散射層22a較接近基板21處的含氧 量較高,其顏色較趨近于白色；而較遠(yuǎn)離基板21側(cè)的散射層22a的含氧量較低，會(huì)比較具有金屬的光澤，進(jìn)而能提升遮蔽光線的作用。接著，如圖4、圖5A至圖5E所示，圖5A至圖5E為本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2b的制作過程示意圖。本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2b的制造方法包含步驟SOl及步驟S06，而電子裝置系將結(jié)構(gòu)整合成一基板的觸控面板為例。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4及圖5A所示，步驟SOl為以干式制程形成一散射層22于基板21的第二區(qū)域A2。步驟S02為形成一反射層23于散射層22之上。由于步驟SOl及步驟S02已于前述實(shí)施例中詳述，于此不再贅述。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4及圖5B所示，步驟S03為圖案化形成一感測(cè)電極層24于基板21的第一區(qū)域Al。感測(cè)電極層24的材質(zhì)例如可為銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅鋁氧化物(AZO)、氧化鋅(ZnO)、或其組合，其可為行列交錯(cuò)排列，以進(jìn)行觸控感測(cè)。另外，請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4及圖5C所示，步驟S04為形成一介電層25于反射層23及部分感測(cè)電極層24上，例如是將介電層25設(shè)置于行列感測(cè)電極之間，以借由介電層25隔絕感測(cè)電極層24不同電極的電性連結(jié)，以避免產(chǎn)生電性短路的問題。且，反射層23上亦形成有介電層25，以作為絕緣材料，避免與后續(xù)制程的導(dǎo)線層26電性短路。介電層25的材質(zhì)例如可為環(huán)氧樹脂、聚亞酰胺或甲基丙烯酸甲酯或光阻的有機(jī)材料或可為包括氧化硅、氮化硅(SiNx)的無機(jī)材料等，于此不予以限制。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4、圖及圖6所示，其中圖6為積層結(jié)構(gòu)2b的俯視圖。步驟S05為形成一導(dǎo)線層26于介電層25及第二區(qū)域A2之上，并與感測(cè)電極層24電性連結(jié)。借由導(dǎo)線層26可電性連結(jié)感測(cè)電極層24至一感測(cè)控制電路。
請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4及圖5E所示，步驟S06為形成一保護(hù)層27于第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2之上。保護(hù)層27又可稱為硬涂層，可作為絕緣保護(hù)的功用。因此，積層結(jié)構(gòu)2b完成后，例如可為一觸控面板，可再與一顯示面板(圖未表示)電性連接，顯示面板例如可為液晶面板或有機(jī)發(fā)光二極管面板，以成為例如觸控移動(dòng)通訊裝置或觸控平板電腦等電子裝置。借此，本實(shí)施例的積層結(jié)構(gòu)2b可降低膜層厚度并維持高光學(xué)密度，且可降低材料成本，并減少廢液污染的問題。
請(qǐng)參照?qǐng)D7A及圖7B所示，其為本實(shí)施例的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)2c的又一變化態(tài)樣示意圖。積層結(jié)構(gòu)2c與前述實(shí)施例的差異在于:反射層23a亦可與感測(cè)電極層24電性連結(jié)，而作為第二區(qū)域A2的圖案化導(dǎo)線層。需注意的是，反射層23a與導(dǎo)線層26可為相同材質(zhì)，并將制程整合，以于同一道制程中形成，故而省去圖5E中導(dǎo)線層26及介電層25的設(shè)置，而使得保護(hù)層27直接設(shè)置于反射層23a上。由圖7B可知，位于第二區(qū)域A2的反射層23a其系具有至少二種線寬，其中接近第一區(qū)域Al的反射層23a的線寬dl系大于遠(yuǎn)離第一區(qū)域Al的反射層23a的線寬d2。另外，由于反射層23a系兼作為導(dǎo)線層以及散射層22的反射層，故反射層23a系具有多個(gè)反射部231，各反射部231系對(duì)應(yīng)各列或各行的感測(cè)電極，且這些反射部231覆蓋了大部分的散射層22，且相鄰的反射部231之間系具有一間隙，以避免電性短路。因此，積層結(jié)構(gòu)2c完成后，例如可為一觸控面板，可再與一顯示面板(圖未表示)電性連接，顯示面板例如可為液晶面板或有機(jī)發(fā)光二極管面板，以成為例如觸控移動(dòng)通訊裝置或觸控平板電腦等電子裝置。
綜上所述，本發(fā)明的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)及其制造方法是利用一厚度介于0.5 4微米，且光學(xué)密度值大于4的散射層，再者，本發(fā)明的散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間(換言之，即散射層的顏色趨近于白色)。另夕卜，與已知的白色色阻相較，由于本發(fā)明的散射層的材質(zhì)利用A10x、Ti0x、Ag0x或CrOx等，因此材料成本較低，且因散射層是利用干式制程來形成，亦可避免污染問題。借此，本發(fā)明的電子裝置的積層結(jié)構(gòu)不僅環(huán)保、成本較低，且能降低厚度并維持高光學(xué)密度(換言之，遮光性較佳)。
再者，本發(fā) 明還可利用散射層的含氧量為漸變的，或者借由一設(shè)置于散射層之上的反射層，來進(jìn)一步增加光學(xué)密度值。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種積層結(jié)構(gòu)，用于一電子裝置，該積層結(jié)構(gòu)包括: 一基板，具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，該第二區(qū)域設(shè)置于該第一區(qū)域周圍；以及一散射層，設(shè)置于該第二區(qū)域，且該散射層的厚度介于0.5 4微米，光學(xué)密度值大于4，該散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間。
2.如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板為玻璃基板。
3.如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一區(qū)域是對(duì)應(yīng)一有源顯示區(qū)，而該第二區(qū)域是對(duì)應(yīng)一非有源顯示區(qū)。
4.如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該散射層的材質(zhì)為一金屬氧化物。
5.如權(quán)利要求4所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該散射層的材質(zhì)包含A10x、Ti0x、Ag0x*CrOx或其組合。
6.如權(quán)利要求4所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該散射層的含氧量為漸變的。
7.如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)，其特征在于，該散射層的表面粗糙度介于100納米至I微米之間。
8.如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)，還包括: 一反射層，設(shè)置于該散射層之上。
9.如權(quán)利要求8所述的積層結(jié)構(gòu)，還包括: 一感測(cè)電極層，圖案化設(shè)置于該第一區(qū)域； 一介電層，設(shè)置于該反射層及部分該感測(cè)電極層上；以及 一導(dǎo)線層，設(shè)置于該介電層及該第二區(qū)域之上，并與該感測(cè)電極層電性連結(jié)。
10.如權(quán)利要求8所述的積層結(jié)構(gòu)，還包括: 一感測(cè)電極層，圖案化設(shè)置于該第一區(qū)域，該反射層電性連結(jié)于該感測(cè)電極層； 一介電層，設(shè)置于部分該感測(cè)電極層上；以及 一導(dǎo)線層，設(shè)置于該介電層上，并與該感測(cè)電極層電性連結(jié)。
11.一種電子裝置，包括: 一如權(quán)利要求1所述的積層結(jié)構(gòu)；以及 一觸控顯示面板，與該積層結(jié)構(gòu) 相對(duì)設(shè)置。
12.一種電子裝置，包括: 一如權(quán)利要求9所述的積層結(jié)構(gòu)；以及 一顯示面板，與該積層結(jié)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。
13.一種電子裝置，包括: 一如權(quán)利要求10所述的積層結(jié)構(gòu)；以及 一顯示面板，與該積層結(jié)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。
14.一種電子裝置的積層結(jié)構(gòu)制作方法，包括: 以干式制程形成一散射層于一基板的一第二區(qū)域，該第二區(qū)域設(shè)置于一第一區(qū)域周圍， 其中，該散射層的厚度介于0.5 4微米，光學(xué)密度值大于4，該散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)I之間。
15.如權(quán)利要求14所述的制作方法，其特征在于，該散射層是利用物理氣相沉積或化學(xué)氣相沉積形成。
16.如權(quán)利要求14所述的制作方法,其特征在于,該散射層的材質(zhì)為一金屬氧化物。
17.如權(quán)利要求16所述的制作方法，其特征在于，該散射層的含氧量為漸變的。
18.如權(quán)利要求14所述的制作方法，還包括: 形成一反射層于該散射層之上。
19.如權(quán)利要求18所述的制作方法，還包括: 圖案化形成一感測(cè)電極層于該基板的該第一區(qū)域； 形成一介電層于該反射層及部分該感測(cè)電極層上；以及 形成一導(dǎo)線層于該介電層及該第二區(qū)域之上，并與該感測(cè)電極層電性連結(jié)。
20.如權(quán)利要求18所述的制作方法，還包括: 圖案化形成一感測(cè)電極層于該基板的該第一區(qū)域，該反射層電性連結(jié)于該感測(cè)電極層； 形成一介電層于部分該感測(cè)電極層上；以及 形成一導(dǎo)線層于該介電層上，并與該感測(cè)電極層電性連結(jié)。
21.如權(quán)利要求19所述的制作方法，其特征在于，該反射層與該導(dǎo)線層為同一材料及同一制程形 成。
全文摘要
本發(fā)明披露一種積層結(jié)構(gòu)，用于一電子裝置，積層結(jié)構(gòu)包括一基板以及一散射層?；寰哂幸坏谝粎^(qū)域及一第二區(qū)域，第二區(qū)域設(shè)置于第一區(qū)域周圍。散射層設(shè)置于第二區(qū)域，且散射層的厚度介于0.5～4微米，光學(xué)密度值大于4，散射層的顏色于Lab色彩空間定義中的L值大于70，a、b值則分別介于正負(fù)1之間。本發(fā)明還披露一種電子裝置的積層結(jié)構(gòu)制造方法。
文檔編號(hào)G02B5/02GK103240922SQ20121003152
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月13日
發(fā)明者賴思維, 劉又菁, 何婉鈺 申請(qǐng)人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司