專利名稱：光波導(dǎo)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光波導(dǎo)，特別涉及能確保與光學(xué)元件連接時的定位公差的光波導(dǎo)。
背景技術(shù)：
伴隨著信息容量的增大，不僅在干線、訪問系統(tǒng)這種通信領(lǐng)域，也在路由器、服務(wù)器內(nèi)的信息處理中使用光信號的光互連技術(shù)的開發(fā)正在進(jìn)行。具體地說，為了在路由器、月艮務(wù)器裝置內(nèi)的板間或在板內(nèi)的短距離信號傳輸中使用光，作為光傳輸路徑，使用與光纖相t匕，配線的自由度高、且能夠高密度化的光波導(dǎo)。另外，光波導(dǎo)被用作光學(xué)產(chǎn)品的器件時，有時與其它光學(xué)元件，例如光纖連接而使用(例如專利文獻(xiàn)1)，另外，與光電二極管、激光二極管連接時，必須使向光電二極管入射光的路徑小，從激光二極管接受光的路徑大(例如專利文獻(xiàn)2)。因此，要求能確保光波導(dǎo)與光學(xué)元件連接時的定位公差?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2001-42149專利文獻(xiàn)2:國際公開TO2007-026601


發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題本發(fā)明是為了解決上述課題而作出的發(fā)明，目的在于提供能確保與光學(xué)元件連接時的定位公差的光波導(dǎo)。用于解決課題的方法本發(fā)明人等反復(fù)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過在光波導(dǎo)的下部包層上設(shè)置切口部，或設(shè)置虛設(shè)芯、虛擬包層，能夠以對上部包層或光波導(dǎo)的厚度賦予錐度、或不賦予錐度的方式調(diào)整厚度。而且發(fā)現(xiàn)，基于這些見解可解決上述課題，由此完成了本發(fā)明。S卩，本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)，其是在基材上依次層疊下部包層、在厚度方向具有錐度的芯圖案、上部包層而形成的光波導(dǎo)，上述下部包層具有切口部，或在上述下部包層上具有虛設(shè)層。發(fā)明的效果本發(fā)明的光波導(dǎo)，特別是具有在厚度方向具有錐度的芯圖案的光波導(dǎo)中，由于以對光波導(dǎo)的厚度賦予錐度或不賦予錐度的方式調(diào)整了厚度，因此能確保其與光學(xué)元件連接時的定位公差。


圖1是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的一例的立體圖。圖2是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。
圖3是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖4是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖5是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖6是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖7是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖8是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖9是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖10是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖11是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖12是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖13是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖14是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖15是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的立體圖。圖16是表示本發(fā)明的光波導(dǎo)的另一例的側(cè)面圖。
具體實(shí)施例方式使用圖1 16對本發(fā)明的光波導(dǎo)進(jìn)行說明。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖1 9所示，是在基材I上依次層疊下部包層2、在厚度方向具有錐度的芯圖案3、上部包層4而形成的光波導(dǎo)，且為下部包層2具有切口部5的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖2、5、8所示，可以在芯圖案3的錐度薄側(cè)具有比厚側(cè)更大面積的切口部5。另外，如圖3、6、9所示，可以在與芯圖案3的錐度薄側(cè)的前端相比更靠前的沒有芯圖案的部分上具有切口部5。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖1 3所示，可以為上部包層4在厚度方向具有錐度，且該錐度朝著與芯圖案的錐度相同的方向變薄的形狀。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖4 9所示，可以在下部包層2的切口部5上具有虛設(shè)芯6。在這種情況下，根據(jù)虛設(shè)芯6的配線密度，如圖4 6所示，可以使上部包層4與基板面平行，或如圖7 9所示，也可以制成上部包層4在厚度方向具有錐度，且該錐度朝著與芯圖案3的錐度相反的方向變薄的形狀。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖10 15所示，也可以是在基材I上依次層疊下部包層2、在厚度方向具有錐度的芯圖案3、上部包層4而形成的光波導(dǎo)，且為在下部包層2上具有虛設(shè)層7的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖11、13所示，可以在芯圖案3的錐度厚側(cè)具有比薄側(cè)更大面積的虛設(shè)層7。另外，如圖12、14所示，可以在與芯圖案3的錐度厚側(cè)的后端相比更靠后的沒有芯圖案3的部分上具有虛設(shè)層7。本發(fā)明的光波導(dǎo)，優(yōu)選圖10 15所不的虛設(shè)層7為包層。另外，可以使上述下部包層為多層，也可以例如如圖15所示，在下部包層2與基材I之間具有下部包層8。另外，可以使上述虛設(shè)層為多層，也可以例如如圖15所示，在虛設(shè)層7上具有虛設(shè)層9。如圖14所示，芯圖案3可以由多根構(gòu)成。進(jìn)一步，在本發(fā)明中，在厚度方向具有錐度的芯圖案3優(yōu)選為在寬度方向也具有錐度的形狀。另外，本發(fā)明的光波導(dǎo)，如圖16所示，上部包層4可以不僅具有錐度A，還具有平坦部B和/或C。以下對構(gòu)成本發(fā)明的光波導(dǎo)的各層進(jìn)行說明。(包層和包層形成用樹脂膜)以下，對在本發(fā)明中使用的下部包層2和上部包層4進(jìn)行說明。作為下部包層2和上部包層4，可以使用包層形成用樹脂和包層形成用樹脂膜。作為在本發(fā)明中使用的包層形成用樹脂，只要是比芯圖案3更低折射率，且通過光或熱而固化的樹脂組合物就沒有特別的限制，可以優(yōu)選地使用熱固性樹脂組合物、感光性樹脂組合物。更優(yōu)選而言，包層形成用樹脂優(yōu)選由包含(A)基礎(chǔ)聚合物、(B)光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑的樹脂組合物構(gòu)成。另外，對于在包層形成用樹脂中使用的樹脂組合物，在下部包層2和上部包層4中，該樹脂組合物所含有的成分可以相同也可以不相同，該樹脂組合物的折射率可以相同也可以不相同。在這里使用的(A)基礎(chǔ)聚合物用于形成包層且確保該包層的強(qiáng)度，只要能夠?qū)崿F(xiàn)該目的就沒有特別的限制，可以列舉苯氧樹脂、環(huán)氧樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹月旨、聚丙烯酸酯樹脂、聚醚酰胺、聚醚酰亞胺、聚醚砜等，或它們的衍生物等。這些基礎(chǔ)聚合物可以單獨(dú)使用I種，另外也可以混合2種以上使用。在上述所例示的基礎(chǔ)聚合物中，從耐熱性高這樣的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選主鏈具有芳香族骨架，特別優(yōu)選苯氧樹脂。另外，從可進(jìn)行3維交聯(lián)、提高耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選環(huán)氧樹脂，特別是在室溫下為固體的環(huán)氧樹脂。進(jìn)一步，為了確保包層 形成用樹脂的透明性，與后面詳述的(B)光聚合性化合物的相溶性很重要，從這點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選上述苯氧樹脂和(甲基)丙烯酸樹脂。另外，這里所謂的(甲基)丙烯酸樹脂是指丙烯酸樹脂和甲基丙烯酸樹脂。在苯氧樹脂中，優(yōu)選包含雙酚A、雙酚A型環(huán)氧化合物或它們的衍生物、和雙酚F、雙酚F型環(huán)氧化合物或它們的衍生物作為共聚成分的構(gòu)成單元的樹脂，因?yàn)樗鼈兊哪蜔嵝?、密合性和溶解性?yōu)異。作為雙酚A或雙酚A型環(huán)氧化合物的衍生物，優(yōu)選列舉四溴雙酚A、四溴雙酚A型環(huán)氧化合物等。另外，作為雙酚F或雙酚F型環(huán)氧化合物的衍生物，優(yōu)選列舉四溴雙酚F、四溴雙酚F型環(huán)氧化合物等。作為雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂的具體例，可列舉東都化成(株)制“Phenotohto YP-70”(商品名)。 作為在室溫下為固體的環(huán)氧樹脂，例如可列舉東都化成(株)制“ ΕΡ0Τ0ΗΤ0YD-7020、ΕΡ0Τ0ΗΤ0 YD-7019、ΕΡ0Τ0ΗΤ0 YD-7017”(全都是商品名)、日本環(huán)氧樹脂(株)制“EPIK0TE1010、EPIK0TE1009、EPIK0TE1008”(全都是商品名)等雙酚A型環(huán)氧樹脂。接著，作為(B)光聚合性化合物，只要是通過紫外線等光的照射而聚合的物質(zhì)就沒有特別的限制，可列舉在分子內(nèi)具有乙烯性不飽和基的化合物、在分子內(nèi)具有2個以上環(huán)氧基的化合物等。作為在分子內(nèi)具有乙烯性不飽和基的化合物，可列舉(甲基)丙烯酸酯、偏鹵乙烯、乙烯基醚、乙烯基吡啶、乙烯基苯酚等，其中，從透明性和耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯。
作為(甲基)丙烯酸酯，也可以使用I官能性化合物、2官能性化合物、3官能性以上的多官能性化合物中的任一種化合物。另外，這里所謂的(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。作為在分子內(nèi)具有2個以上環(huán)氧基的化合物，可以列舉雙酚A型環(huán)氧樹脂等2官能或多官能芳香族縮水甘油醚、聚乙二醇型環(huán)氧樹脂等2官能或多官能脂肪族縮水甘油醚、氫化雙酚A型環(huán)氧樹脂等2官能脂環(huán)式縮水甘油醚、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等2官能芳香族縮水甘油酯、四氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等2官能脂環(huán)式縮水甘油酯、N, N- 二縮水甘油基苯胺等2官能或多官能芳香族縮水甘油胺、脂環(huán)族二環(huán)氧羧酸酯(alicyclicdiepoxy carboxylate)等2官能脂環(huán)式環(huán)氧樹脂、2官能雜環(huán)式環(huán)氧樹脂、多官能雜環(huán)式環(huán)氧樹脂、2官能或多官能含氟環(huán)氧樹脂等。這些(B)光聚合性化合物可以單獨(dú)使用或組合使用2種以上。接著，作為(C)成分的光聚合引發(fā)劑，沒有特別的限制，例如作為在(B)成分中使用環(huán)氧化合物的情況下的引發(fā)劑，可以列舉芳基重氮鹽、二芳基碘鎗鹽、三芳基硫鎗鹽、三稀丙基砸鐵鹽、二燒基苯甲酸甲基硫鐵鹽、二燒基_4-輕基苯基硫鐵鹽、橫酸酷等。另外，作為在(B)成分中使用分子內(nèi)具有乙烯性不飽和基的化合物的情況下的引發(fā)劑，可以列舉二苯甲酮等芳香族酮、2-乙基蒽醌等醌類、苯偶姻甲基醚等苯偶姻醚化合物、苯偶姻等苯偶姻化合物、苯偶酰二甲基縮酮等苯偶酰衍生物、2-(鄰氯苯基)_4，5-二苯基咪唑二聚體等2，4，5-三芳基咪唑二聚體、2-巰基乙酸苯并咪唑等苯并咪唑類、雙(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等氧化膦類、9-苯基吖啶等吖啶衍生物、N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物、香豆素系化合物等。另外，也可以如二乙基噻噸酮和二甲氨基苯甲酸的組合那樣組合噻噸酮系化合物和叔胺化合物。另外，從提高芯層和包層的透明性的觀點(diǎn)出發(fā)，在上述化合物中，優(yōu)選芳香族酮和氧化膦類。這些(C)光聚合引發(fā)劑可以單獨(dú)使用或組合使用2種以上。(A)基礎(chǔ)聚合物的配合量相對于(A)成分和(B)成分的總量優(yōu)選設(shè)為5 80質(zhì)量％。另外，(B)光聚合性化合物的配合量相對于(A)和(B)成分的總量優(yōu)選設(shè)為95 20質(zhì)量％。作為該(A)成分和(B)成分的配合量，如果(A)成分為5質(zhì)量％以上、(B)成分為95質(zhì)量％以下，則能容易地將樹脂組合物膜化。另一方面，如果(A)成分為80質(zhì)量％以下、(B)成分為20質(zhì)量％以上，則能容易地使(A)基礎(chǔ)聚合物交聯(lián)固化，形成光波導(dǎo)時，圖案形成性提高，且光固化反應(yīng)充分地進(jìn)行。從以上的觀點(diǎn)出發(fā)，作為該(A)成分和(B)成分的配合量，更優(yōu)選(A)成分為10 85質(zhì)量％、(B)成分為90 15質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選(A)成分為20 70質(zhì)量％、(B)成分為80 30質(zhì)量％。(C)光聚合引發(fā)劑的配合量,相對于(A)成分和(B)成分的總量100質(zhì)量份優(yōu)選設(shè)為0.1 10質(zhì)量份。如果該配合量為0.1質(zhì)量份以上,則光感度充分，另一方面如果10質(zhì)量份以下，則曝光時在感光性樹脂組合物表層的吸收不會增大，內(nèi)部的光固化充分。進(jìn)一步，作為光波導(dǎo)使用時，不會因聚合引發(fā)劑本身的光吸收的影響而導(dǎo)致光運(yùn)輸損失增大，是適宜的。從以上的觀點(diǎn)出發(fā)，(C)光聚合引發(fā)劑的配合量更優(yōu)選設(shè)為0.2 5質(zhì)量份。另外，在包層形成用樹脂中，除了以上成分，根據(jù)需要，也可以以對本發(fā)明的效果不產(chǎn)生不良影響的比例添加抗氧化劑、黃變防止劑、紫外線吸收劑、可見光吸收劑、著色劑、增塑劑、穩(wěn)定劑、填充劑等所謂的添加劑。在本發(fā)明中，形成包層的方法沒有特別的限制，例如，只要通過涂布包層形成用樹脂或?qū)訅喊鼘有纬捎脴渲ざ纬杉纯伞Ｔ谕ㄟ^涂布的情況下，其方法沒有限制，例如，只要通過常用方法涂布含有上述(A) (C)成分的樹脂組合物即可。另外，在層壓中使用的包層形成用樹脂膜，例如，可以通過將上述樹脂組合物溶解在溶劑中，涂布在支撐體膜上，并除去溶劑，而容易地制造。關(guān)于下部包層2和上部包層4的厚度，以干燥后的厚度計優(yōu)選5 500 μ m的范圍。如果為5 μ m以上，則可確保將光封閉所必要的包層厚度，如果為500 μ m以下，則容易均勻地控制膜厚。從以上的觀點(diǎn)出發(fā)，下部包層2和上部包層4的厚度進(jìn)一步更優(yōu)選為10 100 μ m的范圍。另外，為了包埋芯圖案3，優(yōu)選使上部包層4的厚度比芯圖案3的厚度更厚。另外，作為在如圖1 9和13 15所示的下部包層2上形成切口部5的方法，只要通過蝕刻來形成下部包層2即可，在使用感光性的下部包層2的情況下，可通過曝光和顯影來形成切口部5。另外，作為形成作為如圖10 15所示虛設(shè)層的包層7、9的方法，只要與下部包層2同樣地通過蝕刻來形成即可，在使用感光性的包層7、9的情況下，可通過曝光和顯影來形成切口部5。

(芯層形成用樹脂和芯層形成用樹脂膜)在本發(fā)明中，在下部包層2上層疊的芯圖案3的形成方法沒有特別的限制，例如，只要通過涂布芯層形成用樹脂或?qū)訅盒緦有纬捎脴渲ざ纬尚緦?，通過蝕刻形成芯圖案3即可。另外，在本發(fā)明中，在形成如圖4 9所示的虛設(shè)芯6的情況下，形成芯層后，同時地蝕刻芯圖案3和虛設(shè)芯6而形成，從而可以高效率地制造光波導(dǎo)。這時，如本發(fā)明所示，作為形成芯圖案3具有錐度形狀的方法，在層壓芯層后的下部包層2上形成的芯層，從基板I表面到芯層表面的高度，比在基板I上形成的切口部分的芯層的表面的高度更高，例如，只要利用具有剛性的板等從芯層上表面施加壓力使其平坦化，從而使芯層形成用樹脂流動，賦予錐度即可。這時，通過適當(dāng)調(diào)整壓力、溫度，也能調(diào)整錐度的角度。芯層形成用樹脂，特別是在芯圖案3中使用的芯層形成用樹脂，設(shè)計成比包層2、4的折射率更高，可以使用能夠通過活性光線而形成芯圖案的樹脂組合物。形成圖案化前的芯層的方法沒有限制，可列舉通過常用方法涂布上述樹脂組合物的方法等。關(guān)于芯層形成用樹脂膜的厚度，沒有特別的限制，干燥后的芯層厚度通常調(diào)整為10 100 μ m。如果該膜的厚度為10 μ m以上,則具有在光波導(dǎo)形成后與受發(fā)光兀件或光纖的耦合中，能進(jìn)一步擴(kuò)大定位公差這樣的優(yōu)點(diǎn)，如果為100 μ m以下，則具有在光波導(dǎo)形成后與受發(fā)光元件或光纖的耦合中，耦合效率提高這樣的優(yōu)點(diǎn)。從以上的觀點(diǎn)出發(fā)，該膜的厚度進(jìn)一步優(yōu)選為30 70 μ m的范圍。另外，包層形成用樹脂膜和芯層形成用樹脂膜優(yōu)選在載體膜上形成。作為載體膜的種類，作為具有柔軟性和強(qiáng)韌性的載體膜，可優(yōu)選列舉例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚苯醚、聚醚硫化物、多芳基化合物、液晶聚合物、聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚醚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚酰亞胺。支撐體膜的厚度優(yōu)選為5 200 μ m。如果為5μπι以上，則具有易得到作為支撐體膜的強(qiáng)度這樣的優(yōu)點(diǎn)，如果為200 μ m以下，則具有與圖案形成時的掩模的間隙變小，能形成更細(xì)微圖案這樣的優(yōu)點(diǎn)。從以上的觀點(diǎn)出發(fā)，支撐體膜的厚度更優(yōu)選為10 100 μ m的范圍，特別優(yōu)選為15 50μπι。(基材)作為基材I的材質(zhì)，沒有特別的限制，例如，可舉出玻璃環(huán)氧樹脂基板、陶瓷基板、玻璃基板、硅基板、塑料基板、金屬基板、帶樹脂層的基板、帶金屬層的基板、塑料膜、帶樹脂層的塑料膜、帶金屬層的塑料膜等。作為基材1，通過使用具有柔軟性和強(qiáng)韌性的基材、例如前述包層形成用樹脂膜和芯層形成用樹脂膜的載體膜作為基材，可以制成撓性光波導(dǎo)。另外，在基材I和下部包層2沒有密合性的情況下，也可以在它們之間設(shè)置粘接層。作為粘接層的種類沒有特別的限制，但優(yōu)選列舉雙面膠、UV或熱固化性粘接劑、半固化片、積層材料、在電配線板制造用途中使用的各種粘接劑。實(shí)施例以下，通過實(shí)施例進(jìn)一步詳細(xì)地說明本發(fā)明，但本發(fā)明只要不超出其主旨，就不受以下實(shí)施例的限制。實(shí)施例1 (圖1的光波導(dǎo)的制造)[包層形成用樹脂膜的制作][ (A)基礎(chǔ)聚合物:(甲基)丙烯酸聚合物(A-1)的制作]在具備攪拌機(jī)、冷卻管、氣體導(dǎo)入管、滴液漏斗和溫度計的燒瓶中，稱量丙二醇單甲基醚乙酸酯46質(zhì)量份和乳酸甲酯23質(zhì)量份，一邊導(dǎo)入氮?dú)庖贿呥M(jìn)行攪拌。使液溫上升至650C，經(jīng)3小時滴加甲基丙烯酸甲酯47質(zhì)量份、丙烯酸丁酯33質(zhì)量份、甲基丙烯酸2 —羥基乙酯16質(zhì)量份、甲基丙烯酸14質(zhì)量份、2，2’ 一偶氮雙(2，4 一二甲基戊腈)3質(zhì)量份、丙二醇單甲基醚乙酸酯46質(zhì)量份、和乳酸甲酯23質(zhì)量份的混合物后，在65°C攪拌3小時，進(jìn)一步在95°C繼續(xù)攪拌I小時，得到(甲基)丙烯酸聚合物(A — I)溶液(固體成分45質(zhì)量％)。[重均分子量的測定]使用GPC (東曹(株)制“SD — 8022，，、“DP — 8020”、和“RI — 8020”)測定(A — I)的重均分子量(標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯換算)，結(jié)果為3.9X104。另外，柱使用日立化成工業(yè)(株)制“Gelpack GL — A150 — S，，和 “Gelpack GL — A160 — S，，。[酸值的測定]測定A — 2的酸值，結(jié)果為79mgK0H / g。另外，酸值由中和A — 2溶液所需要的0.1mol / L氫氧化鉀水溶液量算出。此時，將作為指示劑添加的酚酞由無色變色為粉色的點(diǎn)作為中和點(diǎn)。[包層形成用樹脂清漆的調(diào)配]將作為(A)基礎(chǔ)聚合物的前述A — I溶液(固體成分45質(zhì)量％) 84質(zhì)量份(固體成分38質(zhì)量份)、作為(B)光固化成分的具有聚酯骨架的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制“U - 200AX”)33質(zhì)量份、和具有聚丙二醇骨架的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制“UA - 4200”)15質(zhì)量份、作為(C)熱固化成分的將六亞甲基二異氰酸酯的異氰尿酸酯型三聚體用甲基乙基酮肟保護(hù)所得的多官能封閉異氰酸酯溶液(固體成分75質(zhì)量％)(住化拜耳聚氨酯(株)制“Sumidur BL3175”)20質(zhì)量份(固體成分15質(zhì)量份)、作為(D)光聚合引發(fā)劑的I 一 [4 一(2 —輕基乙氧基)苯基]一 2 —輕基一2 —甲基一 I 一丙燒一 I 一酮(Ciba日本(株)制“艷佳固2959”)I質(zhì)量份、雙(2，4，6 —二甲基苯甲?；?苯基氧化膦(Ciba日本(株)制“艷佳固819”)I質(zhì)量份、和作為稀釋用有機(jī)溶劑的丙二醇單甲基醚乙酸酯23質(zhì)量份邊攪拌邊混合。使用孔徑2 μ m的POLYFLON過濾器(ADVANTEC東洋(株)制“PF020”)進(jìn)行加壓過濾后，減壓脫泡，得到包層形成用樹脂清漆。使用上述涂布機(jī)，在PET膜(東洋紡織(株)制“Cosmoshine A4100”、厚度50 μ m)的非處理面上涂布上述得到的包層形成用樹脂組合物，在100°c干燥20分鐘后，粘貼表面脫模處理PET膜(帝人杜邦膜(株)制“Purex A31”、厚度25 μ m)作為覆蓋膜，得到包層形成用樹脂膜。[芯層形成用樹脂膜的制作]使用作為(A)基礎(chǔ)聚合物的苯氧樹脂(商品名ZPhenotohto YP-70”，東都化成株式會社制)26質(zhì)量份、作為(B)光聚合性化合物的9，9-雙[4- (2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]-芴(商品名:A-BPEF、新中村化學(xué)工業(yè)株式會社制)36質(zhì)量份、和雙酚A型環(huán)氧丙烯酸酯(商品名:EA-1020、新中村化學(xué)工業(yè)株式會社制)36質(zhì)量份、作為(C)光聚合引發(fā)劑的雙(2，4，6—三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦(商品名:艷佳固819、汽巴精化公司制)1質(zhì)量份、和
1— [4 — (2 —輕基乙氧基)苯基]—2 —輕基一2 —甲基一I —丙燒一I —酮(商品名:艷佳固2959、汽巴精化公司制)1質(zhì)量份、作為有機(jī)溶劑的丙二醇單甲基醚乙酸酯40質(zhì)量份，除此以外，在與上述制造例同樣的方法和條件下調(diào)配芯層形成用樹脂清漆B。之后，在與上述制造例同樣的方法和條件下加壓過濾，進(jìn)一步減壓脫泡。使用與上述制造例同樣的方法，在PET膜(商品名=Cosmoshine A1517、東洋紡織株式會社制、厚度:16 μ m)的非處理面上涂布上述得到的芯層形成用樹脂清漆B并干燥，接著按照脫模面為樹脂側(cè)的方式粘貼脫模PET膜(商品名=Purex A31、帝人杜邦膜株式會社、厚度:25μπι)作為覆蓋膜，得到芯層形成用樹脂膜。[光波導(dǎo)的制作]在以蝕刻除去了 100mmX 100mm銅箔的FR-4基板(日立化成株式會社制,商品名:MCL-E-679FGB，厚度:0.6mm)上，從上述得到的包層形成用樹脂膜上剝離作為覆蓋膜的脫模PET膜(Purex A31 )，使用作為平板型層壓機(jī)的真空加壓式層壓機(jī)(株式會社名機(jī)制作所制、MVLP - 500)，抽真空至500Pa以下后，在壓力0.4MPa、溫度50°C、加壓時間30秒的條件下進(jìn)行加熱壓接，隔著具有2處10mmX 10mm的遮光部(遮光部間間隙:300 μ m)的負(fù)型光掩模，使用紫外線曝光機(jī)(株式會社ORC制作所制，EXM-1172)以0.6J/cm2照射紫外線(波長365nm)，之后，剝離載體膜，使用顯影液(1%碳酸鉀水溶液)，對下部包層2進(jìn)行蝕刻。接著，用水洗滌，在170°C下加熱干燥和固化1小時，接著在80°C下加熱處理10分鐘，從而形成了具有大小為10mmXl0mm的切口部5的下部包層2。接著,在下部包層2上,使用棍層壓機(jī)(日立化成Techno-Plant株式會社制、HLM 一1500)，在壓力0.4MPa、溫度50°C、層壓速度0.2m / min的條件下層壓厚度50 μ m的上述芯層形成用樹脂膜，接著，使用在上熱板上安裝有厚度2mm SUS板的作為平板型層壓機(jī)的真空加壓式層壓機(jī)(株式會社名機(jī)制作所制、MVLP-500)，抽真空至500Pa以下后，在壓力0.4MPa、溫度50°C、加壓時間30秒的條件下進(jìn)行加熱壓接，形成芯層。接著，隔著與切口部5相距50mm地點(diǎn)的寬度為50 μ m、切口部分的間隙地點(diǎn)的寬度為40 μ m的在寬度方向具有錐度的負(fù)型光掩模，以在切口部5的間隙形成芯圖案的方式進(jìn)行定位，使用上述紫外線曝光機(jī)以0.6J/cm2照射紫外線(波長365nm),接著在80°C下曝光5分鐘后進(jìn)行加熱。之后，剝離作為載體膜的PET膜，使用顯影液(丙二醇單甲基醚乙酸酯/N，N —二甲基乙酰胺=8 / 2、質(zhì)量比)，對芯圖案進(jìn)行顯影。接著，使用洗滌液(異丙醇)進(jìn)行洗滌，在100°C下加熱干燥10分鐘，形成在厚度方向和寬度方向上具有錐度的四角錐臺形狀的芯圖案3。接著，使用上述在上熱板上安裝有厚度2mm SUS板的真空加壓式層壓機(jī)(株式會社名機(jī)制作所制、MVLP-500)，抽真空至500Pa以下后，在壓力0.4MPa、溫度120°C、加壓時間30秒的條件下層壓厚度54 μ m的上述包層形成用樹脂膜作為上部包層4。進(jìn)一步，以4J/cm2照射紫外線(波長365nm)后，剝離載體膜，在170°C下加熱處理I小時，從而形成上部包層4，制作圖1所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為39.5 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、42.5 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、46.7 μ m (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn)),厚部分的高度為49.9 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、49.9ym (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、48.5 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯厚和上部包層厚的厚度為54.5 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、57.5 μ m (離薄膜側(cè)端部3_地點(diǎn))、60.3 μ m (離薄膜側(cè)端部6_地點(diǎn))，厚部分的高度為65.2 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、65.2 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、62.5 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。實(shí)施例2 (圖10的光波導(dǎo)的制造)在實(shí)施例1中，不進(jìn)行在下部包層2上形成切口部5的操作，在下部包層2上，從上述所得到的厚度為10 μ m的包層形成用樹脂膜上剝離作為覆蓋膜的脫模PET膜(PurexA31)，使用作為平板型層壓機(jī)的真空加壓式層壓機(jī)(株式會社名機(jī)制作所制、MVLP - 500)，抽真空至500Pa以下后，在壓力0.4MPa、溫度50°C、加壓時間30秒的條件下進(jìn)行加熱壓接，隔著具有2處IOmmXlOmm的開口部(開口部間間隙:300 μ m)的負(fù)型光掩模，使用紫外線曝光機(jī)(株式會社ORC制作所制，EXM-1172)以0.6J/cm2照射紫外線(波長365nm)，之后，剝離載體膜，使用顯影液(1%碳酸鉀水溶液)，對下部包層2進(jìn)行蝕刻。接著，用水洗滌，在170°C下加熱干燥和固化I小時，接著在8(TC下加熱處理10分鐘,從而形成了大小為IOmmX IOmm的虛設(shè)層7。接著,在下部包層2上,使用棍層壓機(jī)(日立化成Techno-Plant株式會社制、HLM — 1500)，在壓力0.4MPa、溫度50°C、層壓速度0.2m / min的條件下層壓厚度40 μ m的上述芯層形成用樹脂膜，接著，使用在上熱板上安裝有厚度2mm SUS板的作為平板型層壓機(jī)的真空加壓式層壓機(jī)(株式會社名機(jī)制作所制、MVLP-500)，抽真空至500Pa以下后，在壓力0.4MPa、溫度50°C、加壓時間30秒的條件下進(jìn)行加熱壓接，形成芯層。接著，隔著與虛設(shè)層7相距50mm地點(diǎn)的寬度為40 μ m、虛設(shè)層7的間隙地點(diǎn)的寬度為50 μ m的在寬度方向具有錐度的負(fù)型光掩模，以在虛設(shè)層7的間隙形成芯圖案的方式進(jìn)行定位，使用上述紫外線曝光機(jī)以0.6J/Cm2照射紫外線(波長365nm),接著在80°C下曝光5分鐘后進(jìn)行加熱。之后，剝離作為載體膜的PET膜，使用顯影液(丙二醇單甲基醚乙酸酯/N，N —二甲基乙酰胺=8 / 2、質(zhì)量比)，對芯圖案進(jìn)行顯影。接著，使用洗滌液(異丙醇)進(jìn)行洗滌，在100°C加熱干燥10分鐘，形成了在厚度方向和寬度方向上具有錐度的四角錐臺形狀的芯圖案3。與實(shí)施例1同樣地形成上部包層，制作了圖10所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為40.1 μπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、40.1 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、42.4 μ m (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn)),厚部分的高度為49.9 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、46.3 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、45.0ym (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯厚和上部包層厚的厚度為55.5 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、55.5 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、58.3 μ m (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))，厚部分的高度為64.5 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、62.1 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、60.2 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。實(shí)施例3 (圖14的光波導(dǎo)的制造)在實(shí)施例1中，在下部包層2上形成IOmmXlOmm的切口部5，在與切口部5相距20mm的部分上形成IOmm·XlOmm的虛設(shè)層7,通過與實(shí)施例1同樣的方法形成芯層。接著，隔著切口部5側(cè)附近的寬度為40 μ m、虛設(shè)層7側(cè)附近的寬度為50 μ m的在寬度方向具有錐度的負(fù)型光掩模，以連結(jié)切口部5與虛設(shè)層7的間隙的方式進(jìn)行定位，使用上述紫外線曝光機(jī)以0.6J/cm2照射紫外線(波長365nm)，接著在80°C下曝光5分鐘后進(jìn)行加熱。之后，剝離作為載體膜的PET膜，使用顯影液(丙二醇單甲基醚乙酸酯/ N，N—二甲基乙酰胺=8 / 2、質(zhì)量比)，對芯圖案進(jìn)行顯影。接著，使用洗滌液(異丙醇)進(jìn)行洗滌，在100°C加熱干燥10分鐘，形成了在厚度方向和寬度方向上具有錐度的四角錐臺形狀的芯圖案3。與實(shí)施例1同樣地形成上部包層4，制作了圖14所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為41.1 μπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、43.2 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、44.4ym (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))，厚部分的高度為49.9 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、47.2 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、46.2 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯厚和上部包層厚的厚度為54.5 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、55.5 μ m (離薄膜側(cè)端部3_地點(diǎn))、57.1 μ m (離薄膜側(cè)端部6_地點(diǎn))，厚部分的高度為64.5 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、62.0 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、61.0ym (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。實(shí)施例4 (圖4的光波導(dǎo)的制造)除了在實(shí)施例1中，在切口部5上形成了 250μπι間距的寬度50μπι的芯圖案(虛設(shè)芯6)以外，與實(shí)施例1同樣地制作了圖4所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為39.4 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、42.4 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、46.5 μ m (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn)),厚部分的高度為50.0 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、49.9 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、48.4ym (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯厚和上部包層厚的厚度為65.3μπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、64.3μπι (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、65.0ym (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))，厚部分的高度為65.2 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、65.2 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、64.5 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。實(shí)施例5 (圖7的光波導(dǎo)的制造)除了在實(shí)施例1中，在切口部5的整面上形成了芯圖案(虛設(shè)芯6)以外，與實(shí)施例1同樣地制作了圖7所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為39.5μπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、42.4 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、46.6 μ m (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn)),厚部分的高度為50.0 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、50.0ym (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、48.2 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯厚和上部包層厚的厚度為75.3μπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、73.3 μ m (離薄膜側(cè)端部3_地點(diǎn))、68.0ym (離薄膜側(cè)端部6_地點(diǎn))，厚部分的高度為65.2 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、65.2 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、64.5 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。實(shí)施例6 (圖2的光波導(dǎo)的制造)除了在實(shí)施例1中，使切口部5形成為一邊為IOmm的直角等腰三角形以外，與實(shí)施例I同樣地制作了圖7所示的光波導(dǎo)。由得到的光波導(dǎo)的芯厚錐度形成的芯厚度薄的部分的高度為40.Ομπι (光波導(dǎo)薄膜端部)、41.7 μ m (離薄膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、43.1ym (離薄膜側(cè)端部6mm地點(diǎn)),厚部分的高度為50.0 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、49.9 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、48.8ym (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。另外，合計芯 厚和上部包層厚的厚度為55.1 μ m (光波導(dǎo)薄膜端部)、56.1 μ m (離薄膜側(cè)端部3_地點(diǎn))、57.3 μ m (離薄膜側(cè)端部6_地點(diǎn))，厚部分的高度為65.2 μ m (光波導(dǎo)厚膜端部)、65.2 μ m (離厚膜側(cè)端部3mm地點(diǎn))、62.5 μ m (離厚膜側(cè)端部6mm地點(diǎn))。工業(yè)實(shí)用性如以上詳細(xì)的說明所示，本發(fā)明的光波導(dǎo)，特別是在具有在厚度方向具有錐度的芯圖案的光波導(dǎo)中，由于以對光波導(dǎo)的厚度賦予錐度、或不賦予錐度的方式調(diào)整了厚度，因此可以確保其與光學(xué)元件連接時的定位公差。因此，例如可用作光纖和光波導(dǎo)的連接設(shè)備用的器件、將光波導(dǎo)和電配線板復(fù)合而成的器件。符號說明1:基材2:下部包層3:芯圖案4:上部包層5:切口部6:虛設(shè)芯7:虛設(shè)層(包層)8:下部包層9:虛設(shè)層(包層)A:錐度
B、C:平坦部
權(quán)利要求
1.一種光波導(dǎo)，其是在基材上依次層疊下部包層、在厚度方向具有錐度的芯圖案、上部包層而形成的光波導(dǎo)，所述下部包層具有切口部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo)，在所述芯圖案的錐度薄側(cè)具有比厚側(cè)更大面積的切口部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo)，在與所述芯圖案的錐度薄側(cè)的前端相比更靠前的沒有芯圖案的部分具有切口部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項所述的光波導(dǎo)，所述上部包層在厚度方向具有錐度，該錐度朝著與芯圖案的錐度相同的方向變薄。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項所述的光波導(dǎo)，在所述下部包層的切口部具有虛設(shè)芯。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光波導(dǎo)，所述上部包層在厚度方向具有錐度，該錐度朝著與芯圖案的錐度相反的方向變薄。
7.一種光波導(dǎo)，其是在基材上依次層疊下部包層、在厚度方向具有錐度的芯圖案、上部包層而形成的光波導(dǎo)，在所述下部包層上具有虛設(shè)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光波導(dǎo)，在所述芯圖案的錐度厚側(cè)具有比薄側(cè)更大面積的虛設(shè)層
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光波導(dǎo)，在與所述芯圖案的錐度厚側(cè)的后端相比更靠后的沒有芯圖案的部分具有所述虛設(shè)層。
10.根據(jù)權(quán)利要求7 9中任一項所述的光波導(dǎo)，所述虛設(shè)層是包層。
11.根據(jù)權(quán)利要求 1或7所述的光波導(dǎo)，在厚度方向具有錐度的芯圖案是在寬度方向也具有錐度的形狀。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)，其是在基材1上依次層疊下部包層2、在厚度方向具有錐度的芯圖案3、上部包層4而形成，且下部包層2具有切口部5的光波導(dǎo)，或是在基材1上依次層疊下部包層2、在厚度方向具有錐度的芯圖案3、上部包層4而形成，且在下部包層2上具有虛設(shè)層的光波導(dǎo)，該光波導(dǎo)能確保其與光學(xué)元件連接時的定位公差。
文檔編號G02B6/122GK103221856SQ20118005608
公開日2013年7月24日 申請日期2011年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月22日
發(fā)明者酒井大地, 黑田敏裕, 青木宏真 申請人:日立化成株式會社