專利名稱：曝光系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用以連續(xù)地形成偏光圖案的曝光系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
曝光系統(tǒng)將卷曲在卷軸上的薄膜連續(xù)地退繞，對退繞的部分進(jìn)行涂覆和干燥之后，照射光以形成偏光圖案。在曝光系統(tǒng)退繞并移動(dòng)薄膜的過程中，會(huì)發(fā)生薄膜的彎曲和抖動(dòng)，這將成為導(dǎo)致薄膜中形成的偏光圖案不規(guī)則的主要原因。偏光圖案不規(guī)則的薄膜的偏光性能降低，并會(huì)引起使附著該薄膜的3D顯示器的性能也顯著地惡化的問題。因此，需要摸索用以在薄膜上規(guī)則地形成曝光圖案的方案。截至目前的曝光系統(tǒng)例如韓國公開專利公報(bào)第2003-40674號(hào)所公開，由于其不適合于連續(xù)工藝或掩膜的曝光區(qū)域較窄，存在效率較低的缺陷。并且，如果曝光區(qū)域?yàn)榍?，通過掩膜到達(dá)曝光區(qū)域的曝光量變得不均勻，這被認(rèn)為是導(dǎo)致偏光圖案不規(guī)則的原因，因此認(rèn)為必須要使曝光區(qū)域保持平坦。[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)]韓國公開專利公報(bào)第2003-40674號(hào)(2003.5.23公開)

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)課題本發(fā)明的目的在于提供一種在形成連續(xù)的相位差膜(retarder)偏光圖案時(shí),能夠使薄膜的抖動(dòng)及彎曲最小化的曝光系統(tǒng)。本發(fā)明的目的在于提供一種可對更為寬廣的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)均勻的曝光的曝光系統(tǒng)。技術(shù)方案1.一種曝光系統(tǒng)，包括:發(fā)光單元；薄膜傳送單元，薄膜貼合在其表面，并以圓、橢圓或具有部分曲率彎曲的狀態(tài)被傳送；以及圖案形成單元，將上述發(fā)光單元發(fā)射的光傳遞到貼合的上述薄膜，并在上述薄膜形成偏光圖案。2、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng),從上述發(fā)光單兀射出的光是偏振光或非偏振光。3、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述薄膜傳送單元是圓筒形或橢圓形滾輪。4、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述薄膜傳送單元是沿具有圓、橢圓或具有部分曲率的軌跡相鄰或相隔配置的多個(gè)圓形滾輪。5、根據(jù)上述4中的曝光系統(tǒng)，在上述多個(gè)圓形滾輪的下部還包括有多個(gè)支撐滾輪。6、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元包括以與上述曲率相同的曲率彎曲的掩膜。7、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元包括以與上述曲率相同的曲率彎曲的掩膜及偏光器。
8、根據(jù)上述3中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元將從上述發(fā)光單元射出的光向上述滾輪的旋轉(zhuǎn)軸傳遞。9、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元將從上述發(fā)光單元射出的光均勻地傳遞到貼合的上述薄膜。10、根據(jù)上述6或7中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元還包括使上述掩膜或上述掩膜及偏光器以上述曲率彎曲的內(nèi)部氣壓調(diào)節(jié)用腔體。11、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，在上述薄膜傳送單元的表面形成有粘結(jié)層或防滑層。12、根據(jù)上述6或7中的曝光系統(tǒng)，從上述掩膜至上述薄膜傳送單元的距離固定。13、根據(jù)上述6或7中的曝光系統(tǒng)，上述掩膜呈平面四邊形狀，其中，一邊及與其相對的對邊連接在上述圖案形成單元的固定部，除了該兩邊之外的相對的一對兩邊不固定在上述固定部。14、根據(jù)上述13中的曝光系統(tǒng)，上述掩膜的曲率可由用以調(diào)節(jié)上述掩膜的兩邊之間的距離的固定裝置進(jìn)行調(diào)節(jié)。15、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述薄膜傳送單元的表面是經(jīng)無反射處理或無散射處理的。16、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，還包括:第一反射部，用以反射從上述發(fā)光單元射出的光；集光器，用以對從上述第一反射部反射的光進(jìn)行聚光并傳遞；以及第二反射部，用以將從上述集光器傳遞的光反射到上述圖案形成單元。17、根據(jù)上述I中的曝光系統(tǒng)，上述圖案形成單元直接接收從所述發(fā)光單元射出的光，并傳遞到貼合在所述薄膜傳送單元的薄膜。技術(shù)效果根據(jù)本發(fā)明的曝光系統(tǒng)，使傳送的薄膜貼合在薄膜傳送單元進(jìn)行傳送，從而在形成連續(xù)的偏光圖案時(shí)，能夠使薄膜的抖動(dòng)及彎曲最小化。根據(jù)本發(fā)明的曝光系統(tǒng)，使圖案形成單元和薄膜傳送單元的曲率保持一致，以使它們之間的距離保持固定，從而使光能夠均勻地入射到薄膜的貼合面，可實(shí)現(xiàn)均勻的曝光及圖案形成。根據(jù)本發(fā)明的曝光系統(tǒng)，由于將貼合有薄膜傳送單元的薄膜以圓、橢圓或其一部分的曲率彎曲并進(jìn)行傳送，與例如通過配置在一直線上的卷軸傳送薄膜的情況相比，單位時(shí)間內(nèi)可實(shí)現(xiàn)更為寬廣的區(qū)域的曝光及圖案形成。根據(jù)本發(fā)明的曝光系統(tǒng)，在對薄膜傳送單元的表面進(jìn)行無反射處理及無散射處理的情況下，能夠使因表面入射的光被反射及散射而引起的光的損失最小化，并能夠向貼合的薄膜上施加所希望的強(qiáng)度及量的光，從而能夠?qū)崿F(xiàn)均勻準(zhǔn)確的偏光圖案形成。本發(fā)明的系統(tǒng)的薄膜傳送單元，可容易地由通過將圓筒形滾輪(roller)、橢圓形滾輪、多個(gè)圓形滾輪以具有圓、橢圓或其一部分的曲率的軌跡相隔或相鄰配置而構(gòu)成的大型滾輪等來實(shí)現(xiàn)。在作為本發(fā)明的系統(tǒng)的薄膜傳送單元，使用將多個(gè)圓形滾輪以具有圓、橢圓或其一部分的曲率的軌跡相隔或相鄰配置而構(gòu)成的大型滾輪的情況下，能夠?qū)Ψ浅拸V的范圍同時(shí)實(shí)現(xiàn)均勻的曝光及圖案形成。
在作為本發(fā)明的系統(tǒng)的薄膜傳送單元，使用上述的大型滾輪的情況下，可以在多個(gè)圓形滾輪的下部增加雙重或多重形式的支撐滾輪，從而能夠更為穩(wěn)定地運(yùn)行系統(tǒng)。


圖1是示出本發(fā)明的曝光系統(tǒng)的一例；圖2是示出本發(fā)明的薄膜傳送單元的例；圖3是示出本發(fā)明的圖案形成單元的一例。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明涉及的曝光系統(tǒng)包括:發(fā)光單元；薄膜傳送單元，薄膜貼合在其表面，并彎曲成圓、橢圓或具有部分曲率的狀態(tài)被傳送；以及圖案形成單元，將上述發(fā)光單元發(fā)射的光傳遞到貼合的上述薄膜，并在上述薄膜形成偏光圖案，由此，在連續(xù)地退繞卷曲在滾軸上的薄膜并形成偏光圖案的情況下，也能夠使薄膜的抖動(dòng)及彎曲最小化，可對更為寬廣的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)均勻的曝光，從而有助于改進(jìn)圖案相位差膜(pattern retarder)等的品質(zhì)及提高生產(chǎn)效率。以下對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說明。本發(fā)明的曝光系統(tǒng)例如圖1所示構(gòu)成。圖1的曝光系統(tǒng)是用以向3D顯示器用偏光薄膜F照射光并形成偏光圖案的系統(tǒng)。用以執(zhí)行如上所述的功能的本實(shí)施例的曝光系統(tǒng)，具有燈泡110、第一反射鏡120、集光器130、第二反射鏡140、圖案形成單元150及薄膜傳送單元160。燈泡110是生成并射出光的發(fā)光元件，生成的光發(fā)射到第一反射鏡120。第一反射鏡120將燈泡110射出的光向集光器130反射。集光器130對從第一反射鏡120反射的光進(jìn)行聚光并傳遞到第二反射鏡140。第二反射鏡140將集光器130傳遞的光反射到圖案形成單元150。通過由第一反射鏡120、集光器130及第二反射鏡140構(gòu)成的光學(xué)系統(tǒng)，圖案形成單元150接收到從燈泡110照射的光。薄膜傳送單元160是通過旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使薄膜F沿著圖1所示的箭頭方向貼合傳送的裝置。薄膜F貼合在薄膜傳送單元160的曲面并移動(dòng)，從而防止傳送過程中發(fā)生的抖動(dòng)及彎曲。薄膜傳送單元160的曲面相當(dāng)于薄膜F貼合的貼合面,薄膜F貼合在薄膜傳送單元160的表面并彎曲成橢圓或具有部分曲率的狀態(tài)移動(dòng)。根據(jù)需要，可在薄膜傳送單元的表面上形成有粘結(jié)層或防滑層，以使薄膜貼合著被傳送。如果對傳送的薄膜施加充分的張力，則可以不必另外形成用以貼合的層。薄膜傳送單元160在圖1的(a)中示出為橢圓形滾輪，圖1的(b)中示出為圓筒形滾輪，但并非特別限定于此，只要能夠使薄膜貼合在其表面，并彎曲成圓、橢圓或具有部分曲率的狀態(tài)下進(jìn)行傳送即可。有多種實(shí)現(xiàn)方法，如圖1的(a)的橢圓形滾輪由圓筒形滾輪和帶來實(shí)現(xiàn)的情況、如圖2所示的情況。例如，如圖2的(a)所示，可以將兩個(gè)圓形滾輪利用帶連接而構(gòu)成無限軌道形式，如圖2的(b)所示，可以將多個(gè)圓形滾輪以橢圓或具有部分曲率的軌跡相隔配置，如圖2的
(c)所示，可以將多個(gè)圓形滾輪以橢圓或具有部分曲率的軌跡相鄰地緊密配置。另外，如圖2的(d)及圖2的(e)所示，可以在圖2的(b)及圖2的(c)的結(jié)構(gòu)下部設(shè)置雙重或多重的支撐滾輪。圖案形成單元150將通過第一反射鏡120、集光器130及第二反射鏡140傳遞過來的從燈泡Iio照射的光，傳遞到貼合在薄膜傳送單元160的曲面的薄膜F。由此，貼合在薄膜傳送單元160的薄膜F的一部分上形成偏光圖案。圖案形成單元可向圓筒形滾輪的旋轉(zhuǎn)軸傳遞從燈泡110射出的光。該種情況為使光均勻入射的方法之一，具體為:使光均勻地入射至貼合在薄膜傳送單元160的曲面的薄膜F部分。從圖案形成單元150向貼合在薄膜傳送單元160的薄膜F傳遞的光，可朝向薄膜傳送單元160的橢圓形滾輪的中心。該種情況為使光均勻入射的方法之一，具體為:將構(gòu)成使光均勻地入射至貼合在薄膜傳送單元160的曲面的薄膜F部分的一種方法。并且，薄膜傳送單元160的曲面可以是經(jīng)無反射處理及無散射處理的。由此，在薄膜傳送單元160的曲面，入射的光將不反射或不散射，從而在貼合在薄膜傳送單元160的曲面的薄膜F部分形成固定的偏光圖案。圖案形成單元150的詳細(xì)結(jié)構(gòu)例如圖3所示。如圖3所示，圖案形成單元150具有腔體151、偏光板153、偏光板固定部155、掩膜固定部157及掩膜159。偏光板153可由COP (環(huán)烯烴聚合物)/偏光器PVA (聚乙烯醇)/C0P構(gòu)成。此時(shí)，使用的PVA可利用碘染色的PVA，或除此之外也可以使用其它可進(jìn)行偏光的手段。偏光板固定部155將偏光板153的兩端固定在圖案形成單元150。掩膜159可由能夠形成偏光圖案的薄膜或石英材質(zhì)實(shí)現(xiàn)。掩膜固定部157將掩膜159的兩端固定在圖案形成單元150。具體地，掩膜159呈平面四邊形狀，其中，一邊及與其相對的對邊固定連接在掩膜固定部157，除了該兩個(gè)邊之外的相對的另一對的兩邊不固定在掩膜固定部157。腔體151是用以調(diào)節(jié)內(nèi)部氣壓，以使偏光板153及掩膜159的曲面和薄膜傳送單元160的曲面之間的距離保持固定而進(jìn)行調(diào)節(jié)的裝置。通過減小腔體151的內(nèi)部氣壓，以減小偏光板153及掩膜159的曲率半徑，從而將偏光板153及掩膜159的曲面和薄膜傳送單元160的曲面之間距離調(diào)節(jié)成保持固定，圖3的(b)中圖示出上述調(diào)節(jié)結(jié)果。此外，通過圖1也可以確認(rèn)圖案形成單元150中具有的掩膜的曲面和薄膜傳送單元160的曲面之間距離保持固定(AA’ =BB’ =CC’)。優(yōu)選地，偏光板153及掩膜159的曲面和薄膜傳送單元160的曲面之間的距離保持固定。這是為了使得光能夠均勻地入射到貼合在薄膜傳送單元160的曲面的薄膜F部分。到目前為止，舉出優(yōu)選的實(shí)施例，對使光均勻地照射至貼合在圓筒形的薄膜傳送單元160的薄膜F，以形成偏光圖案的曝光系統(tǒng)進(jìn)行了詳細(xì)的說明。在本實(shí)施例中，雖然介紹了通過由第一反射鏡120、集光器130及第二反射鏡140構(gòu)成的光學(xué)系統(tǒng)，使光從燈泡110傳遞到圖案形成單元150，但這僅屬于例示?？赏ㄟ^與圖1所示的形式的光學(xué)系統(tǒng)不同的形式的光學(xué)系統(tǒng)，來使光從燈泡110傳遞到圖案形成單元150。另外，也可在沒有光學(xué)系統(tǒng)的情況下，使光從燈泡110直接傳遞到圖案形成單元150。
并且，雖然介紹了利用可調(diào)節(jié)內(nèi)部氣壓的腔體151來調(diào)節(jié)偏光板153和掩膜159的曲面，但這也僅屬于用以說明本發(fā)明的例示，也可利用除了腔體151以外的其它手段，來調(diào)節(jié)偏光板153和掩膜159的曲面。另外,雖然在上述實(shí)施例中介紹了偏光板153和掩膜159的曲面可變,但這也僅屬于用以說明上的便利的例示。因此，也可使偏光板153和掩膜159的曲面保持固定的狀態(tài)，在此情況下，不需要設(shè)置如腔體151等用以調(diào)節(jié)偏光板153和掩膜159的曲面的手段。并且，雖然在上述實(shí)施例中介紹了用以傳送薄膜F的薄膜傳送單元160為橢圓形滾輪，但由于橢圓形滾輪僅屬于使薄膜F貼合的狀態(tài)下以橢圓或其一部分的曲率傳送薄膜F的手段的例示，其可由包括圖2的例的多種手段代替。并且,雖然在上述實(shí)施例中，偏光板153和掩膜159對于薄膜傳送單兀160面以偏光板153、掩膜159的順序?qū)盈B，但即便使其在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)相隔或改變其層疊順序，也能夠執(zhí)行相同的功能。并且,雖然在上述實(shí)施例中，偏光板153和掩膜159依次地層疊,但如果從光源射出的光為偏振光，則偏光板也可以省略。并且，只使用偏光板153中的偏光器也無妨。并且，雖然在上述實(shí)施例中，利用腔體151調(diào)節(jié)包括掩膜159的部分的曲面，但由于其僅屬于用以調(diào)節(jié)曲面的手段的例示，只要是能夠調(diào)節(jié)掩膜的曲面的同時(shí)施加用以保持該曲面的外力的手段，可由任何一個(gè)來代替腔體151。例如，可由能夠調(diào)節(jié)固定在圖案形成單元的掩膜的兩邊之間的距離的固定裝置調(diào)節(jié)掩膜的曲率半徑。上述實(shí)施例中介紹的曝光系統(tǒng)是用以在3D顯示器用偏光薄膜中形成偏光圖案的系統(tǒng)。但是，本發(fā)明的技術(shù)思想同樣適用于除了 3D顯示器用偏光薄膜以外的其它薄膜中形成圖案的情況。并且，以上對本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了圖示及說明，但是本發(fā)明并非限定于上述特定的實(shí)施例，在不超出權(quán)利要求書中所請求的本發(fā)明的技術(shù)思想的情況下，本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)ζ鋵?shí)施多種變形，并且該實(shí)施的變形應(yīng)當(dāng)理解為屬于本發(fā)明的技術(shù)思想或前景。[附圖標(biāo)記的說明]110:燈泡120:第一反射鏡130:集光器140:第二反射鏡150:圖案形成單元151:腔體153:偏光器155:偏光板固定部157:掩膜固定部159:掩膜160:薄膜傳送單元
權(quán)利要求
1.一種曝光系統(tǒng)，所述曝光系統(tǒng)包括: 發(fā)光單元； 薄膜傳送單元，薄膜貼合在所述薄膜傳送單元的表面，并彎曲成圓、橢圓或具有部分曲率的狀態(tài)被傳送；以及 圖案形成單元，將所述發(fā)光單元發(fā)射的光傳遞到貼合的所述薄膜，并在所述薄膜上形成偏光圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，從所述發(fā)光單元射出的光是偏振光或非偏振光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述薄膜傳送單元是圓筒形或橢圓形滾輪。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述薄膜傳送單元是以圓、橢圓或具有部分曲率的軌跡相鄰或相隔配置的多個(gè)圓形滾輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其中，在所述多個(gè)圓形滾輪的下部還包括有多個(gè)支撐滾輪。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元包括以與所述曲率相同的曲率彎曲的掩膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元包括以與所述曲率相同的曲率彎曲的掩膜及偏光器。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元將從所述發(fā)光單元射出的光向所述滾輪的旋轉(zhuǎn)軸傳遞。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元將從所述發(fā)光單元射出的光均勻地傳遞到貼合的所述薄膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求6或權(quán)利要求7所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元還包括內(nèi)部氣壓調(diào)節(jié)用腔體，所述內(nèi)部氣壓調(diào)節(jié)用腔體使所述掩膜或所述掩膜及偏光器以所述曲率彎曲。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，在所述薄膜傳送單元的表面形成有粘結(jié)層或防滑層。
12.根據(jù)權(quán)利要求6或權(quán)利要求7所述的曝光系統(tǒng)，其中，從所述掩膜至所述薄膜傳送單元的距離恒定。
13.根據(jù)權(quán)利要求6或權(quán)利要求7所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述掩膜呈平面四邊形狀，在所述掩膜中，一邊及與所述一邊相對的對邊連接在所述圖案形成單元的固定部，除了所述一邊及所述對邊之外的相對的另一對兩邊不固定在所述固定部。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述掩膜的曲率可由用以調(diào)節(jié)所述掩膜的兩邊之間的距離的固定裝置進(jìn)行調(diào)節(jié)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述薄膜傳送單元的表面是經(jīng)無反射處理或無散射處理的。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，所述曝光系統(tǒng)還包括:第一反射部，用以反射從所述發(fā)光單元射出的光；集光器，用以對從所述第一反射部反射的光進(jìn)行聚光并傳遞；以及第二反射部，用以將從所述集光器傳遞的光反射到所述圖案形成單元。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其中，所述圖案形成單元直接接收從所述發(fā)光單元射出的光，并傳遞到貼 合在所述薄膜傳送單元的薄膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及曝光系統(tǒng)，更具體地，本發(fā)明的曝光系統(tǒng)包括發(fā)光單元；薄膜傳送單元，薄膜貼合在其表面，并彎曲成圓、橢圓或具有部分曲率的狀態(tài)傳送；以及圖案形成單元，將所述發(fā)光單元發(fā)射的光傳遞到貼合的所述薄膜，并在所述薄膜形成偏光圖案。根據(jù)本發(fā)明，在連續(xù)地退繞卷曲在滾軸上的薄膜并形成偏光圖案的情況下，也能夠使薄膜的抖動(dòng)及彎曲最小化，可對更為寬廣的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)均勻的曝光，從而有助于改進(jìn)圖案相位差膜(pattern retarder)等的品質(zhì)及提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)G03F7/20GK103119519SQ201180046322
公開日2013年5月22日 申請日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月29日
發(fā)明者崔鳳珍, 金龍煥 申請人:東友精細(xì)化工有限公司