技術編號：2682670
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用以連續(xù)地形成偏光圖案的曝光系統(tǒng)。背景技術曝光系統(tǒng)將卷曲在卷軸上的薄膜連續(xù)地退繞，對退繞的部分進行涂覆和干燥之后，照射光以形成偏光圖案。在曝光系統(tǒng)退繞并移動薄膜的過程中，會發(fā)生薄膜的彎曲和抖動，這將成為導致薄膜中形成的偏光圖案不規(guī)則的主要原因。偏光圖案不規(guī)則的薄膜的偏光性能降低，并會引起使附著該薄膜的3D顯示器的性能也顯著地惡化的問題。因此，需要摸索用以在薄膜上規(guī)則地形成曝光圖案的方案。截至目前的曝光系統(tǒng)例如韓國公開專利公報第2003-406...
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