專利名稱：曝光方法、曝光裝置、圖案形成方法及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向具有感光性的基板轉(zhuǎn)印圖案的掃描曝光。本申請(qǐng)基于在2010年2月2日申請(qǐng)的美國(guó)預(yù)申請(qǐng)61/300，574號(hào)、以及61/300，599 號(hào)主張優(yōu)先權(quán)并在此援引其全部?jī)?nèi)容。
背景技術(shù)：
作為個(gè)人計(jì)算機(jī)、電視等顯示元件，多用液晶顯示面板。最近，研究有通過以光刻的手法在可撓性的高分子片材(感光性基板)上對(duì)透明薄膜電極進(jìn)行圖案形成來制造顯示面板的方法。作為在該光刻工序中使用的曝光裝置，提出有將掩模的圖案轉(zhuǎn)印于由卷對(duì)卷 (Roll to Roll)輸送的帶狀的感光性基板的曝光裝置(以下，稱為卷對(duì)卷型曝光裝置)的方案(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。專利文獻(xiàn)I :日本特開2007-114385號(hào)公報(bào)在卷對(duì)卷型曝光裝置中，謀求實(shí)現(xiàn)向帶狀的感光性基板(即長(zhǎng)條基板)進(jìn)行圖案的轉(zhuǎn)印所涉及的生產(chǎn)率的提高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的方式的目的在于提供一種能夠在應(yīng)用于向由例如卷對(duì)卷輸送的長(zhǎng)條基板的掃描曝光時(shí)實(shí)現(xiàn)掃描曝光所涉及的生產(chǎn)率的提高的曝光方法、曝光裝置、圖案形成方法及器件制造方法。根據(jù)本發(fā)明的第一方式，提供一種曝光方法，該曝光方法將在第一面配置的圖案的像投影到長(zhǎng)條基板并向該長(zhǎng)條基板轉(zhuǎn)印上述圖案，上述曝光方法的特征在于所述曝光方法包括使上述圖案沿著上述第一面朝第一方向移動(dòng)；將上述圖案中的在上述第一面的第一部分區(qū)域配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第一投影區(qū)域；將上述圖案中的在從上述第一部分區(qū)域沿上述第一方向隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域配置的第二部分圖案的放大像，以上述規(guī)定倍率投影到與上述第一投影區(qū)域不同的第二投影區(qū)域；與上述圖案朝上述第一方向的移動(dòng)同步，以經(jīng)由上述第一投影區(qū)域以及上述第二投影區(qū)域的方式使上述長(zhǎng)條基板沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向移動(dòng)；基于上述規(guī)定倍率以及上述中心間隔，設(shè)定上述圖案沿著上述第一方向的圖案長(zhǎng)度、與從上述第一投影區(qū)域到上述第二投影區(qū)域的上述長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度的至少一方。根據(jù)本發(fā)明的第二方式，提供一種曝光裝置，該曝光裝置將在第一面配置的圖案的像投影到長(zhǎng)條基板并向該長(zhǎng)條基板轉(zhuǎn)印上述圖案，上述曝光裝置的特征在于，上述曝光裝置具備工作臺(tái)機(jī)構(gòu)，該工作臺(tái)機(jī)構(gòu)使上述圖案沿著上述第一面朝第一方向移動(dòng)；
投影光學(xué)系統(tǒng)，該投影光學(xué)系統(tǒng)將上述圖案中的在上述第一面的第一部分區(qū)域配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第一投影區(qū)域，并且將上述圖案中的在從上述第一部分區(qū)域沿上述第一方向隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域配置的第二部分圖案的放大像以上述規(guī)定倍率投影到與上述第一投影區(qū)域不同的第二投影區(qū)域；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該移動(dòng)機(jī)構(gòu)與上述圖案朝上述第一方向的移動(dòng)同步，以經(jīng)由上述第一投影區(qū)域以及上述第二投影區(qū)域的方式使上述長(zhǎng)條基板沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向移動(dòng)；以及調(diào)整機(jī)構(gòu)，該調(diào)整機(jī)構(gòu)基于上述規(guī)定倍率以及上述中心間隔，對(duì)從上述第一投影區(qū)域到上述第二投影區(qū)域的上述長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整。根據(jù)本發(fā)明的第三方式，提供一種器件制造方法，其特征在于， 上述器件制造方法包括使用第一方式所涉及的曝光方法，將上述圖案轉(zhuǎn)印于上述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)轉(zhuǎn)印了上述圖案的上述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。根據(jù)本發(fā)明的第四方式，提供的一種器件制造方法，其特征在于，上述器件制造方法包括使用第二方式所涉及的曝光裝置，將上述圖案轉(zhuǎn)印于上述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)轉(zhuǎn)印了上述圖案的上述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。根據(jù)本發(fā)明的第五方式，提供一種圖案形成方法，該圖案形成方法在長(zhǎng)條基板上沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向形成多個(gè)圖案區(qū)域，上述圖案形成方法的特征在于，上述圖案形成方法包括使上述長(zhǎng)條基板朝上述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)；以及在朝上述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)的上述長(zhǎng)條基板依次形成第一圖案區(qū)域以及第二圖案區(qū)域；對(duì)于上述第一圖案區(qū)域與上述第二圖案區(qū)域，在上述長(zhǎng)邊方向的區(qū)域長(zhǎng)度和與上述長(zhǎng)邊方向正交的寬度方向的區(qū)域?qū)挾鹊闹辽僖环较嗷ゲ煌?。根?jù)本發(fā)明的第六的方式，提供一種器件制造方法，其特征在于，上述器件制造方法包括使用第一方式所涉及的圖案形成方法，將上述圖案區(qū)域形成于上述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)形成了上述圖案區(qū)域的上述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，能夠并列地進(jìn)行基于第一投影區(qū)域的掃描曝光與基于第二投影區(qū)域的掃描曝光，進(jìn)而能夠?qū)崿F(xiàn)掃描曝光所涉及的生產(chǎn)率的提高。特別是，通過基于第一部分區(qū)域與第二部分區(qū)域之間的中心間隔以及投影倍率，對(duì)從第一投影區(qū)域到第二投影區(qū)域的長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整(設(shè)定)，能夠在沿規(guī)定的路徑持續(xù)移動(dòng)的長(zhǎng)條基板上，連續(xù)重復(fù)地形成基于第一投影區(qū)域的掃描曝光的第一轉(zhuǎn)印圖案與基于第二投影區(qū)域的掃描曝光的第二轉(zhuǎn)印圖案，或者隔開間隔地形成多個(gè)第一轉(zhuǎn)印圖案與第二轉(zhuǎn)印圖案。另外，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，能夠并列地進(jìn)行基于第一區(qū)域(第一投影區(qū)域)的掃描曝光與基于第二區(qū)域(第二投影區(qū)域)的掃描曝光，進(jìn)而能夠?qū)崿F(xiàn)掃描曝光所涉及的生產(chǎn)率的提高。特別是，通過將形成第一圖案區(qū)域(第一轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域)時(shí)的基板長(zhǎng)度與形成第二圖案區(qū)域(第二轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域)時(shí)的基板長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度，能夠依次形成區(qū)域長(zhǎng)度相互不同的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域。


圖I圖2圖3圖4圖5圖6圖7圖8圖9圖10圖11圖12圖13圖14圖15圖16 樣子的圖。圖17圖18圖19圖20圖21圖22圖23圖24圖25圖26圖27圖28圖29圖30圖31圖32圖33 的布局的圖。
是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出第一實(shí)施方式中掩模的結(jié)構(gòu)的圖。
是對(duì)第一掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是簡(jiǎn)要示出多個(gè)拍攝區(qū)域隔開間隔而交替形成的樣子的圖。
是對(duì)第二掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是簡(jiǎn)要示出多個(gè)拍攝區(qū)域不隔開間隔而連續(xù)形成的樣子的圖。
是對(duì)第三掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是簡(jiǎn)要示出在第三掃描曝光例中能夠使用的一對(duì)濃度濾光片的圖。
是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是對(duì)第四掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是對(duì)第五掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是對(duì)第六掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。
是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第四實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第五實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是示出第五實(shí)施方式中依次形成區(qū)域長(zhǎng)度相互不同的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域的
是簡(jiǎn)要示出第一實(shí)施方式的變形例所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出第二實(shí)施方式的變形例所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出第三實(shí)施方式的變形例所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出第四實(shí)施方式的變形例所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
是簡(jiǎn)要示出在第七掃描曝光例中使用的掩模的結(jié)構(gòu)的圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第一圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第二圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第三圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第四圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第五圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第六圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第七圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第八圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第九圖。
是對(duì)第七掃描曝光例進(jìn)行說明的第十圖。
是簡(jiǎn)要示出由第七掃描曝光例形成的拍攝區(qū)域的圖。
是簡(jiǎn)要示出在電子顯示器件的制造中應(yīng)用各掃描曝光例而得到的曝光單位
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圖34是對(duì)多掃描曝光例進(jìn)行說明的圖。圖35是簡(jiǎn)要示出在多掃描曝光例中使用的掩模的結(jié)構(gòu)的圖。圖36是示出半導(dǎo)體器件的制造工序的流程圖。圖37是示出液晶器件的制造工序的流程圖。
具體實(shí)施例方式基于附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖I是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。在第一實(shí)施方式中，如圖I所示，本發(fā)明應(yīng)用于卷對(duì)卷型曝光裝置，該卷對(duì)卷型曝光裝置使掩模M以及帶狀的片材SH相對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL相對(duì)移動(dòng)，并且將掩模M的圖案投影曝光(轉(zhuǎn)印)于片材SH。在圖I中，將作為感光性的長(zhǎng)條基板的片材SH的轉(zhuǎn)印面(感光面；被曝光面)的法線方向設(shè)定為Z軸、將在與片材SH的轉(zhuǎn)印面平行的面內(nèi)與圖I的紙面平行的方向設(shè)定為Y軸、將在與片材SH的轉(zhuǎn)印面平行的面內(nèi)與圖 I的紙面垂直的方向設(shè)定為X軸。第一實(shí)施方式的曝光裝置具備對(duì)掩模M的圖案區(qū)域進(jìn)行照明的照明系統(tǒng)IL ;保持并移動(dòng)掩模M的掩模工作臺(tái)MS ;將掩模M的圖案的像形成于片材SH上的投影光學(xué)系統(tǒng) PL ;使片材SH以卷對(duì)卷的方式移動(dòng)(輸送)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC ;對(duì)掩模工作臺(tái)MS以及移動(dòng)機(jī)構(gòu) SC進(jìn)彳了驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)DR ；以及一并控制驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)DR等動(dòng)作的王控制系統(tǒng)CR。 片材SH是涂覆了光致抗蝕劑(感光材料)的可撓性的(具有撓性的)帶狀的高分子片材。照明系統(tǒng)IL從光源LS供給曝光用的照明光(曝光用光)。作為曝光用光，能夠使用例如從超高壓水銀燈的射出光選擇出的i線(波長(zhǎng)365nm)的光、由YAG激光的3倍高次諧波(波長(zhǎng)355nm)構(gòu)成的脈沖光，KrF受激準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)等。照明系統(tǒng)IL按照光的入射順序，具備準(zhǔn)直儀透鏡(未圖示)、復(fù)眼透鏡(未圖示)、聚光器光學(xué)系統(tǒng)(未圖示)、作為可變視場(chǎng)光闌的掩模遮簾MB、以及照明成像光學(xué)系統(tǒng)(未圖示)等。從光源LS射出的光經(jīng)由照明系統(tǒng)IL而在掩模M上對(duì)照明區(qū)域IR進(jìn)行照明。照明區(qū)域IR具有沿X方向細(xì)長(zhǎng)延伸的規(guī)定的外形形狀。來自掩模M的照明區(qū)域IR的光經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL而在第一投影區(qū)域ERl形成照明區(qū)域IR內(nèi)的圖案的第一投影像，并且在從第一投影區(qū)域ERl沿Y方向隔開間隔的第二投影區(qū)域ER2形成照明區(qū)域IR內(nèi)的圖案的第二投影像。投影光學(xué)系統(tǒng)PL將第一投影區(qū)域ERl以及第二投影區(qū)域ER2形成于片材SH 上。投影光學(xué)系統(tǒng)PL是遠(yuǎn)心于掩模M側(cè)以及片材SH側(cè)的,從掩模M側(cè)向片材SH側(cè)具有放大倍率。投影區(qū)域(成像區(qū)域)ER1、ER2的形狀是將照明區(qū)域IR的形狀以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了的形狀。以下，為了容易地理解說明，照明區(qū)域IR形成為沿X 方向細(xì)長(zhǎng)延伸的矩形狀的區(qū)域。另外，投影區(qū)域ER1、ER2是沿X方向細(xì)長(zhǎng)延伸的矩形狀的區(qū)域，且具有相互相同的大小以及相同的形狀。但是，能夠根據(jù)照明系統(tǒng)IL中的掩模遮簾 MB的可變開口部(透光部)的形狀可變地設(shè)定照明區(qū)域IR的形狀、以及投影區(qū)域ERl、ER2 的形狀。掩模M經(jīng)由掩模支架(未圖示)而被吸附保持于掩模工作臺(tái)MS上。在掩模工作臺(tái)MS上配置有具有公知的結(jié)構(gòu)的掩模側(cè)激光干涉計(jì)(未圖示)。掩模側(cè)激光干涉計(jì)對(duì)掩模工作臺(tái)MS的X方向的位置、Y方向的位置、以及繞Z軸的旋轉(zhuǎn)角進(jìn)行測(cè)量，并將測(cè)量結(jié)果向主控制系統(tǒng)CR供給。主控制系統(tǒng)CR基于該測(cè)量值，經(jīng)由驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)DR對(duì)掩模工作臺(tái)MS 的X方向的位置、作為掃描方向的Y方向的位置以及速度、以及繞Z軸的旋轉(zhuǎn)角進(jìn)行控制。片材SH利用具有公知的結(jié)構(gòu)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC的作用，以經(jīng)由投影區(qū)域ERl以及ER2 的方式沿規(guī)定的路徑而被輸送，該公知的結(jié)構(gòu)具備一系列的輥。具體而言，移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC使片材SH在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方朝-Y方向的方向移動(dòng)，在片材SH上形成第一投影區(qū)域ERl以及第二投影區(qū)域ER2。在掃描曝光時(shí)，與掩模工作臺(tái)MS沿掃描方向亦即Y方向朝 +Y方向的方向以速度V/MG移動(dòng)同步地，移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC使片材SH在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方朝-Y方向的方向以速度V移動(dòng)。投影光學(xué)系統(tǒng)PL具備中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM、第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl、以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2。中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM在掩模M的圖案區(qū)域(在圖I中未圖示)形成由照明區(qū)域IR照明的圖案的第一中間像Il以及第二中間像12。第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl基于來自第一中間像Il的光而在片材SH上的第一投影區(qū)域ERl形成圖案的第一投影像，第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2基于來自第二中間像12的光而在片材SH上的第二投影區(qū)域ER2形成圖案的第二投影像。掩模M以其圖案區(qū)域幾乎與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的物體面一致的方式配置于掩模工作臺(tái)MS上。片材SH沿著其表面(感光面)幾乎與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面一致的軌道被移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC輸送。中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM具有正透鏡組Lp，該正透鏡組Lp供來自由照明區(qū)域IR照明的圖案區(qū)域的光入射；以及分割反射部RF，該分割反射部RF將來自正透鏡組 Lp的光分割為夾著正透鏡組Lp的光軸AXp而朝相互不同方向前進(jìn)的第一光與第二光，且將第一光以及第二光朝正透鏡組Lp進(jìn)行反射。作為分割反射部RF，能夠使用相位晶格板、振動(dòng)反射鏡等。從照明區(qū)域IR沿光軸AXp射出的光，經(jīng)由正透鏡組Lp而被分割反射部RF反射，并分割為在圖I的紙面朝斜左上的方向前進(jìn)的第一光、和朝斜右上的方向前進(jìn)的第二光。第一光經(jīng)由正透鏡組Lp以及偏轉(zhuǎn)部件MRl而形成第一中間像II，第二光經(jīng)由正透鏡組Lp以及偏轉(zhuǎn)部件MR2而形成第二中間像12。來自第一中間像Il的光經(jīng)由第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl 而到達(dá)片材SH上的第一投影區(qū)域ER1，來自第二中間像12的光經(jīng)由第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2 而到達(dá)片材SH上的第二投影區(qū)域ER2。在投影區(qū)域ERl以及ER2形成具有以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了掩模圖案的形狀的放大像，作為第一投影像以及第二投影像。具體而言，第一投影像以及第二投影像是在照明區(qū)域IR內(nèi)的掩模圖案的Y方向(掃描方向)倒立的像。第一投影像與第二投影像具有相互相同的形狀以及大小，且在X方向以及Y方向形成于相互相同的方向。以下，參照?qǐng)D2至圖8對(duì)第一實(shí)施方式中的掃描曝光的動(dòng)作進(jìn)行說明。當(dāng)參照?qǐng)D2 時(shí)，在掩模M上設(shè)置有形成例如電子顯示器件用的圖案的矩形狀的圖案區(qū)域PA。圖案區(qū)域 PA的沿著掃描方向(Y方向)的尺寸、即圖案長(zhǎng)度為AL。在第一實(shí)施方式中，感光性的長(zhǎng)條基板亦即片材SH利用移動(dòng)機(jī)構(gòu)SC的作用而沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度被輸送。并且， 在第一實(shí)施方式的第一掃描曝光例中，如圖3所不，將掩模M的圖案區(qū)域PA以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了的矩形狀的拍攝區(qū)域SRI、SR2，隔開恒定的間隔而依次形成于片材SH上。在圖3中，由附圖標(biāo)記SRl表示經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl轉(zhuǎn)印掩模M的圖案的拍攝區(qū)域(或者轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域)，由附圖標(biāo)記SR2表示經(jīng)由第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2轉(zhuǎn)印掩模M的圖案的拍攝區(qū)域(或者轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域)。如后述那樣，拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2沿片材SH的長(zhǎng)邊方向(長(zhǎng)邊方向) 交替形成。沿著片材SH的長(zhǎng)邊方向的各拍攝區(qū)域SRI、SR2的尺寸為MGXAL，相互鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2的間隔為Gy。在掃描曝光中，從向拍攝區(qū)域SR1、SR2的曝光開始經(jīng)過恒定期間使投影區(qū)域ER1、 ER2的掃描方向(Y方向)的尺寸從O線性地增大到標(biāo)準(zhǔn)的尺寸為止，經(jīng)過到向拍攝區(qū)域 SR1、SR2的曝光結(jié)束為止的恒定期間使投影區(qū)域ER1、ER2的掃描方向的尺寸從標(biāo)準(zhǔn)的尺寸線性地減少到O為止。投影區(qū)域ER1、ER2的尺寸調(diào)整通過根據(jù)公知技術(shù)，例如利用照明系統(tǒng)IL中的掩模遮簾MB的作用而變更照明區(qū)域IR的掃描方向的尺寸來進(jìn)行。但是，在以下的第一至第六掃描曝光例的說明中，為了容易地理解動(dòng)作，照明區(qū)域 IR(或者IR1、IR2)、以及投影區(qū)域ER1、ER2的形狀在掃描曝光時(shí)為恒定(不變)的，通過照明區(qū)域IR的沿著掃描方向的中心從圖案區(qū)域PA的沿著掃描方向的一端移動(dòng)到另一端為止，即通過投影區(qū)域ER1、ER2的沿著掃描方向的中心從拍攝區(qū)域SRl、SR2的沿著掃描方向的一端移動(dòng)到另一端為止，向拍攝區(qū)域SRI、SR2的掃描曝光結(jié)束。與此相關(guān)地，圖I示出照明系統(tǒng)IL的光軸與中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM的正透鏡組Lp 的光軸AXp—致，光軸AXp通過照明區(qū)域IR的中心的狀態(tài)。圖I以及圖2示出照明區(qū)域IR 的沿著掃描方向的中心處于圖案區(qū)域PA(在圖I中未圖示)的沿著掃描方向的一端的狀態(tài)，即掃描曝光的開始時(shí)的狀態(tài)。如與圖I以及圖2對(duì)應(yīng)那樣，圖3示出投影區(qū)域ER1、ER2 的沿著掃描方向的中心處于拍攝區(qū)域SRI、SR2的沿著掃描方向的一端的狀態(tài)，即掃描曝光的開始時(shí)的狀態(tài)。因此，在圖3所示的第一掃描曝光例中，從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2 的片材SH的基板長(zhǎng)度SL，與沿著從拍攝區(qū)域SRl的曝光開始端到鄰接的拍攝區(qū)域SR2的曝光開始端的片材SH的長(zhǎng)度對(duì)應(yīng)，滿足下面的式(I)所示的關(guān)系。SL = MGXAL+Gy > MG XAL (I)在第一掃描曝光例中，在通過投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl的正下方的拍攝區(qū)域SRl以及通過第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2的正下方的拍攝區(qū)域SR2，同時(shí)對(duì)掩模M的圖案進(jìn)行掃描曝光(掃掠曝光)。當(dāng)同時(shí)對(duì)一對(duì)拍攝區(qū)域SRl以及SR2掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IR從位于圖案區(qū)域PA的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M(進(jìn)而掩模工作臺(tái)MS)朝+Y方向以所需要的速度進(jìn)行移動(dòng)，以使得圖案區(qū)域PA被照明區(qū)域IR掃描。與對(duì)掩模M的朝+Y方向的掃描移動(dòng)同步，到投影區(qū)域ERl、ER2從位于拍攝區(qū)域 SRl、SR2的-Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于+Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，片材 SH沿著路徑朝-Y方向進(jìn)行移動(dòng)，以使得拍攝區(qū)域SRl、SR2被投影區(qū)域ERl、ER2掃描。接著，掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)，以使得照明區(qū)域IR從圖案區(qū)域PA的-Y方向側(cè)的端部朝圖案區(qū)域PA的+Y方向側(cè)的端部進(jìn)行移動(dòng)，即照明區(qū)域IR從掃描曝光的結(jié)束位置返回到起動(dòng)位置。當(dāng)掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)時(shí)，例如在掩模M之后的光路中插入用于遮擋成像光束的快門(未圖示)，以使得不在投影區(qū)域ER1、ER2形成掩模圖案的投影像。或者，也可以通過關(guān)閉照明系統(tǒng)IL中的掩模遮簾MB的可變開口部，而不在投影區(qū)域ER1、ER2形成掩模圖案的投影像。結(jié)束掩模M朝-Y方向的折回移動(dòng)，在照明區(qū)域IR返回到圖案區(qū)域PA的+Y 方向側(cè)的起動(dòng)位置、形成能夠進(jìn)行掩模M朝+Y方向的掃描移動(dòng)的時(shí)刻，通過掩模M正后方的快門從光路退避(或者打開掩模遮簾MB的可變開口部)，投影區(qū)域ER1、ER2形成于應(yīng)進(jìn)行下一次掃描曝光的拍攝區(qū)域SRI、SR2的-Y方向側(cè)的起動(dòng)位置。這樣一來，與掩模M接下來的掃描移動(dòng)同步，對(duì)接下來的拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光與對(duì)接下來的拍攝區(qū)域SR2的掃描曝光被同時(shí)地進(jìn)行。并且，通過重復(fù)多次掩模M的沿著 Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))，如圖4所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上，轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2隔開恒定的間隔Gy被交替形成。在圖5所示的第二掃描曝光例中，基板長(zhǎng)度SL、投影倍率MG、以及圖案長(zhǎng)度AL滿足接下來的式(2)所示的關(guān)系。換句話說，在第二掃描曝光例中，設(shè)定為使相互鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2的間隔Gy形成為0，進(jìn)而使鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2相互相接。SL = MGXAL (2)因此，在第二掃描曝光例中，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))，如圖6所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上， 轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2以相互相接的方式被交替形成，進(jìn)而在長(zhǎng)邊方向(Y方向)形成具有所希望的長(zhǎng)度的無(wú)縫隙的一個(gè)拍攝區(qū)域SR。在圖7所示的第三掃描曝光例中，基板長(zhǎng)度SL、投影倍率MG、以及圖案長(zhǎng)度AL滿足接下來的式(3)所示的關(guān)系。換句話說，在第三掃描曝光例中，鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl 與SR2被設(shè)定為局部地重疊。在圖7中，由MGXOP表示鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2之間的重復(fù)部分的沿著掃描方向的尺寸。SL = MGX (AL-OP) < MGXAL (3)因此，在第三掃描曝光例中也與第二掃描曝光例的情況相同地，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))，如圖6所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上，轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2 以相互局部地重復(fù)的方式被交替形成，進(jìn)而在長(zhǎng)邊方向(Y方向)形成具有所希望的長(zhǎng)度的無(wú)縫隙的一個(gè)拍攝區(qū)域SR。在第三掃描曝光例中，由于鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2之間的邊界部彼此重疊而被兩次曝光，因此能夠使用例如圖8所示那樣的一對(duì)濃度濾光片VF在掃描曝光的開始時(shí)以及結(jié)束時(shí)對(duì)照明區(qū)域IR的光量進(jìn)行調(diào)整，進(jìn)而進(jìn)行兩次曝光區(qū)域中的曝光量的控制。 濃度濾光片VF固定地配置于掩模M的正前方或者正后方，以便從圖案區(qū)域PA的沿著掃描方向的端部在掃描方向覆蓋尺寸OP的區(qū)域。另外，濃度濾光片VF構(gòu)成為，透射率沿著掃描方向從圖案區(qū)域PA的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)單調(diào)地降低。在尺寸OP非常小的情況下，能夠使用固定地配置于掩模M的正前方或者正后方的代理遮簾(proxy blind)來代替濃度濾光片VF，利用其邊緣的散焦作用來進(jìn)行兩次曝光區(qū)域中的曝光量控制。在第三掃描曝光例中，由于鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2局部地重疊，因此在掩模M的圖案區(qū)域PA的與掃描方向相關(guān)的兩端部的區(qū)域形成有相互相同形狀的圖案?；蛘撸谀的圖案區(qū)域PA包括遍及圖案長(zhǎng)度AL而在掃描方向具有周期性的周期圖案。如第三掃描曝光例那樣，在掃描方向進(jìn)行圖案的斷續(xù)曝光的方法，能夠參考例如日本特開平7-283132號(hào)公報(bào)的公開。這樣一來，在第一實(shí)施方式中，能夠通過使掩模M朝+Y方向進(jìn)行一次掃描移動(dòng)，同時(shí)地進(jìn)行在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上向拍攝區(qū)域SRl的掩模圖案的第一投影像的掃描曝光與向拍攝區(qū)域SR2的掩模圖案的第二投影像的掃描曝光。另外，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)，能夠在片材SH上交替連續(xù)地形成拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2。即，在第一實(shí)施方式中，能夠提高對(duì)以卷對(duì)卷輸送的片材SH的掃描曝光所涉及的生產(chǎn)率。特別是，在第一實(shí)施方式中，根據(jù)使用形成了滿足式(I)所示的關(guān)系的圖案長(zhǎng)度 AL的圖案區(qū)域PA的掩模M的第一掃描曝光例，能夠隔開間隔地形成多個(gè)利用第一投影區(qū)域 ERl的掃描曝光而轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案、以及利用第二投影區(qū)域ER2的掃描曝光而轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。另外，根據(jù)使用形成了滿足式(2)或者式
(3)所示的關(guān)系的圖案長(zhǎng)度AL的圖案區(qū)域PA的掩模M的第二掃描曝光例或者第三掃描曝光例，能夠連續(xù)地重復(fù)形成轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案、以及轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2 的第二轉(zhuǎn)印圖案。圖9是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。第二實(shí)施方式雖具有與第一實(shí)施方式類似的結(jié)構(gòu)，但在第二實(shí)施方式中在掃描方向亦即Y方向形成隔開間隔的一對(duì)照明區(qū)域IRl以及IR2的點(diǎn)、以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式不同。因此，在圖9中，對(duì)具有與第一實(shí)施方式中構(gòu)成要素相同的功能的要素，標(biāo)注與圖I相同的附圖標(biāo)記。以下，著眼于與第一實(shí)施方式不同的點(diǎn)來對(duì)第二實(shí)施方式的構(gòu)成以及作用進(jìn)行說明。在第二實(shí)施方式的曝光裝置中，從光源LS射出的光經(jīng)由照明系統(tǒng)IL而將在Y方向隔開間隔的一對(duì)照明區(qū)域IR1、IR2形成于掩模M上。照明區(qū)域IR1、IR2具有沿X方向細(xì)長(zhǎng)延伸的規(guī)定的外形形狀。來自掩模M的第一照明區(qū)域IRl的光，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL而在第一投影區(qū)域ERl形成第一照明區(qū)域IRl內(nèi)的第一圖案的第一投影像，并且在從第一投影區(qū)域ERl沿Y方向隔開間隔的第二投影區(qū)域ER2形成第二照明區(qū)域IR2內(nèi)的第二圖案的第二投影像。投影光學(xué)系統(tǒng)PL遠(yuǎn)心于掩模M側(cè)以及片材SH側(cè),從掩模M側(cè)向片材SH側(cè)具有放大倍率。投影區(qū)域ER1、ER2的形狀是將照明區(qū)域IR1、IR2的形狀以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了的形狀。以下，為了容易地理解說明，照明區(qū)域IR1、IR2是沿X方向細(xì)長(zhǎng)延伸的矩形狀的區(qū)域，且具有相互相同的大小以及相同的形狀。另外，投影區(qū)域ER1、ER2是沿X方向細(xì)長(zhǎng)延伸的矩形狀的區(qū)域，且具有相互相同的大小以及相同的形狀。投影光學(xué)系統(tǒng)PL具備第一成像光學(xué)系統(tǒng)G1、以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2。第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl包括共用透鏡組GC與第一透鏡組G12，在掩模M的圖案區(qū)域(在圖9中未圖示)中基于來自由第一照明區(qū)域IRl照明的第一圖案的光而在片材SH上的第一投影區(qū)域 ERl形成第一投影像。第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2包括共用透鏡組GC與第二透鏡組G22，在圖案區(qū)域中基于來自由第二照明區(qū)域IR2照明的第二圖案的光而在片材SH上的第二投影區(qū)域 ER2形成第二投影像。在投影區(qū)域ERl以及ER2形成具有以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了第一圖案以及第二圖案的形狀的放大像，作為第一投影像以及第二投影像。具體而言，第一投影像是在第一照明區(qū)域IRl內(nèi)的第一圖案的Y方向(掃描方向)倒立的像，第二投影像是在第二照明區(qū)域IR2內(nèi)的第二圖案的Y方向倒立的像。以下，參照?qǐng)D10至圖12對(duì)第二實(shí)施方式中的掃描曝光的動(dòng)作進(jìn)行說明。當(dāng)參照?qǐng)D10時(shí)，在掩模M設(shè)置圖案長(zhǎng)度AL的圖案區(qū)域PA，在掩模M上隔開間隔地形成矩形狀的照明區(qū)域IR1、IR2。照明區(qū)域IR1、IR2的沿著Y方向(掃描方向)的中心間隔，即照明區(qū)域 IRl與IR2之間在Y方向的中心間隔為GP。在第二實(shí)施方式中，片材SH以恒定的速度被輸送，在片材SH上交替地依次形成將圖案區(qū)域PA以投影倍率MG放大了的矩形狀的拍攝區(qū)域 SR1、SR2。圖10示出第一照明區(qū)域IRl的沿著掃描方向的中心處于圖案區(qū)域PA的沿著掃描方向的+Y方向側(cè)的端部的狀態(tài)，即對(duì)第一拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光的開始時(shí)的狀態(tài)。另外，示出第一投影區(qū)域ERl的沿著掃描方向的中心處于第一拍攝區(qū)域SRl的-Y方向側(cè)的端部的狀態(tài)，即對(duì)第一拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光的開始時(shí)的狀態(tài)。另一方面，第二投影區(qū)域 ER2的沿著掃描方向的中心處于從第二拍攝區(qū)域SR2的-Y方向側(cè)的端部朝-Y方向側(cè)分離 MGXGP的量的位置。這是因?yàn)椋瑥膶?duì)第一拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光的開始時(shí)到對(duì)第二拍攝區(qū)域SR2的掃描曝光的開始時(shí)為止，即第二照明區(qū)域IR2的沿著掃描方向的中心到達(dá)圖案區(qū)域PA的+Y 方向側(cè)的端部為止，掩模M需要掃描移動(dòng)距離GP的量。在圖10所示的第四掃描曝光例中， 從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL滿足下面的式(4)所示的關(guān)系。SL > MGX (AL-GP)(4)在第四掃描曝光例中，當(dāng)向拍攝區(qū)域SRl掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IRl從位于圖案區(qū)域PA的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模 M(進(jìn)而掩模工作臺(tái)MS)朝+Y方向以所需要的速度進(jìn)行移動(dòng)，以使得圖案區(qū)域PA被照明區(qū)域IRl掃描。從向拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光的開始時(shí)延遲恒定時(shí)間，開始向拍攝區(qū)域SR2 的掃描曝光。當(dāng)向拍攝區(qū)域SR2掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IR2從位于圖案區(qū)域PA的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M朝+Y方向以所需要的速度進(jìn)行移動(dòng)，以使得圖案區(qū)域PA被照明區(qū)域IR2掃描。與掩模M朝+Y方向的掃描移動(dòng)同步，到投影區(qū)域ERl、ER2從位于拍攝區(qū)域SRl、 SR2的-Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于+Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，片材SH沿著路徑朝-Y方向進(jìn)行移動(dòng)，以使得拍攝區(qū)域SRI、SR2被投影區(qū)域ER1、ER2掃描。接著，使掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)，以使得照明區(qū)域IRl朝圖案區(qū)域PA的+Y方向側(cè)的端部移動(dòng)， 即照明區(qū)域IRl返回到掃描曝光的起動(dòng)位置。在第四掃描曝光例中，形成從向拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光的開始時(shí)經(jīng)過恒定時(shí)間而不在投影區(qū)域ER2形成第二圖案的投影像，并且，經(jīng)過到向拍攝區(qū)域SR2的掃描曝光的結(jié)束時(shí)的恒定時(shí)間而不在投影區(qū)域ERl形成第一圖案的投影像。另外，當(dāng)掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)時(shí)，不在投影區(qū)域ER1、ER2形成圖案的投影像。這樣一來，與掩模M的接下來的掃描移動(dòng)同步，接下來的向拍攝區(qū)域SRl的掃描曝光與接下來的向拍攝區(qū)域SR2的掃描曝光以恒定的時(shí)間差幾乎同時(shí)進(jìn)行。
并且，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))， 如圖4所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上，隔開恒定的間隔Gy而交替地形成轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2。此外，式(4)雖沒有示出基板長(zhǎng)度SL的上限值，但從實(shí)用的角度出發(fā)，當(dāng)拍攝區(qū)域SRl與SR2的間隔Gy比各拍攝區(qū)域SRI、SR2的尺寸MGXAL大時(shí)，由于片材SH的浪費(fèi)過多，因此優(yōu)選MGX (2XAL-GP) > SL。在圖11所示的第五掃描曝光例中，基板長(zhǎng)度SL、投影倍率MG、以及圖案長(zhǎng)度AL滿足下面的式(5)所示的關(guān)系。換句話說，在第五掃描曝光例中，設(shè)定為相互鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2的間隔Gy形成為0，進(jìn)行設(shè)定為鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2相互相接。SL = MGX(AL-GP)(5)因此，在第五掃描曝光例中，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))，如圖6所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上， 轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2以相互相接的方式交替地形成，進(jìn)而在長(zhǎng)邊方向(Y方向)形成具有所希望的長(zhǎng)度的無(wú)縫隙的一個(gè)拍攝區(qū)域SR。在圖12所示的第六掃描曝光例中，基板長(zhǎng)度SL、投影倍率MG、以及圖案長(zhǎng)度AL滿足下面的式(6)所示的關(guān)系。換句話說，在第六掃描曝光例中，鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與 SR2以局部重疊的方式被設(shè)定。在圖12中，由MGXOP表示鄰接的一對(duì)拍攝區(qū)域SRl與SR2 之間的重復(fù)部分的沿著掃描方向的尺寸。SL < MGX (AL-GP)(6)因此，第六掃描曝光例也與第五掃描曝光例的情況相同地，通過重復(fù)多次掩模M 的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)(掃描移動(dòng)以及折回移動(dòng))，如圖6所示，在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上，轉(zhuǎn)印了掩模M的圖案的拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2以相互局部重復(fù)的方式交替地形成，進(jìn)而在長(zhǎng)邊方向(Y方向)形成具有所希望的長(zhǎng)度的無(wú)縫隙的一個(gè)拍攝區(qū)域SR。這樣一來，在第二實(shí)施方式中，通過使掩模M朝+Y方向進(jìn)行一次掃描移動(dòng)，能夠幾乎同時(shí)地進(jìn)行沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上的向拍攝區(qū)域SRl的掩模圖案的第一投影像的掃描曝光、與向拍攝區(qū)域SR2的掩模圖案的第二投影像的掃描曝光。另外，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)，能夠在片材SH上交替地連續(xù)形成拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2。在第二實(shí)施方式中，根據(jù)使用形成了滿足式(4)所示的關(guān)系的圖案長(zhǎng)度AL的圖案區(qū)域PA的掩模M的第四掃描曝光例，能夠隔開間隔地形成多個(gè)轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案與轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。另外，根據(jù)使用形成了滿足式(5)或者式(6)所示的關(guān)系的圖案長(zhǎng)度AL的圖案區(qū)域PA的掩模M的第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例，能夠連續(xù)地重復(fù)形成轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案與轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2 的第二轉(zhuǎn)印圖案。此外，當(dāng)對(duì)第一實(shí)施方式中的式⑴ 式⑶與第二實(shí)施方式中的式⑷ 式(6) 進(jìn)行比較時(shí)，知曉當(dāng)中心間隔GP為O時(shí)，式(I)與式(4) 一致，式(2)與式(5) 一致，式(3) 與式(6) —致。即，在第一實(shí)施方式中，實(shí)際上雖然形成單一的照明區(qū)域IR，但也能夠考慮一對(duì)照明區(qū)域IRl與IR2形成為以中心間隔GP = O而相互重疊。
圖13是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。第三實(shí)施方式雖具有與第二實(shí)施方式類似的結(jié)構(gòu)，但在第三實(shí)施方式中，當(dāng)進(jìn)行掃描曝光時(shí)，掩模 M與片材SH朝相互相同的方向移動(dòng)的點(diǎn)、以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與第二實(shí)施方式不同。因此，在圖13中，對(duì)具有與第二實(shí)施方式中的構(gòu)成要素相同的功能的要素，標(biāo)注與圖 9相同的附圖標(biāo)記。以下，著眼于與第二實(shí)施方式的不同點(diǎn)，對(duì)第三實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)以及作用進(jìn)行說明。在第三實(shí)施方式的曝光裝置中，投影光學(xué)系統(tǒng)PL具備中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM、第一成像光學(xué)系統(tǒng)G1、以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2。中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM在掩模M的圖案區(qū)域 (在圖13中未圖示)形成由第一照明區(qū)域IRl照明的第一圖案的第一中間像II，并且形成由第二照明區(qū)域IR2照明的第二圖案的第二中間像12。第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl基于來自第一中間像Il的光而在片材SH上的第一投影區(qū)域ERl形成第一圖案的第一投影像，第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2基于來自第二中間像12的光而在片材SH上的第二投影區(qū)域ER2形成第二圖案的第二投影像。在投影區(qū)域ERl以及ER2形成具有以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率MG放大了第一圖案以及第二圖案的形狀的放大像，作為第一投影像以及第二投影像。具體而言，第一投影像是在第一照明區(qū)域IRl內(nèi)的第一圖案的Y方向(掃描方向)正立的像，第二投影像是在第二照明區(qū)域IR2內(nèi)的第二圖案的Y方向正立的像。因此，在第三實(shí)施方式中，當(dāng)進(jìn)行掃描曝光時(shí)，掩模M與片材SH朝相互相同的方向(+Y方向的方向)移動(dòng)。第三實(shí)施方式中的掃描曝光的動(dòng)作，除了在進(jìn)行掃描曝光時(shí)掩模M與片材SH朝相互相同的方向移動(dòng)的點(diǎn)之外， 其余與第二實(shí)施方式中的掃描曝光的動(dòng)作相同，省略重復(fù)的說明。在第三實(shí)施方式中，中間成像光學(xué)系統(tǒng)GM具有例如I. 25倍的放大倍率，第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl以及第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2具有例如2倍的放大倍率。在該情況下，利用中間放大像11、12的形成，能夠?qū)⑾癫畹漠a(chǎn)生抑制得較小并確保投影光學(xué)系統(tǒng)PL的所需要的放大倍率MG。另外，在第三實(shí)施方式中，基于在中間像II、12的形成位置的附近配置的偏轉(zhuǎn)部件(例如三角棱鏡PR)的光路分離是容易的。圖14是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第四實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。第四實(shí)施方式雖具有與第三實(shí)施方式類似的結(jié)構(gòu)，但投影光學(xué)系統(tǒng)PL的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與第三實(shí)施方式不同。因此，在圖14中，對(duì)具有與第三實(shí)施方式中的構(gòu)成要素相同的功能的要素，標(biāo)注與圖13相同的附圖標(biāo)記。以下，著眼于與第三實(shí)施方式不同的點(diǎn)，對(duì)第四實(shí)施方式中的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。在第三實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL中，第一投影區(qū)域ERl的沿著掃描方向(Y方向)的中心位于比第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl的光軸更靠外側(cè)的位置，第二投影區(qū)域ER2的沿著 Y方向的中心位于比第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2的光軸更靠外側(cè)的位置。與此相對(duì)，在第四實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)PL中，第一投影區(qū)域ERl的沿著Y方向的中心位于比第一成像光學(xué)系統(tǒng)Gl的光軸更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置，第二投影區(qū)域ER2的沿著Y方向的中心位于比第二成像光學(xué)系統(tǒng)G2的光軸更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置。這樣一來，在第四實(shí)施方式中，如比較圖13與圖14而變得明了那樣，從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL變小。其結(jié)果是，能夠減小沿著片材SH的長(zhǎng)邊方向的各拍攝區(qū)域SRI、SR2的尺寸MGXAL，進(jìn)而減小應(yīng)設(shè)置于掩模M的圖案區(qū)域PA的沿著掃描方向的尺寸即圖案長(zhǎng)度AL。圖15是簡(jiǎn)要示出本發(fā)明的第五實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。第五實(shí)施方式雖具有與第四實(shí)施方式類似的結(jié)構(gòu)，但在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2之間設(shè)置迂回路徑的點(diǎn)與第四實(shí)施方式不同。因此，在圖15中，對(duì)具有與第四實(shí)施方式中的構(gòu)成要素相同的功能的要素，標(biāo)注與圖14相同的附圖標(biāo)記。以下，著眼于與第四實(shí)施方式的不同點(diǎn)，對(duì)第五實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)以及作用進(jìn)行說明。在第一至第四實(shí)施方式中，片材SH沿著在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2 之間沿Y方向延伸的直線路徑移動(dòng)。與此相對(duì)，在第五實(shí)施方式中，在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2之間的路徑的中途，設(shè)置有具備沿X方向延伸且繞軸線旋轉(zhuǎn)的多個(gè)輥的調(diào)整機(jī)構(gòu)50。在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2之間形成迂回路徑的調(diào)整機(jī)構(gòu)50， 具有對(duì)沿著Y方向的輥間隔進(jìn)行調(diào)整的間隔調(diào)整部50a。在第五實(shí)施方式中，從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL，比第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2之間的沿著Y方向的距離Sla長(zhǎng)與調(diào)整機(jī)構(gòu)50對(duì)應(yīng)的迂回路徑的量。換句話說，在第五實(shí)施方式中，采用使經(jīng)由了第一投影區(qū)域ERl 的片材SH的區(qū)域經(jīng)由迂回路徑而移動(dòng)至第二投影區(qū)域ER2的結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是，即使在根據(jù)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的結(jié)構(gòu)較小地限制距離Sla的情況下，也能夠根據(jù)迂回路徑的作用確保所需要的基板長(zhǎng)度SL。另外，在第五實(shí)施方式中，采用如下結(jié)構(gòu)根據(jù)調(diào)整機(jī)構(gòu)50的間隔調(diào)整部50a的作用來對(duì)迂回路徑中的片材SH的長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整，進(jìn)而對(duì)從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域 ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL進(jìn)行調(diào)整。因此，即使不通過掩模M的交換而使圖案區(qū)域PA 的圖案長(zhǎng)度AL變化，也能夠基于投影倍率MG以及中心間隔GP，對(duì)從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL進(jìn)行調(diào)整，以使得滿足式⑷所示的關(guān)系、式(5) 所示的關(guān)系、或者式(6)所示的關(guān)系。其結(jié)果是，根據(jù)滿足式(4)所示的關(guān)系的第四掃描曝光例，能夠隔開間隔地形成多個(gè)轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案與轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。另外， 根據(jù)滿足式(5)或者式(6)所示的關(guān)系的第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例，能夠連續(xù)地重復(fù)形成轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案與轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。這意味著，能夠在沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH隨時(shí)切換基于第四掃描曝光例的個(gè)別轉(zhuǎn)印與基于第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例的連結(jié)轉(zhuǎn)印， 以及能夠適時(shí)地選擇基于第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例的連結(jié)轉(zhuǎn)印中的重復(fù)次數(shù)。 即，在第五實(shí)施方式中，如圖16所示，能夠?qū)^(qū)域長(zhǎng)度相互不同的第一轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl與第二轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SP2依次形成于片材SH上。在圖16所示的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl與SP2中，雖然沿著片材SH的短邊方向(與長(zhǎng)邊方向正交的方向)的區(qū)域?qū)挾萊Wl與RW2相同，但沿著片材SH的長(zhǎng)邊方向的區(qū)域長(zhǎng)度 RLl與RL2相互不同。這樣區(qū)域長(zhǎng)度相互不同的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl以及SP2通過將形成第一轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl時(shí)的基板長(zhǎng)度SLl (附圖標(biāo)記未圖示)、以及形成第二轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SP2時(shí)的基板長(zhǎng)度SL2(附圖標(biāo)記未圖示)設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度而形成。在該情況下， 具體而言，設(shè)定為基板長(zhǎng)度SLl滿足式(5)或者式(6)且基板長(zhǎng)度SL2滿足式(4)，或者設(shè)定為基板長(zhǎng)度SLl滿足式(4)且基板長(zhǎng)度SL2滿足式(5)或者式(6)。
雖省略圖示，但通過根據(jù)例如掩模遮簾MB的作用將第一照明區(qū)域IRl的X方向的大小、與第二照明區(qū)域IR2的X方向的大小設(shè)定為相互不同的大小，進(jìn)而將第一投影區(qū)域 ERl的X方向的大小、與第二投影區(qū)域ER2的X方向的大小設(shè)定為相互不同的大小，因此也能夠?qū)^(qū)域?qū)挾认嗷ゲ煌膬蓚€(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域依次形成于片材SH上。在該情況下，能夠代替掩模遮簾MB、或在設(shè)置掩模遮簾MB之外，使用在掩模M的圖案面的附近位置、與掩模M的圖案面光學(xué)地共軛的共軛位置(例如中間像的形成位置)、或者該共軛位置的附近等配置的視場(chǎng)光闌。在第五實(shí)施方式中，與第一至第四實(shí)施方式相同地，通過使掩模M朝+Y方向進(jìn)行一次掃描移動(dòng)，能夠并列地進(jìn)行沿著規(guī)定的路徑以恒定的速度持續(xù)移動(dòng)的片材SH上的向拍攝區(qū)域SRl的掩模圖案的第一投影像的掃描曝光、與向拍攝區(qū)域SR2的掩模圖案的第二投影像的掃描曝光。另外，通過重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng)，能夠在片材SH上交替地連續(xù)形成拍攝區(qū)域SRl與拍攝區(qū)域SR2。S卩，在第五實(shí)施方式中，能夠提高向以卷對(duì)卷輸送的片材SH的掃描曝光所涉及的
生產(chǎn)率。另外，在第五實(shí)施方式中，根據(jù)滿足式(4)所示的關(guān)系的第四掃描曝光例，能夠隔開間隔地形成多個(gè)利用第一投影區(qū)域ERl的掃描曝光而轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案、以及利用第二投影區(qū)域ER2的掃描曝光而轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。另外，根據(jù)滿足式(5)或者式(6)所示的關(guān)系的第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例，能夠連續(xù)地重復(fù)形成轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SRl的第一轉(zhuǎn)印圖案與轉(zhuǎn)印于拍攝區(qū)域SR2的第二轉(zhuǎn)印圖案。特別是，在第五實(shí)施方式中，通過將形成第一轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl時(shí)的基板長(zhǎng)度 SLl (附圖標(biāo)記未圖示)、以及形成第二轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SP2時(shí)的基板長(zhǎng)度SL2 (附圖標(biāo)記未圖示)設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度，能夠依次形成區(qū)域長(zhǎng)度相互不同的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SPl以及 SP2。 此外，在第五實(shí)施方式中，在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2之間形成利用多個(gè)輥的作用而沿著YZ平面迂回的路徑。然而，并不局限于此，迂回路徑的具體結(jié)構(gòu)可以是各種方式。例如，也可以構(gòu)成為利用沿著輥側(cè)面(圓筒面)的片材的折彎，在兩個(gè)投影區(qū)域之間使片材的長(zhǎng)邊方向偏轉(zhuǎn)。在該情況下，第一投影區(qū)域與第二投影區(qū)域設(shè)置于例如輥側(cè)面的不同位置，投影光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于各投影區(qū)域的光軸也變得不相互平行。如圖17至圖20所示，在第一至第四實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，通過在第一投影區(qū)域ERl 與第二投影區(qū)域ER2之間的路徑的中途附設(shè)調(diào)整機(jī)構(gòu)50，也能夠得到與第五實(shí)施方式相同的效果。在圖17至圖20所示的變形例中，由于能夠根據(jù)調(diào)整機(jī)構(gòu)50的作用并基于投影倍率MG以及中心間隔GP來對(duì)從第一投影區(qū)域ERl到第二投影區(qū)域ER2的片材SH的基板長(zhǎng)度SL進(jìn)行調(diào)整，從而能夠?qū)^(qū)域長(zhǎng)度相互不同的兩個(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域依次形成于片材SH上。另外，在圖17至圖20所示的變形例中，通過利用視場(chǎng)光闌的作用而將第一投影區(qū)域ERl的X方向的大小、與第二投影區(qū)域ER2的X方向的大小設(shè)定為相互不同的大小，能夠?qū)^(qū)域?qū)挾认嗷ゲ煌膬蓚€(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域依次形成于片材SH上。但是，在圖17所示的例中，由于在第一投影區(qū)域ERl與第二投影區(qū)域ER2形成共用的單一照明區(qū)域IR，因此為了將第一投影區(qū)域ERl的X方向的大小、與第二投影區(qū)域ER2的X方向的大小設(shè)定為相互不同的大小，需要具備在照明區(qū)域IR與第一投影區(qū)域ERl之間的光路中配置的第一視場(chǎng)光闌以及在照明區(qū)域IR與第二投影區(qū)域ER2之間的光路中配置的第二視場(chǎng)光闌。此外，在上述的說明中，基于設(shè)置了單一的圖案區(qū)域PA的掩模M而對(duì)掃描曝光例進(jìn)行說明。然而，并不局限于此，例如圖21所示，也可以是使用中央圖案區(qū)域PAc由一對(duì)端圖案區(qū)域PAa與PAb所夾持的方式的掩模M的掃描曝光。以下，參照?qǐng)D22至圖32，對(duì)使用圖21所示的掩模M、和例如圖15所示的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第七掃描曝光例進(jìn)行說明。當(dāng)參照?qǐng)D21時(shí)，在掩模M上設(shè)置有例如在Y方向細(xì)長(zhǎng)的矩形狀的中央圖案區(qū)域 PAc、與中央圖案區(qū)域PAc的+Y方向側(cè)鄰接且沿X方向延伸的直線狀的遮光帶51a、與遮光帶51a的+Y方向側(cè)鄰接且在X方向細(xì)長(zhǎng)的矩形狀的第一端圖案區(qū)域PAa、與中央圖案區(qū)域 PAc的-Y方向側(cè)鄰接且沿X方向延伸的直線狀的遮光帶51b、以及與遮光帶51b的-Y方向側(cè)鄰接且在X方向細(xì)長(zhǎng)的矩形狀的第二端圖案區(qū)域PAb。掩模M形成為關(guān)于通過其中心而沿X方向延伸的直線以及沿Y方向延伸的直線對(duì)稱。在中央圖案區(qū)域PAc、以及一對(duì)端圖案區(qū)域PAa、PAb中，在由圖中虛線52表示的區(qū)域設(shè)置有顯示面板用的顯示部圖案那樣的重復(fù)圖案。具體而言，如后述那樣，應(yīng)在片材SH 上形成的轉(zhuǎn)印圖案中的、與片材SH的沿著長(zhǎng)邊方向(Y方向)的始端部分對(duì)應(yīng)的圖案(例如主要是周邊電路圖案)形成于第一端圖案區(qū)域PAa，與轉(zhuǎn)印圖案的中央部分對(duì)應(yīng)的圖案 (例如主要是顯示部圖案)形成于中央圖案區(qū)域PAc，與轉(zhuǎn)印圖案的終端部分對(duì)應(yīng)的圖案 (例如主要是周邊電路圖案)形成于第二端圖案區(qū)域PAb。在掩模M中，中央圖案區(qū)域PAc 的沿著掃描方向(Y方向)的尺寸、即圖案長(zhǎng)度為AL。在第七掃描曝光例的說明中，為了容易地理解動(dòng)作，照明區(qū)域IR1、IR2、以及投影區(qū)域ER1、ER2的形狀在掃描曝光時(shí)為恒定(不變)，照明區(qū)域IR1、IR2的-Y方向側(cè)的端部(邊)到達(dá)圖案區(qū)域PA、PAa、PAb的+Y方向側(cè)的端部(邊)時(shí)開始掃描曝光，照明區(qū)域 IRl、IR2的+Y方向側(cè)的端部到達(dá)圖案區(qū)域PA、PAa、PAb的-Y方向側(cè)的端部時(shí)結(jié)束掃描曝光。在第七掃描曝光例中，首先，進(jìn)行基于第二照明區(qū)域IR2的第一端圖案區(qū)域PAa的掃描曝光。當(dāng)進(jìn)行基于照明區(qū)域IR2的掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IR2從位于第一端圖案區(qū)域 PAa的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M(進(jìn)而掩模工作臺(tái)MS)朝+Y方向以所需要的速度進(jìn)行移動(dòng)，以使得第一端圖案區(qū)域PAa被照明區(qū)域IR2掃描。與掩模M朝+Y方向的掃描移動(dòng)同步，片材SH沿著路徑而朝+Y方向移動(dòng)， 以使得所需要的拍攝區(qū)域被第二投影區(qū)域ER2掃描。此時(shí)，不在第一投影區(qū)域ERl形成圖案的投影像。圖22示出基于照明區(qū)域IR2的第一端圖案區(qū)域PAa的掃描結(jié)束了的時(shí)刻的樣子。 這樣一來，在片材SH轉(zhuǎn)印與第一端圖案區(qū)域PAa對(duì)應(yīng)的圖案SAa。接著，如圖23所示，使掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)，以使得照明區(qū)域IRl朝比中央圖案區(qū)域PAc的+Y方向側(cè)的端部更靠外側(cè)移動(dòng)，即以使得照明區(qū)域IRl朝比向中央圖案區(qū)域PAc的掃描曝光的起動(dòng)位置更靠+Y方向側(cè)返回。并且，到從基于照明區(qū)域IR2的第一端圖案區(qū)域PAa的掃描曝光的結(jié)束時(shí)到基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描曝光的開始時(shí)為止，不在投影區(qū)域ER1、 ER2形成圖案的投影像。以下，為了簡(jiǎn)化說明，省略向投影區(qū)域ER1、ER2的投影像的形成所涉及的控制的說明。接著，開始基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描曝光。當(dāng)進(jìn)行基于照明區(qū)域IRl的掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IRl從位于中央圖案區(qū)域PAc的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M朝+Y方向進(jìn)行移動(dòng)，以使得中央圖案區(qū)域PAc被照明區(qū)域IRl掃描。從基于照明區(qū)域IRl的掃描曝光的開始時(shí)延遲恒定時(shí)間，開始基于照明區(qū)域IR2的中央圖案區(qū)域PAc的掃描曝光。當(dāng)進(jìn)行基于照明區(qū)域IR2的掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IR2從位于中央圖案區(qū)域PAc的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M朝+Y方向進(jìn)行移動(dòng)，以使得中央圖案區(qū)域PAc 被照明區(qū)域IR2掃描。圖24示出開始基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描的時(shí)刻的樣子。圖 25示出開始了基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描之后、且是開始基于照明區(qū)域 IR2的中央圖案區(qū)域PAc的掃描之前的時(shí)刻的樣子。在第七掃描曝光例中，如圖25所示， 基于投影區(qū)域ERl的掃描的中央圖案區(qū)域PAc的圖案SAl被轉(zhuǎn)印于片材SH上，以使得在與第一端圖案區(qū)域PAa的圖案SAa之間形成重復(fù)部OLl。雖省略圖示，但也能夠以與圖案SAa 相接的方式轉(zhuǎn)印圖案SAl。圖26示出同時(shí)進(jìn)行基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描、與基于照明區(qū)域IR2的中央圖案區(qū)域PAc的掃描的樣子。圖27示出即將結(jié)束基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描之前的樣子。圖28示出結(jié)束了基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc 的掃描的時(shí)刻的樣子。在第七掃描曝光例中，如圖28所示，基于投影區(qū)域ER2的掃描的中央圖案區(qū)域PAc的圖案SA2被轉(zhuǎn)印于片材SH上，以使得在與基于投影區(qū)域ERl的掃描的中央圖案區(qū)域PAc的圖案SAl之間形成重復(fù)部0L2。雖省略圖示，但也能夠以與圖案SAl相接的方式轉(zhuǎn)印圖案SA2。當(dāng)最終結(jié)束基于照明區(qū)域IR2的中央圖案區(qū)域PAc的掃描時(shí)，如圖29所示，使掩模M朝-Y方向折回移動(dòng)，以使得照明區(qū)域IRl朝比第二端圖案區(qū)域PAb的+Y方向側(cè)的端部更靠外側(cè)移動(dòng)，即照明區(qū)域IRl朝比向第二端圖案區(qū)域PAb的掃描曝光的起動(dòng)位置更靠 +Y方向側(cè)返回。接著，開始基于照明區(qū)域IRl的第二端圖案區(qū)域PAb的掃描曝光。當(dāng)進(jìn)行基于照明區(qū)域IRl的掃描曝光時(shí)，到照明區(qū)域IRl從位于第二端圖案區(qū)域PAb的+Y方向側(cè)的端部的起動(dòng)位置到達(dá)位于-Y方向側(cè)的端部的結(jié)束位置為止，掩模M朝+Y方向進(jìn)行移動(dòng)， 以使得第二端圖案區(qū)域PAb被照明區(qū)域IRl掃描。圖30示出開始基于照明區(qū)域IRl的第二端圖案區(qū)域PAb的掃描的時(shí)刻的樣子。圖 31示出結(jié)束了基于照明區(qū)域IRl的第二端圖案區(qū)域PAb的掃描的時(shí)刻的樣子。在第七掃描曝光例中，如圖31所示，基于投影區(qū)域ERl的掃描的第二端圖案區(qū)域PAb的圖案SAb被轉(zhuǎn)印于片材SH上，以使得在與基于投影區(qū)域ER2的掃描的中央圖案區(qū)域PAc的圖案SA2之間形成重復(fù)部0L3。雖省略圖示，但也能夠以與圖案SA2相接的方式轉(zhuǎn)印圖案SAb。這樣一來，在第七掃描曝光例中，如圖32所示那樣的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SP形成于片材 SH上。轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域SP沿著片材SH的長(zhǎng)邊方向(圖32中水平方向)，從前端側(cè)(圖32 中右側(cè))依次具有與第一端圖案區(qū)域PAa對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)印圖案SAa、與中央圖案區(qū)域PAc對(duì)應(yīng)的一對(duì)轉(zhuǎn)印圖案SAl以及SA2、以及與第二端圖案區(qū)域PAb對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)印圖案SAb。此處，轉(zhuǎn)印圖案SAl與SA2為相互相同的圖案。
另外，通過重復(fù)并列地進(jìn)行基于照明區(qū)域IRl的中央圖案區(qū)域PAc的掃描、與基于照明區(qū)域IR2的中央圖案區(qū)域PAc的掃描的動(dòng)作(進(jìn)而重復(fù)多次掩模M的沿著Y方向的往復(fù)移動(dòng))，能夠?qū)ㄏ嗷ミB結(jié)的轉(zhuǎn)印圖案SAl與SA2的連結(jié)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域(SA1、SA2)連續(xù)地形成于片材SH上。其結(jié)果是，雖省略圖示，但也能夠在與第一端圖案區(qū)域PAa對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)印圖案SAa、和與第二端圖案區(qū)域PAb對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)印圖案SAb之間連續(xù)形成所希望的數(shù)量的與中央圖案區(qū)域PAc對(duì)應(yīng)的連結(jié)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域(SA1、SA2)。通過將第一掃描曝光例或者第四掃描曝光例應(yīng)用于電子顯示器件的制造，如在圖 33中由附圖標(biāo)記61表示那樣，能夠?qū)⒂糜诩榷ǔ叽鏏的顯示裝置的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域一面一面隔開間隔地形成。此外，在圖33中，由粗實(shí)線表示的外側(cè)的長(zhǎng)方形表示器件的單位區(qū)域 (曝光區(qū)域)，由虛線表示的內(nèi)側(cè)的長(zhǎng)方形表示顯示部的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域。因此，由實(shí)線表示的長(zhǎng)方形與由虛線表示的長(zhǎng)方形之間的區(qū)域與周邊電路的轉(zhuǎn)印圖案對(duì)應(yīng)。另外，能夠通過應(yīng)用第二掃描曝光例、第三掃描曝光例、第五掃描曝光例或者第六掃描曝光例，如由附圖標(biāo)記62表示那樣，對(duì)用于既定尺寸B的顯示裝置的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域進(jìn)行兩次倒角、如由參照附圖標(biāo)記63表示那樣，對(duì)用于任意尺寸(縱長(zhǎng))的顯示裝置的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域進(jìn)行兩次倒角。并且，能夠通過應(yīng)用第七掃描曝光例，如附圖標(biāo)記64表示那樣，對(duì)用于任意尺寸(超橫長(zhǎng))的顯示裝置的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域進(jìn)行兩次倒角。此外，根據(jù)情況，也可以在結(jié)束顯示部圖案的掃描曝光工序之后，進(jìn)行周邊電路圖案的掃描曝光工序。如圖34以及圖35所示，能夠使用沿著與掃描方向(Y方向)正交的方向(X方向) 而排列為鋸齒狀的具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，來進(jìn)行將掩模M的圖案像放大投影到片材SH上的多掃描曝光。在圖34中，雖示出并列地配置四個(gè)例如圖15所示的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的例子，但為了進(jìn)行多掃描曝光，投影區(qū)域ER1、ER2被整形為梯形狀，進(jìn)而照明區(qū)域 IR1、IR2也被整形為梯形狀。在鄰接的兩個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)之間從Y方向觀察，梯形狀的投影區(qū)域ER1、ER2的兩端的三角形狀區(qū)域重疊，形成片材SH上的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域的重復(fù)部0L4。在圖34中，附圖標(biāo)記Sw為除去兩端的投影區(qū)域ER1、ER2的外側(cè)的三角形狀區(qū)域以外的能夠曝光部分的X方向尺寸，表不所謂的最大曝光寬度。附圖標(biāo)記Smc表不在X方向鄰接的兩個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的掩模側(cè)光軸的沿著Y方向的距離，即在X方向鄰接的兩個(gè)照明區(qū)域?qū)R1、IR2的中心位置的沿著Y方向的距離。在該情況下，如圖35所示，四個(gè)圖案區(qū)域PA在掩模M上沿X方向隔開間隔而設(shè)置為鋸齒狀。具體而言，在X方向鄰接的兩個(gè)圖案區(qū)域PA的中心，沿著Y方向而相互位置偏移Smc/ (1-1/MG)的量。這是因?yàn)槭灌徑拥膬蓚€(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)中的、經(jīng)由一方的投影光學(xué)系統(tǒng)而形成的轉(zhuǎn)印圖案的開始位置、與經(jīng)由另一方的投影光學(xué)系統(tǒng)而形成的轉(zhuǎn)印圖案的開始位置一致的緣故。在X方向鄰接的兩個(gè)圖案區(qū)域PA的中心在Y方向分離與投影倍率MG對(duì)應(yīng)的距離的量。 在多掃描曝光中，對(duì)于將鄰接的兩個(gè)圖案區(qū)域沿著掃描方向配置為鋸齒狀的結(jié)構(gòu)，例如，能夠參照國(guó)際公開第2007/108420號(hào)的公開。在多掃描曝光中，通過將對(duì)利用第一投影光學(xué)系統(tǒng)投影到第一投影區(qū)域的放大像的大小進(jìn)行規(guī)定的第一視場(chǎng)光闌的寬度方向的光闌直徑、以及對(duì)利用第二投影光學(xué)系統(tǒng)投影到第二投影區(qū)域的放大像的大小進(jìn)行規(guī)定的第二視場(chǎng)光闌的寬度方向的光闌直徑設(shè)定為相互不同的大小，依次形成區(qū)域?qū)挾认嗷ゲ煌膬蓚€(gè)轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域。另外，在上述的實(shí)施方式中，當(dāng)在規(guī)定寬度的長(zhǎng)條片材上沿長(zhǎng)邊方向形成多個(gè)電子顯示器件用的圖案時(shí)，將與應(yīng)形成于長(zhǎng)條片材上的電子顯示器件的個(gè)數(shù)以及顯示部尺寸相關(guān)的參數(shù)在對(duì)曝光裝置進(jìn)行控制的計(jì)算機(jī)上進(jìn)行設(shè)定。并且，當(dāng)根據(jù)上述參數(shù)指定顯示部尺寸不同的多種顯示器件用圖案的曝光時(shí)，對(duì)曝光裝置進(jìn)行控制，以使得曝光于長(zhǎng)條片材的顯示器件用圖案按照顯示部尺寸的順序在長(zhǎng)邊方向排列。另外，作為在計(jì)算機(jī)上設(shè)定的與顯示部尺寸相關(guān)的參數(shù)，將多個(gè)既定尺寸作為初始值而進(jìn)行準(zhǔn)備。計(jì)算機(jī)基于被設(shè)定的多個(gè)既定尺寸、每個(gè)既定尺寸的器件個(gè)數(shù)、以及各器件用圖案之間的長(zhǎng)邊方向的間隔，對(duì)所需要的長(zhǎng)條片材的需要長(zhǎng)度進(jìn)行計(jì)算。另外，將與顯示部尺寸相關(guān)的參數(shù)設(shè)定于計(jì)算機(jī)的接口包括能夠從預(yù)先準(zhǔn)備的多個(gè)既定尺寸選擇兩個(gè)以上的輸入模式、和用于任意尺寸的顯示器件用圖案的曝光的尺寸值輸入模式。此外，在上述的實(shí)施方式中，基于具有圖I、圖9、圖13 圖15等所示的確定的結(jié)構(gòu)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說明。然而，投影光學(xué)系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)能夠是各種方式。另外，在上述的實(shí)施方式中，根據(jù)照明系統(tǒng)IL中的掩模遮簾MB的作用，對(duì)形成于掩模M上的照明區(qū)域IR(IR1、IR2)的形狀進(jìn)行規(guī)定，進(jìn)而對(duì)形成于片材SH上的投影區(qū)域 ERU ER2的形狀進(jìn)行規(guī)定。然而，如上所述，也能夠構(gòu)成為在例如第一中間像Il的形成位置或者其附近配置第一可變視場(chǎng)光闌(未圖示)，在第二中間像12的形成位置或者其附近配置第二可變視場(chǎng)光闌(未圖示)，來代替掩模遮簾MB。另外，也能夠構(gòu)成為，在掩模遮簾 MB的基礎(chǔ)上，在例如第一中間像Il的形成位置或者其附近配置第一可變視場(chǎng)光闌，在第二中間像12的形成位置或者其附近配置第二可變視場(chǎng)光闌。另外，在上述的實(shí)施方式中，掩模M的掃描方向(Y方向)與片材SH的掃描方向(Y 方向)為相同的方向(未必是相同的方向)。然而，掩模的掃描方向與長(zhǎng)條基板的掃描方向無(wú)需是相同的方向，能夠根據(jù)投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)而形成各種方式。另外，在上述的實(shí)施方式中，雖將本發(fā)明應(yīng)用于將掩模M的圖案投影曝光(轉(zhuǎn)印) 于片材SH的圖案形成方法中，但并不局限于此，也同樣能夠?qū)⒈景l(fā)明應(yīng)用于例如基于鄰近曝光、噴墨式打印機(jī)的圖案形成。因此，在本發(fā)明中，在長(zhǎng)條基板上沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向而形成多個(gè)圖案區(qū)域的圖案形成方法中包括使上述長(zhǎng)條基板朝上述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)；在朝上述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)的上述長(zhǎng)條基板依次形成第一圖案區(qū)域以及第二圖案區(qū)域，上述第一圖案區(qū)域與上述第二圖案區(qū)域中，上述長(zhǎng)邊方向的區(qū)域長(zhǎng)度、和與上述長(zhǎng)邊方向正交的寬度方向的區(qū)域?qū)挾鹊闹辽僖环较嗷ゲ煌葹橹匾Ｉ鲜龅膶?shí)施方式的曝光裝置將包括各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)以保證規(guī)定的機(jī)械精度、電精度、光學(xué)精度的方式進(jìn)行組裝而被制造。為了確保這些各種精度，在該組裝前后， 各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)光學(xué)的精度的調(diào)整，各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)機(jī)械精度的調(diào)整，各種電氣系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)電精度的調(diào)整。從各種子系統(tǒng)向曝光裝置組裝的工序，包括各種子系統(tǒng)相互的機(jī)械連接、電氣電路的布線連接、氣壓回路的配管連接等。在從該各種子系統(tǒng)向曝光裝置組裝的工序之前，當(dāng)然也有各子系統(tǒng)的各個(gè)組裝工序。在各種子系統(tǒng)向曝
23光裝置組裝的工序結(jié)束之后，進(jìn)行綜合調(diào)整，來確保作為曝光裝置整體的各種精度。此外， 曝光裝置的制造也可以在管理了溫度以及清潔度等的無(wú)塵室進(jìn)行。使用上述的實(shí)施方式所涉及的曝光裝置，能夠制造半導(dǎo)體器件、液晶器件等。圖36 是示出半導(dǎo)體器件的制造工序的流程圖。如圖36所示，在半導(dǎo)體器件的制造工序中，在作為半導(dǎo)體器件的基板的晶片蒸鍍金屬膜(步驟S40)，在該蒸鍍了的金屬膜上涂覆感光性材料亦即光致抗蝕劑(步驟S42)。接著，使用上述的實(shí)施方式的曝光裝置，將形成于掩模M的圖案轉(zhuǎn)印于晶片上的各拍攝區(qū)域(步驟S44 :曝光工序)，進(jìn)行該轉(zhuǎn)印結(jié)束了的晶片的顯影， 換句話說，進(jìn)行轉(zhuǎn)印了圖案的光致抗蝕劑的顯影(步驟S46 :顯影工序)。之后，根據(jù)步驟S46而將在晶片的表面生成的抗蝕劑圖案形成為晶片加工用的掩模，并對(duì)晶片的表面進(jìn)行蝕刻等加工(步驟S48:加工工序)。此處，抗蝕劑圖案是指生成了與利用上述的實(shí)施方式的曝光裝置而被轉(zhuǎn)印的圖案對(duì)應(yīng)的形狀的凹凸的光致抗蝕劑層 (轉(zhuǎn)印圖案層)，其凹部貫通光致抗蝕劑層。在步驟S48中，經(jīng)由該抗蝕劑圖案而進(jìn)行晶片的表面的加工。在步驟S48中進(jìn)行的加工包括例如晶片的表面的蝕刻或者金屬膜等的成膜的至少一方。這樣在步驟S46、S48中，利用步驟S44而處理轉(zhuǎn)印了圖案的晶片。此外，在步驟S44中，上述的實(shí)施方式的曝光裝置將涂覆了光致抗蝕劑的晶片作為感光性基板而進(jìn)行圖案的轉(zhuǎn)印。圖37是不出液晶顯不兀件等液晶器件的制造工序的流程圖。如圖37所不，在液晶器件的制造工序中，依次進(jìn)行圖案形成工序(步驟S50)、彩色濾光片形成工序(步驟S52)、 元件組裝工序(步驟S54)以及模塊組裝工序(步驟S56)。在步驟S50的圖案形成工序中， 作為感光性基板而在涂覆了光致抗蝕劑的玻璃基板上，使用上述的實(shí)施方式的曝光裝置形成電路圖案以及電極圖案等規(guī)定的圖案。該圖案形成工序包括使用上述的實(shí)施方式的曝光裝置向光致抗蝕劑層轉(zhuǎn)印圖案的曝光工序、以及對(duì)轉(zhuǎn)印了該圖案的感光性基板進(jìn)行處理的處理工序。另外，對(duì)該感光性基板進(jìn)行處理的處理工序包括進(jìn)行轉(zhuǎn)印了圖案的感光性基板的顯影，換句話說，進(jìn)行玻璃基板上的光致抗蝕劑層的顯影，并生成與圖案對(duì)應(yīng)的形狀的光致抗蝕劑層(轉(zhuǎn)印圖案層)的顯影工序、以及經(jīng)由該顯影的光致抗蝕劑層而對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行加工的加工工序。此外，該加工工序中的玻璃基板的表面的加工包括對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行蝕刻、或者在玻璃基板的表面蒸鍍或涂覆規(guī)定的材料。在步驟S52的彩色濾光片形成工序中，形成將與R(Red)、G (Green)、B (Blue)對(duì)應(yīng)的三個(gè)點(diǎn)的組排列為多個(gè)矩陣狀、或者將R、G、B三個(gè)條紋的濾光片的組沿水平掃描方向排列有多個(gè)的彩色濾光片。在步驟S54的元件組裝工序中，使用利用步驟S50而形成了規(guī)定圖案的玻璃基板、與利用步驟S52而形成的彩色濾光片來組裝液晶面板(液晶元件)。具體而言，例如通過在玻璃基板與彩色濾光片之間注入液晶來形成液晶面板。在步驟S56的模塊組裝工序中，相對(duì)于利用步驟S54組裝的液晶面板安裝進(jìn)行該液晶面板的顯示動(dòng)作的電氣電路以及背光源等各種部件。另外，本發(fā)明并不局限于向半導(dǎo)體器件或者液晶器件制造用的曝光裝置的應(yīng)用， 例如，也可以廣泛地應(yīng)用于有機(jī)EL顯示器、等離子體顯示器等顯示器裝置用的曝光裝置、 用于制造拍攝元件(CCD等)、微型機(jī)械、薄膜磁頭、以及DNA芯片等各種器件的曝光裝置。另外，本發(fā)明也能夠應(yīng)用于在使用光刻工序來對(duì)形成各種器件的掩模圖案的掩模(光掩模、 中間掩模等)進(jìn)行制造時(shí)的曝光工序(曝光裝置)。
附圖標(biāo)記的說明如下50 :調(diào)整機(jī)構(gòu)；50a :間隔調(diào)整部；LS :光源；IL :照明系統(tǒng)；IR、IR1、IR2 :照明區(qū)域； ER1、ER2 :投影區(qū)域；M :掩模；MS :掩模工作臺(tái)；PL :投影光學(xué)系統(tǒng)；SH :帶狀的片材(長(zhǎng)條基板)-,SC :移動(dòng)機(jī)構(gòu);DR1、DR2 :驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)；CR :主控制系統(tǒng)。
權(quán)利要求
1.一種曝光方法，該曝光方法將在第一面配置的圖案的像投影到長(zhǎng)條基板并向該長(zhǎng)條基板轉(zhuǎn)印所述圖案，所述曝光方法的特征在于，所述曝光方法包括使所述圖案沿著所述第一面朝第一方向移動(dòng)；將所述圖案中的在所述第一面的第一部分區(qū)域配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第一投影區(qū)域；將所述圖案中的在從所述第一部分區(qū)域沿所述第一方向隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域配置的第二部分圖案的放大像，以所述規(guī)定倍率投影到與所述第一投影區(qū)域不同的第二投影區(qū)域；與所述圖案朝所述第一方向的移動(dòng)同步，以經(jīng)由所述第一投影區(qū)域以及所述第二投影區(qū)域的方式使所述長(zhǎng)條基板沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向移動(dòng)；基于所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔，設(shè)定所述圖案沿著所述第一方向的圖案長(zhǎng)度、 與從所述第一投影區(qū)域到所述第二投影區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度的至少一方。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光方法，其特征在于，設(shè)定所述圖案長(zhǎng)度與所述基板長(zhǎng)度的至少一方，是指使所述圖案長(zhǎng)度AL、所述基板長(zhǎng)度SL、所述規(guī)定倍率MG以及所述中心間隔GP之間滿足O < SL 彡 MGX (AL-GP)的關(guān)系。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光方法，其特征在于，在所述圖案的所述第一方向上的兩端部的區(qū)域形成有相互相同形狀的圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光方法，其特征在于，所述圖案包括周期圖案，該周期圖案遍及所述第一方向的所述圖案長(zhǎng)度而在該第一方向具有周期性。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于，使所述圖案朝所述第一方向移動(dòng)，包括使與所述圖案在所述第一方向鄰接的輔助圖案沿著所述第一面朝所述第一方向移動(dòng)，通過將所述輔助圖案中的在所述第一部分區(qū)域或者所述第二部分區(qū)域配置的部分輔助圖案的放大像以所述規(guī)定倍率投影到所述第一投影區(qū)域或者所述第二投影區(qū)域而在所述長(zhǎng)條基板上形成的輔助轉(zhuǎn)印圖案、通過將所述第一部分圖案的放大像投影到所述第一投影區(qū)域而在所述長(zhǎng)條基板上形成的第一轉(zhuǎn)印圖案、以及通過將所述第二部分圖案的放大像投影到所述第二投影區(qū)域而在所述長(zhǎng)條基板上形成的第二轉(zhuǎn)印圖案，以在所述長(zhǎng)條基板上相互連結(jié)的方式進(jìn)行曝光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其特征在于，對(duì)由相互連結(jié)的所述第一轉(zhuǎn)印圖案與所述第二轉(zhuǎn)印圖案構(gòu)成的轉(zhuǎn)印圖案區(qū)域進(jìn)行多次重復(fù)曝光。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光方法，其特征在于，設(shè)定所述圖案長(zhǎng)度與所述基板長(zhǎng)度的至少一方，是指使所述圖案長(zhǎng)度AL、所述基板長(zhǎng)度SL、所述規(guī)定倍率MG以及所述中心間隔GP之間滿足SL > MGX (AL-GP)的關(guān)系。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于，設(shè)定所述圖案長(zhǎng)度與所述基板長(zhǎng)度的至少一方，包括準(zhǔn)備形成有與所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔對(duì)應(yīng)的所述圖案長(zhǎng)度的圖案的掩模，并將該掩模的圖案面配置于所述第一面。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至8中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板沿著所述長(zhǎng)邊方向移動(dòng)，包括使經(jīng)由了所述第一投影區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板的區(qū)域經(jīng)由迂回路徑移動(dòng)至所述第二投影區(qū)域，設(shè)定所述圖案長(zhǎng)度與所述基板長(zhǎng)度的至少一方，包括基于所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔來設(shè)定所述迂回路徑中的所述長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)度。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至9中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板沿所述長(zhǎng)邊方向移動(dòng)，是使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)持續(xù)移動(dòng)，使所述圖案朝所述第一方向移動(dòng)，是使所述圖案沿所述第一方向往復(fù)移動(dòng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板沿所述長(zhǎng)邊方向移動(dòng)，是指使所述長(zhǎng)條基板朝所述一方側(cè)以第一速度移動(dòng)，使所述圖案朝所述第一方向移動(dòng)，是指使所述圖案朝所述第一方向中的與所述長(zhǎng)邊方向的所述一方側(cè)光學(xué)地對(duì)應(yīng)的一側(cè)以基于所述第一速度以及所述規(guī)定倍率的第二速度移動(dòng)。
12.—種曝光裝置，該曝光裝置將在第一面配置的圖案的像投影到長(zhǎng)條基板并向該長(zhǎng)條基板轉(zhuǎn)印所述圖案，所述曝光裝置的特征在于，所述曝光裝置具備工作臺(tái)機(jī)構(gòu)，該工作臺(tái)機(jī)構(gòu)使所述圖案沿著所述第一面朝第一方向移動(dòng)；投影光學(xué)系統(tǒng)，該投影光學(xué)系統(tǒng)將所述圖案中的在所述第一面的第一部分區(qū)域配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第一投影區(qū)域，并且將所述圖案中的在從所述第一部分區(qū)域沿所述第一方向隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域配置的第二部分圖案的放大像以所述規(guī)定倍率投影到與所述第一投影區(qū)域不同的第二投影區(qū)域；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該移動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述圖案朝所述第一方向的移動(dòng)同步，以經(jīng)由所述第一投影區(qū)域以及所述第二投影區(qū)域的方式使所述長(zhǎng)條基板沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向移動(dòng)；以及調(diào)整機(jī)構(gòu)，該調(diào)整機(jī)構(gòu)基于所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔，對(duì)從所述第一投影區(qū)域到所述第二投影區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其特征在于，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)具有迂回路徑，該迂回路徑設(shè)置于所述第一投影區(qū)域與所述第二投影區(qū)域之間，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)基于所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔對(duì)該迂回路徑中的所述長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的曝光裝置，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)持續(xù)移動(dòng)，所述工作臺(tái)機(jī)構(gòu)使所述圖案沿所述第一方向往復(fù)移動(dòng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述長(zhǎng)條基板朝所述一方側(cè)以第一速度移動(dòng)，所述工作臺(tái)機(jī)構(gòu)使所述圖案朝所述第一方向中的與所述長(zhǎng)邊方向的所述一方側(cè)光學(xué)地對(duì)應(yīng)的一側(cè)以基于所述第一速度以及所述規(guī)定倍率的第二速度移動(dòng)。
16.一種器件制造方法，其特征在于，所述器件制造方法包括使用權(quán)利要求I至11中任一項(xiàng)所述的曝光方法，將所述圖案轉(zhuǎn)印于所述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)轉(zhuǎn)印了所述圖案的所述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。
17.一種器件制造方法，其特征在于，所述器件制造方法包括使用權(quán)利要求12 15中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，將所述圖案轉(zhuǎn)印于所述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)轉(zhuǎn)印了所述圖案的所述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。
18.一種圖案形成方法，該圖案形成方法在長(zhǎng)條基板上沿該長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)邊方向形成多個(gè)圖案區(qū)域，所述圖案形成方法的特征在于，所述圖案形成方法包括使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)；以及在朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)的所述長(zhǎng)條基板依次形成第一圖案區(qū)域以及第二圖案區(qū)域；對(duì)于所述第一圖案區(qū)域以及所述第二圖案區(qū)域，在所述長(zhǎng)邊方向的區(qū)域長(zhǎng)度和與所述長(zhǎng)邊方向正交的寬度方向的區(qū)域?qū)挾鹊闹辽僖环较嗷ゲ煌?br> 19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的圖案形成方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板移動(dòng)包括以經(jīng)由第一區(qū)域以及第二區(qū)域的方式使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)， 依次形成所述第一圖案區(qū)域以及所述第二圖案區(qū)域包括與所述長(zhǎng)條基板朝所述一方側(cè)的移動(dòng)同步，使在第一面配置的圖案朝與所述長(zhǎng)邊方向?qū)?yīng)的第一方向沿所述第一面移動(dòng)；將所述圖案中的在所述第一面的第一部分區(qū)域配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到所述第一區(qū)域；將所述圖案中的在從所述第一部分區(qū)域沿所述第一方向隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域配置的第二部分圖案的放大像以所述規(guī)定倍率投影到所述第二區(qū)域；以及將從所述第一區(qū)域到所述第二區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度中的、形成所述第一圖案區(qū)域時(shí)的第一基板長(zhǎng)度與形成所述第二圖案區(qū)域時(shí)的第二基板長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖案形成方法，其特征在于，將所述第一基板長(zhǎng)度與所述第二基板長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度是指，關(guān)于在所述第一面配置的所述圖案沿著所述第一方向的圖案長(zhǎng)度AL、所述第一基板長(zhǎng)度SL1、所述第二基板長(zhǎng)度SL2、所述規(guī)定倍率MG以及所述中心間隔GP，滿足 O < SLl 彡 MGX (AL-GP)SL2 > MGX (AL-GP)的關(guān)系。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖案形成方法，其特征在于，將所述第一基板長(zhǎng)度與所述第二基板長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度是指，關(guān)于在所述第一面配置的所述圖案沿著所述第一方向的圖案長(zhǎng)度AL、所述第一基板長(zhǎng)度SL1、所述第二基板長(zhǎng)度SL2、所述規(guī)定倍率M以及所述中心間隔GP，滿足 SLl > MGX (AL-GP)O < SL2 彡 MGX (AL-GP)的關(guān)系。
22.根據(jù)權(quán)利要求19至21中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)，包括使經(jīng)由了所述第一區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板的區(qū)域經(jīng)由迂回路徑移動(dòng)至所述第二區(qū)域，將所述第一基板長(zhǎng)度與所述第二基板長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度，包括基于所述規(guī)定倍率以及所述中心間隔，將設(shè)定所述第一基板長(zhǎng)度時(shí)的所述迂回路徑中的所述長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)度、與設(shè)定所述第二基板長(zhǎng)度時(shí)的所述迂回路徑中的所述長(zhǎng)條基板的長(zhǎng)度設(shè)定為相互不同的長(zhǎng)度。
23.根據(jù)權(quán)利要求19至22中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)，是指使所述長(zhǎng)條基板朝所述一方側(cè)持續(xù)移動(dòng)，使所述圖案朝所述第一方向移動(dòng)，是指使所述圖案沿所述第一方向往復(fù)移動(dòng)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的圖案形成方法，其特征在于，使所述長(zhǎng)條基板朝所述長(zhǎng)邊方向的一方側(cè)移動(dòng)，是指使所述長(zhǎng)條基板朝所述一方側(cè)以第一速度移動(dòng)，使所述圖案朝所述第一方向移動(dòng)，是使所述圖案朝所述第一方向中的與所述長(zhǎng)邊方向的所述一方側(cè)光學(xué)地對(duì)應(yīng)的一側(cè)以基于所述第一速度以及所述規(guī)定倍率的第二速度移動(dòng)。
25.根據(jù)權(quán)利要求19至24中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其特征在于，所述圖案形成方法包括將所述第一部分圖案的放大像的所述寬度方向上的第一大小、與所述第二部分圖案的放大像的所述寬度方向上的第二大小設(shè)定為相互不同的大小。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的圖案形成方法，其特征在于，對(duì)所述第一部分圖案的放大像進(jìn)行投影，是指利用第一投影光學(xué)系統(tǒng)以所述規(guī)定倍率對(duì)所述第一部分圖案進(jìn)行投影，對(duì)所述第二部分圖案的放大像進(jìn)行投影，是指利用第二投影光學(xué)系統(tǒng)以所述規(guī)定倍率對(duì)所述第二部分圖案進(jìn)行投影，將所述第一大小與所述第二大小設(shè)定為相互不同的大小，是指將對(duì)利用所述第一投影光學(xué)系統(tǒng)投影的放大像的大小進(jìn)行規(guī)定的第一視場(chǎng)光闌的所述寬度方向的光闌直徑、和對(duì)利用所述第二投影光學(xué)系統(tǒng)投影的放大像的大小進(jìn)行規(guī)定的第二視場(chǎng)光闌的所述寬度方向的光闌直徑設(shè)定為相互不同的大小。
27.根據(jù)權(quán)利要求18至26中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其特征在于，所述第一圖案區(qū)域以及所述第二圖案區(qū)域是形成有電子顯示器件用圖案的區(qū)域。
28.一種器件制造方法，其特征在于，所述器件制造方法包括使用權(quán)利要求18至27中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，將所述圖案區(qū)域形成于所述長(zhǎng)條基板的工序；以及對(duì)形成了所述圖案區(qū)域的所述長(zhǎng)條基板進(jìn)行處理的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供曝光方法、曝光裝置、圖案形成方法及器件制造方法。向長(zhǎng)條基板(SH)轉(zhuǎn)印圖案的曝光裝置具備使圖案移動(dòng)的工作臺(tái)機(jī)構(gòu)(MS)；投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)，其將在第一部分區(qū)域(IR1)配置的第一部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第一投影區(qū)域(ER1)，且將在與第一部分區(qū)域隔開規(guī)定的中心間隔的第二部分區(qū)域(IR2)配置的第二部分圖案的放大像以規(guī)定倍率投影到第二投影區(qū)域(ER2)；移動(dòng)機(jī)構(gòu)(SC)，該移動(dòng)機(jī)構(gòu)(SC)以經(jīng)由第一投影區(qū)域以及第二投影區(qū)域的方式使長(zhǎng)條基板移動(dòng)；以及調(diào)整機(jī)構(gòu)(50)，該調(diào)整機(jī)構(gòu)(50)基于規(guī)定倍率以及中心間隔，對(duì)從第一投影區(qū)域到第二投影區(qū)域的長(zhǎng)條基板的基板長(zhǎng)度進(jìn)行調(diào)整。
文檔編號(hào)G03F7/213GK102612669SQ201180004420
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年2月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月2日
發(fā)明者木內(nèi)徹, 水谷英夫 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康