專利名稱：自動(dòng)對(duì)位機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于印刷電路板技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種將柔性電路板與菲林板自動(dòng)對(duì)位并粘結(jié)在一起的自動(dòng)對(duì)位機(jī)。
背景技術(shù)：
隨著線路板的不斷朝向輕薄短小發(fā)展，線路密集程度不斷提高，目前硬板已有相當(dāng)部分曝光工序采用自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)。保證高效率、高精度。但是對(duì)于近來出現(xiàn)并迅速發(fā)展的FPC即柔性線路板，因?yàn)榘迕嫦鄬?duì)硬板而言較小，一般只相當(dāng)于1/4以下面積。傳統(tǒng)自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)每次只能對(duì)位一塊，顯然不適用。目前通用的做法是采用人工對(duì)位，對(duì)好后放入普通曝光機(jī)一次曝四塊?，F(xiàn)存的缺點(diǎn)主要有以下方面首先，沒有適用的FPC自動(dòng)對(duì)位曝光設(shè)備，人工對(duì)位報(bào)廢率居高不下。其次，隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人力成本的不斷上升以及熟練工人的銳減，已成為制約FPC產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種提高對(duì)位精度，降低報(bào)廢率；對(duì)位工序擺脫對(duì)熟練工人的依賴；提高工作效率，更加充分發(fā)揮曝光的自動(dòng)對(duì)位機(jī)。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種自動(dòng)對(duì)位機(jī)，包括基座，其上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置；一個(gè)放置電路板的平臺(tái)，設(shè)置在基座上，并由驅(qū)動(dòng)裝置控制其沿X與Y方向以及在所述基座上旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；光源板，設(shè)置在平臺(tái)上，光源板均勻布設(shè)有若干吸附電路板在平臺(tái)上的真空孔；吸附機(jī)構(gòu)，數(shù)量至少為兩個(gè)，包括固定板，固定板朝向平臺(tái)的一面設(shè)置有真空吸頭和壓頭，在固定板上裝有讀取電路板與菲林板上靶標(biāo)位置的CCD鏡頭、控制真空吸頭的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制壓頭的第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；支撐機(jī)構(gòu)，設(shè)置在平臺(tái)的上方，吸附機(jī)構(gòu)設(shè)置在支撐機(jī)構(gòu)上，并在支撐機(jī)構(gòu)上沿X 與Y方向滑動(dòng)，并由固定裝置定位。為進(jìn)一步穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)真空吸頭的驅(qū)動(dòng)，本實(shí)用新型改進(jìn)有，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制真空吸頭在固定板與平臺(tái)間往復(fù)移動(dòng)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制壓頭在固定板與平臺(tái)間往復(fù)移動(dòng)。為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)平臺(tái)在基座上X軸、Y軸以及在該基座上旋轉(zhuǎn)，本實(shí)用新型改進(jìn)有， 所述驅(qū)動(dòng)裝置包括Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)軸，所述基座分為兩層，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在基座下層，Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與轉(zhuǎn)軸設(shè)置在基座上層，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基座上層在基座下層上沿X方向滑動(dòng)，所述Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為兩個(gè)，設(shè)置在基座上層沿X方向的兩端，并控制平臺(tái)沿著Y方向移動(dòng)，所述轉(zhuǎn)軸一端滑動(dòng)的設(shè)置在Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在平臺(tái)上。[0014]為實(shí)現(xiàn)吸附機(jī)構(gòu)可以在平臺(tái)上方作平面的移動(dòng)，本實(shí)用新型改進(jìn)有，所述支撐機(jī)構(gòu)包括Y向?qū)蜉S和X向?qū)蜉S，所述X向?qū)蜉S為兩個(gè)，所述吸附機(jī)構(gòu)的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在X向?qū)蜉S上，所述Y向?qū)蜉S為兩個(gè)，X向?qū)蜉S的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在Y向?qū)蜉S上。為實(shí)現(xiàn)氣孔的均勻吸附，本實(shí)用新型改進(jìn)有，所述光源板與平臺(tái)之間設(shè)置有硅膠墊，硅膠墊上設(shè)置有便于真空孔通氣的通道。本實(shí)用新型的有益效果是配以新穎的結(jié)構(gòu)，以適應(yīng)FPC的特殊要求，開發(fā)自動(dòng)對(duì)位機(jī)，每次自動(dòng)對(duì)一塊，對(duì)好四塊后一起放入曝光機(jī)曝光，結(jié)構(gòu)簡單、操作方便，可以有效提高對(duì)位精度，降低報(bào)廢率；又可充分發(fā)揮曝光機(jī)的產(chǎn)能，進(jìn)一步的有效的擺脫對(duì)熟練工人的依賴，節(jié)省人力物力，而且效率高，精度好。

附圖1為本實(shí)用新型的自動(dòng)對(duì)位機(jī)的整機(jī)結(jié)構(gòu)圖。附圖2為本實(shí)用新型的自動(dòng)對(duì)位機(jī)的平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。附圖3為本實(shí)用新型的自動(dòng)對(duì)位機(jī)的基座結(jié)構(gòu)示意圖。附圖4為本實(shí)用新型的自動(dòng)對(duì)位機(jī)的吸附機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖。附圖5為本實(shí)用新型的自動(dòng)對(duì)位機(jī)的支撐機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖。標(biāo)號(hào)說明1-基座；11-基座上層；12-基座下層；2-平臺(tái)；3_光源板；31-真空孔； 32-硅膠墊；4-吸附機(jī)構(gòu)；41-固定板；42-真空吸頭；43-壓頭；44-CCD鏡頭；45-第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；46-第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；5-支撐機(jī)構(gòu)；51-固定裝置；52-Y向?qū)蜉S；53-X向?qū)蜉S；61-Y 軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說明。參照附圖1、附圖2、附圖4及附圖5，附圖所示本實(shí)用新型提供一種自動(dòng)對(duì)位機(jī)，包括基座1，其上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置；一個(gè)放置電路板的平臺(tái)2，設(shè)置在基座1上，并由驅(qū)動(dòng)裝置控制其沿X與Y方向以及在所述基座上旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；光源板3，設(shè)置在平臺(tái)2上，光源板均勻布設(shè)有若干吸附電路板在平臺(tái)2上的真空孔31 ；吸附機(jī)構(gòu)4，數(shù)量至少為兩個(gè)，包括固定板41，固定板41朝向平臺(tái)2的一面設(shè)置有真空吸頭42和壓頭43，在固定板41上裝有讀取電路板與菲林板上靶標(biāo)位置的C⑶鏡頭44、 控制真空吸頭42的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)45和控制壓頭43的第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46 ；支撐機(jī)構(gòu)5，設(shè)置在平臺(tái)2的上方，吸附機(jī)構(gòu)4設(shè)置在支撐機(jī)構(gòu)5上，并在支撐機(jī)構(gòu) 5上沿X與Y方向滑動(dòng)，并由固定裝置51定位。使用時(shí)，首先將FPC柔性電路板放置于光源板3上，進(jìn)行初步的定位，在將菲林板放置在FPC柔性電路板上，進(jìn)行初步的定位，在支撐機(jī)構(gòu)5上調(diào)節(jié)吸附機(jī)構(gòu)4的位置，將其定位在菲林板的上方，固定裝置51對(duì)其定位，真空吸頭42與壓頭43都朝向菲林板，根據(jù)需要一般在FPC柔性電路板和菲林板上設(shè)置兩個(gè)以上的靶標(biāo)來實(shí)現(xiàn)高的對(duì)位精度，因此吸附機(jī)構(gòu)4也設(shè)置兩個(gè)以上，每一個(gè)吸附機(jī)構(gòu)4對(duì)應(yīng)一對(duì)相互對(duì)應(yīng)的靶標(biāo)。調(diào)節(jié)啟動(dòng)所述自動(dòng)對(duì)位機(jī)，光源板3通入電后打開光源，表面上設(shè)置的真空孔31 由真空泵等開始吸真空，將FPC柔性電路板吸附在光源板3上，吸附機(jī)構(gòu)4的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 45驅(qū)動(dòng)真空吸頭42向菲林板位置移動(dòng)，所述兩個(gè)以上的吸附機(jī)構(gòu)4的真空吸頭42同時(shí)移動(dòng)，真空吸頭42與菲林貼合后，打開真空泵，使得菲林板吸附在真空吸頭42上，以上碰觸時(shí)打開真空泵可以采用單片機(jī)、PLC等系統(tǒng)控制實(shí)現(xiàn)。這時(shí)CXD鏡頭44開始讀取靶標(biāo)的位置，檢測菲林板上的靶標(biāo)和FPC柔性電路板的靶標(biāo)的位置偏差，并進(jìn)行數(shù)據(jù)計(jì)算，驅(qū)動(dòng)基座1上的驅(qū)動(dòng)裝置運(yùn)作，使平臺(tái)2可以在X和Y 方向以及在該基座1上旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，可以連帶設(shè)置在平臺(tái)2上的FPC柔性電路板進(jìn)行微動(dòng)，移動(dòng)后FPC柔性電路板的兩個(gè)靶標(biāo)與菲林板上的兩個(gè)靶標(biāo)對(duì)準(zhǔn)，然后第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46帶動(dòng)壓頭43運(yùn)作，使菲林板與FPC柔性電路板粘合在一起，可以實(shí)現(xiàn)高精度的對(duì)合。在本實(shí)施例中，參照附圖4與附圖5，附圖所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)45與第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 46為氣缸，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)45控制真空吸頭42在固定板41與平臺(tái)2間往復(fù)移動(dòng)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46控制壓頭43在固定板41與平臺(tái)2間往復(fù)移動(dòng)所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)45第二與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)45驅(qū)動(dòng)真空吸頭42 移動(dòng)至平臺(tái)2，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46控制壓頭43的移動(dòng)。本實(shí)用新型中驅(qū)動(dòng)裝置主要實(shí)現(xiàn)的是驅(qū)動(dòng)真空吸頭42與壓頭43的移動(dòng)，并不限制氣缸、液壓缸或采用機(jī)械的螺桿傳動(dòng)、四桿機(jī)構(gòu)等，本實(shí)用新型主要是實(shí)現(xiàn)其移動(dòng)的功能，并不限制其實(shí)施的方式。在本實(shí)施例中參照附圖3，附圖所示所述驅(qū)動(dòng)裝置包括Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)61、X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)軸，所述基座1分為兩層，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在基座下層12，γ軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)61與轉(zhuǎn)軸設(shè)置在基座上層11，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基座上層11在基座下層12上沿X方向滑動(dòng)，所述 Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)61為兩個(gè)，設(shè)置在基座上層11沿X方向的兩端，并控制平臺(tái)2沿著Y方向移動(dòng)，所述轉(zhuǎn)軸一端滑動(dòng)的設(shè)置在Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)61上，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在平臺(tái)2上。其中X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以為電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲桿及絲杠副來帶動(dòng)或者是氣缸驅(qū)動(dòng)活塞桿， 一實(shí)施例中，在基座下層12設(shè)置有X向滑軌，基座上層11在X向?qū)к壣匣瑒?dòng)，實(shí)現(xiàn)基座上層11沿著X方向移動(dòng)。Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)61可以是電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲桿及絲桿座移動(dòng)，或者是氣缸驅(qū)動(dòng)活塞桿。參照附圖5，附圖所示所述支撐機(jī)構(gòu)5包括Y向?qū)蜉S52和X向?qū)蜉S53，所述 X向?qū)蜉S53為兩個(gè)，所述吸附機(jī)構(gòu)4的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在X向?qū)蜉S53上，所述Y向?qū)蜉S52為兩個(gè)，X向?qū)蜉S53的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在Y向?qū)蜉S上52。所述支撐機(jī)構(gòu)5中Y向?qū)蜉S52的兩端依靠Y向支撐座53固定在平臺(tái)2的上方， X向?qū)蜉S53兩端通過兩個(gè)滑塊在Y向?qū)蜉S52上滑動(dòng)，支撐機(jī)構(gòu)5的兩端通過滑塊在X 向?qū)蜉S53上滑動(dòng)，可以通過固定裝置51固定在X向?qū)蜉S53上，其中固定裝置51可以時(shí)螺栓、或者緊定螺釘?shù)?，移?dòng)到需要的位置時(shí)，使滑塊與X向?qū)蜉S53卡緊完成固定，另一方面，吸附機(jī)構(gòu)4在支撐機(jī)構(gòu)5上的移動(dòng)可以是手動(dòng)、電動(dòng)等。本實(shí)施例中，附圖所示所述光源板3與平臺(tái)2之間設(shè)置有硅膠墊32，硅膠墊上設(shè)置有便于真空孔31通氣的通道。[0042]硅膠墊上設(shè)置有通向真氣孔的通道，使得抽取真空時(shí)候可以均勻的到達(dá)每一個(gè)真空孔31，不會(huì)出現(xiàn)部分粘合不牢固，影響精度。以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，包括基座，其上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置；一個(gè)放置電路板的平臺(tái)，設(shè)置在基座上，并由驅(qū)動(dòng)裝置控制其沿X與Y方向以及在所述基座上旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；光源板，設(shè)置在平臺(tái)上，光源板均勻布設(shè)有若干吸附電路板在平臺(tái)上的真空孔；吸附機(jī)構(gòu)，數(shù)量至少為兩個(gè)，包括固定板，固定板朝向平臺(tái)的一面設(shè)置有真空吸頭和壓頭，在固定板上裝有讀取電路板與菲林板上靶標(biāo)位置的CCD鏡頭、控制真空吸頭的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制壓頭的第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；支撐機(jī)構(gòu)，設(shè)置在平臺(tái)的上方，吸附機(jī)構(gòu)設(shè)置在支撐機(jī)構(gòu)上，并在支撐機(jī)構(gòu)上沿X與Y 方向滑動(dòng)，并由固定裝置定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制真空吸頭在固定板與平臺(tái)間往復(fù)移動(dòng)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制壓頭在固定板與平臺(tái)間往復(fù)移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、 X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)軸，所述基座分為兩層，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在基座下層，Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與轉(zhuǎn)軸設(shè)置在基座上層，X軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基座上層在基座下層上沿X方向滑動(dòng)，所述Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為兩個(gè)，設(shè)置在基座上層沿X方向的兩端，并控制平臺(tái)沿著Y方向移動(dòng)，所述轉(zhuǎn)軸一端滑動(dòng)的設(shè)置在Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在平臺(tái)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，所述支撐機(jī)構(gòu)包括Y向?qū)蜉S和X 向?qū)蜉S，所述X向?qū)蜉S為兩個(gè)，所述吸附機(jī)構(gòu)的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在X向?qū)蜉S上，所述 Y向?qū)蜉S為兩個(gè)，X向?qū)蜉S的兩端滑動(dòng)的設(shè)置在Y向?qū)蜉S上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，所述光源板與平臺(tái)之間設(shè)置有硅膠墊，硅膠墊上設(shè)置有便于真空孔通氣的通道。
專利摘要一種自動(dòng)對(duì)位機(jī)，其特征在于，包括基座，其上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置；一個(gè)放置電路板的平臺(tái)，設(shè)置在基座上，并由驅(qū)動(dòng)裝置控制其沿X與Y方向以及在基座上旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；光源板，設(shè)置在平臺(tái)上，光源板均勻布設(shè)有若干吸附電路板在平臺(tái)上的真空孔；吸附機(jī)構(gòu)，數(shù)量至少為兩個(gè)，包括固定板，固定板朝向平臺(tái)的一面設(shè)置有真空吸頭和壓頭，在固定板上裝有讀取電路板與菲林板上靶標(biāo)位置的CCD鏡頭、控制真空吸頭的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制壓頭的第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；支撐機(jī)構(gòu)，設(shè)置在平臺(tái)的上方，吸附機(jī)構(gòu)設(shè)置在支撐機(jī)構(gòu)上，并在支撐機(jī)構(gòu)上沿X與Y方向滑動(dòng)，并由固定裝置定位，提高對(duì)位精度，降低報(bào)廢率；對(duì)位工序擺脫對(duì)熟練工人的依賴；提高工作效率，更加充分發(fā)揮曝光。
文檔編號(hào)G03F9/00GK202275262SQ20112038939
公開日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月13日
發(fā)明者史洪智 申請(qǐng)人:深圳市麥肯機(jī)電有限公司