專利名稱：一種反射膜層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種膜層，特別是涉及一種復(fù)合的反射膜層。
背景技術(shù)：
在光學(xué)零件表面鍍制反射膜層，經(jīng)常會采用鍍制工藝相對簡單的金屬膜層，如金膜、銀膜和鋁膜等。但金屬膜層較軟，當(dāng)膜層表面受到沾染時(shí)不利于清潔。傳統(tǒng)的方法是在鍍制金屬膜層后再在其表面沉積一層保護(hù)膜層，但為了保證反射膜層的反射效率膜層很薄，不耐擦拭。如美國專利5036767 “用于激光引爆裝置的窗口”中涉及到的反射膜層。但該膜層僅能用于可見至近紅外波段范圍，且未充分考慮保護(hù)膜層的硬度及其光學(xué)性能。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種復(fù)合的反射膜層，解決傳統(tǒng)金屬反射膜層不耐擦拭的問題，并可實(shí)現(xiàn)在較寬的光譜范圍內(nèi)膜層反射曲線的調(diào)制。本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的一種反射膜層，包括過渡膜層，金屬反射膜層和保護(hù)膜層，其中通過過渡膜層將金屬反射膜層沉積于基底表面，再在金屬反射膜層上沉積保護(hù)膜層。如上所述的一種金屬反射膜層，其中過渡膜層的材料為鉻。如上所述的一種金屬反射膜層，其中以真空蒸發(fā)的方式沉積過渡膜層和金屬反射膜層。如上所述的一種金屬反射膜層，其中保護(hù)膜層的材料為克氏硬度不小于 1000Kg/mm2，并且為在可見及紅外波段均透光的材料。如上所述的一種金屬反射膜層，其中以離子束濺射或離子束反應(yīng)濺射的方式沉積保護(hù)膜層。如上所述的一種金屬反射膜層，其中所述過渡膜層的厚度為30nm 500nm。如上所述的一種金屬反射膜層，其中所述金屬反射膜層的厚度為20nm 2000nm。如上所述的一種金屬反射膜層，其中所述保護(hù)膜層的厚度為20nm lOOOnm。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型采用沉積過渡層的方法，使金屬反射膜層能夠牢固的附著于基底表面。在其上鍍制的硬質(zhì)保護(hù)膜層采用離子束濺射的方法沉積，而且因膜層厚度較大，故可以實(shí)現(xiàn)更好的保護(hù)效果并耐擦拭。另外，通過沉積不同厚度的硬質(zhì)膜層，可實(shí)現(xiàn)從可見至長波紅外范圍內(nèi)反射膜層的反射光譜范圍的調(diào)節(jié)。

圖1是本實(shí)用新型的一種反射膜層的剖面示意圖；圖中1.基底，2.過渡膜層，3.金屬反射膜層，4.保護(hù)膜層。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的一種反射膜層進(jìn)行介紹圖1中的基底1是金屬、光學(xué)鏡片材料等加工的、帶有光學(xué)應(yīng)用表面的零件，其作用是反射膜層的支撐結(jié)構(gòu)，反射膜層是在基底表面沉積的。在充分清潔待鍍膜的基底表面后，將其放置入真空蒸發(fā)沉積裝置內(nèi)沉積過渡膜層 2。過渡膜層2的膜層材料為鉻，過渡膜層的厚度為30nm 500nm。該沉積過程為本領(lǐng)域技術(shù)人員的公知常識。對于金屬基底，可以不沉積過渡膜層2 ；但對于光學(xué)鏡片材料基底，則需要沉積過渡膜層2，增加反射膜層與基底1間的結(jié)合強(qiáng)度。在充分清潔待鍍膜的基底表面或沉積過渡膜層后，將其放置入真空蒸發(fā)沉積裝置內(nèi)沉積金屬反射層3。金屬反射膜層3的厚度為20nm 2000nm。上述過程為本領(lǐng)域技術(shù)人員的公知常識。待沉積金屬反射膜層3完畢的零件取出后，不擦拭其表面，直接放置入離子束濺射鍍膜機(jī)中進(jìn)行保護(hù)膜層4的沉積。沉積參數(shù)為，束流50 700mA ；束壓300 2000V。 保護(hù)膜層4的厚度為20nm lOOOnm。保護(hù)膜層4的材料為克氏硬度不小于1000Kg/mm2， 并且為在可見及紅外波段均透光的材料。上述的金屬指金、銀和鋁。上述的基底表面指在金屬、各種光學(xué)鏡片材料上加工的、需鍍制膜層的光學(xué)應(yīng)用表面。過渡膜層是用于保證金屬反射層牢固附著與基底表面的。金屬反射層是用于反射光線的，為基底表面附著的一薄層金屬。保護(hù)膜層是用于保護(hù)金屬反射層的，同時(shí)還可通過調(diào)節(jié)其沉積厚度而達(dá)到不同的光學(xué)效果。
權(quán)利要求1.一種反射膜層，包括過渡膜層O)，金屬反射膜層(3)和保護(hù)膜層G)，其特征在于 通過過渡膜層( 將金屬反射膜層C3)沉積于基底(1)表面，再在金屬反射膜層C3)上沉積保護(hù)膜層(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于過渡膜層O)的材料為鉻。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于以真空蒸發(fā)的方式沉積過渡膜層(2)和金屬反射膜層(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于所述保護(hù)膜層的材料為克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且為在可見及紅外波段均透光的材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于以離子束濺射或離子束反應(yīng)濺射的方式沉積保護(hù)膜層G)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于所述過渡膜層O)的厚度為 30nm 500nmo
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于所述金屬反射膜層(3)的厚度為 20nm 2000nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬反射膜層，其特征在于所述保護(hù)膜層的厚度為 20nm lOOOnm。
專利摘要本實(shí)用新型屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種反射膜層，目的是解決傳統(tǒng)金屬反射膜層不耐擦拭的問題，并可實(shí)現(xiàn)在較寬的光譜范圍內(nèi)膜層反射曲線的調(diào)制。該反射膜層包含真空蒸發(fā)沉積的過渡膜層和金屬反射膜層，以及離子束濺射沉積的硬質(zhì)保護(hù)膜層。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了更好的保護(hù)效果并耐擦拭。另外，通過沉積不同厚度的硬質(zhì)膜層，可實(shí)現(xiàn)從可見至長波紅外范圍內(nèi)反射膜層的反射光譜范圍的調(diào)節(jié)。
文檔編號G02B1/10GK202003044SQ201120050160
公開日2011年10月5日 申請日期2011年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月28日
發(fā)明者劉丹丹, 季一勤, 莊克文, 趙志宏 申請人:中國航天科工集團(tuán)第三研究院第八三五八研究所