專利名稱：一種具有熱均勻性的熱處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明公開了一種具有熱均勻性的熱處理方法，屬于熱處理技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有熱處理裝置的進(jìn)氣排風(fēng)系統(tǒng)常因?yàn)闇囟鹊投拐舭l(fā)物在氣體排放口遇冷凝結(jié)變成液態(tài)，甚至變成固態(tài)，使得氣體排放口大小改變，造成執(zhí)行熱處理程序時(shí)凈化氣流流量的不穩(wěn)定，所以，該熱處理裝置操作一段時(shí)間就必須停機(jī)進(jìn)行處理室的清潔，且凈化氣流流量的不穩(wěn)定也將會(huì)使光阻表面的溫度不均，進(jìn)而導(dǎo)致光阻表面的酸濃度不同，使得顯影處理后的光阻尺寸產(chǎn)生變動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種具有熱均勻性的熱處理方法，借由熱空氣流動(dòng)使加熱過(guò)程均勻化，且調(diào)節(jié)排氣的流量，控制排出該處理室內(nèi)的氣體流量，形成具有熱均勻性的熱處理裝置，用以解決上述技術(shù)中的不足。本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的(1)將有待形成光阻圖案的半導(dǎo)體基板的表面，進(jìn)行一種疏水處理，增加光阻的黏
著性；(2)光阻旋轉(zhuǎn)涂布至半導(dǎo)體基板表面，形成一光阻膜；(3)光阻膜被預(yù)先烘烤從該處移除溶劑；(4)冷卻至室溫；(5)遠(yuǎn)紫外線輻射照射曝光；(6)光阻膜接著受到一種曝光后烘烤處理，以促進(jìn)從光阻膜消除保護(hù)基的消去反應(yīng)；(7)再次冷卻至室溫；(8)以顯影液顯影以形成光阻圖案；(9)形成光阻圖案，光阻膜受到后烘烤。本發(fā)明的有益效果是溫度均勻，可進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行。


圖1是具有熱均勻性的熱處理方法的流程圖
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。如圖1所示，一種具有熱均勻性的熱處理方法具體步驟是(1)將有待形成光阻圖案的半導(dǎo)體基板的表面，進(jìn)行一種疏水處理，增加光阻的黏
著性；
(2)光阻旋轉(zhuǎn)涂布至半導(dǎo)體基板表面，形成一光阻膜；(3)光阻膜被預(yù)先烘烤從該處移除溶劑；(4)冷卻至室溫；(5)遠(yuǎn)紫外線輻射照射曝光；(6)光阻膜接著受到一種曝光后烘烤處理，以促進(jìn)從光阻膜消除保護(hù)基的消去反應(yīng)；(7)再次冷卻至室溫；(8)以顯影液顯影以形成光阻圖案；(9)形成光阻圖案，光阻膜受到后烘烤。
權(quán)利要求
1. 一種具有熱均勻性的熱處理方法，借由熱空氣流動(dòng)使加熱過(guò)程均勻化，且調(diào)節(jié)排氣的流量，控制排出該處理室內(nèi)的氣體流量，形成具有熱均勻性的熱處理裝置，其特征在于所述的處理方法具體步驟是(1)基板表面疏水處理；(2)光阻旋轉(zhuǎn)涂布至半導(dǎo)體基板表面；(3)預(yù)先烘烤；(4)冷卻至室溫；(5)遠(yuǎn)紫外線輻射照射曝光；(6)曝光后烘烤；(7)冷卻至室溫；(8)顯影；(9)烘烤。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種具有熱均勻性的熱處理方法，屬于熱處理技術(shù)領(lǐng)域，具體步驟是(1)基板表面疏水處理；(2)光阻旋轉(zhuǎn)涂布至半導(dǎo)體基板表面；(3)預(yù)先烘烤；(4)冷卻至室溫；(5)遠(yuǎn)紫外線輻射照射曝光；(6)曝光后烘烤；(7)冷卻至室溫；(8)顯影；(9)烘烤；有益效果是溫度均勻，可進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行。
文檔編號(hào)G03F7/00GK102393601SQ201110355109
公開日2012年3月28日 申請(qǐng)日期2011年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月10日
發(fā)明者宋劍 申請(qǐng)人:宋劍