專利名稱：中間掩模版保持器和中間掩模版的組件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種中間掩模版和中間掩模版保持器的組件。
背景技術：
這樣一種組件從本領域中已知。已知組件的中間掩模版例如可以適合于且安排為供光刻工藝中使用，通過光刻裝置實現，以制造器件。在已知的組件中，中間掩模版保持器用于利用夾緊裝置保持中間掩模版。特別是，已知的中間掩模版保持器是一種用于儲存和運輸中間掩模版的儲存箱。在一些情況下，在組件用于制造過程中以前，必須將中間掩模版相對于中間掩模版保持器精確對準。通常，這種對準由中間掩模版預對準器進行。已知組件的一個問題是當中間掩模版由中間掩模版保持器保持時，將中間掩模版相對于中間掩模版保持器保持在某個所需的，例如對準的位置是相對困難的。因此，在組件運輸過程中，中間掩模版可能在振動和/或加速作用的影響下移位，導致中間掩模版未對準。此外，這種不希望的中間掩模版移動可能導致因中間掩模版和中間掩模版保持器之間的摩擦而引起的不希望的拉子產生。這些粒子損害利用中間掩模版的工藝，例如真空工藝和/或光刻工藝，其中這些工藝需要基本上無污染的工藝環(huán)境。在已知的中間掩模版保持器中，通過利用相對較大的夾緊或摩擦力來阻止中間掩模版的運動。但是，這些力導致很大的接觸應力，而這些應力會損壞中間掩模版和/或中間掩模版保持器。

發(fā)明內容
本發(fā)明旨在提供一種中間掩模版和中間掩模版保持器的改進的組件。特別是，本發(fā)明的目的是提供一種中間掩模版和中間掩模版保持器的組件，其中可以將中間掩模版可以相對于中間掩模版保持器安全地保持在所需的位置。根據本發(fā)明的一個方面，在中間掩模版和中間掩模版保持器的組件中，中間掩模版保持器的狀態(tài)在中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間是可調整的。當中間掩模版保持器處于阻止狀態(tài)時，中間掩模版保持器用于至少以形狀鎖合方式沿至少一個方向保持中間掩模版，其中當中間掩模版保持器處于釋放狀態(tài)時，中間掩模版保持器用于釋放中間掩模版。因此，例如在組件的運輸過程中，利用形狀鎖合的中間掩模版固定，中間掩模版保持器防止中間掩模版沿所述至少一個方向的不希望的運動。因此，中間掩模版可以相對于中間掩模版保持器保持在一定位置，例如某一對準位置。此外，可以防止粒子形成。由于能夠以形狀鎖合方式保持中間掩模版，因此優(yōu)選利用沿所述至少一個方向基本上沒有力鎖合(forceclosure)，例如夾緊或摩擦力來保持中間掩模版。因此，中間掩模版能夠在其受到由中間掩模版保持器作用在其上的相對較少的保持力時被保持，從而能夠防止中間掩模版損壞或斷裂。中間掩模版和中間掩模版保持器的這種組件能夠具有不同的應用。該組件
4例如可以與光刻裝置，中間掩模版檢查裝置，中間掩模版運輸系統(tǒng)等結合使用。根據本發(fā)明的有利實施方式，中間掩模版保持器包括至少一個可動的中間掩模版保持元件，所述元件在分別用于提供所述形狀鎖合的阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的中間掩模版阻止位置和中間掩模版釋放位置之間是可移動的，其中，將所述至少一個可動的中間掩模版保持元件安排為在阻止位置固定。通過將每個中間掩模版保持元件固定在其阻止位置能夠以形狀鎖合方式簡單地固定中間掩模版。當該至少一個保持元件從阻止位置移動到釋放位置時釋放中間掩模版。 優(yōu)選地，當保持元件處于所述阻止位置并且該中間掩模版由中間掩模版保持器保持時，每個中間掩模版保持元件和中間掩模版之間的距離約小于1 μ m,從而使中間掩模版的形狀鎖合相對緊密，并且有效地防止沿所述至少一個方向的中間掩模版運動。此外，當保持元件處于所述釋放位置以便為釋放中間掩模版提供足夠的空間時，每個中間掩模版保持元件和中間掩模版之間的距離例如可以約大于1 μ m,特別是約大于100 μ m,更特別足約大于1mm。所述距離優(yōu)選利用合適的傳感器裝置進行檢測，其中可動的保持元件的運動優(yōu)選由合適的控制裝置進行控制，從而自動地實現形狀鎖合。根據本發(fā)明的另一個實施方式，中間掩模版保持器包括至少一種物質，例如可凝固的流體和/或鐵磁流，能夠變?yōu)榉謩e用于提供所述形狀鎖合的阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的固態(tài)和可變形狀態(tài)。通過將所述物質達到固態(tài)而以成形的方式簡單地固定中間掩模版。當所述物質變?yōu)榭勺冃螤顟B(tài)時釋放中間掩模版。該物質可以包括不同形式的不同材料。該物質可以包括例如一種或多種流體，熱塑性塑料和/或這些或任何其他合適物質的組合。所述固態(tài)例如可以是該物質的高粘度的狀態(tài)，其中該物質在所述可變形狀態(tài)具有較低的拈度。如果該物質是一種流體，那么所述可變形狀態(tài)可以是該流體的一種流態(tài)，例如液態(tài)。該物質例如可以容納于撓性容器中，以防止在其處于所述可變形狀態(tài)時中間掩模版保持器釋放該物質。根據本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式，中間掩模版保持器包括至少一個不可動的中間掩模版保持元件，該元件用于鄰接至少一部分中間掩模版，用于以所述形狀鎖合方式保持中間掩模版。該至少一個不可動的保持元件例如可以與中間掩模版保持器的其他部分配合，特別是與所述可動的保持元件和/或與所述物質配合，從而以形狀鎖合的方式保持中間掩模版。該至少一個不可動的保持元件可進一步用于使中間掩模版相對于中間掩模版保持器對準，這能夠充分利用中間掩模版預對準器。本發(fā)明進一步涉及一種包括中間掩模版和中間掩模版保持器的組件的系統(tǒng)。如上所述，中間掩模版和中間掩模版保持器的組件從本領域中已知。中間掩模版保持器可用于簡化中間掩模版的操作。例如，中間掩模版保持器可用于從中間掩模版臺運輸中間掩模版且將中間掩模版運輸到中間掩模版臺。已知組件的缺點在于，當中間掩模版例如放置于用于其儲存和/或運輸的儲存箱中時，中間掩模版保持器需要從中間掩模版移開。中間掩模版保持器的移開導致操作風險，較低的MTBF(平均無故障時間)并增加機器成本。這種組件的另一個問題在于，所需的中間掩模版相對于中間掩模版保持器的精確定位變得相對復雜。因此，中間掩模版定位到保持器花費相對較多的時間，降低了利用這種中間掩模版/中間掩模版保持器組件的光刻裝置或光刻制造方法的生產量。本發(fā)明旨在提供一種系統(tǒng)，其中中間掩模版和中間掩模版保持器可以相對于彼此
5相對精確和快速地定位。根據本發(fā)明，這通過一種系統(tǒng)來實現，所述系統(tǒng)包括中間掩模版和中間掩模版保持器的組件，以及至少一個檢測器，其中中間掩模版包括一個或多個標記，其中中間掩模版保持器和檢測器用于相對于彼此在運動學上對準，其中檢測器用于檢測使中間掩模版相對于中間掩模版保持器定位的所述中間掩模版標記。在使用過程中，一方面利用運動學對準且另一方面利用標記對準可以使中間掩模版相對于中間掩模版保持器快速和精確地對準。優(yōu)選地，可以首先使中間掩模版保持器相對于至少一個檢測器在運動學上對準。 在中間掩模版保持器相對于所述檢測器對準之后，利用由所述檢測器對所述標記的檢測可以使中間掩模版相對于中間掩模版保持器簡單地定位。例如，中間掩模版相對于中間掩模版保持器定位，使中間掩模版獲得相對于保持器的一個所需的位置，例加預定位置，該位置適合于將中間掩模版放置于光刻裝置中，而不必使中間掩模版相對于中間掩模版保持器重新對準。在這種情況下，在中間掩模版相對于中間掩模版保持器定位之后，例如可以將中間掩模版保持器運輸到用于將中間掩模版直接放置于其上預定工作位置的光刻裝置的中間掩模版臺，而不需要任何其他中間掩模版對準步驟。優(yōu)選地，該系統(tǒng)包括至少一個儲存箱，用于至少在所述組件對準過程中儲存所述組件。在這種情況下，中間掩模版的對準能夠在儲存箱內相對干凈的空間中實現，同時減小由中間掩模版和/或中間掩模版保持器從儲存箱的任何移開而引起的操作風險。例如，在用于使中間掩模版相對于中間掩模版保持器對準的方法中，中間掩模版和中間掩模版保持器的組件可以首先放置于儲存箱中。之后，例如使用一個或多個中間掩模版標記和標記檢側器，將中間掩模版和中間掩模版保持器方便地相對于彼此對準。中間掩模版相對于中間掩模版保持器的對準例如可以與上面描述的相同，從而使中間掩模版保持器可以將中間掩模版放置于工作位置而不需要任何其他的中間掩模版/中間掩模版保持器對準。儲存箱可以在組件被使用之前和/或之后保護對準的中間掩模版/中間掩模版保持器組件。中間掩模版和中間掩模版保持器的組件能夠以各種方式安排。例如，該組件可以是上述組件，從而當中間掩模版保持器處于阻止狀態(tài)時，中間掩模版保持器用于至少以形狀鎖合的方式沿至少一個方向保持中間掩模版，當中間掩模版保持器處于釋放狀態(tài)時，該中間掩模版保持器用于釋放中間掩模版。這提供了中間掩模版形狀鎖合固定的上述優(yōu)點。根據一個實施方式，該系統(tǒng)包括一個用于支撐中間掩模版保持器的支撐結構，其中該結構包括中間掩模版保持器的對接元件或對接孔口，它們用于與對接孔口或對接元件配合，用以將中間掩模版保持器在運動學上對接到支撐結構上，其中所述檢測器位于相對于支撐結構的一定的檢測器位置，用以檢測所述中間掩模版標記。這提供了用于對接中間掩模版保持器和對準中間掩模版的有利的結構。在一個實施方式中，支撐結構簡單地整體連接到所述檢測器。根據本發(fā)明的另一方面，提供一種支撐結構，安排為用于在運動學上對接中間掩模版保持器儲存箱，其中該支撐結構也安排為用于在運動學上對接在所述儲存箱中保持的中間掩模版保持器。在這種情況下，儲存箱以及容納在其中的中間掩模版保持器經由該支撐結構相對于彼此精確對準。因此，中間掩模版的定位和/或運輸能夠以相對簡單的方式并且相對快速地實現。這樣，可以降低利用一個或多個中間掩模版制造的器件的制造成本， 所述中間掩模版利用一個或多個所述支撐結構來定位。并且，當光刻裝置配有一個或多個這樣的支撐結構和/或該裝置用于利用一個或多個這樣的支撐結構時，可以降低該裝置的成本。根據本發(fā)明的另一個方面，提供了一種中間掩模版保持器。這種中間掩模版保持器提供上述優(yōu)點。特別是，對于中間掩模版保持器是上述組件的保持器的情況，中間掩模版可由中間掩模版保持器在所述至少一個方向上穩(wěn)定地保持，優(yōu)選不應用中間掩模版力固定，或者僅使用少量的力固定。這種中間掩模版保持器能夠以不同的方式安排。中間掩模版保持器例如可以是或者包括用于支撐中間掩模版的框架。 此外，中間掩模版保持器可以是中間掩模版儲存箱。在這種情況下，儲存箱可以用于直接保持中間掩模版，其中該中間掩模版不通過任何其他中間掩模版保持裝置來保持。此外，所述中間掩模版保持器例如可以是儲存箱的一部分，如單獨的中間掩模版保持框架，其可從另一個儲存箱部件移開。并且，可以提供一個外部儲存箱，其安排為用于容納一個或多個內部儲存箱，其中將每個內部儲存箱安排作為中間掩模版保持器。此外，對于中間掩模版保持器是根據上述系統(tǒng)的保持器的情況，中間掩模版和中間掩模版保持器可以相對于彼此相對快速和精確地定位，例如使得中間掩模版可以利用保持器直接放置于光刻裝置中的工作位置。并且，在這種情況下，優(yōu)選將中間掩模版/中間掩模版保持器組件儲存在合適的可運輸的儲存箱中，例如用于在其儲存和/或運輸過程中保護該組件。本發(fā)明還涉及一種儲存箱。中間掩模版和中間掩模版保持器的組件可以通過儲存箱容納，例如用以在很好條件的、相對無污染的環(huán)境中儲存該組件。此外，該儲存箱可用來保護所述組件不受不利的機械影響。由于該儲存箱用于容納所述組件，因此中間掩模版可以很容易地操作。例如，如果中間掩模版需要儲存在儲存箱中，那么中間掩模版保持器也不必從中間掩模版移開。根據本發(fā)明的另一個實施方式，儲存箱包括至少一個保持架，當該保持架處于保持器保持狀態(tài)時用于保持所述中間掩模版保持器，其中當該保持架處于保持器釋放狀態(tài)時用于釋放中間掩模版保持器。利用所述保持架，中間掩模版保持器可以隨意保持在儲存箱中。這提高了中間掩模版和中間掩模版保持器組件相對于儲存箱的操作可能性。例如，當保持架處于所述釋放狀態(tài)時，中間掩模版保持器可以從儲存箱移出或移入儲存箱。此外，當中間掩模版保持器由儲存箱中的所述保持架保持時，中間掩模版可以從中間掩模版保持器移動。為了清潔的目的，例如可以將中間掩模版不帶中間掩模版保持器地從儲存箱移開。根據本發(fā)明的一個方面，儲存箱用于與上述支撐結構配合，用以在運動學上對接其上的儲存箱，其中至少一部分儲存箱優(yōu)選是光學上透明的，從而使所述檢測器可以利用相對簡單的光學檢測器在使用過程中簡單而光學地檢測所述中間掩模版標記。本發(fā)明進一步涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。光刻裝置是將所需圖案應用于基底目標部分上的一種裝置。光刻裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構圖部件，如掩模可用于產生對應于IC一個單獨層的電路圖案，該圖案可以成像在已涂覆輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(例如硅晶片)的目標部分上(例如包括一部分，一個或者多個管芯)。一般地，單一的晶片將包含相繼曝光的相鄰目標部分的網格。已知的光刻裝置包括所謂步進器，通過將整個圖案一次曝光到目標部分上而輻射每一目標部分，已知的光刻裝置還包括所謂掃描器，通過在投射光束下沿給定的方向(“掃描”方向)掃描所述圖案，并同時沿與該方向平行或者反平行的方向同步掃描基底來輻射每一目標部分。根據本發(fā)明的一個方面，提供一種光刻裝置，包括用于提供輻射投射光束的照射系統(tǒng)；用于支撐構圖部件的支撐結構，所述構圖部件用于賦予投射光束帶圖案的橫截用于保持基底的基底臺；用于將帶圖案的光束投射到基底的目標部分上的投影系統(tǒng)，其中該裝置包括至少一個上述組件和/或至少一個上述系統(tǒng)和/或至少一個上述支撐結構和/或至少一個上述中間掩模版保持器和/或至少一個上述儲存箱。因此，所述組件，所述系統(tǒng)，所述支撐結構，所述儲存箱和/或所述中間掩模版保持器的上述優(yōu)點供給光刻裝置。特別地，利用中間掩模版保持器可以相對快速地操作和定位中間掩模版，因此該裝置可以具有低費用和實現高生產率。此外，當使用所述系統(tǒng)和/或所述支撐結構時，可以使該中間掩模版相對于中間掩模版保持器精確和快速地對準，優(yōu)選地利用中間掩模版保持器使中間掩模版能夠放置于用于直接支撐構圖部件的支撐結構上。根據本發(fā)明的另一個方面，提供了一種器件制造方法。提供一基底，其中利用照射系統(tǒng)提供輻射的投射束。構圖部件用于賦予投射光束帶圖案的橫截面。將帶圖案的輻射光束投射到基底的目標部分上。由于將至少一個上述組件和/或至少一個上述系統(tǒng)和/或至少一個上述支撐結構和/或至少一個上述中間掩模版保持器和/或至少一個上述儲存箱用于中間掩模版操作，因此可以有效和安全地操作一個或多個中間掩模版。此外，可以利用相對較少的對準步驟使中間掩模版精確對準。在本申請中，雖然本發(fā)明的光刻裝置具體用于制造IC，但是應該理解這里描述的光刻裝置可能具有其它應用，例如，它可用于制造集成光學系統(tǒng)、用于磁疇儲存器的引導和檢測圖案、液晶顯示板(LCD)、薄膜磁頭等等。本領域的技術人員將理解，在這種可替換的用途范圍中，這里任何術語“晶片”或者“管芯”的使用應認為分別與更普通的術語“基底”或 “目標部分”同義。在曝光之前或之后，可以在例如軌道(通常將抗蝕劑層涂敷到基底并將已曝光的抗蝕劑顯影的一種工具)或者計量工具或檢驗工具對這里提到的基底進行處理。 在可應用的地方，這里的公開可應用于這種和其他基底處理工具。另外，例如為了形成多層 IC，可以對基底進行多次處理，因止這里所用的術語基底也可以指的是已經包含多個已處理的層的基底。這里使用的術語“輻射”和“光束”包含所有類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射 (例如具有365，248193，157或者126nm的波長)和遠紫外(EUV)輻射(例如具有5_20nm 的波長范圍)，以及粒子束，如離子束或電子束。這里使用的術語“構圖部件”應廣義地理解為能夠給投射光束賦予帶圖案的截面的裝置，從而在基底的目標部分中形成圖案。應該注意，賦予投射光束的圖案可以不與基底目標部分中的所需圖案精確一致。一般地，賦予投射光束的圖案與在目標部分中形成的器件如集成電路的特殊功能層相對應。構圖部件可以是透射的或者反射的。構圖部件的示例包括掩模，可編程反射鏡陣列，以及可編程LCD板。掩模在光刻中是公知的，它包括如二進制型、交替相移型、和衰減相移型的掩模類型，以及各種混合掩積類型?？删幊谭瓷溏R陣列的一個示例采用小反射鏡的矩陣排列，每個反射鏡能夠獨立地傾斜，從而沿不同的方向反射入射的輻射束；按照這種方式，對反射的光束進行構圖。在構圖部件的每個示例中，支撐結構可以是框架或者工作臺， 例如所述結構根據需要可以是固定的或者是可移動的，并且可以確保構圖部件例如相對于投影系統(tǒng)位于所需的位置。這里任何術語“中間掩模版”或者“掩模”的使用可以認為與更普通的術語“構圖部件”同義。這里所用的術語“投影系統(tǒng)”應廣義地解釋為包含各種類型的投影系統(tǒng)，包括折射光學系統(tǒng)，反射光學系統(tǒng)，和反折射光學系統(tǒng)，如適合于所用的曝光輻射，或者適合于其他方面，如使用浸液或使用真空。這里任何術語“鏡頭”的使用可以認為與更普通的術語“投影系統(tǒng)”同義。照射系統(tǒng)還可以各種類型的光學部件，包括用于引導、整形或者控制輻射投射光束的折射，反射和反折射光學部件，這種部件在下文還可共同地或者單獨地稱作“鏡頭”。光刻裝置可以具有兩個(二級)或者多個基底臺(和/或兩個或者多個掩模臺)。 在這種“多級式”裝置中，可以并行使用這些附加臺，或者可以在一個或者多個臺上進行準備步驟，而一個或者多個其它臺用于曝光。光刻裝置也可以是這樣一種類型，其中基底浸入具有相對高折射率的液體中，如水，從而填充投影系統(tǒng)的最后一個元件與基底之間的空間。浸液也可以應用于光刻裝置中的其他空間，例如，掩模與投影系統(tǒng)的第一個元件之間。油浸法在本領域是公知的，用于提高投影系統(tǒng)的數值孔徑。


現在僅僅通過舉例的方式，參考

本發(fā)明的各個具體實施方式
，在附圖中， 對應的參考標記表示對應的部件，其中圖1示出根據本發(fā)明一個具體實施方式
的光刻裝置；圖2示意性地示出本發(fā)明第一實施方式的部分開放的側視圖，其中中間掩模版和中間掩模版保持器均儲存在儲存箱中；圖3示出類似于圖2的視圖，其中中間掩模版保持器容納在儲存箱中，而中間掩模版不在儲存箱中；圖4示出類似于圖2的視圖，其中中間掩模版保持器從儲存箱中移開；圖5示意性地示出根據本發(fā)明第二實施方式的中間掩模版和中間掩模版保持器的組件的頂視圖；圖6示意性地示出本發(fā)明第二實施方式的另一個方面的部分開放的側視圖，其中，利用形狀鎖合將中間掩模版橫向固定在儲存箱中；圖7示意性示出類似于圖5的本發(fā)明第三實施方式的頂視9
圖8示意性示出類似于圖5的本發(fā)明第四實施方式的頂視圖；圖9示意性示出本發(fā)明第五實施方式的側視圖；以及圖10示意性示出本發(fā)明第六實施方式的頂視圖。
具體實施例方式在本申請中，除非特別指出，否則如‘大約’，‘約’或類似術語的這些術語應該理解為表示相對于指出的值能夠至少偏離正和負10 %的值。圖1示意性地表示了本發(fā)明一具體實施方案的一光刻裝置。該裝置包括照射系統(tǒng)(照射器)IL，用于提供輻射投射光束PB (例如UV輻射，EUV輻射或其他類型的輻射)；第一支撐結構(例如掩模臺)，用于支撐構圖部件(例如掩模)MA，并與用于將該構圖部件相對于物體PL精確定位的第一定位裝置PM連接；基底臺(例如晶片臺)WT，用于保持基底(例如涂覆抗蝕劑的晶片)W，并與用于將基底相對于物體PL精確定位的第二定位裝置PW連接；以及投影系統(tǒng)(例如折射投影透鏡)PL，用于將通過構圖部件MA賦予投射光束PB的圖案成像在基底W的目標部分C (例如包括一個或多個管芯)上。如這里指出的，該裝置屬于透射型(例如采用透射掩模)。另外，該裝置可以屬于反射型(例如采用上面提到的可編程反射鏡陣列)。照射器IL接收來自輻射源SO的輻射光束。輻射源和光刻裝置可以是獨立的機構， 例如當輻射源是受激準分子激光器時。在這種情況下，不認為輻射源構成光刻裝置的一部分，輻射光束借助于光束輸送系統(tǒng)BD從源SO傳輸到照射器IL，所述輸送系統(tǒng)包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器。在其它情況下，輻射源可以是裝置的組成部分，例如當源是汞燈時。源SO和照射器1L，如果需要的話連同光束輸送系統(tǒng)BD可被稱作輻射系統(tǒng)。照射器IL可以包括調節(jié)裝置AM，用于調節(jié)光束的角強度分布。一般地，至少可以調節(jié)在照射器光瞳面上強度分布的外和/或內徑向范圍(通常分別稱為σ-外和ο-內)。 此外，照射器IL 一般包括各種其它部件，如積分器IN和聚光器CO。照射器提拱輻射的調節(jié)光束(conditioned beam)，稱為投射光束PB，該光束在其橫截面上具有所需的均勻度和強度分布。投射光束PB入射到保持在掩摸臺MT上的掩模MA上。橫向穿過掩模MA后，投射光束PB通過鏡頭PL，該鏡頭將光束聚焦在基底W的目標部分C上。在第二定位裝置PW和位置傳感器IF (例如干涉測量裝置)的輔助下，基底臺WT可以精確移動，例如在光束PB的光路中定位不同的目標部分C。類似地，例如在從掩模庫中機械地取出掩模MA后或在掃描期間，可以使用第一定位裝置PM和另一個位置傳感器(圖1中未明確示出)將掩模MA相對光束PB的光路進行精確定拉。一般地，借助于長沖程模塊(粗略定位)和短沖程模塊(精確定位)，可以實現物體臺MT和WT的移動，這兩個物體臺構成定位裝置PM和PW的一部分。 可是，在步進器(與掃描裝置相對)中，掩模臺MT只與短沖程致動裝置連接，或者固定。掩模MA與基底W可以使用掩模時準標記Ml、M2和基底對準標記PI、P2進行對準。所示的裝置可以安裝下面優(yōu)選的模式使用1.在步進模式中，掩摸臺MT和基底臺WT基本保持不動，賦予投射光束的整個圖案被一次投射到目標部分C上(即單次靜態(tài)曝光)。然后基底臺WT沿X和/或Y方向移動， 從而可以曝光不同的目標部分C。在步進模式中，曝光場(exposure field)的最大尺寸限制了在單次靜態(tài)曝光中成像的目標部分C的尺寸。2.在掃描模式中，當賦予投射光束的圖案被投射到目標部分C時(即單次動態(tài)曝光)，同步掃描掩摸臺MT和基底臺WT。晶片臺WT相對于掩模臺MT的速度和方向通過投影系統(tǒng)PL的放大(縮小)和圖像反轉特性來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了在單次動態(tài)曝光中目標部分的寬度(沿非掃描方向)，而掃描移動的長度決定目標部分的高度(沿掃描方向)。3.在其他模式中，當賦予投射光束的圖案投射到目標部分C上時，掩模臺MT基本保持不動，支撐可編程構圖部件，而此時基底臺WT被移動或掃描。在該模式中，一般采用脈沖輻射源，并且在基底臺WT每次移動之后，或者在掃描期間兩個相繼的輻射脈沖之間根據需要更新可編程構圖部件。這種操作模式可以容易地應用于采用可編程構圖部件的無掩模光刻中，所述可編程構圖部件如上面提到的可編程反射鏡陣列型。還可以采用上述所用模式的組合和/或變型，或者采用完全不同的模式。在使用圖1所示的裝置的過程中，優(yōu)選將根據本發(fā)明的中間掩模版儲存箱和/或根據本發(fā)明的中間掩模版保持器用于中間掩模版操作。圖2示意性地示出本發(fā)明的第一實施方式。該實施方式包括儲存箱10，用于儲存中間掩模版MA和中間掩模版保持器1的組件。中間掩模版保持器1例如可以是運動學操作架，用于將中間掩模版以相對于某種裝置，特別是相對于光刻裝置在運動學上對準。中間掩模版保持器1例如可以根據圖5-8中所示的實施方式設置為用于至少通過如下所述的形狀鎖合來保持中間掩模版MA。另一方面，可以將中間掩模版保持器1設置為按照不同方式例如通過力鎖合來保持中間掩模版MA。儲存箱10包括基座14和蓋13，它們圍起一個儲存空間20。在圖2中，中間掩模版MA和中間掩模版保持器1的所述組件儲存在儲存箱10的儲存空間20中。蓋13例如通過插鎖(dicking)裝置，夾緊裝置，彈簧裝置和/或任何其他合適的裝置與基座14可拆卸地連接。儲存箱10的基座14配有用于支撐中間掩模版保持器1底部的支撐元件11。當中間掩模版保持器1和支撐元件11安排成彼此配合用以將中間掩模版保持器11運動學對接 (docking)并定位到支撐元件11上時是有利的。這種運動學對接能以各種方式實現，例如通過使用錐形的銷形支撐元件11，而中間掩模版保持器1的底部設有用于容納錐形支撐元件11的錐形容納口 9，如圖2-4中清楚地示出。此外，儲存箱10設有大量保持架12，這些保持架用于將中間掩模版保持器1保持在儲存箱10中。在該實施方式中，每個保持架形成為樞軸臂12，在臂12處于保持器保持狀態(tài)時，該樞軸臂用于保持中間掩模版保持器1。保持臂12的保持狀態(tài)示于圖2和3中。保持臂12可移動到圖4中所示的釋放狀態(tài)，以釋放中間掩模版保持器1。保持架12的運動能夠以不同方式實現，例如利用一個或多個電致動裝置，機電裝置，雙金屬，機械致動裝置， 彈簧裝置等等。保持架12例如可以安排成當儲存箱10位于某一控制機構上或附近時自動地移動到某一狀態(tài)。這在圖5中示意性地繪出，示出當儲存箱10位于控制元件15之上時， 控制元件15使保持臂12繞樞軸16朝釋放位置旋轉。保持臂12的反向運動例如可以通過彈簧裝置，重力，和/或其他適當的裝置來實現。此外，保持架12能夠以各種不同的方式安排和形成，包括例如一個或多個可樞轉的，可平移的，旋轉的，可變形保持元件，夾緊元件等寸。儲存箱10用于儲存中間掩模版保持器1和中間掩模版M A的組件。因此，中間掩模版MA和中間掩模版保持器1可以一起儲存，從而可以有效地操作掩模MA，特別是在共同使用和/或運輸中間掩模版MA和中間掩模版保持器1時。儲存箱10能夠防止中間掩模版 MA和中間掩模版保持器1的整個組件的污染。優(yōu)選地，當中間掩模版MA由中間掩模版保持器1儲存在儲存箱中時，該中間掩模版MA不與儲存箱10直接接觸，進一步減小了中間掩模版污染的機會。此外，在這種方式下減小了因接觸儲存箱10而導致中間掩模版損壞的機石。當儲存箱10的保持架12處于保持狀態(tài)時，將中間掩模版保持器1穩(wěn)定地限制在儲存箱10中，從而使中間掩模版MA可以安全和容易地從中間掩模版保持器1移開，如圖3 所示。在中間掩模版移開的過程中，儲存箱蓋13暫時與基座14分開。將中間掩模版MA移開是所希望的，例如用以清潔中間掩模版和/或在沒有中間掩模版保持器1的一定制造過程和/或裝置中使用中間掩模版MA。中間掩模版MA的移開和運動例如可以通過合適的致動器裝置，一個或多個機器人，用手和/或通過其他合適的裝置來實現。如圖4所示，當保持架12處于其釋放位置時，中間掩模版保持器1從儲存箱10中釋放。然后，如果蓋13從基座14移開，那么中間掩模版保持器1可以與中間掩模版MA — 起從儲存箱10移開。中間掩模版保持器1的移開和運動例如也可以通過合適的致動器裝置，一個或多個機器人，用手和/或通過其他合適的裝置來實現。希望移開中間掩模版MA， 例如用以清除組件中間掩模版MA，1和/或在一定的制造過程中使用中間掩模版MA和/或連同中間掩模版保持器1的裝置。圖5示出發(fā)明第二實施方式的頂視圖。第二實施方式包括中間掩模版MA和中間掩模版保持器1的組件。中間掩模版保持器1能夠以幾種方式來安排以保持中間掩模版MA。 在該實施方式中，中間掩模版保持器形成為用于支撐中間掩模版MA—側的支撐框架1。此外，中間掩模版保持器1可以包括例如中間掩模版載體，儲存箱等等和/或成為中間掩模版載體，儲存箱等等的一部分。根據本發(fā)明，中間掩模版保持器1的狀態(tài)可在形狀鎖合的中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間調整。當中間掩模版保持器1處于阻止狀態(tài)時，中間掩模版保持器1安排為以形狀鎖合的方式沿縱向保持和/或定位中間掩模版MA的至少一個邊緣A。因此，中間掩模版保持器1可以在所需的縱向中間掩模版位置穩(wěn)定地保持中間掩模版MA，優(yōu)選不使用力鎖合，導致在其水平加速過程中在中間掩模版MA和中間掩模版保持器1之間相對較少的或沒有摩擦。在該實施方式中，中間掩模版邊緣人包括四個基本上平的中間掩模版表面，它們垂直于圖5的平面延伸。此外，在該實施方式中，所述縱向中間掩模版方向是如圖5所示利用箭頭X和Y的水平方向。當中間掩模版保持器1處于釋放位置時，中間掩模版保持器1釋放中間掩模版MA。如圖5中清楚地繪出，第二實施方式的中間掩模版保持器1配有以形狀鎖合方式保持中間掩模版MA的保持元件2，3。提供兩個可動的中間掩模版保持元件2，它們在使用中位于中間掩模版邊緣A兩個部分的對面。中間掩模版保持器1進一步包括三個不可動的保持元件3，它們安排為鄰接中間掩模版邊緣A的部分保持部件。在該實施方式中，不可動的保持元件3相對于中間掩模版MA的形狀位于所述可動保持元件2的對邊?？蓜拥谋３衷?可在分別用于提供所述形狀鎖合的阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的中間掩模版阻止位置和中間掩模版釋放位置之間移動。每個可動的中間掩模版保持元件2用于在所述阻止位置固定。當保持元件2位于所述阻止位置時，如圖5所示，每個可動的中間掩模版保持元件2和中間掩模版邊緣A之間的距離D約小于1 μ m,從而使中間掩模版MA以基本上形狀鎖合的狀態(tài)保持在支撐框架1上。所述距離D優(yōu)選約小于lOOnm，更優(yōu)選基本上為Onm，使保持元件2幾乎或基本上與中間掩模版邊緣A接觸，而不在其上施加夾緊力。當保持元件2處于所述釋放位置時，每個可動的中間掩模版保持元件2和中間掩模版邊緣A 的距離D約大于1 μ m,特別是約大于100 μ m,更特別是約大于1mm。每個可動的保持元件2可以僅有一個固定的阻止位置。另一方面，當保持元件2 的阻止位置可在幾個阻止位置之間調整時，例如調節(jié)和保持不同尺寸的中間掩模版MA和/ 或精確控制中間掩模版形狀鎖合的量是有利的。每個可動的中間掩模版保持元件2的運動和固定能夠以各種方式實現?？蓜拥谋３衷?能夠例如可滑動地，可平移地和/或可樞轉地連接到支撐框架1。在第二實施方式中，每個可動的保持元件2可移動地貫穿導向元件4，該導向元件安裝于框架1。導向元件4例如可以包括與保持元件2的外螺紋配合的內螺紋。在這種情況下，可動的保持元件 2固定到導向元件4可以通過所述內和外螺紋連接器的配合來實現。此外，支撐框架1和/ 或導向元件4可以包括將可動的保持元件2鎖定在阻止位置的鎖定裝置，例如，插鎖裝置， 夾緊裝置，鎖銷等。中間掩模版保持元件2的移動和固定可利用各種裝置通過手，通過電磁裝置，通過雙金屬等實現，所述各種裝置例如是一個或多個電的和/或機械致動器。中間掩模版保持器1和/或中間掩模版保持器1放置于其中的環(huán)境可以設有用于移動和/或固定可動的保持元件2的這種裝置。優(yōu)選地，為了自動地控制所述可動保持元件2的移動而提供控制裝置和傳感器裝置。所述控制裝置可以包括例如合適的計算裝置，反饋裝置和/或電子設備，例如一個或多個計算機，微控制器等。所述傳感器裝置例如可以用于測量中間掩模版1和保持元件2之間的距離D。傳感器裝置例如可以按照不同的方式安排以執(zhí)行光學，電，電容，電感，力測量和/或任何其他合適的測量方法。所述控制裝置和傳感器裝置沒有在圖中示出。在使用過程中，中間掩模版MA放置于中間掩模版保持器1上，中間掩模版邊緣A 鄰接不動的保持元件3，從而使中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器1自動對準。在將中間掩模版MA放到中間掩模版保持器1上之前，將可動的保持元件2放到所述釋放位置， 從而在保持元件2，3之間提供用于放置中間掩模版MA的充足的空間，而不損壞中間掩模版 MA和/或中間掩模版保持器1。然后，可動的保持元件2移動到阻止位置并固定在該位置， 從而通過縱向形狀鎖合使中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器1固定，以便將中間掩模版MA的位置保持在縱向X，Y上，而不用將中間掩模版MA夾緊到中間掩模版保持器1上。 中間掩模版MA可以通過將可動的保持元件2移回到釋放位置而釋放，使中間掩模版MA可以安全地從保持器1移開。在所述可動的保持元件2的運動過程中，這些元件2和中間掩模版之間的距離D優(yōu)選由所述傳感器裝置進行檢測，而元件2的運動優(yōu)選由所述控制裝置自動控制。優(yōu)選地，中間掩模版MA也相對于中間掩模版保持器1沿橫向方向固定。第二實施方式的該另一個方面示于圖6中，示出包括蓋13的儲存箱10'，所述蓋可拆卸地與基座14 連接，其中當中間掩模版MA和中間掩模版保持器1置于蓋13和基座14之間時，蓋13用于橫向固定中間掩模版MA。儲存箱10'的基座14包括支撐中間掩模版保持器1的支撐元件 11。特別地，儲存箱10'的蓋13配有保持元件17，當蓋13置于儲存箱10'的基座14上時，該保持元件17延伸到中間掩模版MA上部之上相對較小的距離處，從而通過形狀鎖合而不是僅通過摩擦力來防止中間掩模版MA沿方向Z的橫向運動。這些保持元件17和中間掩模版MA的所述小距離例如可以約小于1 μ m。通過使用圖8的儲存箱10'和圖5的中間掩模版保持器1的結合，中間掩模版MA可在儲存，運輸等過程中通過形狀鎖合沿各個方向固定。儲存箱10'的蓋13的保持元件17能夠以各種方式安排且位于不同的位置。保持元件17例如可移動或不移動地與箱蓋13連接。此外，中間掩模版保持器1同樣可以包括用于通過形狀鎖合沿橫向方向Z固定中間掩模版MA的保持元件。圖7示出本發(fā)明的第三實施方式，其不同于圖5中示出的實施方式，在該實施方式中，中間掩模版保持器1包括彈性元件，例如彈簧18，用于朝中間掩模版瞅移動可動的保持元件2'。例如，彈性元件或彈簧18可具有這樣的彈簧常數，使保持元件2'朝對面固定的保持元件3按壓中間掩模版MA，而不損壞中間掩模版MA。在中間掩模版MA定位到保持器 1上之后，可動的保持元件2'的位置固定，從而基本上通過形狀鎖合而基本上不通過力鎖合來橫向地保持中間掩模版MA。為此目的，導向元件4可用于引導可動的保持元件2'朝著中間掩模版MA的方向引導不比用于阻止中間掩模版MA的適當阻止位置遠的位置，而不在其上施加夾緊或摩擦力。在這種情況下，彈簧18用來將可動的保持元件2'固定在阻止位置。另一方面，中間掩模版保特器1可以配有固定裝置，該裝置沒有在圖中示出，當啟動固定裝置時，將其用于使每個可動的保持元件2'朝向合適的阻止位置遠離中間掩模版MA 一個小的距離。所述小距離例如可以是約小于Iym的距離。在這種情況下，固定裝置防止彈黃18將中間掩模版MA夾緊在保持元件2’，3之間。本發(fā)明的第四實施方式在圖8中示出。第四實施方式的中間掩模版保持器1包括物質102，例如可凝固的流體，鐵磁流體和/或熱塑性材料，能夠達到分別用于提供所述阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的固態(tài)和可變形狀態(tài)。在該實施方式中，中間掩模版保持器1包括三個固定的保持元件3，這些保持元件3用于在相對于物質102的對邊上保持中間掩模版邊緣 A。因此，能夠使用相對較少的物質102將中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器1固定。 在使用過程中，中間掩模版MA用邊緣A抵靠固定的保持元件3來定位，同時物質102處于所述可變形狀態(tài)。然后，將物質102簡單地引入阻止狀態(tài)以固定中間掩模版MA?；蛘?，中間掩模版保持器1可以設有所述物質102，該物質在中間掩模版邊緣A的較大部分周圍延伸， 例如完全在邊緣A周圍延伸，以提供中間掩模版固定。圖9示意性地示出本發(fā)明的第五實施方式。第五實施方式是包括中間掩模版MA 和中間掩模版保持器201的組件的對準系統(tǒng)。組件MA，201例如可以與根據圖5，7，8中所示任一實施方式的組件相似或相同。在這種情況下，中間掩模版保持器201的狀態(tài)可在形狀鎖合的中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間調整。此外，組件可以如圖10的第六實施方式所示，其中中間掩模版保持器201包括幾個可調整的保持架202，203，用于通過形狀鎖合或者通過力固定來保持中間掩模版MA，力固定的方式與形狀鎖合的方式相比不是優(yōu)選的。
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在第五實施方式中，中間掩模版MA的底部包括大量對準標記MRK。在圖10中，這些標記MRK由虛線示意性地示出。每個標記MRK都是光學上可檢測的。這些標記MRK—般在本領域是已知的，可以包括適合于對準目的的各種結構和標記布局。第五實施方式還包括用于使中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器201對準的光學系統(tǒng)。該光學系統(tǒng)包括大量檢測器250。檢測器250用于檢測使中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器201定位的所述中間掩模版標記MRK。為此目的，每個檢測器250包括一光學傳感器253和至少一個光學元件252，如包括一個或多個透鏡等的顯微光學系統(tǒng)252。 當中間掩模版MA處于圖9所示位置時，顯微光學系統(tǒng)252用于將中間掩模版標記MRK的像放大到光學傳感器253上。光學傳感器253例如可以是電子攝像機，CXDD攝像機等。所述光學系統(tǒng)252例如可以是可控制的，用于在使用過程中使標記的像聚焦。此外，根據本發(fā)明，中間掩模版保持器201和檢測器250用于相對于彼此在運動學上對準。在該實施方式中，這通過用于支撐中間掩模版保持器1的支撐結構251簡單地實現，其中中間掩模版保持器201可以相對于支撐結構251在運動學上對準，而所述檢測器 250位于相對于支撐結構251的用于檢測所述中間掩模版標記MRK的預定檢測器位置。在該實施方式中，所述檢測器250簡單地安裝在所述支撐結構251上。另外，一個或多個檢測器250還可以至少部分地位于其他位置，例如從支撐結構251上拆下。支撐結構251包括第一對接(docking)元件211，該元件用于與中間掩模版保持器201的對接孔口配合，用以將中間掩模版保持器201在運動學上對接到支撐結構251上。 中間掩模版保持器201例如可以是運動學操作架，用于使中間掩模版MA相對于一定裝置， 特別是相對于光刻裝置在運動學上對準。中間掩模版保持器201例如還可以包括大量中間掩模版操作托架。支撐結構優(yōu)選提供至少三個，更優(yōu)選僅有三個運動學支撐點，用于與中間掩模版保持器201的至少三個運動學凹槽配合，例如V-槽。所述支撐點例如可以是圓形尖端銷等。另外，例如支撐結構251包括一個或多個對接孔位，用于與中間掩模版保持器的適當對接元件配合，用以將中間掩模版保持器在運動學上對接到支撐結構251上。上面已經描述了這種運動學對接的功能。這種運動學對接能夠以各種方式實現， 例如通過使用錐形的銷形支承元件211，同時中間掩模版保持器201的底部配有錐形容納口，或者V-形槽，用于容納錐形支承元件211，如已經在圖2-4中示意性示出。通過應用這種運動學定位，可以使中間掩模版保持器201相對于檢測器250快速和精確對準。本發(fā)明的第五實施方式還包括儲存箱210，設置該儲存箱用于儲存中間掩模版MA 和中間掩模版保持器201的組件。這種儲存箱具有上述優(yōu)點。例如，中間掩模版MA和中間掩模版保持器201可以一起儲存，從而可以有效地操作中間掩模版獄，特別是在共同使用和/或運輸中間掩模版MA和中間掩模版保持器201時。儲存箱210能夠防止中間掩模版 MA和中間掩模版保持器201的整個組件的污染。第五實施方式的儲存箱201例如可以與圖2_4，6中所示的一個基本上相同或相似。第五實施方式的儲存箱210包括基座214和蓋213，它們圍起一個儲存空間220。蓋 213例如通過插鎖裝置，夾緊裝置，彈簧裝置和/或任何其他適當的裝置與基座214可拆卸地連接。在該實施方式中，當中間掩模版保持器201儲存在儲存箱210中時，儲存箱210的基座214設有允許支撐結構251的支承元件211達到中間掩模版保持器201的開口。儲存箱214的所述開口例如可以是通孔，穿孔等。當所述支持元件211沒有延伸通過時，為了封閉那里的開口可提供合適的封閉裝置例如帽，插入物等。這種封閉裝置沒有在圖9中示出。 此外，該儲存箱210包括用于將中間掩模版保持器201保持在儲存箱210中一定位置處的側面支承219。這種側面支承219能夠以各種方式安排，例如可以連接到儲存箱的底部214。 并且，儲存箱210可以配有大量保持架，這些保持架用于將中間掩模版保持器201保持在儲存箱中，例如在中間掩模版保持器201已經運動學對準到支撐結構251上之后。這些保持架能夠以各種方式提供，例如參見上面相關圖2-4，且沒有在圖9中示出。儲存箱210至少部分是光學透明的，從而當系統(tǒng)處于圖9中所示的工作位置時，檢測器250可以光學地檢測中間掩模版標記MRK。為此目的，在該實施方式中，至少儲存箱底部214的部分214’由透明材料例如透明塑料，玻璃等制成，所述部分214’在使用時在標記 MRK和檢測器250相對的顯微光學系統(tǒng)252之間延伸。在該實施方式中，支撐結構251還安排為用于將儲存箱210在運動學上對接于其上。特別是，支撐結構包括中間掩模版保持器儲存箱210的第二對接元件221，或者第二對接孔口，它們用于與第二對接孔口或者第二對接元件配合。儲存箱用于借助所述對接元件和對接孔口與支撐結構251配合，用以將儲存箱210在運動學上對接到支撐結構251上。并且在這種情況下，運動學對接能夠以各種方式實現，例如按照上述方式。此外，當中間掩模版保持器201已經在運動學上定位到支撐結構251上時，圖9中所示包括用于使中間掩模版撇和中間掩模版保持器201相對于彼此移動的機構203，204的對準系統(tǒng)用于使中間掩模版MA的標記MRK相對于所述檢測器250的光學傳感器253對準。 這種機構能夠以各種方式提供。例如，機構203，204可以與圖10中示出的實施方式相同， 或者至少包括中間掩模版保持器201的可調整保持架202，203。另一方面，儲存箱210例如可以配有用于使中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器201移動的這樣一種機構。此外， 用于相對于中間掩模版保持器201操縱中間掩模版的這種機構可以是自動的和/或手動可操作的機構。第五實施方式優(yōu)選包括控制裝置，該控制裝置用于自動控制在使用中各個系統(tǒng)部件相對于彼此的運動。并且，第五實施方式優(yōu)選包括運動裝置，用于使中間掩模版保持器 201，儲存箱210和/或支撐結構251相對于彼此移動，該運動裝置例如一個或多個機器人， 致動器等。所述控制裝置還可以安排為用于處理由于標記MRK檢測而通過檢測器產生的數據和/或信號。所述控制裝置可以包括例如合適的計算裝置，反饋裝置和/或電子設備，例如一個或多個計算機，微控制器，軟件等。所述控制裝置和運動裝置沒有在圖9中示出。在第五實施方式的使用過程中，中間掩模版MA和中間掩模版保持器201的組件儲存在儲存箱210中，用以保護該組件并防止其污染。然后，中間掩模版MA和中間掩模版保持器201能夠按照下面的方式相對于彼此對準，而不必將中間掩模版和/或中間掩模版保持器從儲存箱210中移開。為此目的，儲存箱210在運動學上定位于支撐結構251的第二對接元件221上。在該定位過程中，支撐結構251的第一對接元件211透過儲存箱底部214的各個開口，并與中間掩模版保持器201配合，用以實現其運動學對準。因此，中間掩模版保持器201已經相對于光學檢測器250在運動學上對準，這些光學檢測器具有相對于支撐結構251的已知的位置。優(yōu)選地，每個所述運動學對準通過與三個運動學凹槽配合的運動學支撐點來實現。
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然后，利用由所述檢測器250得到的所述標記MRK的檢測將中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器201定位。這里，標記MRK的像通過各自的顯微光學系統(tǒng)252投影到光學傳感器253上。中間掩模版MA的定位通過所述移動機構203，204實現。特別地，中間掩模版MA和中間掩模版保持器201按照這種方式相對于彼此進行操縱，使中間掩模版的標記 MRK相對于所述檢測器250的光學傳感器253對準，從而使標記MRK達到相對于檢側器250 的某些所需的，預先知道的標記位置。例如，所述控制裝置安排為用于實現相對于中間掩模版保持器的這種中間掩模版運動。將中間掩模版對準，從而例如能夠利用中間掩模版保持器201將中間掩模版直接放置于光刻裝置的中間掩模版臺MT上，而不需要任何其他對準步驟。相對精確的定位可通過應用顯微光學系統(tǒng)252來實現，所述顯微光學系統(tǒng)將標記MRK 的像放大到光學傳感器253上。優(yōu)選地，在中間掩模版MA相對于中間掩模版保持器201定位之后，將該中間掩模版MA固定到中間掩模版保持器201上。然后，例如可以將儲存箱210運送到將要使用中間掩模版MA的位置，例如運送到如上所述供器件制造中使用的光刻裝置。在上述中間掩模版對準之后，優(yōu)選將中間掩模版MA直接放置于光刻裝置的中間掩模版臺MT上，這導致裝置的相對較少的停機時間和相對較高的生產量。在該第五實施方式中，利用光學裝置MRK，250和運動學對準裝置211使中間掩模版保持器201和掩模MA相對于彼此簡單對準。因此，簡化了中間掩模版的操作。例如，當中間掩模版保持器201儲存在儲存箱210中時，中間掩模版MA已經位于保持器201上。之后，使中間掩模版MA可以相對于中間掩模版保持器201對準，而不必將中間掩模版/中間掩模版保持器組件從儲存箱210移開。因此，中間掩模版MA的對準可以在相對清潔，無粒子的環(huán)境下實現。這里，支撐結構251和所述檢測器250可以起預對準器的作用，提供一種快速，清潔和有效的中間掩模版對準。盡管上面已經描述了本發(fā)明的具體實施方式
，但是應該理解，本發(fā)明可以按照不同于所述的方式實施。說明書不意味著限制本發(fā)明。儲存箱可以安排為用于儲存包括至少一個中間掩模版和一個中間掩模版保持器的組件，其中中間掩模版保持器的狀態(tài)例如不能在形狀鎖合的中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間調整，其中儲存箱配有用于保持所述中間掩模版保持器的至少一個保持架。這提供了所述保持架的上述優(yōu)點，但不取決于通過形狀鎖合來保持中間掩模版。特別是，當使用這種儲存箱時，如圖2-4所示，中間掩模版和中間掩模版保持器組件的操作可能性提高。中間掩模版MA也能夠以各種方式和形狀提供，例如矩形，正方形，圓形等。此外，中間掩模版保持器和/或儲存箱能夠用于在水平，垂直和/或其他中間掩模版狀態(tài)下運輸和/或儲存中間掩模版。中間掩模版保持器和/或儲存箱進一步安排為用于使中間掩模版相對于環(huán)境和/或裝置定位。每個中間掩模版保持器能夠用于保持一個或多個中間掩模版。這同樣適用于所述儲存箱。儲存箱也能夠用于保持一個或多個中間掩模版保持器，例如一個或多個中間掩模版保持框架和/或一個或多個內部中間掩模版儲存箱。此外，能夠基本上通過形狀固定沿一個或多個方向保持中間掩模版，其中例如能夠施加力以在剩余的方向保持中間掩模版。此外，優(yōu)選基本上通過沿至少一個方向由形狀鎖合并且基本上不通過沿該方向的力鎖合來保持中間掩模版MA。這里，術語“基本上不通過力鎖合”必須廣義地解釋，例如解釋為中間掩模版保持器向中間掩模版施加大約ION或更小的殘余保持力。此外，如上所述，根據本發(fā)明的中間掩模版對準方法能夠在真空環(huán)境中實現，例如在為此功能設計的單獨模塊中實現。并且，該中間掩模版對準能夠例如在儲存模塊，負載鎖，掃描器或在其他設備中實現。此外，前述系統(tǒng)可以包括例如中間掩模版MA和中間掩模版保持器201的一個或多個組件，每個中間掩模版保持器安排為用于保持各自的中間掩模版，其中優(yōu)選地，每個組件 MA, 201可拆卸地儲存在合適的儲存箱210中。此外，每個所述儲存箱210和/或中間掩模版保持器201例如可以設置成手動運輸等。
權利要求
1.包括中間掩模版(MA)和中間掩模版保持器O01)的組件以及至少一個檢測器 (250)的系統(tǒng)，其中中間掩模版(MA)包括一個或多個標記(MRK)，其中中間掩模版保持器 (201)和檢測器(250)用于相對于彼此在運動學上對準，其中檢測器(250)用于檢測使中間掩模版(MA)相對于中間掩模版保持器O01)定位的所述中間掩模版標記(MRK)，其中該系統(tǒng)優(yōu)選包括至少一個儲存箱010)，用于至少在將中間掩模版(MA)相對于中間掩模版保持器O01)定位的過程中儲存所述組件(MA，201)。
2.根據權利要求1的系統(tǒng)，其中在所述組件中，中間掩模版保持器的狀態(tài)設置成在形狀鎖合的中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間是可調整的，從而當中間掩模版保持器O01)處于阻止狀態(tài)時，中間掩模版保持器O01)設置成至少以形狀鎖合方式沿至少一個方向(X，Y，Z)保持中間掩模版(MA)，當中間掩模版保持器O01)處于釋放狀態(tài)時， 該中間掩模版保持器O01)設置成釋放中間掩模版(MA)。
3.根據權利要求2的系統(tǒng)，其中中間掩模版保持器包括至少一個可動的中間掩模版保持元件，所述元件在分別用于提供所述形狀鎖合的阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的中間掩模版阻止位置和中間掩模版釋放位置之間是可移動的，其中，能夠將所述至少一個可動的中間掩模版保持元件安排成在阻止位置固定。
4.根據權利要求3的系統(tǒng)，其中當保持元件處于所述阻止位置并且該中間掩模版(MA) 由中間掩模版保持器保持時，每個中間掩模版保持元件和中間掩模版(MA)之間的距離約小于1 μ m0
5.根據權利要求4的系統(tǒng)，其中當保持元件處于所述釋放位置時，每個中間掩模版保持元件和中間掩模版(MA)之間的距離約大于lym，特別是約大于ΙΟΟμπι，更特別是約大于 Imm0
6.根據權利要求2-5中任一項的系統(tǒng)，其中中間掩模版保持器包括至少一種物質，例如可凝固的流體，鐵磁流體和/或熱塑性塑料，它能夠變?yōu)榉謩e用于提供所述形狀鎖合的阻止狀態(tài)和釋放狀態(tài)的固態(tài)和可變形狀態(tài)。
7.根據權利要求2-6中任一項的系統(tǒng)，其中中間掩模版保持器包括至少一個不能移動的中間掩模版保持元件，該元件用于鄰接至少一部分中間掩模版(MA)，用于以所述形狀鎖合方式保持中間掩模版(MA)。
8.根據權利要求2-7中任一項的系統(tǒng)，其中中間掩模版保持器包括用于支撐中間掩模版一邊的支撐框架。
9.根據權利要求1或2的系統(tǒng)，包括用于使中間掩模版(MA)和中間掩模版保持器 (201)相對于彼此移動的機構003，204)，優(yōu)選是當所述系統(tǒng)(ΜΑ，201)定位于所述儲存箱 (210)中時移動中間掩模版(MA)的機構003，204)。
10.根據權利要求1，2和9中任一項的系統(tǒng)，包括一個用于支撐中間掩模版保持器 (201)的支撐結構051)，其中該結構包括中間掩模版保持器001)的對接元件(211)或對接孔口，它們用于分別與對接孔口或對接元件配合，用以將中間掩模版保持器在運動學上對接到支撐結構051)上，其中所述檢測器(250)在使用時位于相對于支撐結構051)的用以檢測所述中間掩模版標記(MRK)的一定的檢測器位置。
11.根據權利要求10的系統(tǒng)，其中所述檢測器Ο50)附于所述支撐結構051)。
12.根據權利要求10或11的系統(tǒng)，其中支撐結構包括至少三個運動學支撐點，用于與中間掩模版保持器O01)的至少三個運動學凹槽配合。
13.根據權利要求1，2和9-12中任一項的系統(tǒng)，其中所述檢測器包括至少一個光學傳感器053)，用于檢測所述標記(MRK)。
14.根據權利要求1，2和9-13中任一項的系統(tǒng)，其中所述檢側器至少包括至少一個光學元件052)，例如顯微光學系統(tǒng)，用于放大至少一個所述標記(MRK)的像。
15.根據權利要求1，2和9-14中任一項的系統(tǒng)，其中所述檢測器包括至少一個電子攝像機，例如CXD攝像機，用于檢測所述標記(MRK)。
16.支撐結構，例如根據權利要求10-12中任一項的系統(tǒng)的支撐結構，安排成用于在運動學上對接其上的中間掩模版保持器001)，其中該支撐結構(251)優(yōu)選也安排成當所述中間掩模版保持器(201)保持在儲存箱(210)中時在運動學上對接中間掩模版保持器儲存箱(210)。
17.根據權利要求16的支撐結構，包括中間掩模版保持器O01)的第一對接元件 011)，或第一對接孔口，它們用于分別與第一對接孔口或第一對接元件配合，其中該支撐結構(251)優(yōu)選也包括中間掩模版保持器儲存箱(210)的第二對接元件021)，或第二對接孔口，它們用于分別與第二對接孔口或第二對接元件配合。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種中間掩模版和中間掩模版保持器的組件，其中中間掩模版保持器(1)的狀態(tài)在形狀鎖合的中間掩模版阻止狀態(tài)和中間掩模版釋放狀態(tài)之間是可調整的，其中當中間掩模版保持器(1)處于阻止狀態(tài)中時，中間掩模版保持器(1)用于至少以形狀鎖合方式沿至少一個方向(X，Y，Z)保持中間掩模版(MA)，當中間掩模版保持器(1)處于釋放狀態(tài)時，該中間掩模版保持器(1)用于釋放中間掩模版(MA)。本發(fā)明還涉及一種系統(tǒng)，包括中間掩模版(MA)和中間掩模版保持器(201)的組件，以及至少一個檢測器(250)，其中中間掩模版(MA)包括一個或多個標記(MRK)，其中中間掩模版保持器(201)和檢測器(250)用于相對于彼此在運動學上對準，其中檢測器(250)用于檢測所述中間掩模版標記(MRK)，用以使中間掩模版(MA)相對于中間掩模版保持器(201)定位。
文檔編號G03F1/14GK102338992SQ20111027497
公開日2012年2月1日 申請日期2004年10月26日 優(yōu)先權日2003年10月27日
發(fā)明者B·L·W·M·范德文, G·-J·希倫斯 申請人:Asml荷蘭有限公司