專利名稱：用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝，尤其涉及一種用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法。
背景技術(shù)：
目前的掃描電子顯微鏡斷面觀測通常是先用小倍率觀測晶圓樣品表面，找到所要觀測的圖形，然后采用高倍率來觀測圖形結(jié)構(gòu)。在這期間并沒有一個固定的相對坐標(biāo)來定義觀測點(diǎn)的位置。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中掃描電子顯微鏡觀測示意圖，請參見圖1，這種方法觀測寬深比比較接近的結(jié)構(gòu)時沒有問題，但是在觀測具有很大寬深比的結(jié)構(gòu)時(寬深比往往大于100)，例如用于光學(xué)量測的圖形，如果想觀測圖形的具體某個位置，就會遇到定位困難的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明公開了一種用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中觀測具有很大的深寬比的結(jié)構(gòu)時定位困難的問題。本發(fā)明的上述目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的
一種用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，在一晶圓表面形成多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條，任意兩相鄰的光刻膠線條的間距相同，將多條光刻膠線條作為參照對晶圓上的需要觀測的結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確定位。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，多條光刻膠線條形成的方法具體包括在晶圓表面旋涂光刻膠，進(jìn)行光刻，去除部分光刻膠，僅僅保留多條光刻膠線條。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，將每條光刻膠線條的寬度控制為L，任意兩條光刻膠線條之間的距離控制為S，形成多條光刻膠線條后，將距離該結(jié)構(gòu)的最近的光刻膠線條設(shè)為參照線，找到需要觀測的結(jié)構(gòu)，測定該光刻膠線條與該結(jié)構(gòu)的距離設(shè)為X，移動樣品到觀測點(diǎn)，計算所經(jīng)過的光刻膠數(shù)目，將該數(shù)目設(shè)為N， 從而定位觀測點(diǎn)距離結(jié)構(gòu)邊緣的距離為(N-I)* (L+S)-X。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，需要觀測的結(jié)構(gòu)為大深寬比結(jié)構(gòu)。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，大深寬比結(jié)構(gòu)的深寬比大于100。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，采用特定的光罩對晶圓表面的光刻膠進(jìn)行光刻，以刻蝕出多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條。如上所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，光刻膠線條的寬度和任意兩條光刻膠線條的間距通過光罩的規(guī)格進(jìn)行控制。綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中觀測具有很大的深寬比的結(jié)構(gòu)時定位困難的問題，通過在晶圓的表面先涂上光刻膠，再使用特定的光罩刻蝕出具有固定寬度和間距的光刻膠線條， 這些光刻膠線條作為掃描電子顯微鏡觀測中，進(jìn)行精確定位的定位標(biāo)志。對于大寬深比的結(jié)構(gòu)只需要通過計算晶圓表面的光刻膠線條的數(shù)量，就可以精確的知道觀測點(diǎn)在所觀測結(jié)構(gòu)中所處的位置。


通過閱讀參照以下附圖對非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會變得更明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本發(fā)明的主旨。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中掃描電子顯微鏡觀測示意圖2是本發(fā)明用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步的說明
圖2是本發(fā)明用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法的結(jié)構(gòu)示意圖，請參見圖2，一種用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其中，在一晶圓表面形成多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條，任意兩相鄰的光刻膠線條的間距相同，將多條光刻膠線條作為參照對晶圓上的需要觀測的結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確定位，通過上述工藝可以精確的知道觀測點(diǎn)在需要觀測的結(jié)構(gòu)中的位置。本發(fā)明中多條光刻膠線條形成的方法具體包括在晶圓表面旋涂光刻膠，進(jìn)行光刻，去除部分光刻膠，僅僅保留多條光刻膠線條。進(jìn)一步的，本發(fā)明中采用特定的光罩對晶圓表面的光刻膠進(jìn)行光刻，以刻蝕出多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條。另外，本發(fā)明中的光刻膠線條的寬度和任意兩條光刻膠線條的間距可以通過光罩的規(guī)格進(jìn)行控制，根據(jù)不同的需要，可以采用不同的光罩來定義出具有不同寬度和間距的多條光刻膠線條。本發(fā)明中可以將每條光刻膠的寬度控制為L，該寬度是指從上往下看光刻膠的寬度，任意兩條光刻膠之間的距離控制為S，形成多條光刻膠線條后，將距離該結(jié)構(gòu)的最近的光刻膠線條設(shè)為參照線，找到需要觀測的結(jié)構(gòu)，測定該光刻膠線條與該結(jié)構(gòu)的距離設(shè)為X， 移動樣品到觀測點(diǎn)，計算所經(jīng)過的光刻膠數(shù)目，將該數(shù)目設(shè)為N，從而定位觀測點(diǎn)距離結(jié)構(gòu)邊緣的距離為(N-I)* (L+S)-X。進(jìn)一步的，本發(fā)明中需要觀測的結(jié)構(gòu)為大深寬比結(jié)構(gòu)，要求大深寬比結(jié)構(gòu)的深寬比大于100。綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中觀測具有很大的深寬比的結(jié)構(gòu)時定位困難的問題，通過在晶圓的表面先涂上光刻膠，再使用特定的光罩刻蝕出具有固定寬度和間距的光刻膠線條， 這些光刻膠線條作為掃描電子顯微鏡觀測中，進(jìn)行精確定位的定位標(biāo)志。對于大寬深比的結(jié)構(gòu)只需要通過計算晶圓表面的光刻膠線條的數(shù)量，就可以精確的知道觀測點(diǎn)在所觀測結(jié)構(gòu)中所處的位置。 本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)以及上述實(shí)施例可以實(shí)現(xiàn)所述變化例，在此不予贅述。這樣的變化例并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容，在此不予贅述。
以上對本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本發(fā)明并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，在一晶圓表面形成多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條，任意兩相鄰的光刻膠線條的間距相同，將多條光刻膠線條作為參照對晶圓上的需要觀測的結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，多條光刻膠線條形成的方法具體包括在晶圓表面旋涂光刻膠，進(jìn)行光刻，去除部分光刻膠，僅僅保留多條光刻膠線條。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，將每條光刻膠線條的寬度控制為L，任意兩條光刻膠線條之間的距離控制為S，形成多條光刻膠線條后，將距離該結(jié)構(gòu)的最近的光刻膠線條設(shè)為參照線，找到需要觀測的結(jié)構(gòu)，測定該光刻膠線條與該結(jié)構(gòu)的距離設(shè)為X，移動樣品到觀測點(diǎn)，計算所經(jīng)過的光刻膠數(shù)目，將該數(shù)目設(shè)為N，從而定位觀測點(diǎn)距離結(jié)構(gòu)邊緣的距離為(N-I)* (L+S) -X。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，需要觀測的結(jié)構(gòu)為大深寬比結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，大深寬比結(jié)構(gòu)的深寬比大于100。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，采用特定的光罩對晶圓表面的光刻膠進(jìn)行光刻，以刻蝕出多條寬度相同且相互平行的光刻膠線條。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法，其特征在于，光刻膠線條的寬度和任意兩條光刻膠線條的間距通過光罩的規(guī)格進(jìn)行控制。
全文摘要
本發(fā)明用于掃描電子顯微鏡觀測中精確圖形定位的方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中觀測具有很大的深寬比的結(jié)構(gòu)時定位困難的問題，通過在晶圓的表面先涂上光刻膠，再使用特定的光罩刻蝕出具有固定寬度和間距的光刻膠線條，這些光刻膠線條作為掃描電子顯微鏡觀測中，進(jìn)行精確定位的定位標(biāo)志。對于大寬深比的結(jié)構(gòu)只需要通過計算晶圓表面的光刻膠線條的數(shù)量，就可以精確的知道觀測點(diǎn)在所觀測結(jié)構(gòu)中所處的位置。
文檔編號G03F7/00GK102446749SQ20111025028
公開日2012年5月9日 申請日期2011年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者鄧鐳 申請人:上海華力微電子有限公司