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用于掃描電子顯微鏡觀測(cè)中精確圖形定位的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2794395

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本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝,尤其涉及一種。背景技術(shù)目前的掃描電子顯微鏡斷面觀測(cè)通常是先用小倍率觀測(cè)晶圓樣品表面,找到所要觀測(cè)的圖形,然后采用高倍率來(lái)觀測(cè)圖形結(jié)構(gòu)。在這期間并沒(méi)有一個(gè)固定的相對(duì)坐標(biāo)來(lái)定義觀測(cè)點(diǎn)的位置。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中掃描電子顯微鏡觀測(cè)示意圖,請(qǐng)參見(jiàn)圖1,這種方法觀測(cè)寬深比比較接近的結(jié)構(gòu)時(shí)沒(méi)有問(wèn)題,但是在觀測(cè)具有很大寬深比的結(jié)構(gòu)時(shí)(寬深比往往大于100),例如用于光學(xué)量測(cè)的圖形,如果想觀測(cè)圖形的具體某個(gè)位置,就會(huì)遇到定位困難的問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明...
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