專利名稱：平版印刷版載體和預(yù)制感光版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平版印刷版載體和預(yù)制感光版。
背景技術(shù)：
廣泛使用的常規(guī)預(yù)制感光版包括用于平版印刷版的親水性鋁載體(以下稱為" 平版印刷版載體")以及設(shè)置在載體上的親油性感光層。將這樣的預(yù)制感光版通過制版膠片(lith film)進(jìn)行掩模曝光，然后進(jìn)行用于溶解非圖像區(qū)域以將它們移除的顯影處理，以獲得所需的平版印刷版。近年來，計(jì)算機(jī)直接制版(computer-to-plate) (CTP)技術(shù)也被用于在沒有制版膠片的情況下通過如下方法制備平版印刷版根據(jù)數(shù)字化圖像信息，使用高方向性的光如激光束進(jìn)行掃描。上述的平版印刷版載體是通過如下獲得的將鋁板進(jìn)行諸如砂目化處理和陽極氧化處理的這些處理。在載體的制備中，陽極氧化處理之后可以進(jìn)行使用水蒸汽的封孔處理，以提高各種性能。作為一個實(shí)例，JP 04-176690A公開了封孔處理在"在100°C和1個大氣壓的蒸汽飽和室中"中進(jìn)行(第9頁)。JP 59-114100A公開了在陽極氧化處理之后在以下條件下進(jìn)行使用水蒸汽的處理溫度為120°C，水蒸汽壓力為700托，并且處理時間為10秒(第9頁上的表2)。

發(fā)明內(nèi)容
已知的是，如果使用通過將長時間儲存的預(yù)制感光版進(jìn)行曝光和顯影處理而得到的平版印刷版進(jìn)行印刷，可能產(chǎn)生圓形形狀的圖像遺失(也被稱為"圓形消除(round clear)〃 )。作為對這種圖像遺失研究的結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，可能在長時間儲存的預(yù)制感光版的感光層中形成直徑為約100 μ m的凸出部(bulge)，并且在預(yù)定要成為圖像區(qū)域的曝光區(qū)域中形成的凸出部引起感光層的不充分聚合，從而在顯影處理后帶來非圖像部分，即，使得產(chǎn)生圖像遺失。本發(fā)明人還研究了在感光層中形成的凸出部。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如圖IA中所示，作為存在于平版印刷版載體中的金屬鋁(Al) 101和陽極氧化膜102之間的界面處的雜質(zhì)的碳化鋁 (Al4C3) 103與通過陽極氧化膜102供給的水(H2O)反應(yīng)，從而產(chǎn)生氫氧化鋁(Al (OH) 3) 104， 這由下式表示:A14C3+12H20 — 4(Al (0H)3)+3CH4。如圖IB中所示，氫氧化鋁104生長(體積增加)，從而穿過陽極氧化膜102并且以帳篷形方式推動感光層105，這樣形成了凸出部。根據(jù)本發(fā)明人的發(fā)現(xiàn)，即使碳化鋁濃度被限制為低于lOppm，也可能形成直徑為約 100 μ m的凸出部并且使得產(chǎn)生約100 μ m的微觀圖像遺失。會與碳化鋁反應(yīng)的水被認(rèn)為源自在平版印刷版載體的制備中進(jìn)行的砂目化處理、 陽極氧化處理等之后的水漂洗處理。
穿過在可滲透水分的平版印刷版載體上形成的感光層或保護(hù)層的水分也被認(rèn)為與碳化鋁反應(yīng)。在這些情形下，本發(fā)明人最近研究了如JP 04-176690A和JP 59-114100A中公開的這些使用水蒸汽的處理對導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的影響。作為研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)，如果將已經(jīng)進(jìn)行陽極氧化處理的鋁板進(jìn)行用于使板與約100°c的水蒸汽接觸的處理，則沒有抑制引起圖像遺失的凸出部的形成，此外，在陽極氧化膜上產(chǎn)生由一水合氧化鋁形式的勃姆石 (Al2O3 · H2O或AlO(OH))構(gòu)成的凸起(protrusions)(以下也被稱為"勃姆石凸起")，從而導(dǎo)致更差的耐污漬性(resistance to scumming)。本發(fā)明的一個目的是提供一種平版印刷版載體，其使得可以獲得產(chǎn)生平版印刷版的預(yù)制感光版，所述平版印刷版表現(xiàn)出高耐污漬性，并且其中抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明人進(jìn)行了勤勉的研究，并且發(fā)現(xiàn)，通過下列方法提高耐污漬性和抑制導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成制備平版印刷版載體使得勃姆石凸起可以存在于微孔中，同時在陽極氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度可以下降至低于某個值。換言之，本發(fā)明提供如下(1)至(4)中所述的平版印刷版載體和預(yù)制感光版。(1) 一種平版印刷版載體，所述平版印刷版載體包括鋁板和設(shè)置在所述鋁板上的鋁的陽極氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述陽極氧化膜中從與面向所述鋁板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中所述微孔的內(nèi)部被由勃姆石構(gòu)成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述陽極氧化膜上的由勃姆石構(gòu)成的凸起的平均高度小于15nm。(2)根據(jù)(1)所述的平版印刷版載體，其中所述微孔的平均孔徑(d)和用于將所述微孔進(jìn)行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度與所述平均孔徑的比率(h/ d)不小于0.2，所述用于將所述微孔進(jìn)行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔徑方向上測量的。(3) 一種預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括根據(jù)(1)或(2)所述的平版印刷版載體和設(shè)置在所述載體上的感光層，其中所述感光層含有㈧增感染料、(B)聚合引發(fā)劑、(C) 可聚合化合物和(D)粘合劑聚合物。(4)根據(jù)(3)所述的預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括保護(hù)層，所述保護(hù)層設(shè)置在所述感光層上。根據(jù)本發(fā)明，可以提供平版印刷版載體，其使得可以獲得產(chǎn)生平版印刷版的預(yù)制感光版，所述平版印刷版表現(xiàn)出高耐污漬性，并且其中抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成。


在附圖中圖IA和IB各自是常規(guī)的預(yù)制感光版的示意性橫截面圖，其中圖IA顯示在形成凸出部之前的狀態(tài)，并且圖IB顯示在形成凸出部之后的狀態(tài)；圖2是使用通過本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法獲得的平版印刷版載體的預(yù)制感光版的示意性橫截面圖3是顯示在本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法中用于電化學(xué)砂目化處理的交流電的示例性波形的圖；圖4是顯示適合使用交流電并且在本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法中進(jìn)行的電化學(xué)砂目化處理的徑向型槽(radial-type cell)的一個實(shí)例的示意圖；圖5是顯示在本發(fā)明的平版印刷版載體的制備過程中進(jìn)行的機(jī)械砂目化處理中使用的刷擦砂目化方法的概念的示意圖；和圖6是本發(fā)明的平版印刷版載體的一部分的示意性橫截面圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的平版印刷版載體是這樣的平版印刷版載體，其包括鋁板和設(shè)置在鋁板上的鋁的陽極氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在陽極氧化膜中從與面向鋁板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸。在本發(fā)明載體中，所述微孔的內(nèi)部被由勃姆石構(gòu)成的凸起至少部分地封孔，并且位于陽極氧化膜上的由勃姆石構(gòu)成的凸起的平均高度小于15nm。首先，說明適合獲得本發(fā)明的平版印刷版載體的制備平版印刷版載體的方法(以下也被稱為"本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法")。<平版印刷版載體制備方法>本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法是這樣的平版印刷版載體制備方法，其中將鋁板進(jìn)行陽極氧化處理，以獲得平版印刷版載體，并且該方法包括進(jìn)行陽極氧化處理的步驟，以及在陽極氧化處理步驟之后，使用水蒸汽進(jìn)行處理的步驟，其中使鋁板與溫度為130 至350°C的水蒸汽接觸。下面，首先描述在本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法中使用的鋁板，然后詳細(xì)描述制備方法的各個步驟。< 鋁板 >要使用的鋁板由尺寸穩(wěn)定的鋁基金屬組成，S卩，由鋁或鋁合金組成。從純鋁板、含有少量的一種或多種合金化元素的鋁合金板和其上層壓或蒸鍍鋁(鋁合金)的塑料膜或紙中進(jìn)行選擇。還選擇如JP 48-18327B中所述的鋁片材與聚對苯二甲酸乙二醇酯膜結(jié)合的復(fù)合片材。在下面的描述中，如上所述的由鋁或鋁合金組成的板統(tǒng)稱為"鋁板"。在鋁合金板中所含的一種或多種合金化元素示例為硅、鐵、錳、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鎳和鈦，并且合金化元素含量不高于10重量％。鋁板適宜地為純鋁板，但是它可以含有痕量的異種元素，因?yàn)榻^對純的鋁由于精煉技術(shù)而難以制備。這樣的鋁板可以由常規(guī)使用的已知材料，例如JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A3103 或 JIS A 3005 材料組成。鋁板另外含有碳化鋁(Al4C3)作為不可避免的雜質(zhì)。鋁板的碳化鋁濃度優(yōu)選不高于15ppm，更優(yōu)選不高于lOppm，因?yàn)樵谠摲秶鷥?nèi)的濃度進(jìn)一步抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成。盡管對碳化鋁濃度的下限不強(qiáng)加特別的限制，但是通常的是，碳化鋁濃度必須不低于lppm。碳化鋁濃度通過氣相色譜測定(遵循輕金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)LIS-A07-1971)。通常，鋁板為寬約400至2000mm并且厚約0. 1至0. 6mm的料片(web)形式，并且在連續(xù)輸送的同時進(jìn)行處理。厚度可以根據(jù)印刷機(jī)的尺寸，印刷版的尺寸和用戶的要求適當(dāng)?shù)剡x擇?！瓷澳炕幚砉ば颉当景l(fā)明的平版印刷版載體制備方法可以包括在上述鋁板表面上進(jìn)行砂目化處理如電化學(xué)砂目化處理的步驟。優(yōu)選在如后所述的陽極氧化處理之前進(jìn)行砂目化處理，但是， 如果鋁板已經(jīng)具有有利的表面輪廓，則可以省略砂目化處理。〈電化學(xué)砂目化處理〉電化學(xué)砂目化處理適合實(shí)現(xiàn)具有優(yōu)異的印刷性能的平版印刷版，因?yàn)橥ㄟ^該處理容易在鋁板的表面上設(shè)置精細(xì)的凹凸形狀(凹坑)。電化學(xué)砂目化處理是使用直流電或交流電在主要含有硝酸或鹽酸的水溶液中進(jìn)行的。對可用于本發(fā)明的電化學(xué)砂目化處理用水溶液進(jìn)行描述。主要含有硝酸的電化學(xué)砂目化處理用水溶液可以是用于使用直流電或交流電的常規(guī)電化學(xué)砂目化處理的硝酸基水溶液，即，含有硝酸根離子的硝酸化合物，如硝酸鋁、硝酸鈉和硝酸銨中的至少一種的1至100g/L硝酸水溶液；將含有氯離子的鹽酸化合物，如氯化鋁、氯化鈉和氯化銨等以在lg/L至飽和量的范圍內(nèi)的量添加。在硝酸基水溶液中，可以溶解在鋁合金中所含的金屬，如鐵、銅、錳、鎳、鈦和鎂，或娃。優(yōu)選的溶液可以通過如下制備將氯化鋁和/或硝酸鋁添加至0. 5至2重量％的硝酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的鋁離子濃度。溶液溫度優(yōu)選為10至90°C，更優(yōu)選為40至80°C。主要含有鹽酸的電化學(xué)砂目化處理用水溶液可以是用于使用直流電或交流電的常規(guī)電化學(xué)砂目化處理的鹽酸基水溶液，即，含有硝酸根離子的硝酸化合物如硝酸鋁、硝酸鈉和硝酸銨中的至少一種的1至100g/L鹽酸水溶液；將含有氯離子的鹽酸化合物，如氯化鋁、氯化鈉和氯化銨等以在lg/L至飽和量的范圍內(nèi)的量添加。在鹽酸基水溶液中，可以溶解在鋁合金中所含的金屬，如鐵、銅、錳、鎳、鈦和鎂，或娃。優(yōu)選的溶液可以通過如下制備將氯化鋁和/或硝酸鋁添加至0. 5至2重量％的鹽酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的鋁離子濃度。溶液溫度優(yōu)選為10至60°C，更優(yōu)選為20至50°C。還可以添加次氯酸。用于電化學(xué)砂目化處理的AC電源波形可以是正弦形、方形、梯形或三角形波形。 優(yōu)選的頻率落在0. 1至250Hz的范圍內(nèi)。圖3是顯示在本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法中用于電化學(xué)砂目化處理的交流電的示例性波形的圖。在圖3中，用于陽極反應(yīng)的時間表示為"ta"，用于陰極反應(yīng)的時間表示為"tc"，電流從0轉(zhuǎn)變至峰值的時間表示為"tp"，在陽極循環(huán)側(cè)的峰值的電流表示為"Ia"，而在陰極循環(huán)側(cè)的峰值的電流表示為"Ic"。在所示的梯形波中，電流從0轉(zhuǎn)變至峰值的時間tp優(yōu)選為1至10毫秒。如果時間tp短于1毫秒，則在供電電路的阻抗下電流波形上升時需要大的電源電壓，因此電源設(shè)備的成本上升。如果時間tp長于10毫秒， 則由于對電解液中的痕量成分的易感性增加而難以實(shí)現(xiàn)均勻的砂目化。用于電化學(xué)砂目化的交流電的一個循環(huán)優(yōu)選被限定使得在鋁板發(fā)生的兩個反應(yīng)的時間，即用于陰極反應(yīng)的時間tc與用于陽極反應(yīng)的時間ta之間的比率tc/ta可以是1至20，在鋁板的陰極反應(yīng)時間的電量Qc與陽極反應(yīng)時間的電量Qa的比率Qc/Qa可以是0. 3至20，并且用于陽極反應(yīng)的時間ta可以是5至1000毫秒。更優(yōu)選2. 5至15的比率tc/ta以及2. 5至15的比率Qc/ Qa。在其陽極和陰極循環(huán)側(cè)的梯形波電流的峰值Ia和Ic中的任何一個，電流密度優(yōu)選為 10至200A/dm2。比率Ic/Ia優(yōu)選為0.3至20。在電化學(xué)砂目化結(jié)束時，用于在鋁板上的陽極反應(yīng)的總電量優(yōu)選為25至1000C/dm2。對于使用交流電進(jìn)行的電化學(xué)砂目化，可以使用在表面處理中使用的垂直、平坦或徑向型的已知電解槽，其中如JP 5-195300A中所述的這樣的徑向型槽是特別優(yōu)選的。如圖4中所示的設(shè)備可以用于采用交流電的電化學(xué)砂目化。圖4是顯示適合使用交流電并且在本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法中進(jìn)行的電化學(xué)砂目化處理的徑向型槽的一個實(shí)例的示意圖。圖4顯示了主電解槽50，AC電源51，徑向鼓輥52，主電極53a和53b，溶液進(jìn)料入口 54，電解液55，狹縫56，溶液通道57，輔助陽極58，輔助陽極槽60和鋁板W。如果使用2 個以上的電解槽，則用于電解的條件可以隨槽或可以不隨槽而變化。將鋁板W卷繞在浸漬于主電解槽50的電解液中的徑向鼓輥52上，并且在輸送的過程中借助于與AC電源51連接的主電極53a和5 進(jìn)行電解處理。將電解液55從溶液供給入口 M經(jīng)由狹縫56供給至徑向鼓輥52與主電極53a和5 之間的溶液通道57中。 然后將如在主電解槽50中處理的鋁板W在輔助陽極槽60中進(jìn)行另一電解處理。在輔助陽極槽60中，輔助陽極58設(shè)置成與鋁板W相對，并且這樣供給電解液55以使其流過輔助陽極58和鋁板W之間的空間。電化學(xué)砂目化處理也可以通過如下進(jìn)行使直流電通過鋁板和與板相對的電極之間，以進(jìn)行電化學(xué)砂目化。在砂目化處理中，電化學(xué)砂目化處理可以作為單獨(dú)的處理或與機(jī)械砂目化處理和 /或化學(xué)砂目化處理組合而進(jìn)行。如果與機(jī)械砂目化處理組合，則電化學(xué)砂目化處理優(yōu)選在機(jī)械砂目化處理之后進(jìn)行?！礄C(jī)械砂目化處理〉通常進(jìn)行機(jī)械砂目化處理以對鋁板的表面賦予0. 35至1. 0 μ m的表面粗糙度Ra。機(jī)械砂目化處理在條件方面不受特別限制，而可以通過如JP 50-40047B中所述的下列方法進(jìn)行。也可以通過使用浮石懸浮液的刷擦砂目化處理或經(jīng)由轉(zhuǎn)寫 (transcription)的砂目化處理而進(jìn)行機(jī)械砂目化。優(yōu)選地，機(jī)械砂目化處理使用毛直徑為0. 2至1. 61mm的旋轉(zhuǎn)尼龍輥刷和供給至鋁板表面上的磨料漿液進(jìn)行?？墒褂萌魏我阎哪チ希枪枭?，石英，氫氧化鋁或它們的混合物是優(yōu)選的。漿液的比重優(yōu)選為1.05至1.3。不用說，機(jī)械砂目化也可以如下實(shí)現(xiàn)使用線刷噴射磨料漿液，或轉(zhuǎn)寫設(shè)置在用于輥壓到鋁板上的輥的表面上的凹凸形狀?！椿瘜W(xué)砂目化處理〉
化學(xué)砂目化處理也不受特別限制，而可以常規(guī)地進(jìn)行。優(yōu)選在機(jī)械砂目化處理之后進(jìn)行如下所述的化學(xué)蝕刻處理。在機(jī)械砂目化處理之后進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理以平滑化在鋁板表面設(shè)置的凹凸形狀的邊緣，使得可以在印刷中防止墨水在邊緣被俘獲，因此可以提高平版印刷版的耐污漬性，并且除去了殘留在板表面的不期望物質(zhì)如磨料粒子。已知的化學(xué)蝕刻處理包括使用酸或堿的處理，其中使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理 (以下也被稱為"堿蝕刻處理")在蝕刻效率方面是特別優(yōu)異的。用于上述堿溶液的堿試劑不受特別限制，并且優(yōu)選實(shí)例包括苛性鈉，苛性鉀，硅酸鈉，碳酸鈉，鋁酸鈉和葡糖酸鈉。堿試劑可以含有鋁離子。堿溶液的濃度優(yōu)選不低于0. 01重量％，更優(yōu)選不低于3 重量％，而優(yōu)選不高于30重量％，更優(yōu)選不高于25重量％。堿溶液的溫度優(yōu)選為室溫以上，更優(yōu)選為30°C以上，而優(yōu)選不高于80°C，更優(yōu)選不高于75°C。蝕刻量優(yōu)選為不低于0. lg/m2，更優(yōu)選為不低于lg/m2，而優(yōu)選不高于20g/m2，更優(yōu)選為不高于10g/m2。處理時間優(yōu)選為2秒至5分鐘，這取決于蝕刻量，其中出于提高生產(chǎn)率的觀點(diǎn)，2至 10秒的處理時間是更優(yōu)選的。如果在機(jī)械砂目化處理之后進(jìn)行堿蝕刻處理，則優(yōu)選用低溫酸溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理(以下也被稱為"除污處理")以除去由堿蝕刻處理產(chǎn)生的產(chǎn)物。用于上述酸溶液的酸不受特別限制，但是示例為硫酸，硝酸和鹽酸。酸溶液的濃度優(yōu)選為1至50重量％。酸溶液的溫度優(yōu)選為20至80°C。如果酸溶液的濃度和溫度分別落入上述范圍內(nèi)，則其中使用本發(fā)明的平版印刷版載體的平版印刷版將對點(diǎn)狀污漬具有大大提高的耐受性。在如上所述的砂目化處理中，電化學(xué)砂目化處理在機(jī)械砂目化處理和需要時進(jìn)行的化學(xué)蝕刻處理之后進(jìn)行。即使電化學(xué)砂目化處理在沒有在前的機(jī)械砂目化處理的情況下進(jìn)行，使用含有苛性鈉等的堿溶液的化學(xué)蝕刻處理也可以在電化學(xué)砂目化處理之前進(jìn)行。 在這樣的情況下，可以除去在鋁板表面附近存在的雜質(zhì)等。優(yōu)選在電化學(xué)砂目化處理之后進(jìn)行如下所述的化學(xué)蝕刻處理。在進(jìn)行電化學(xué)砂目化處理時，污跡或金屬間化合物存在于鋁板表面上。在電化學(xué)砂目化處理之后的化學(xué)蝕刻處理中，對于污跡的有效去除特別有效的是，首先進(jìn)行使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理(堿蝕刻處理)。使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理優(yōu)選在以下條件下進(jìn)行處理溫度為20至80°C，且處理時間為1至60秒。堿溶液優(yōu)選地含有鋁離子。在電化學(xué)砂目化處理之后進(jìn)行使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理后，優(yōu)選進(jìn)行使用低溫酸溶液的化學(xué)蝕刻處理(除污處理)，以除去由使用堿溶液的化學(xué)砂目化處理產(chǎn)生的產(chǎn)物。即使在電化學(xué)砂目化處理之后沒有堿蝕刻處理之后，對于污跡的有效去除也優(yōu)選的是進(jìn)行除污處理。對如上所述的化學(xué)蝕刻處理的方面沒有特別限制，而示例性方法包括浸漬，噴淋和涂覆。<陽極氧化處理工序>
在陽極氧化處理中，通過使用通過板的直流電或交流電對鋁板進(jìn)行陽極氧化，在鋁板表面(包括經(jīng)過上述砂目化處理的鋁板)上形成氧化鋁膜形式的陽極氧化膜，該氧化鋁膜具有在深度方向(膜厚度方向)上延伸的微孔。適合形成陽極氧化膜的各種電解質(zhì)可用于陽極氧化處理。通常，使用硫酸，鹽酸， 草酸，鉻酸或這些酸的混合物。根據(jù)適于使用的電解質(zhì)來選擇電解質(zhì)濃度。用于陽極氧化處理的條件隨使用的電解質(zhì)而變化。典型地優(yōu)選的條件是1至80 重量％的電解液濃度；5至70°C的溶液溫度；5至60A/dm2的電流密度；1至100V的電壓；以及10秒至5分鐘的電解時間。所形成的陽極氧化膜的量優(yōu)選為1. 0至5. Og/m2，更優(yōu)選為1. 5至4. Og/m2。在該范圍內(nèi)的量可以實(shí)現(xiàn)良好的印刷壽命(press life)和平版印刷版的非圖像區(qū)域的高耐擦劃性。<水蒸汽處理工序>在上述陽極氧化處理之后的水蒸汽處理中，使用水蒸汽處理如上所述的鋁板(包括經(jīng)過上述砂目化處理和/或上述陽極氧化處理的鋁板)，即，使鋁板與水蒸汽接觸。用于水蒸汽處理的水蒸汽的溫度為130至350°C。存在于鋁板表面附近的碳化鋁(Al4C3)通過與溫度在上述范圍內(nèi)的水蒸汽(H2O) 接觸而變化為氫氧化鋁(Al (OH) 3)，并且這樣生長(體積增大)。因此，據(jù)推測，如圖2中所示，沿著已經(jīng)生長的氫氧化鋁104形成后述的感光層 105。因?yàn)楫?dāng)形成感光層105時氫氧化鋁104已經(jīng)完成生長(體積增大)，并且即使供給水分時也不再生長，因此這樣形成的感光層105將不會隨時間被推動。這樣抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成。如前所述，在陽極氧化處理之后進(jìn)行的使用100°C或120°C的水蒸汽的處理在陽極氧化膜上產(chǎn)生勃姆石凸起。相反，如上的水蒸汽處理抑制了勃姆石凸起的產(chǎn)生，導(dǎo)致耐污漬性的提高。盡管如果經(jīng)過使用溫度超過350°C的水蒸汽的處理，則由于退火效應(yīng)而降低如前所述的鋁板的強(qiáng)度，但是經(jīng)過上述使用溫度不高于350°C的水蒸汽的水蒸汽處理的鋁板保持高的強(qiáng)度。進(jìn)行水蒸汽處理的壓力優(yōu)選為0. 3至latm，更優(yōu)選為0. 5至latm。隨著用于水蒸汽處理的處理時間越長，可以更有效地抑制導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成，而在陽極氧化膜上產(chǎn)生勃姆石凸起可以更有效地被抑制，并且隨著處理時間越短， 所產(chǎn)生的凸起的平均高度可以越小。鑒于這些趨勢，處理時間優(yōu)選為1至60秒。用于水蒸汽處理的水蒸汽的溫度優(yōu)選為150至350°C，更優(yōu)選180至350°C，還更優(yōu)選200至350°C，因?yàn)樵谶@些溫度實(shí)現(xiàn)了更適宜的效果。使鋁板與水蒸汽接觸的方法不受特別限制?？梢允逛X板通過充滿由沸水產(chǎn)生的水蒸汽的箱子，或可以通過蒸汽噴嘴將水蒸汽直接噴射到鋁板上?！从H水化處理工序〉本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法可以在進(jìn)行如上所述的陽極氧化處理和水蒸汽處理的步驟之后包括進(jìn)行親水化處理的步驟。在親水化處理中，將經(jīng)過上述陽極氧化處理和水蒸汽處理的鋁板進(jìn)一步進(jìn)行親水化。
例如，如JP 2005-254638A的第
至
段中公開的已知方法可用于親水化處理，而優(yōu)選通過以下方法進(jìn)行親水化浸漬在堿金屬硅酸鹽如硅酸鈉和硅酸鉀的水溶液中；涂覆親水性乙烯基聚合物或親水性化合物以形成親水性下涂層；等。使用堿金屬硅酸鹽如硅酸鈉和硅酸鉀的水溶液的親水化處理可以在通過如美國專利2，714，066和3，181，461中所述的下列方法和程序進(jìn)行。使用親水性下涂層的親水化處理可以通過如JP 59-101651 A和JP60-149491 A 中所述的下列方法和程序進(jìn)行。〈預(yù)涂覆處理工序〉本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法可以在陽極氧化處理和水蒸汽處理之間包括進(jìn)行水預(yù)涂覆處理的步驟。在水預(yù)涂覆處理(以下稱為"預(yù)涂覆處理")中，在水蒸汽處理之前將水涂覆至陽極氧化膜，所述陽極氧化膜形成于經(jīng)過陽極氧化處理的鋁板的表面上。如下所述，在陽極氧化膜表面上的冷凝水被認(rèn)為通過用于水蒸汽處理的130至 350°C的水蒸汽(所謂過熱蒸汽)的干燥效應(yīng)而移除。處于更高溫度的過熱蒸汽具有更大的干燥效應(yīng)，即，使過熱蒸汽太熱將導(dǎo)致不僅在陽極氧化膜表面上的水，而且在陽極氧化膜微孔中的水被移除，這可以抑制在微孔中的勃姆石凸起的產(chǎn)生。在這樣的情況下，不太有效地抑制導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成(抑制凸出部形成的機(jī)制將在下面描述)。在這樣的情形下，進(jìn)行預(yù)涂覆處理使得可以在水蒸汽處理之前加入足夠量的水以獲得更適宜的水蒸汽處理效果。當(dāng)使用更高溫度的水蒸汽進(jìn)行水蒸汽處理時，預(yù)涂覆處理是更有效的?？紤]到這一點(diǎn)，用于水蒸汽處理的水蒸汽的溫度優(yōu)選為170至350°C。盡管水蒸汽處理在進(jìn)行更久的時間時實(shí)現(xiàn)更適宜的效果，但是預(yù)涂覆處理也可以使得獲得用于水蒸汽處理的處理時間減少的類似效果。如果進(jìn)行預(yù)涂覆處理，則優(yōu)選在將水涂覆到其上之前將經(jīng)過陽極氧化處理的鋁板干燥。用于干燥的方法沒有特別限制。所涂覆的水的量為例如0. 5至lOcc/m2，其中1至6cc/m2的量是優(yōu)選的，因?yàn)閷?shí)現(xiàn)
了更適宜的效果。所涂覆的水優(yōu)選為純水，并且其溫度沒有特別限制。水涂覆方法可以是通常的濕法涂覆方法，具體示例為浸涂，輥涂，棒涂，刮涂，氣刀涂覆，縫模式涂覆，噴涂和滑涂，其中出于涂覆一致性的觀點(diǎn)，接觸型輥涂是特別優(yōu)選的。如果使用輥涂，則所用的輥的表面用材料優(yōu)選為橡膠，以免陽極氧化膜由于摩擦而受損，其中可用橡膠的實(shí)例包括乙烯-丙烯-二烯(EPDM)橡膠，硅橡膠，聚氨酯橡膠，聚乙烯醇(PVA)和 FORTEM (由 MEIJI RUBBER &CHEMICAL CO.，LTD.生產(chǎn))。在特別是使用其表面由橡膠制成的輥的輥涂中，所涂覆的水的量可以通過改變接觸輥的直徑，橡膠硬度，接觸寬度，接觸壓力，橡膠層厚度等而控制。用于輥涂的輥的表面可以設(shè)置有與鋁板輸送方向平行的凹槽、鋁板輸送方向的對角線上的凹槽、格狀凹槽、蜂窩式凹槽等(如在使用通常的輥涂的情況下)，以將水以跨過鋁板寬度的量更均勻地涂覆。〈平版印刷版載體〉
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本發(fā)明的平版印刷版載體是通過本發(fā)明的平版印刷版載體制備方法獲得的平版印刷版載體。下面基于圖6詳述本發(fā)明的平版印刷版載體。圖6是本發(fā)明的平版印刷版載體的一部分的示意性橫截面圖。如圖6中所示，在本發(fā)明的平版印刷版載體中，采用勃姆石凸起107對微孔106的內(nèi)部至少部分地進(jìn)行封孔。更具體而言通過氧化鋁和水之間的水合反應(yīng)由微孔106的內(nèi)壁產(chǎn)生勃姆石凸起107，從而在微孔106的孔徑方向(在圖6中以"d"所示)上生長。在圖6中，如在孔徑(d)的方向上測量的勃姆石凸起107的高度以"h"表示。在微孔106被勃姆石凸起107封孔的情況下，水分幾乎不穿過陽極氧化膜102。換言之，假設(shè)存在于鋁101表面附近的碳化鋁103(參見圖1A、1B和2)未生長為氫氧化鋁104(參見同樣的附圖)并且保持完整，后來供給的水分幾乎不到達(dá)碳化鋁103。結(jié)果，防止碳化鋁103生長為氫氧化鋁104，從而隨時間推動感光層105，這進(jìn)一步抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸起的形成。在勃姆石凸起107的平均高度(h)與微孔106的平均孔徑(d)之間的比率的較大值(h/d)表明微孔106更顯著地被勃姆石凸起107封孔，并且更有效地抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成?？紤]到上述情況，比率(h/d)優(yōu)選為不小于0. 2，更優(yōu)選不小于0. 6，還更優(yōu)選不小于 0. 8。在這方面，“平均孔徑〃是指單個微孔106的孔徑(d)的平均值，并且〃平均高度"是指多個用來封孔被討論的微孔106的勃姆石凸起107的高度(h)的平均值。微孔106的平均孔徑(d)和勃姆石凸起107的平均高度(h)可以通過如下測得在掃描電子顯微鏡(SEM)以250，OOOx的放大倍率觀察以任何方式(切割，使用夾具的彎曲) 制備的橫截面，并且分析所得到的橫截面圖像。同樣在陽極氧化膜102上，引起污漬的勃姆石凸起(未顯示)可以通過氧化鋁和水之間的水合反應(yīng)產(chǎn)生，并且在高度方向上(在圖6的繪制平面中向上)生長。然而，在本發(fā)明的平版印刷版載體中，任選地在陽極氧化膜上產(chǎn)生的勃姆石凸起具有低于15nm的更小平均高度，此外，其本身的生成的量較小。換言之，由于污漬的原因勃姆石凸起在陽極氧化膜102上的產(chǎn)生在本發(fā)明中受到抑制，因此獲得了表現(xiàn)出高耐污漬性的平版印刷版。為了進(jìn)一步提高耐污漬性，優(yōu)選在陽極氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度不高于6nm，其中最優(yōu)選陽極氧化膜102上基本上沒有勃姆石凸起。在陽極氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度可以使用SEM以與勃姆石凸起107 的平均高度(h)相同的方式確定。本發(fā)明的平版印刷版載體的陽極氧化膜102上的勃姆石凸起具有小于15nm的更小的平均高度的原因可以解釋如下。在如上所述開始水蒸汽處理時，S卩，一旦鋁板進(jìn)入進(jìn)行水蒸汽處理的區(qū)域(例如箱子)，就發(fā)生冷凝，原因在于鋁板和水蒸汽之間的溫差。在陽極氧化膜102的表面上的冷凝水被認(rèn)為通過用于水蒸汽處理的溫度不低于130°C的水蒸汽(所謂的過熱蒸汽)的干燥效應(yīng)而去除，因此抑制了在陽極氧化膜102上的勃姆石凸起的產(chǎn)生。
據(jù)認(rèn)為，從陽極氧化膜102的表面而不是從微孔106內(nèi)部去除了冷凝水，這表示如上所述在微孔106中產(chǎn)生了勃姆石凸起107的原因?！搭A(yù)制感光版〉本發(fā)明的平版印刷版載體可以通過如下制備成預(yù)制感光版在載體上設(shè)置圖像記錄層如感光層和熱敏層。對圖像記錄層不強(qiáng)加特別限制，并且實(shí)例包括常規(guī)的陽圖制版型、 常規(guī)的陰圖制版型、感光聚合物型、熱陽圖制版型、熱陰圖制版型和可機(jī)上顯影型，非顯影型的那些，其在JP 2003-1956A的第
至
段中有描述。本發(fā)明的預(yù)制感光版優(yōu)選地具有設(shè)置在本發(fā)明的平版印刷版載體上的感光層，其中所述感光層含有(A)增感染料，(B)聚合引發(fā)劑，(C)可聚合化合物，和(D)粘合劑聚合物，更優(yōu)選具有設(shè)置在感光層上的保護(hù)層。下面，詳細(xì)描述本發(fā)明的預(yù)制感光版。〈感光層〉(A)增感染料本發(fā)明的預(yù)制感光版的感光層含有響應(yīng)于來自用于曝光的光源的光的波長的增感染料。增感染料可以在350至450nm的范圍內(nèi)的波長區(qū)中具有吸收最大值，在此情況下， 示例為部花青染料，苯并吡喃類，香豆素類，芳族酮類，以及蒽類。如JP 2008-465^A的第
至W056]段等中所述的增感染料被提及作為可用增感染料的具體實(shí)例。適當(dāng)?shù)匾?guī)定關(guān)于增感染料的使用的細(xì)節(jié)，如要使用的染料的結(jié)構(gòu)，使用方式，即， 是使用單一染料還是使用兩種以上染料的組合，以及染料的添加量。在具有較小厚度的平版印刷版的情況下，優(yōu)選規(guī)定添加的增感染料的量使得感光層的吸光度可以是0. 1至1. 5，優(yōu)選0. 25至1。通常，添加的增感染料占感光層中的全部固體的優(yōu)選0. 05至30重量％，更優(yōu)選0. 1至20重量％，并且最優(yōu)選0.2至10重量％。(B)聚合引發(fā)劑可用的聚合引發(fā)劑包括三鹵代甲基化合物，羰基化合物，有機(jī)過氧化物，偶氮化合物，疊氮化合物，金屬茂化合物，六芳基聯(lián)咪唑化合物，有機(jī)硼化合物，二砜化合物，肟酯化合物和鐵鹽化合物。其中，優(yōu)選使用選自六芳基聯(lián)咪唑化合物，輪鹽，三鹵代甲基化合物和金屬茂化合物中的至少一種，其中特別優(yōu)選六芳基聯(lián)咪唑化合物。如JP 2008-46528 A的第W060]至W067]段等中所述的聚合引發(fā)劑被提及作為可用聚合引發(fā)劑的具體實(shí)例。適用于感光層的聚合引發(fā)劑可以任選地為單一引發(fā)劑，或兩種以上引發(fā)劑的組
I=I O在感光層中使用的聚合引發(fā)劑占感光層中的全部固體的優(yōu)選0. 01至20重量％， 更優(yōu)選0. 1至15重量％，還更優(yōu)選1. 0至10重量％。(C)可聚合化合物在感光層中所含的可聚合化合物為具有至少一個烯鍵式不飽和雙鍵的可加聚化合物，并且選自具有至少一個，優(yōu)選兩個末端烯鍵式不飽和鍵的化合物。這樣的化合物在本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中是廣泛已知的，并且可用而沒有任何特別的限制。它們具有以下化學(xué)形式，包括單體，預(yù)聚物，即，二聚物，三聚物或低聚物，或其混合物和其共聚物的形式。示例性單體包括不飽和羧酸(例如，丙烯酸，甲基丙烯酸，衣康酸，巴豆酸，異巴豆酸，馬來酸)和其酯和酰胺，其中適當(dāng)?shù)厥褂貌伙柡汪人岷椭宥嘣蓟衔锏孽ィ约安伙柡汪人岷椭宥鄡r胺化合物的酰胺。還適當(dāng)?shù)厥褂镁哂辛u基或親核取代基例如氨基和巰基的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能或多官能異氰酸酯或環(huán)氧化合物的加成反應(yīng)產(chǎn)物，以及上述酯或酰胺與單官能或多官能羧酸的脫水縮合反應(yīng)產(chǎn)物。此外，適合的是具有親電取代基例如異氰酸酯基和環(huán)氧基的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能或多官能醇，胺或硫醇的加成反應(yīng)產(chǎn)物，以及具有可消去取代基，例如，鹵素原子和甲苯磺酰氧基的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能或多官能醇，胺或硫醇的取代反應(yīng)產(chǎn)物。還可以使用的是其各自的上述不飽和羧酸被不飽和膦酸，苯乙烯，乙烯基醚等代替的化合物。如JP 2008-46528 A的第W070]至W078]段等中所述的可聚合化合物被提及作為可用的可聚合化合物的具體實(shí)例。根據(jù)適合用于最終預(yù)制感光版的性能設(shè)計(jì)，規(guī)定關(guān)于可聚合化合物的使用的細(xì)節(jié)，如要使用的化合物的結(jié)構(gòu)，使用方式，即，是使用單一化合物還是使用化合物的組合，以及化合物的添加量。在感光層中使用的可聚合化合物占感光層中的全部固體的優(yōu)選5至80重量％，更優(yōu)選25至75重量％。可聚合化合物可以任選地為單一化合物，或兩種以上化合物的組合。(D)粘合劑聚合物使用可溶于或可溶脹于堿性水中的有機(jī)高聚物作為粘合劑聚合物，因?yàn)樽鳛槌赡┌诟泄鈱又械恼澈蟿┚酆衔飸?yīng)當(dāng)同時溶解于堿性顯影劑溶液中。作為可溶于或可溶脹于堿性水中的聚合物的粘合劑聚合物在使用堿性顯影劑顯影的過程中被除去，并且根據(jù)需要通過刷擦加壓。要使用的粘合劑聚合物是具有由下式(1)至C3)表示的結(jié)構(gòu)單元的粘合劑聚合物。[化學(xué)式1]
權(quán)利要求
1.一種平版印刷版載體，所述平版印刷版載體包括鋁板和設(shè)置在所述鋁板上的鋁的陽極氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述陽極氧化膜中從與面向所述鋁板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中所述微孔的內(nèi)部被由勃姆石構(gòu)成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述陽極氧化膜上的由勃姆石構(gòu)成的凸起的平均高度小于15nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版載體，其中所述微孔的平均孔徑(d)和用于將所述微孔進(jìn)行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度與所述平均孔徑的比率(h/ d)不小于0.2，所述用于將所述微孔進(jìn)行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔徑方向上測量的。
3.一種預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版載體和設(shè)置在所述載體上的感光層，其中所述感光層含有㈧增感染料、⑶聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物和(D)粘合劑聚合物。
4.一種預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括根據(jù)權(quán)利要求2所述的平版印刷版載體和設(shè)置在所述載體上的感光層，其中所述感光層含有㈧增感染料、⑶聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物和(D)粘合劑聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括保護(hù)層，所述保護(hù)層設(shè)置在所述感光層上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版包括保護(hù)層，所述保護(hù)層設(shè)置在所述感光層上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種平版印刷版載體和預(yù)制感光版，所述預(yù)制感光版設(shè)置有平版印刷版載體，所述平版印刷版載體包括鋁板和設(shè)置在所述鋁板上的鋁的陽極氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述陽極氧化膜中從與面向所述鋁板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，該預(yù)制感光版產(chǎn)生表現(xiàn)出高耐污漬性并且其中抑制了導(dǎo)致圖像遺失的凸出部的形成的平版印刷版。所述微孔的內(nèi)部被由勃姆石構(gòu)成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述陽極氧化膜上的由勃姆石構(gòu)成的凸起的平均高度小于15nm。
文檔編號G03F7/00GK102402120SQ20111020511
公開日2012年4月4日 申請日期2011年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月23日
發(fā)明者上杉彰男, 岡野圭央, 澤田宏和, 難波優(yōu)介, 黑川真也 申請人:富士膠片株式會社