專利名稱：笛卡爾機(jī)械臂群集工具架構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實(shí)施例大體來說是有關(guān)于一整合式制程系統(tǒng)，其含有能夠同步處理多個(gè)基材的多個(gè)制程站及機(jī)械臂。
背景技術(shù)：
形成電子元件的制程通常是在一受控制的制程環(huán)境下在擁有連續(xù)處理基材(例如半導(dǎo)體晶片)的能力的多腔室制程系統(tǒng)(例如，一群集工具)內(nèi)完成。典型用來沉積(即涂布)和顯影光阻材料的工具一般稱為自動化光阻涂布及顯影工具(track lithography tool)，或用來執(zhí)行半導(dǎo)體清潔制程，一般稱為濕式/清潔工具，典型的群集工具包含容納至少一個(gè)基材傳送機(jī)械臂的主架構(gòu)，該機(jī)械臂在一晶片盒/晶片匣安裝裝置和與該主架構(gòu)連接的多個(gè)制程腔室間傳送基材。群集工具通常是經(jīng)使用而使基材可在一受控制的制程環(huán)境下以可再現(xiàn)方式處理。一個(gè)受到控制的環(huán)境具有許多好處，包含在傳送期間及在完成各種基材制程步驟期間最小化基材表面的污染。在一受控制環(huán)境下處理因而可減少缺陷的產(chǎn)生并改善元件合格率。一基材制造制程的有效性通常是由兩個(gè)相關(guān)且重要的因素來權(quán)衡，即元件合格率和持有成本(cost of ownership，CoO)。這些因素是重要的，因?yàn)槠渲苯佑绊懸浑娮釉纳a(chǎn)成本，從而影響到一元件制造商的市場競爭力。CoO，其受多種因素影響，大幅度地受到系統(tǒng)和腔室產(chǎn)能影響，簡言的即每小時(shí)利用預(yù)期制程程序處理的基材數(shù)量。制程程序一般定義為在該群集工具中的一或多個(gè)制程腔室內(nèi)完成的元件制造步驟或制程配方步驟的程序。制程程序一般可含有若干基材(或晶片)電子元件制造制程步驟。在降低CoO的努力下，電子元件制造商花費(fèi)許多時(shí)間嘗試最佳化制程程序和腔室制程時(shí)間，以在群集工具結(jié)構(gòu)及腔室制程時(shí)間的限制下達(dá)到可能的最大基材產(chǎn)能。在自動化光阻涂布及顯影式群集工具中，因?yàn)榍皇抑瞥虝r(shí)間較短(例如，約1分鐘即可完成該制程)，但需要完成一典型制程程序的制程步驟數(shù)量很多，所以用來完成該制程程序的大部分時(shí)間是耗費(fèi)在在各個(gè)制程腔室間傳送所述基材。一典型的自動化光阻涂布及顯影制程程序一般包含如下步驟在一基材表面上沉積一或多層均勻的光阻(或阻抗)層，然后將該基材傳送出該群集工具至一分離的步進(jìn)機(jī)或掃描工具，以藉由將該光阻層暴露在一光阻調(diào)整電磁輻射下來圖案化該基材表面，接著顯影該圖案化的光阻層。若群集工具內(nèi)的基材產(chǎn)能不受機(jī)械臂限制的話，則最長的制程配方步驟會限制該制程程序的產(chǎn)能。這通常不會發(fā)生在自動化光阻涂布及顯影制程程序中，因?yàn)槠渚哂卸痰闹瞥虝r(shí)間和大量的制程步驟。習(xí)知制造制程的典型系統(tǒng)產(chǎn)能，例如執(zhí)行一典型制程的自動化光阻涂布及顯影工具，一般是每小時(shí)100-120片基材間。CoO計(jì)算中的其他重要因素是系統(tǒng)可靠度和系統(tǒng)工作時(shí)間。這些因素對于群集工具的收益性及/或有效性是很重要的，因?yàn)橄到y(tǒng)無法處理基材的時(shí)間越長，使用者損失的金錢就越多，肇因于在群集工具中處理基材的機(jī)會的喪失。因此，群集工具使用者和制造商花費(fèi)許多時(shí)間試圖研發(fā)擁有增加的工作時(shí)間的可靠的制程、可靠的硬件和可靠的系統(tǒng)。產(chǎn)業(yè)對于縮小半導(dǎo)體元件尺寸以改善元件處理速度并減少元件生熱的努力反而降低了產(chǎn)業(yè)對于制程變異的容忍度。為了最小化制程變異，自動化光阻涂布及顯影制程程序的一重要因素是確保行經(jīng)群集工具的每一個(gè)基材皆擁有相同的「晶片史(wafer history) J0基材的晶片史通常是由制程工程師監(jiān)控及控制，以確保后來可能會影響元件效能的所有元件制造制程變量皆受到控制，而使相同批次內(nèi)的所有基材總是以相同方式處理。為確保每一個(gè)基材皆擁有相同的「晶片史」，需要使每一個(gè)基材經(jīng)受相同的可重復(fù)的基材制程步驟(例如一致的涂布制程、一致的硬拷制程、一致的冷卻制程等等)，并且每一個(gè)基材在各個(gè)制程步驟間的時(shí)間是相同的。微影式元件制造制程對于制程配方變量和配方步驟間的時(shí)間的變異可以是非敏感的，其直接影響制程變異，并且最終影響到元件效能。因此，需要一種能夠執(zhí)行最小化制程變異和制程步驟間的時(shí)間變異的制程程序的群集工具及支持設(shè)備。此外，也需要能夠執(zhí)行給予均勻且可重復(fù)的制程結(jié)果，同時(shí)達(dá)到預(yù)期基材產(chǎn)能的元件制造制程的群集工具及支持設(shè)備。因此，存在有對于一種系統(tǒng)、一種方法和一種設(shè)備的需要，其可處理一基材而使其符合所要求的元件效能目標(biāo)并增加系統(tǒng)產(chǎn)能，因此降低制程程序CoO。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明大體來說提供一種處理一基材的群集工具，包含一第一制程架，含有一第一組制程腔室，其具有垂直堆迭的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，以及一第二組制程腔室，其具有垂直堆迭的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，其中該第一及第二組的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室具有沿著一第一方向排列的第一側(cè)，一第一機(jī)械臂組件，其適于傳送一基材至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一第一機(jī)械臂，其具有擁有一基材容納表面的機(jī)械臂葉片，其中該第一機(jī)械臂是適于將一基材設(shè)置在通常容納在一第一平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，其中該第一平面與該第一方向以及和該第一方向垂直的第二方向平行，一第一移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一平面垂直的第三方向上的促動器組件，以及一第二移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的促動器組件，以及一傳送區(qū)域，其中容納該第一機(jī)械臂，其中當(dāng)該基材被設(shè)置在該機(jī)械臂葉片的基材容納表面上時(shí)，該傳送區(qū)域的寬度與該第二方向平行且比該第二方向的基材尺寸大約5%至約50%。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種處理一基材的群集工具，包含一第一制程架，其含有具有垂直堆迭的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室的兩或多個(gè)組，其中該兩或多個(gè)組的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室具有沿著一第一方向排列的第一側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，一第二制程架，其含有具有垂直堆迭的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室的兩或多個(gè)組，其中該兩或多個(gè)組的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室具有沿著一第一方向排列的第一側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，一第一機(jī)械臂組件，設(shè)置在該第一制程架和該第二制程架間，其是適于將一基材從該第一側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的馬達(dá)，一第二機(jī)械臂組件，設(shè)置在該第一制程架和該第二制程架間，其是適于將一基材從該第一側(cè)傳送至該第二制程架中的基材制程腔室，其中該第二機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一第三機(jī)械臂組件，設(shè)置在該第一制程架和該第二制程架間，其是適于將一基材從該第一側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室或從該第一側(cè)傳送至該第二制程架，其中該第三機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的馬達(dá)。本發(fā)明進(jìn)一步提供一種處理一基材的群集工具，包含一第一制程架，其含有具有兩個(gè)或多個(gè)垂直堆迭的基材制程腔室的兩或多個(gè)組，其中該兩或多個(gè)組的兩個(gè)或多個(gè)垂直堆迭的基材制程腔室具有沿著一第一方向排列的第一側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，以及沿著一第二方向排列的第二側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，一第一機(jī)械臂組件，其是適于將一基材從該第一側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一第二機(jī)械臂組件，其是適于將一基材從該第二側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第二機(jī)械臂組件包含一第二機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該第二機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該第二機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向平行的方向上的馬達(dá)。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種處理一基材的群集工具，包含設(shè)置在一群集工具內(nèi)的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，一第一機(jī)械臂組件，其適于將一基材傳送至該兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在一第一方向上，其中該第一機(jī)械臂包含一機(jī)械臂葉片，具有一第一端及一基材容納表面，其中該基材容納表面適于容納并傳送一基材，一第一連接構(gòu)件，其具有一第一樞軸點(diǎn)及一第二樞軸點(diǎn)，一馬達(dá)，在該第二樞軸點(diǎn)處與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，一第一齒輪(gear)，與該機(jī)械臂葉片的第一端連接并在該第一樞軸點(diǎn)處與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，以及一第二齒輪， 與該第一齒輪旋轉(zhuǎn)連接并與該第一連接構(gòu)件的第二樞軸點(diǎn)同心對齊，其中該第二齒輪對該第一齒輪的齒輪比介于約3 1至約4 3間，一第一移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向垂直的第二方向上，以及一第二移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向垂直的第三方向上的馬達(dá)。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種處理一基材的群集工具，包含一第一制程架，其含有具有兩個(gè)或多個(gè)垂直堆迭的基材制程腔室的兩或多個(gè)組，其中該兩或多個(gè)組的兩個(gè)或多個(gè)垂直堆迭的基材制程腔室具有沿著一第一方向排列的第一側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，以及沿著一第二方向排列的第二側(cè)，以通過其間存取所述基材制程腔室，一第一機(jī)械臂組件，其是適于將一基材從該第一側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一第二機(jī)械臂組件，其是適于將一基材從該第二側(cè)傳送至該第一制程架中的基材制程腔室，其中該第二機(jī)械臂組件包含一第二機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一水平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，具有適于將該第二機(jī)械臂設(shè)置在通常與該垂直方向平行的方向上的馬達(dá)，以及一水平移動組件，具有適于將該第二機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向平行的方向上的馬達(dá)。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種處理一基材的群集工具，包含設(shè)置在一群集工具內(nèi)的兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，一第一機(jī)械臂組件，其適于將一基材傳送至該兩個(gè)或多個(gè)基材制程腔室，其中該第一機(jī)械臂組件包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在一第一方向上，其中該第一機(jī)械臂包含一機(jī)械臂葉片，具有一第一端及一基材容納表面，其中該基材容納表面適于容納并傳送一基材，一第一連接構(gòu)件，其具有一第一樞軸點(diǎn)及一第二樞軸點(diǎn)，一馬達(dá)，在該第二樞軸點(diǎn)處與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，一第一齒輪，與該機(jī)械臂葉片的第一端連接并在該第一樞軸點(diǎn)處與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，以及一第二齒輪，與該第一齒輪旋轉(zhuǎn)連接并與該第一連接構(gòu)件的第二樞軸點(diǎn)同心對齊，其中該第二齒輪對該第一齒輪的齒輪比介于約3 1至約4 3間，一第一移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向垂直的第二方向上，以及一第二移動組件，具有適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向垂直的第三方向上的馬達(dá)。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具內(nèi)傳送一基材的設(shè)備，包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一第一平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，包含一滑軌組件，其含有與一垂直定位的線性軌道連接的塊狀物(block)，一支撐板，與該塊狀物和該第一機(jī)械臂連接，以及一促動器，其適于沿著該線性軌道將該支撐板垂直設(shè)置在一垂直位置上，以及一水平移動組件，其是與該垂直移動組件連接，并具有一水平促動器，其適于在水平方向上設(shè)置該第一機(jī)械臂和該垂直移動組件。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具內(nèi)傳送一基材的設(shè)備，包含一第一機(jī)械臂，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一第一平面內(nèi)的一或多個(gè)點(diǎn)上，一垂直移動組件，包含一促動器組件，其適于垂直設(shè)置該第一機(jī)械臂，其中該促動器組件進(jìn)一步包含一垂直促動器，其適于垂直設(shè)置該第一機(jī)械臂，以及一垂直滑軌，其適于在該垂直促動器調(diào)動該第一機(jī)械臂時(shí)引導(dǎo)該第一機(jī)械臂，一圍封，具有一或多個(gè)形成一內(nèi)部區(qū)域的壁，該內(nèi)部區(qū)域圍繞至少一個(gè)是選自垂直促動器和該垂直滑軌的零組件，以及一風(fēng)扇，與該內(nèi)部區(qū)域流體交流，其是適于在該圍封內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓，以及一水平移動組件，具有一水平促動器和一水平引導(dǎo)構(gòu)件，其是適于在通常與該第一制程架的第一側(cè)平行的方向上設(shè)置該第一機(jī)械臂。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具內(nèi)傳送一基材的設(shè)備，包含一第一機(jī)械臂組件，其適于將一基材設(shè)置在一第一方向上，其中該第一機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂葉片，具有一第一端及一基材容納表面，一第一連接構(gòu)件，其具有一第一樞軸點(diǎn)及一第二樞軸點(diǎn)，一第一齒輪，與該機(jī)械臂葉片的第一端連接并在該第一樞軸點(diǎn)處與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，一第二齒輪，與該第一齒輪旋轉(zhuǎn)連接并與該第一連接構(gòu)件的第二樞軸點(diǎn)對齊，以及一第一馬達(dá)，其是與該第一連接構(gòu)件旋轉(zhuǎn)連接，其中該第一馬達(dá)適于藉由相對于該第二齒輪旋轉(zhuǎn)該第一連接構(gòu)件和第一齒輪來設(shè)置該基材容納表面，一第一移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向垂直的第二方向上，以及一第二移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向垂直的第三方向上。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具內(nèi)傳送一基材的設(shè)備，包含一第一機(jī)械臂組件，其適于將一基材設(shè)置在通常容納在一第一平面內(nèi)的沿著一弧形的一或多個(gè)點(diǎn)上，其中該第一機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂葉片，具有一第一端及一基材容納表面，以及一馬達(dá)，其與該機(jī)械臂葉片的第一端旋轉(zhuǎn)連接，一第一移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一平面垂直的第二方向上，其中該第一移動組件包含一促動器組件，其適于垂直設(shè)置該第一機(jī)械臂，其中該促動器組件進(jìn)一步包含一垂直促動器，其適于垂直設(shè)置該第一機(jī)械臂，以及一垂直滑軌，其適于在該垂直促動器調(diào)動該第一機(jī)械臂時(shí)引導(dǎo)該第一機(jī)械臂，一圍封，具有一或多個(gè)形成一內(nèi)部區(qū)域的壁，該內(nèi)部區(qū)域圍繞至少一個(gè)是選自垂直促動器和該垂直滑軌的零組件，以及一風(fēng)扇，與該內(nèi)部區(qū)域流體交流，其是適于在該圍封內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓，以及一第二移動組件，具有一第二促動器，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第二方向垂直的第三方向上。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具內(nèi)傳送一基材的設(shè)備，包含一第一機(jī)械臂組件，其適于將一基材設(shè)置在一第一方向上，其中該第一機(jī)械臂組件包含一機(jī)械臂葉片，具有一第一端及一基材容納表面，一第一齒輪，與該機(jī)械臂葉片的第一端連接，一第二齒輪，與該第一齒輪旋轉(zhuǎn)連接，以及一第一馬達(dá)，與該第一齒輪旋轉(zhuǎn)連接，以及一第二馬達(dá)，與該第二齒輪旋轉(zhuǎn)連接，其中該第二馬達(dá)適于相對于該第一齒輪旋轉(zhuǎn)該第二齒輪，以創(chuàng)造出可變齒輪比，以及一第一移動組件，其是適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在通常與該第一方向垂直的第二方向上。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的設(shè)備，包含一基座，具有一基材支撐表面，一反應(yīng)構(gòu)件，設(shè)置在該基座上，一接觸構(gòu)件，與適于將一基材朝向該反應(yīng)構(gòu)件推動的促動器連接，以及一制動構(gòu)件，其在該接觸構(gòu)件經(jīng)設(shè)置來將該基材朝向該反應(yīng)構(gòu)件推動時(shí)適于一般性地抑制該接觸構(gòu)件的移動。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的設(shè)備，包含一基座，具有一支撐表面，一反應(yīng)構(gòu)件，設(shè)置在該基座上，一促動器，與該基座連接，一接觸構(gòu)件，與該促動器連接， 其中該促動器適于將該接觸構(gòu)件朝向設(shè)置在該支撐表面上，并且由該反應(yīng)構(gòu)件支撐一邊緣的基材的邊緣推動，一制動構(gòu)件組件，包含一制動構(gòu)件，以及一制動促動構(gòu)件，其中該制動促動構(gòu)件適于將該制動構(gòu)件朝向該接觸構(gòu)件推動，以創(chuàng)造出在一基材傳送期間一般性地抑制該接觸構(gòu)件移動的限制力。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的設(shè)備，包含一基座，具有一支撐表面，一反應(yīng)構(gòu)件，設(shè)置在該基座上，一接觸構(gòu)件組件，包含一促動器，以及一接觸構(gòu)件，具有一基材接觸表面和一順應(yīng)構(gòu)件(compliant member)，其是設(shè)置在該接觸表面和該促動器間，其中該促動器是適于將該接觸表面朝向倚靠該反應(yīng)構(gòu)件表面設(shè)置的基材推動，以及一制動構(gòu)件組件，包含一制動構(gòu)件，以及一制動促動構(gòu)件，適于將該制動構(gòu)件朝向該接觸構(gòu)件推動，以抑制一基材傳送期間該接觸構(gòu)件的移動，以及一感應(yīng)器，與該接觸構(gòu)件連接，其中該感應(yīng)器適于感應(yīng)該接觸表面的位置。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的設(shè)備，包含一機(jī)械臂組件，含有一第一機(jī)械臂，其適于在第一方向上傳送設(shè)置在一機(jī)械臂葉片上的基材，一第一移動組件，具有一促動器，其適于將該第一機(jī)械臂設(shè)置在一第二方向上，以及一第二移動組件，與該第一移動組件連接并具有一第二促動器，其適于將該第一機(jī)械臂及該第一移動組件設(shè)置在通常與該第二方向垂直的第三方向上，以及一基材抓取裝置，與該機(jī)械臂葉片連接，其中該基材抓取裝置適于支撐一基材，并含有一反應(yīng)構(gòu)件，設(shè)置在該機(jī)械臂葉片上，一促動器，與該機(jī)械臂葉片連接，一接觸構(gòu)件，與該促動器連接，其中該促動器適于藉由將該接觸構(gòu)件朝向設(shè)置在該接觸構(gòu)件和該反應(yīng)構(gòu)件間的基材的邊緣推動而限制一基材，以及一制動構(gòu)件組件， 包含一制動構(gòu)件，以及一制動促動構(gòu)件，適于將該制動構(gòu)件朝向該接觸構(gòu)件推動，以在一基材傳送期間抑制該接觸構(gòu)件的移動。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的方法，包含將一基材設(shè)置在一基材支撐裝置上，介于設(shè)置在該基材支撐裝置上的一基材接觸構(gòu)件及一反應(yīng)構(gòu)件之間，利用一促動器來產(chǎn)生基材抓持力，該促動器將該基材接觸構(gòu)件朝向該基材推動，并將該基材朝向該反應(yīng)構(gòu)件推動，以及產(chǎn)生一抑制力，其適于在傳送一基材期間利用一制動組件抑制該基材接觸構(gòu)件的移動。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的方法，包含將一基材設(shè)置在一基材支撐裝置上，介于設(shè)置在該基材支撐裝置上的一基材接觸構(gòu)件及一反應(yīng)構(gòu)件之間，將具有一連接件的促動器與該基材接觸構(gòu)件連接，而使該連接件將該促動器和該基材接觸構(gòu)件連接，利用一促動器施加抓持力至該基材，該促動器將該基材接觸構(gòu)件朝向該基材推動，并將該基材朝向該反應(yīng)構(gòu)件推動，將能量儲存在一順應(yīng)構(gòu)件中，其是設(shè)置在該基材接觸構(gòu)件和該連接件之間，在施加該抓持力之后抑制該連接件的移動，以最小化傳送基材期間該抓持力的變異量，以及藉由感應(yīng)該基材接觸表面因?yàn)閮Υ嬖谠擁槕?yīng)構(gòu)件中的能量的減少的移動來感應(yīng)該基材的移動。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種傳送一基材的方法，包含將設(shè)置在一第一制程腔室中的基材接收在一機(jī)械臂基材支撐上，其中接收該基材的步驟包含將一基材設(shè)置在該機(jī)械臂基材支撐上，介于設(shè)置在該機(jī)械臂基材支撐上的一基材接觸構(gòu)件及一反應(yīng)構(gòu)件之間， 利用一促動器產(chǎn)生基材抓持力，該促動器將該基材接觸構(gòu)件朝向該基材推動，并將該基材朝向該反應(yīng)構(gòu)件推動，以及設(shè)置一制動組件，以在傳送一基材期間產(chǎn)生抑制該基材接觸構(gòu)件移動的抑制力，以及利用一第一機(jī)械臂組件將該基材和該機(jī)械臂基材支撐從該第一制程腔室內(nèi)的一位置傳送至一第二制程腔室內(nèi)的一位置，該第二制程腔室是沿著一第一方向設(shè)置在與該第一制程腔室有一段距離處，該第一機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在一第二方向的預(yù)期位置上，其中該第二方向通常與該第一方向垂直。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具中傳送一基材的方法，包含利用一第一機(jī)械臂組件將一基材傳送至沿著一第一方向設(shè)置的第一制程腔室陣列，該第一機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在一第二方向的預(yù)期位置上，其中該第二方向通常與該第一方向垂直，利用一第二機(jī)械臂組件將一基材傳送至沿著該第一方向設(shè)置的第二制程腔室陣列，該第二機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在該第二方向的預(yù)期位置上，以及利用一第三機(jī)械臂組件將一基材傳送至沿著該第一方向設(shè)置的第一及第二制程腔室陣列，該第三機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在該第二方向的預(yù)期位置上。本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)一步提供一種在一群集工具中傳送一基材的方法，包含利用一第一機(jī)械臂組件將一基材從一第一透通腔室傳送至沿著一第一方向設(shè)置的第一制程腔室陣列，該第一機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在一第二方向的預(yù)期位置上，其中該第二方向通常與該第一方向垂直，利用一第二機(jī)械臂組件將一基材從該第一透通腔室傳送至該第一制程腔室陣列，該第二機(jī)械臂組件適于將該基材設(shè)置在該第一方向的預(yù)期位置上，并且設(shè)置在一第二方向的預(yù)期位置上，以及利用設(shè)置在一前端組件內(nèi)的前端機(jī)械臂將一基材從一基材匣傳送至該第一透通腔室，其中該前端組件實(shí)質(zhì)上與含有該第一制程腔室陣列、該第一機(jī)械臂組件和該第二機(jī)械臂組件的傳送區(qū)域毗鄰。


因此可以詳細(xì)了解上述本發(fā)明的特征的方式，即對本發(fā)明更明確的描述，簡短地在前面概述過，可以藉由參考實(shí)施例來得到，其中某些在附圖中示出。但是需要注意的是， 附圖只示出本發(fā)明的一般實(shí)施例，因此不應(yīng)被認(rèn)為是對其范圍的限制，因?yàn)楸景l(fā)明可允許其他等效實(shí)施例。第IA圖是示出本發(fā)明的群集工具的一實(shí)施例的等角視圖；第IB圖是根據(jù)本發(fā)明的第IA圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖；第IC圖是示出根據(jù)本發(fā)明的第一制程架60的一實(shí)施例的側(cè)視圖；第ID圖是示出根據(jù)本發(fā)明的第二制程架80的一實(shí)施例的側(cè)視圖；第IE圖是根據(jù)本發(fā)明的第IB圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖；第IF圖示出可與在此所述的群集工具的各個(gè)實(shí)施例并用的含有若干制程配方步驟的制程程序的一實(shí)施例；第IG圖示出第IB圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的基材傳送路徑；第2A圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第2B圖是第2A圖所示的根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第2C圖示出第2B圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的基材傳送路徑；第3A圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第;3B圖示出第3A圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的基材傳送路徑；第4A圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第4B圖示出第4A圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的基材傳送路徑；第5A圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第5B圖示出第5A圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的基材傳送路徑；第6A圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第6B圖示出第6A圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的兩條可能的基材傳送路徑；第6C圖是根據(jù)本發(fā)明的制程系統(tǒng)的平面圖；第6D圖示出第6C圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖，其示出依循第IF圖所示的制程程序的穿過該群集工具的兩條可能的基材傳送路徑；第7A圖是根據(jù)本發(fā)明的交換腔室的一實(shí)施例的側(cè)視圖；第7B圖是根據(jù)本發(fā)明的第IB圖所示的制程系統(tǒng)的平面圖；第8A圖是示出根據(jù)本發(fā)明的第IA圖所示的群集工具的另一個(gè)實(shí)施例的等角視圖，其具有附接的防護(hù)罩；第8B圖是根據(jù)本發(fā)明的第8A圖所示的群集工具的剖面圖；第8C圖是根據(jù)本發(fā)明的一配置的剖面圖；第9A圖是示出機(jī)械臂的一實(shí)施例的等角視圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第IOA圖是示出根據(jù)本發(fā)明的具有單一機(jī)械臂組件的機(jī)械臂硬件組件的一實(shí)施例的等角視圖；第IOB圖是示出根據(jù)本發(fā)明的具有雙機(jī)械臂組件的機(jī)械臂硬件組件的一實(shí)施例的等角視圖；第IOC圖是根據(jù)本發(fā)明的第IOA圖所示的機(jī)械臂硬件組件的一實(shí)施例的剖面圖；第IOD圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂硬件組件的一實(shí)施例的剖面圖；第IOE圖是根據(jù)本發(fā)明的第IOA圖所示的機(jī)械臂硬件組件的一實(shí)施例的剖面圖；第IlA圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlB圖示出根據(jù)本發(fā)明的該基材中心點(diǎn)的若干可能路徑，當(dāng)其被傳送進(jìn)入一制程腔室時(shí)；第IlC圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlD圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlE圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlF圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlG圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlH圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlI圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖，示出該機(jī)械臂葉片傳送一基材至一制程腔室內(nèi)時(shí)的若干位置；第IlJ圖是根據(jù)本發(fā)明的機(jī)械臂組件的一實(shí)施例的平面圖；第IlK圖是設(shè)置在一制程架附近的機(jī)械臂組件的習(xí)知SCARA機(jī)械臂的平面圖；第12A圖是根據(jù)本發(fā)明的第9A圖所示的水平移動組件的剖面圖；第12B圖是根據(jù)本發(fā)明的第9A圖所示的水平移動組件的剖面圖；第12C圖是根據(jù)本發(fā)明的第9A圖所示的水平移動組件的剖面圖；第13A圖是根據(jù)本發(fā)明的第9A圖所示的垂直移動組件的剖面圖；第13B圖示出第13A圖所示的機(jī)械臂的一實(shí)施例的等角視圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第14A圖是示出機(jī)械臂的一實(shí)施例的等角視圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第15A圖是示出機(jī)械臂的一實(shí)施例的等角視圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第16A圖示出機(jī)械臂葉片組件的一實(shí)施例的平面圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第16B圖示出第16A圖所示的機(jī)械臂葉片組件的一實(shí)施例的側(cè)剖面圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第16C圖示出機(jī)械臂葉片組件的一實(shí)施例的平面圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材；第16D圖示出機(jī)械臂葉片組件的一實(shí)施例的平面圖，其可適于在該群集工具的各個(gè)實(shí)施例中傳送基材。主要元件符號說明
5外部模組
9、9A、9B、9C、9D、9E、9F 通道位置
10群集工具IOA群集工具基座
IOB狹縫11機(jī)械臂組件
IlA第一機(jī)械臂組件IlB第二機(jī)械臂組件
IlC第三機(jī)械臂組件IlD第四個(gè)機(jī)械臂組件
IlE第五機(jī)械臂組件IlF第六機(jī)械臂組件
IlG第七機(jī)械臂組件IlH第八機(jī)械臂組件
15前端機(jī)械臂組件15A水平移動組件
15B機(jī)械臂15C機(jī)械臂葉片
24前端模組25中央模組
40后端機(jī)械臂組件40A基座
40B滑軌組件40C支撐座
40E手臂/葉片45長形安裝座
60第一制程架60A、60B 側(cè)
80第二制程架80A、80B 側(cè)
85機(jī)械臂硬件組件0100]86、86A、86B傳送機(jī)械臂組件0101]87機(jī)械臂葉片87A、87B 葉片0102]90水平移動組件90A下水平移動組件0103]90B上水平移動組件91傳送區(qū)域0104]95垂直移動組件101系統(tǒng)控制器0105]105U05D晶片盒組件106晶片匣0106]110、110A、110BUIOC環(huán)境控制組件0107]111過濾器112過濾單元0108]113壁130曝后烤(PEB)腔室0109]160涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室0110]162晶片邊緣曝光球狀物去除(OEBR)腔室0111]165支持腔室0112]170六甲基二硅氮烷(HMDQ制程腔室0113]180冷卻腔室190烘烤腔室0114]305雙桿連結(jié)機(jī)械臂306單軸連結(jié)0115]310第一連結(jié)312傳動系統(tǒng)0116]313圍封320馬達(dá)0117]321支撐板352第四滑輪0118]353軸承軸線354第三滑輪0119]354A軸承355第一滑輪系統(tǒng)0120]356第二滑輪356A軸承0121]358第一滑輪359皮帶0122]532A基材容納零組件533交換腔室0123]534制程腔室536外部制程系統(tǒng)0124]560垂直促動器組件570垂直支撐0125]571驅(qū)動皮帶572移動塊0126]573軸承塊574線性軌道0127]575滑輪575A、575B驅(qū)動皮帶滑輪0128]576滑輪組件577垂直滑軌組件0129]580風(fēng)扇組件581管狀物0130]582風(fēng)扇584充實(shí)區(qū)域0131]585狹縫586內(nèi)部區(qū)域0132]590圍封591外壁0133]592圍封頂部593狹縫0134]601基材支撐組件602圍封0135]603存取埠610支撐指狀物0136]611基材容納表面800整合式烘烤/冷卻腔0137]Al、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9、A10傳送路徑0138]C6制程腔室
1具體實(shí)施例方式本發(fā)明大體來說提供一種使用多腔室制程系統(tǒng)(例如一群集工具)來處理基材的設(shè)備及方法，該系統(tǒng)具有增加的系統(tǒng)產(chǎn)能、增強(qiáng)的系統(tǒng)可靠度、改善的元件合格率表現(xiàn)、再現(xiàn)性更高的晶片制程歷史(或晶片史)、以及較小的占地面積(footpring)。在一實(shí)施例中，該群集工具適于執(zhí)行自動化光阻涂布及顯影制程，其中一基材是經(jīng)涂布以一光敏性材料，然后傳送至一步進(jìn)機(jī)/掃瞄器，其將該光敏性材料暴露在某類型的輻射下，而在該光敏性材料上形成圖案，接著在于該群集工具內(nèi)完成的顯影制程中除去該光敏性材料的某些部分。在另一實(shí)施例中，該群集工具適于執(zhí)行一濕式/清潔制程程序，其中在該群集工具中于一基材上執(zhí)行若干基材清潔制程。第1-6圖示出可與本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例并用的若干機(jī)械臂和制程腔室配置的其中某些。該群集工具10的各個(gè)實(shí)施例一般使用以平行制程配置法配置的兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂，以在留置在所述制程架內(nèi)(例如元件60、80等等)的各個(gè)制程腔室間傳送基材，因此可在所述基材上執(zhí)行預(yù)期的制程程序。在一實(shí)施例中，該平行制程配置法包含兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂組件11 (第IA和IB圖的元件IlAUlB和11C)，其是適于在垂直(之后稱為ζ方向) 和水平方向上移動基材，水平方向即傳送方向(χ方向)和與該傳送方向垂直的方向(y方向)，因此可在留置于所述制程架內(nèi)(例如元件60和80)的沿著該傳送方向排列的各個(gè)制程腔室內(nèi)處理所述基材。該平行制程配置法的一優(yōu)勢在于若所述機(jī)械臂的其中的一無法操作，或是取下維修，該系統(tǒng)仍可利用留置在該系統(tǒng)內(nèi)的其他機(jī)械臂來繼續(xù)處理基材。一般來說，在此所述的各個(gè)實(shí)施例是有優(yōu)勢的，因?yàn)槊恳涣谢蛎恳唤M基材制程腔室皆有兩個(gè)或多個(gè)服務(wù)的機(jī)械臂，以提供增加的產(chǎn)能和增強(qiáng)的系統(tǒng)可靠度。此外，在此所述的各實(shí)施例通常是經(jīng)配置以最小化并控制所述基材傳送機(jī)構(gòu)所產(chǎn)生的微粒，以避免可影響該群集工具的 CoO的元件合格率和基材碎片問題。此配置法的另一個(gè)優(yōu)勢在于彈性及模組式結(jié)構(gòu)讓使用者可配置符合該使用者要求的產(chǎn)能所需要的制程腔室、制程架、及制程機(jī)械臂的數(shù)量。雖然第1-6圖示出可用來執(zhí)行本發(fā)明的各實(shí)施態(tài)樣的機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例，但其他類型的機(jī)械臂組件11也可適于執(zhí)行相同的基材傳送和設(shè)置功能，而不會背離本發(fā)明的基本范圍。第一群集工具配置A.系統(tǒng)配置第IA圖是一群集工具10的一實(shí)施例的等角視圖，其示出可經(jīng)使用而受惠的本發(fā)明的若干實(shí)施態(tài)樣。第IA圖示出該群集工具10的一實(shí)施例，其含有適于存取垂直堆迭在一第一制程架60和一第二制程架80內(nèi)的各個(gè)制程腔室的三個(gè)機(jī)械臂和一外部模組5。在一實(shí)施態(tài)樣中，當(dāng)用該群集工具10來完成一微影制程程序時(shí)，與該后部區(qū)域45 (未在第IA 圖示出)連接的該外部模組5，可以是一步進(jìn)機(jī)/掃瞄器，執(zhí)行某些額外的暴露型制程步驟。 該群集工具10的一實(shí)施例，如第IA圖所示，含有一前端模組M及一中央模組25。第IB圖是第IA圖所示的群集工具10的實(shí)施例的平面圖。該前端模組M —般含有一或多個(gè)晶片盒組件105 (例如物件105A-D)以及一前端機(jī)械臂組件15 (第IB圖)。該一或多個(gè)晶片盒組件105，或前開式晶片盒(FOUPs)，一般是適于容納一或多個(gè)可含有欲在該群集工具10內(nèi)處理的一或多個(gè)基材”W”或晶片的晶片匣。在一實(shí)施態(tài)樣中，該前端模組 24也含有一或多個(gè)通道位置9 (例如第IB圖的元件9A-C)。
在一實(shí)施態(tài)樣中，該中央模組25具有第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件11B、 第三機(jī)械臂組件11C、后端機(jī)械臂組件40、第一制程架60和第二制程架80。該第一制程架 60及第二制程架80含有各式制程腔室(例如涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室、烘烤腔室、冷卻腔室、濕式清潔腔室等等，其在后方討論(第IC-D圖))，其適于執(zhí)行基材制程程序中的各個(gè)制程步驟。第IC和ID圖示出該第一制程架60和第二制程架80的一實(shí)施例的側(cè)視圖，當(dāng)站在最接近側(cè)60A的一側(cè)面對該第一制程架60和第二制程架80觀看時(shí)，因此會與第1-6圖所示的圖示符合。該第一制程架60和第二制程架80 —般含有一或多組垂直堆迭的制程腔室，其適于在一基材上執(zhí)行一些預(yù)期的半導(dǎo)體或平面顯示器元件制造制程步驟。例如，在第 IC圖中，該第一制程架60具有五組，或五列垂直堆迭的制程腔室。一般來說，這些元件制造制程步驟可包含在該基材表面上沉積一材料，清潔該基材表面，蝕刻該基材表面，或?qū)⒃摶谋┞对谀愁愋偷妮椛湎?，以引發(fā)該基材上的一或多個(gè)區(qū)域的物理或化學(xué)變化。在一實(shí)施例中，該第一制程架60和第二制程架80內(nèi)含有適于執(zhí)行一或多種微影制程程序步驟的制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，制程架60和80可包含一或多個(gè)涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室160、一或多個(gè)冷卻腔室180、一或多個(gè)烘烤腔室190、一或多個(gè)晶片邊緣曝光球狀物去除(OEBR)腔室162、一或多個(gè)曝后烤(PEB)腔室130、一或多個(gè)支持腔室165、一整合式烘烤/冷卻腔室 800、及/或一或多個(gè)六甲基二硅氮烷(HMDQ制程腔室170。可適于使本發(fā)明的一或多個(gè)實(shí)施態(tài)樣受益的例示涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室、冷卻腔室、烘烤腔室、OEBR腔室、PEB腔室、支持腔室、整合式烘烤/冷卻腔室及/或HMDS制程腔室進(jìn)一步在2005年4月22號提出申請的共同讓渡的美國專例申請案第11/112，號中描述，其在此藉由引用其全文至不與所主張的本發(fā)明不一致的程度下并入本文中?？蛇m于使本發(fā)明的一或多個(gè)實(shí)施態(tài)樣受益的整合式烘烤/冷卻腔室的范例進(jìn)一步在2005年4月11號提出申請的共同讓渡的美國專例申請案第11/111，154號以及美國專利申請案第11/111，353號中描述，其在此藉由引用其全文至不與所主張的本發(fā)明不一致的程度下并入本文中?？蛇m于在一基材上執(zhí)行一或多種清潔制程并且可適于使本發(fā)明的一或多個(gè)實(shí)施態(tài)樣受益的制程腔室及/或系統(tǒng)的范例進(jìn)一步在2001年6月25號提出申請的共同讓渡的美國專例申請案第09/891，849號以及在2001 年8月31號提出申請的美國專利申請案第09/945，454號中描述，其在此藉由引用其全文至不與所主張的本發(fā)明不一致的程度下并入本文中。在一實(shí)施例中，如第IC圖所示者，其中該群集工具10是適于執(zhí)行微影類制程， 該第一制程架60可具有八個(gè)涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室160 (標(biāo)示為CD1-8)、十八個(gè)冷卻腔室 180 (標(biāo)示為C1-18)、八個(gè)烘烤腔室190 (標(biāo)示為B1-8)、六個(gè)PEB腔室130 (標(biāo)示為PEB1-6)、 兩個(gè)OEBR腔室162 (標(biāo)示為162)及/或六個(gè)H MDS制程腔室170 (標(biāo)示為DP1-6)。在一實(shí)施例中，如第ID圖所示者，其中該群集工具10是適于執(zhí)行微影類制程，該第二制程架80 可具有八個(gè)涂布機(jī)/顯影機(jī)腔室160 (標(biāo)示為CD1-8)、六個(gè)整合式烘烤/冷卻腔室800 (標(biāo)示為BC1-6)、六個(gè)H MDS制程腔室170 (標(biāo)示為DP1-6)及/或六個(gè)支持腔室165 (標(biāo)示為S 1-6)。第IC-D圖所示的制程腔室的方向、位置、類型和數(shù)量并不意欲限制本發(fā)明范圍，而僅意欲示出本發(fā)明的一實(shí)施例。參見第IB圖，在一實(shí)施例中，該前端機(jī)械臂組件15適于在裝設(shè)在一晶片盒組件 105內(nèi)(見元件105A-D)的晶片匣106和該一或多個(gè)通道位置9(見第IB圖的通道位置9A-C)間傳送基材。在另一實(shí)施例中，該前端機(jī)械臂組件15適于在裝設(shè)在一晶片盒組件105 內(nèi)的晶片匣106和該第一制程架60或一第二制程架80內(nèi)的鄰接該前端模組M的一或多個(gè)制程腔室間傳送基材。該前端機(jī)械臂組件15 —般含有一水平移動組件15A和一機(jī)械臂 15B,其合并能夠?qū)⒁换脑O(shè)置在該前端模組M內(nèi)的預(yù)期的水平及/或垂直位置上，或是設(shè)置在該中央模組25內(nèi)的鄰接位置上。該前端機(jī)械臂組件15適于利用一或多個(gè)機(jī)械臂葉片 15C傳送一或多個(gè)基材，藉由運(yùn)用從一系統(tǒng)控制器101(在后方討論)傳來的指令。在一程序中，該前端機(jī)械臂組件15適于將一基材從該晶片匣106傳送至所述通道位置9 (例如，第 IB圖的元件9A-C)的其中的一。一般來說，一通道位置是一基材集結(jié)區(qū)，其可含有一通道制程腔室，其擁有與一交換腔室533 (見第7A圖)或一習(xí)知基材匣106相似的特征，并且能夠從一第一機(jī)械臂接收一基材，因此其可由一第二機(jī)械臂移出和再設(shè)置。在一實(shí)施態(tài)樣中，裝設(shè)在一通道位置中的通道制程腔室可適于執(zhí)行一預(yù)期制程程序內(nèi)的一或多個(gè)制程步驟，例如，HMDS制程步驟或冷卻/降溫制程步驟或基材缺口校直(notch align)。在一實(shí)施態(tài)樣中，每一個(gè)通道位置(第IB圖的元件9A-C)可由所述中央機(jī)械臂組件(即，第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件11B、和第三機(jī)械臂組件11C)的每一個(gè)存取。參見第IA-B圖，該第一機(jī)械臂組件11A、該第二機(jī)械臂組件11B、及該第三機(jī)械臂組件IlC適于傳送基材至容納在該第一制程架60以及該第二制程架80內(nèi)的各個(gè)制程腔室。在一實(shí)施例中，為了在該群集工具10中傳送基材，該第一機(jī)械臂組件11A、該第二機(jī)械臂組件11B、及該第三機(jī)械臂組件IlC具有相仿配置的機(jī)械臂組件11，其中每一個(gè)皆具有至少一水平移動組件90、一垂直移動組件95、及一機(jī)械臂硬件組件85，其是與一系統(tǒng)控制器 101交流。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一制程架60的側(cè)60B，以及該第二制程架80的側(cè)80A皆沿著與各個(gè)機(jī)械臂組件(即第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件11B、及第三機(jī)械臂組件 11C)的每一個(gè)的水平移動組件90 (在后方描述)平行的方向排列。該系統(tǒng)控制器101適于控制用來完成該傳送制程的各個(gè)零組件的位置和移動。該系統(tǒng)控制器101 —般是設(shè)計(jì)來促進(jìn)整個(gè)系統(tǒng)的控制和自動化，并且通常包含一中央處理單元(CPU)(未示出)、記憶體(未示出)、以及支持電路(或輸入/輸出)(未示出)。該CPU 可以是在工業(yè)設(shè)定中用來控制各種系統(tǒng)功能、腔室制程和支持硬件(例如，偵測器、機(jī)械臂、馬達(dá)、氣體來源硬件等等)以及監(jiān)控該系統(tǒng)和腔室制程(例如腔室溫度、制程程序產(chǎn)能、 腔室制程時(shí)間、輸入/輸出訊號等等)的任何類型的電腦處理器的一種。該記憶體與該CPU 連接，并且可以是一或多種可輕易取得的記憶體，例如隨機(jī)存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體 (ROM)、軟碟、硬碟、或任何其他類型的數(shù)位儲存，原位或遠(yuǎn)端的。軟件指令和資料可以編碼并儲存在該記憶體中，以指揮該CPU。該支持電路也與該CPU連接，以利用習(xí)知方式支持該處理器。所述支持電路可包含快取、電源供應(yīng)器、時(shí)脈電路、輸入/輸出電路、子系統(tǒng)、及諸如此類者。可由該系統(tǒng)控制器101讀取的程式(或電腦指令)決定可在一基材上執(zhí)行何種工作。較佳地，該系統(tǒng)控制器101可讀取該程式的軟件，其包含用來執(zhí)行與監(jiān)控及執(zhí)行所述制程程序工作和各個(gè)腔室制程配方步驟相關(guān)的程式碼。參見第IB圖，在本發(fā)明的一實(shí)施態(tài)樣中，該第一機(jī)械臂組件IlA適于從至少一側(cè)， 例如該側(cè)60B，存取并在該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中， 該第三機(jī)械臂組件IlC適于從至少一側(cè)，例如該側(cè)80A，存取并在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第二機(jī)械臂組件1IB適于從側(cè)60B存取并在該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材，并且從側(cè)80A在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。第IE圖示出第IB圖所示的群集工具10的實(shí)施例的平面圖，其中該第二機(jī)械臂組件1IB的機(jī)械臂葉片87通過側(cè)60B延伸進(jìn)入該第一制程架60內(nèi)的制程腔室。將該機(jī)械臂葉片87延伸進(jìn)入一制程腔室及從該制程腔室縮回該機(jī)械臂葉片87的能力通常是由容納在該水平移動組件90、垂直移動組件95、及機(jī)械臂硬件組件85內(nèi)的零組件的協(xié)力移動，并藉由運(yùn)用從該系統(tǒng)控制器101傳來的指令來完成。該兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂彼此「重迭」 的能力是有優(yōu)勢的，例如該第一機(jī)械臂組件IlA和該第二機(jī)械臂組件11B，或該第二機(jī)械臂組件IlB和該第三機(jī)械臂組件11C，因?yàn)槠淙菰S基材傳送冗余(transfer redundancy)，其可改善該群集可靠性，并且也增加基材產(chǎn)能。機(jī)械臂「重迭」一般是兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂存取及/或在該制程架的相同制程腔室間獨(dú)立傳送基材的能力。兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂冗余地存取制程腔室的能力可以是一重要實(shí)施態(tài)樣，以防止系統(tǒng)機(jī)械臂傳送瓶頸，因?yàn)槠淙菰S使用率低的機(jī)械臂幫助限制該系統(tǒng)產(chǎn)能的機(jī)械臂。因此，基材產(chǎn)能可以增加，可讓基材的晶片史更具有再現(xiàn)性，并且可通過平衡每一個(gè)機(jī)械臂在制程程序期間的工作負(fù)荷來改善系統(tǒng)可靠度。在本發(fā)明的一實(shí)施態(tài)樣中，各個(gè)重迭的機(jī)械臂組件(例如第1-6圖中的元件11A、 11B、11C、11D、11E等等)能夠同時(shí)存取彼此水平相鄰(χ方向)或垂直相鄰(ζ方向)的制程腔室。例如，當(dāng)使用第IB和IC圖所示的群集工具配置法時(shí)，該第一機(jī)械臂組件IlA能夠存取該第一制程架60內(nèi)的制程腔室CD6，而該第二機(jī)械臂組件IlB能夠同時(shí)存取制程腔室 ⑶5，且不會彼此碰撞或干擾。在另一范例中，當(dāng)使用第IB和ID圖所示的群集工具配置法時(shí)，該第三機(jī)械臂組件IlC能夠存取該第二制程架80內(nèi)的制程腔室C6，而該第二機(jī)械臂組件IlB能夠同時(shí)存取制程腔室DP6，且不會彼此碰撞或干擾。在一實(shí)施態(tài)樣中，該系統(tǒng)控制器101適于基于經(jīng)過計(jì)算的最佳化產(chǎn)能來調(diào)整通過該群集工具的該基材的傳送程序，或是在無法運(yùn)作的制程腔室周遭工作。該系統(tǒng)控制器101 的容許其最佳化產(chǎn)能的特征被稱為邏輯排程器。該邏輯排程器基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序。該邏輯排程器可適于檢視每一個(gè)機(jī)械臂(例如前端機(jī)械臂組件15、第一機(jī)械臂組件11Α、第二機(jī)械臂組件11Β、第三機(jī)械臂組件IlC等等)所請求的未來工作清單，其是存在該系統(tǒng)控制器101的記憶體中，以幫助平衡分配給每一個(gè)機(jī)械臂的負(fù)荷。使用系統(tǒng)控制器101來最大化該群集工具的使用可改善該群集工具的CoO，使晶片史更具再現(xiàn)性，并且可以改善該群集工具的可靠度。在一實(shí)施態(tài)樣中，該系統(tǒng)控制器101也適于避免各個(gè)重迭機(jī)械臂間的碰撞，并最佳化基材產(chǎn)能。在一實(shí)施態(tài)樣中，該系統(tǒng)控制器101進(jìn)一步程式化以監(jiān)控并控制該群集工具內(nèi)的所有機(jī)械臂的水平移動組件90、垂直移動組件95、及機(jī)械臂硬件組件85的移動，以避免所述機(jī)械臂間的碰撞，并改善系統(tǒng)產(chǎn)能，藉由容許所有機(jī)械臂可以同時(shí)動作。這種所謂的「防撞系統(tǒng)」可以多種方式實(shí)施，但一般來說該系統(tǒng)控制器101在傳送制程期間利用設(shè)置在該(等)機(jī)械臂上或該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器來監(jiān)控每一個(gè)機(jī)械臂的位置，以避免碰撞。在一實(shí)施態(tài)樣中，該系統(tǒng)控制器適于在傳送制程期間主動改變每一個(gè)機(jī)械臂的移動及 /或路線，以避免碰撞并最小化傳送路徑長度。B.傳送程序范例第IF圖示出通過該群集工具10的基材制程程序500的一范例，其中一些制程步
17驟(例如元件501-520)可在傳送步驟A1-Altl的每一個(gè)已經(jīng)完成后執(zhí)行。一或多個(gè)制程步驟501-520可能需要在一基材上執(zhí)行真空及/或流體制程步驟，以在該基材表面上沉積一材料，清潔該基材表面以蝕刻該基材表面，或是將該基材暴露在某類型的輻射下，以引發(fā)該基材上的一或多個(gè)區(qū)域的物理或化學(xué)變化?？蓤?zhí)行的典型制程范例是微影制程步驟、基材清潔制程步驟、CVD沉積步驟、ALD沉積步驟、電鍍制程步驟、或無電鍍制程步驟。第IG圖示出一基材可依循的傳送步驟的范例，當(dāng)其依循第IF圖描述的制程程序500傳送經(jīng)過如第 IB圖所示的群集工具般配置的群集工具時(shí)。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件 15從一晶片盒組件105(物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至設(shè)置在該通道位置 9C處的腔室，因此可在該基材上完成該通道步驟502。在一實(shí)施例中，該通道步驟502必需設(shè)置或留置該基材，以使另一個(gè)機(jī)械臂可從該通道位置9C汲取該基材。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室 531，在此制程步驟504在該基材上完成。在完成該制程步驟504后，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506 后，接著利用該第二機(jī)械臂組件1IB傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第 7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5，至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533，在此執(zhí)行制程步驟512。在一實(shí)施例中，該制程步驟508和512必須設(shè)置或留置該基材，以使另一個(gè)機(jī)械臂可從該交換腔室533汲取該基材。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第二機(jī)械臂組件IlB傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第一機(jī)械臂組件IlA依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第一機(jī)械臂組件IlA依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9A處的通道腔室。在一實(shí)施例中，該通道步驟518必須設(shè)置或留置該基材，以使另一個(gè)機(jī)械臂可從該通道位置9A汲取該基材。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。在一實(shí)施例中，制程步驟504、506、510、514、和516分別是光阻涂布步驟、烘烤/冷
卻步驟、在一步進(jìn)機(jī)/掃描器模組中執(zhí)行的曝光步驟、曝后烘烤/冷卻步驟、及顯影步驟，其進(jìn)一步在2005年4月22號提出申請的共同讓渡的美國專利申請案第11/112，281號中描述，其在此藉由引用的方式并入本文中。該烘烤/冷卻步驟和該曝后烘烤/冷卻步驟可在單一制程腔室內(nèi)執(zhí)行，或者也可利用一內(nèi)部機(jī)械臂(未示出)在一整合式烘烤/冷卻腔室的烘烤區(qū)和冷卻區(qū)間傳送。雖然第IF-G圖示出可用來在一群集工具10內(nèi)處理基材的制程程序的范例，但也可執(zhí)行較復(fù)雜或較不復(fù)雜的制程程序及/或傳送程序，而不會背離本發(fā)明的基本范圍。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)的各位置或制程腔室間執(zhí)行。第二群集工具配置A.系統(tǒng)配置
第2A圖是群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，其具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在兩個(gè)制程架(元件60和80)間的四個(gè)機(jī)械臂組件 11 (第9-11圖；第2A圖的元件11A、11B、11C、和11D)，所有皆適于執(zhí)行利用所述制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第2A圖所示的實(shí)施例與第IA-F 圖所示的配置相同，除了添加第四個(gè)機(jī)械臂組件IlD和通道位置9D之外，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。第2A圖所示的群集工具配置法在基材產(chǎn)能受限于機(jī)械臂時(shí)是有優(yōu)勢的，因?yàn)榈谒膫€(gè)機(jī)械臂組件IlD的添加可輔助消除其他機(jī)械臂的負(fù)擔(dān)，并且也建立一些冗余，其在一或多個(gè)中央機(jī)械臂無法運(yùn)作時(shí)使系統(tǒng)可以處理基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一制程架60的側(cè)60B，以及該第二制程架80的側(cè)80A皆沿著與每一個(gè)機(jī)械臂組件(例如第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件IlB等)的水平移動組件90 (第9A和12A-C圖)平行的方向排列。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一機(jī)械臂組件IlA適于從側(cè)60B存取并在該第一制程架60 內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第三機(jī)械臂組件lie適于從側(cè)80A存取并在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60B存取并在該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第四機(jī)械臂組件1ID適于從側(cè)80A存取并在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第二機(jī)械臂組件IlB和第四機(jī)械臂組件IlD進(jìn)一步適于從側(cè)60B存取第一制程架60內(nèi)的制程腔室，并從側(cè)80A存取第二制程架80內(nèi)的制程腔室。第2B圖示出第2A圖所示的群集工具10的實(shí)施例的平面圖，其中該第二機(jī)械臂組件IlB的機(jī)械臂葉片87通過側(cè)60B延伸進(jìn)入該第一制程架60內(nèi)的制程腔室。將該機(jī)械臂葉片87延伸進(jìn)入一制程腔室及/或從一制程腔室縮回該機(jī)械臂葉片87的能力通常是由該機(jī)械臂組件11的零組件的協(xié)力移動，其是容納在該水平移動組件90、垂直移動組件95、及機(jī)械臂硬件組件85內(nèi)，并藉由運(yùn)用從該系統(tǒng)控制器101傳來的指令來完成。如上所述，該第二機(jī)械臂組件IlB和該第四機(jī)械臂組件IlD連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許該群集工具中的每一個(gè)機(jī)械臂間的「重迭」，可容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序，并且也可使用防撞系統(tǒng)，以容許機(jī)械臂以最佳方式傳送基材通過該系統(tǒng)。使用系統(tǒng)控制器101來最大化該群集工具的使用可改善該群集工具的CoO，使晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送程序范例第2C圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第2A圖所示的群集工具配置的傳送步驟程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105 (物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至設(shè)置在該通道位置gC處的腔室， 因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。在完成該制程步驟504后，接著利用該第四機(jī)械臂組件IlD依循該傳送路徑A3 將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第四機(jī)械臂組件IlD傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533。在執(zhí)行該制程步驟508后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533(第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第四機(jī)械臂組件IlD傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室 534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第二機(jī)械臂組件IlB依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第一機(jī)械臂組件IlA依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9A處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。在一實(shí)施態(tài)樣中，該傳送路徑A7可分割成為兩個(gè)傳送步驟，其可能需要該第四機(jī)械臂組件1ID從該交換腔室533汲取該基材，并將其傳送至該第四通道位置9D，其在此接著由該第二機(jī)械臂組件IlB汲取并傳送至該制程腔室534。在一實(shí)施態(tài)樣中，每一個(gè)通道腔室皆可由任何一個(gè)中央機(jī)械臂組件(即第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件11B、第三機(jī)械臂組件IlC和第四機(jī)械臂組件11D)存取。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該第二機(jī)械臂組件IlB能夠從該交換腔室533汲取該基材并將其傳送至該制程腔室534。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。第三群集工具配置A.系統(tǒng)配置第3A圖是群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，其具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在兩個(gè)制程架(元件60和80)周圍的三個(gè)機(jī)械臂組件11 (第9-11圖；第3A圖的元件IlAUlBjn 11C)，所有皆適于執(zhí)行利用所述制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第3A圖所示的實(shí)施例與第IA-F圖所示的配置相同，除了在該第一制程架60的側(cè)60A上的該第一機(jī)械臂組件IlA和通道位置 9A的設(shè)置及將該第三機(jī)械臂組件1IC和通道位置9C設(shè)置在該第二制程架80的側(cè)80B上之外，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。此群集工具配制法的一個(gè)優(yōu)勢在于若該中央模組 25的其中一個(gè)機(jī)械臂無法運(yùn)作，該系統(tǒng)仍然可利用其他兩個(gè)機(jī)械臂來繼續(xù)處理基材。此配置法也除去，或最小化，所述機(jī)械臂在裝設(shè)在各個(gè)制程架內(nèi)的制程腔室間傳送所述基材時(shí)對于防撞型控制特征的需要，因?yàn)槌チ司o鄰設(shè)置的機(jī)械臂的實(shí)體重迭。此配置法的另一個(gè)優(yōu)勢在于彈性及模組式結(jié)構(gòu)讓使用者可配置符合該使用者要求的產(chǎn)能所需要的制程腔室、制程架、及制程機(jī)械臂的數(shù)量。 在此配置中，該第一機(jī)械臂組件1IA適于從側(cè)60A存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室，該第三機(jī)械臂組件lie適于從側(cè)80B存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室， 而該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60B存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室，并從側(cè) 80A存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一制程架60的側(cè)60B、 該第二制程架80的側(cè)80A皆沿著與每一個(gè)機(jī)械臂組件(即第一機(jī)械臂組件11A、第二機(jī)械臂組件11B、第三機(jī)械臂組件11C)的水平移動組件90 (在后方描述)平行的方向排列。
該第一機(jī)械臂組件11A、該第二機(jī)械臂組件IlB和該第三機(jī)械臂組件IlC連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許各個(gè)機(jī)械臂間的「重迭」，并容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序。使用群集工具結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)控制器101的合作以最大化該群集工具的使用而改善CoO可讓晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送稈序范例第;3B圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第3A圖所示的群集工具的傳送步驟程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105 (物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至設(shè)置在該通道位置9C處的腔室，因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第三機(jī)械臂組件 1IC依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。在完成該制程步驟504后，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第二機(jī)械臂組件IlB 傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后， 接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材， 依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533 (第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第二機(jī)械臂組件IlB傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第二機(jī)械臂組件IlB依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第一機(jī)械臂組件IlA依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9A處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。第四群集工具配置A.系統(tǒng)配置第4A圖是群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，其具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在兩個(gè)制程架(元件60和80)周圍的兩個(gè)機(jī)械臂組件11 (第9-11圖；第4A圖的元件11B、和11C)，所有皆適于執(zhí)行利用所述制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第4A圖所示的實(shí)施例與第3A圖所示的配置相同，除了該第一制程架60的側(cè)60A上的該第一機(jī)械臂組件IlA和通道位置9A的排除之外，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。此系統(tǒng)配制法的一個(gè)優(yōu)勢在于其提供對于裝設(shè)在該第一制程架60內(nèi)的腔室的輕易的存取，因此使裝設(shè)在該第一制程架60內(nèi)的一或多個(gè)制程腔室可以在該群集工具仍在處理基材時(shí)下線和上線。另一個(gè)優(yōu)勢在于當(dāng)利用該第二機(jī)械臂組件IlB處理基材時(shí)，該第三機(jī)械臂組件IlC及/或第二制程架80可上線。此配置也容許將在一制程程序中時(shí)常使用的具有短的腔室制程時(shí)間的制程腔室設(shè)置在該第二制程架80中，因此其可由該兩個(gè)中央機(jī)械臂(即元件IlB和11C)服務(wù)，而減少機(jī)械臂傳送限制瓶頸，并因此改善系統(tǒng)產(chǎn)能。此配置法也除去或最小化所述機(jī)械臂在裝設(shè)在一制程架內(nèi)的制程腔室間傳送所述基材時(shí)對于防撞型控制特征的需要，因?yàn)槌チ嗣恳粋€(gè)機(jī)械臂進(jìn)入其他機(jī)械臂的空間的實(shí)體侵犯。此配置法的另一個(gè)優(yōu)勢在于彈性及模組式結(jié)構(gòu)讓使用者可
21配置符合該使用者要求的產(chǎn)能所需要的制程腔室、制程架、及制程機(jī)械臂的數(shù)量。在此配置中，該第三機(jī)械臂組件1IC適于從側(cè)80A存取并在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材，而該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60B存取并在該第一制程架 60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材，并從側(cè)80A在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一制程架60的側(cè)60B、該第二制程架80的側(cè)80A皆沿著與每一個(gè)機(jī)械臂組件(即第二機(jī)械臂組件11B、第三機(jī)械臂組件11C)的水平移動組件90 (在后方描述)平行的方向排列。如上所討論般，該第二機(jī)械臂組件IlB和該第三機(jī)械臂組件IlC連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序。使用群集工具結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)控制器 101的合作以最大化該群集工具的使用而改善CoO可讓晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送稈序范例第4B圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第4A圖所示的群集工具的傳送步驟程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105 (物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至設(shè)置在該通道位置9B處的腔室，因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第三機(jī)械臂組件 1IC依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。在完成該制程步驟504后，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第三機(jī)械臂組件IlC 傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后， 接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材， 依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533 (第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第二機(jī)械臂組件IlB傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第二機(jī)械臂組件IlB依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第二機(jī)械臂組件IlB依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9A處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。第五群集工具配置A.系統(tǒng)配置第5A圖是群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，其具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在單一制程架(元件60)周圍的四個(gè)機(jī)械臂組件11 (第 9-11圖；第5A圖的元件11A、1 IBUlC和11D)，所有皆適于執(zhí)行利用制程架60內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第5A圖所示的實(shí)施例與上面所示的配置相仿，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。此配置法可減少具有三個(gè)或更少個(gè)機(jī)械臂的系統(tǒng)所經(jīng)受的基材傳送瓶頸，因?yàn)槭褂每扇哂嗟卮嫒⊙b設(shè)在該制程架60內(nèi)的所述制程腔室的四個(gè)機(jī)械臂。此配置法在除去機(jī)械臂限制型瓶頸上是特別有用的，其通常在制程程序中的制程步驟數(shù)量很多而腔室制程時(shí)間很短的情況中發(fā)生。在此配置法中，該第一機(jī)械臂組件IlA和該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60A存取并在該制程架60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材，而該第三機(jī)械臂組件IlC和該第四機(jī)械臂組件IlD適于從側(cè)60B存取并在該制程架60內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。該第一機(jī)械臂組件IlA和該第二機(jī)械臂組件11B，及該第三機(jī)械臂組件IlC和該第四機(jī)械臂組件IlD連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許各個(gè)機(jī)械臂間的「重迭」，可容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序，并且也可使用防撞系統(tǒng)，以容許機(jī)械臂以最佳方式傳送基材通過該系統(tǒng)。使用群集工具結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)控制器101的合作以最大化該群集工具的使用而改善CoO可讓晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送稈序范例第5B圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第5A圖所示的群集工具的傳送步驟程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105 (物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至設(shè)置在該通道位置9C處的腔室，因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第三機(jī)械臂組件 1IC依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。在完成該制程步驟504后，接著利用該第四機(jī)械臂組件IlD依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第四機(jī)械臂組件IlD 傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后， 接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材， 依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533 (第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第一機(jī)械臂組件IlA傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第一機(jī)械臂組件IlA依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第二機(jī)械臂組件IlB依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9B處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。第六群集工具配置A.系統(tǒng)配置第6A圖是群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，其具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在兩個(gè)制程架(元件60和80)周圍的八個(gè)機(jī)械臂組件 11 (第9-11圖；第6A圖的元件11A、11B、11C和11D-11H)，所有皆適于執(zhí)行利用制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第6A圖所示的實(shí)施例與上面所示的配置相仿，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。此配置法可減少具有較少機(jī)械臂的系統(tǒng)所經(jīng)受的基材傳送瓶頸，因?yàn)槭褂每扇哂嗟卮嫒⊙b設(shè)在所述制程架60和80內(nèi)的所述制程腔室的八個(gè)機(jī)械臂。此配置法在除去機(jī)械臂限制型瓶頸上是特別有用的，其通常在制程程序中的制程步驟數(shù)量很多而腔室制程時(shí)間很短的情況中發(fā)生。在此配置法中，該第一機(jī)械臂組件IlA和該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60A存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室，而該第七機(jī)械臂組件IlG和該第八機(jī)械臂組件IlH 適于從側(cè)80A存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第三機(jī)械臂組件IlC和該第四機(jī)械臂組件IlD能夠從側(cè)60B存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室。 在一實(shí)施態(tài)樣中，該第五機(jī)械臂組件IlE和該第六機(jī)械臂組件IlF適于從側(cè)80B存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第四機(jī)械臂組件IlD進(jìn)一步適于從側(cè)80B存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室，而該第五機(jī)械臂組件1IE進(jìn)一步適于從側(cè) 60B存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室。所述機(jī)械臂組件IlA-H連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許各個(gè)機(jī)械臂間的「重迭」，可容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序，并且也可使用防撞系統(tǒng)，以容許機(jī)械臂以最佳方式傳送基材通過該系統(tǒng)。使用群集工具結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)控制器101的合作以最大化該群集工具的使用而改善CoO可讓晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送稈序范例第6B圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第6A圖所示的群集工具的傳送步驟的第一制程程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105(物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至通道腔室9F，因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。 在完成該制程步驟504后，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533 (第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第五機(jī)械臂組件IlE傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室 534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第五機(jī)械臂組件IlE依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第五機(jī)械臂組件IlE依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9E處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。第6B圖也示出具有與該第一程序同時(shí)完成的傳送步驟的第二制程程序的范例， 其使用該第二制程架80內(nèi)的不同制程腔室。如第IC-D圖所示，該第一制程架和第二制程架一般含有一些適于執(zhí)行相同的用來執(zhí)行預(yù)期制程程序的制程步驟的制程腔室(例如第IC 圖的⑶1-8、第ID圖的BC1-6)。因此，在此配置法中，每一個(gè)制程程序皆可利用裝設(shè)在所述制程架內(nèi)的任何一個(gè)制程腔室來執(zhí)行。在一范例中，該第二制程程序是與該第一制程程序 (在前面討論)相同的制程程序，其含有相同的傳送步驟A1-Altl，在此描繪為A/ -Alt/，分別使用該第七和第八中央機(jī)械臂(即元件11G-11H)，而非該第五和第六中央機(jī)械臂組件(即元件11E-11F)，如上所述般。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。第七群集工具配置A.系統(tǒng)配置第6C圖是與第6A圖所示的配置相仿的群集工具10的一實(shí)施例的平面圖，除了除去其中一個(gè)機(jī)械臂組件(即機(jī)械臂組件11D)之外，以在減少系統(tǒng)寬度的同時(shí)仍然提供高的系統(tǒng)產(chǎn)能。因此，在此配置中該群集工具10具有前端機(jī)械臂組件15、后端機(jī)械臂組件40、 系統(tǒng)控制器101及設(shè)置在兩個(gè)制程架(元件60和80)周圍的七個(gè)機(jī)械臂組件11 (第9-11 圖；第6C圖的元件11A-11C，和11E-11H)，所有皆適于執(zhí)行利用制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室的預(yù)期基材制程程序的至少一實(shí)施態(tài)樣。第6C圖所示的實(shí)施例與上面所示的配置相仿，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。此配置法可減少具有較少機(jī)械臂的系統(tǒng)所經(jīng)受的基材傳送瓶頸，因?yàn)槭褂每扇哂嗟卮嫒⊙b設(shè)在所述制程架60和80內(nèi)的所述制程腔室的七個(gè)機(jī)械臂。 此配置法在除去機(jī)械臂限制型瓶頸上是特別有用的，其通常在制程程序中的制程步驟數(shù)量很多而腔室制程時(shí)間很短的情況中發(fā)生。在此配置法中，該第一機(jī)械臂組件IlA和該第二機(jī)械臂組件IlB適于從側(cè)60A存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室，而該第七機(jī)械臂組件IlG和該第八機(jī)械臂組件IlH 適于從側(cè)80A存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第三機(jī)械臂組件IlC和該第五機(jī)械臂組件IlE適于從側(cè)60B存取該第一制程架60內(nèi)的所述制程腔室。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第五機(jī)械臂組件IlE和該第六機(jī)械臂組件IlF適于從側(cè)80B存取該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室。所述機(jī)械臂組件11A-11C和11E-11H連同該系統(tǒng)控制器101可適于容許各個(gè)機(jī)械臂間的「重迭」，可容許該系統(tǒng)控制器的邏輯排程器以基于來自使用者和遍布在該群集工具內(nèi)的各個(gè)感應(yīng)器的輸入理出工作及基材移動的優(yōu)先順序，并且也可使用防撞系統(tǒng)，以容許機(jī)械臂以最佳方式傳送基材通過該系統(tǒng)。使用群集工具結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)控制器101的合作以最大化該群集工具的使用而改善CoO可讓晶片史更具再現(xiàn)性，并改善系統(tǒng)可靠度。B.傳送程序范例第6D圖示出可用來完成第IF圖所描述的制程程序的通過第6C圖所示的群集工具的傳送步驟的第一制程程序的范例。在此實(shí)施例中，該基材是由該前端機(jī)械臂組件15從一晶片盒組件105 (物件#105D)移出，并依循傳送路徑A1傳送至通道腔室9F，因此可在該基材上完成該通道步驟502。一旦完成該通道步驟502，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF依循該傳送路徑A2將該基材傳送至第一制程腔室531，在此制程步驟504在該基材上完成。 在完成該制程步驟504后，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF依循該傳送路徑A3將該基材傳送至該第二制程腔室532。在執(zhí)行該制程步驟506后，接著利用該第六機(jī)械臂組件IlF傳送該基材，依循該傳送路徑A4,至該交換腔室533 (第7A圖)。在執(zhí)行該制程步驟508后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A5,至該外部制程系統(tǒng)536，在此執(zhí)行制程步驟510。在執(zhí)行制程步驟510后，接著利用該后端機(jī)械臂組件40傳送該基材，依循該傳送路徑A6,至該交換腔室533 (第7A圖)，在此執(zhí)行制程步驟512。在執(zhí)行該制程步驟512后，接著利用該第五機(jī)械臂組件IlE傳送該基材，依循該傳送路徑A7,至該制程腔室 534，在此執(zhí)行制程步驟514。然后利用該第五機(jī)械臂組件IlE依循該傳送路徑A8傳送該基材。在該制程步驟516完成后，該第五機(jī)械臂組件IlE依循該傳送路徑A9將該基材傳送至設(shè)置在該通道位置9E處的通道腔室。在執(zhí)行該通道步驟518后，接著利用該前端機(jī)械臂組件15傳送該基材，依循該傳送路徑Altl，至該晶片盒組件105D。第6D圖也示出具有與該第一程序同時(shí)完成的傳送步驟的第二制程程序的范例， 其使用該第二制程架80內(nèi)的不同制程腔室。如第IC-D圖所示，該第一制程架和第二制程架一般含有一些適于執(zhí)行相同的用來執(zhí)行預(yù)期制程程序的制程步驟的制程腔室(例如第IC 圖的⑶1-8、第ID圖的BC1-6)。因此，在此配置法中，每一個(gè)制程程序皆可利用裝設(shè)在所述制程架內(nèi)的任何一個(gè)制程腔室來執(zhí)行。在一范例中，該第二制程程序是與該第一制程程序 (在前面討論)相同的制程程序，其含有相同的傳送步驟A1-Altl，在此描繪為A/ -Alt/，分別使用該第七和第八中央機(jī)械臂(即元件11G-11H)，而非該第五和第六中央機(jī)械臂組件(即元件11E-11F)，如上所述般。此外，在一實(shí)施例中，該群集工具10并不與一外部制程系統(tǒng)536連接或交流，因此該后端機(jī)械臂組件40并非該群集工具配置的一部分，并且該傳送步驟A5-A6及制程步驟 510不會在該基材上執(zhí)行。在此配置中，所有的制程步驟和傳送步驟皆在該群集工具10內(nèi)執(zhí)行。后端機(jī)械臂組件 在一實(shí)施例中，如第1-6圖所示者，該中央模組25含有一后端機(jī)械臂組件40，其適于在一外部模組5和例如一交換腔室533的留置在該第二制程架80內(nèi)的所述制程腔室間傳送基材。參見第IE圖，在一實(shí)施態(tài)樣中，該后端機(jī)械臂組件40 —般含有具有單一手臂/ 葉片40E的習(xí)知水平多關(guān)節(jié)機(jī)械手臂(SCARA)。在另一實(shí)施例中，該后端機(jī)械臂組件40可以是SCARA型機(jī)械臂，其具有兩個(gè)可獨(dú)立控制的手臂/葉片(未示出)，以用兩個(gè)一組的方式交換基材及/或傳送基材。該兩個(gè)可獨(dú)立控制的手臂/葉片型機(jī)械臂可具有優(yōu)勢，例如， 當(dāng)該機(jī)械臂必須在同一個(gè)位置置放下一個(gè)基材前先從一預(yù)期位置移除一基材時(shí)。一例示的兩個(gè)可獨(dú)立控制的手臂/葉片型機(jī)械臂可由加州佛蒙特的Asyst Technologies公司購得。 雖然第1-6圖示出含有后端機(jī)械臂組件40的配置法，但該群集工具10的一實(shí)施例并不含有后端機(jī)械臂組件40。 第7A圖示出可設(shè)置在一制程架(例如元件60、80)的支持腔室165(第ID圖)內(nèi)的交換腔室533的一實(shí)施例。在一實(shí)施例中，該交換腔室533適于接收并留置一基材，而使該群集工具10內(nèi)的至少兩個(gè)機(jī)械臂可存放或汲取一基材。在一實(shí)施態(tài)樣中，該后端機(jī)械臂組件40及該中央模組25內(nèi)的至少一機(jī)械臂適于從該交換腔室533存放/或接收一基材。 該交換腔室533 —般含有基材支撐組件601、圍封602、以及形成在該圍封602的壁上的至少一存取埠603。該基材支撐組件601 —般具有復(fù)數(shù)個(gè)支撐指狀物610 (第7A圖中示出六個(gè))，其具有一基材容納表面611以支撐并留置設(shè)置在其上的基材。該圍封602 —般是具有一或多個(gè)封入該基材支撐組件601的壁的結(jié)構(gòu)，以控制所述基材的周遭環(huán)境，當(dāng)其留置在該交換腔室533內(nèi)時(shí)。該存取埠603 —般是位于該圍封602壁上的開口，其使一外部機(jī)械臂可以存取而汲取或放下基材至所述支撐指狀物610。在一實(shí)施態(tài)樣中，該基材支撐組件601適于容許基材被設(shè)置在該基材容納表面611上及從該基材容納表面611上移除，藉由適于以分開至少90度的角度存取該圍封602的兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂。在該群集工具10的一實(shí)施例中，在第7B圖示出，該后端機(jī)械臂組件40的基座40A 是裝設(shè)在與一滑軌組件40B連接的支撐座40C上，因此該基座40A可以設(shè)置在沿著滑軌組件40B長度方向上的任一點(diǎn)上。在此配置法中，該后端機(jī)械臂組件40可適于從該第一制程架60、該第二制程架80及/或該外部模組5內(nèi)的制程腔室傳送基材。該滑軌組件40B —般可含有一線性球狀軸承滑軌(未示出)和線性促動器(未示出)，這在技藝中是熟知的，以設(shè)置該支撐座40C和留置在其上的后端機(jī)械臂組件40。該線性促動器可以是能夠由伊利諾州Wood Dale的Danaher Motion公司購得的驅(qū)動線性無刷伺服馬達(dá)。如第7B圖所示， 該滑軌組件40B可定向在y方向上。在此配置法中，為了避免和所述機(jī)械臂組件IlAUlB 或IlC碰撞，該控制器會適于在該滑軌組件40B可移動而不會撞擊其他中央機(jī)械臂組件時(shí) (即元件IlAUlB等)僅移動該后端機(jī)械臂組件40。在一實(shí)施例中，該后端機(jī)械臂組件40 是裝設(shè)在一滑軌組件40B上，其是經(jīng)設(shè)置得使其不會干擾其他中央機(jī)械臂組件。環(huán)境控制第8A圖示出具有一附加的環(huán)境控制組件110的群集工具10的一實(shí)施例，該組件 110封入該群集工具10以提供受控制的制程環(huán)境，以在其中執(zhí)行一預(yù)期制程程序的各個(gè)基材處理步驟。第8A圖示出在所述制程腔室上設(shè)置有環(huán)境圍封的第IA圖所示的群集工具10 的配置。該環(huán)境控制組件110—般含有一或多個(gè)過濾單元112、一或多個(gè)風(fēng)扇(未示出)、 以及一選擇性的群集工具基座10A。在一實(shí)施態(tài)樣中，一或多個(gè)壁113是經(jīng)添加至該群集工具10以封入該群集工具10，并提供一受控制的環(huán)境以執(zhí)行所述基材制程步驟。一般來說， 該環(huán)境控制組件110適于控制空氣流速、流動型態(tài)(regime)(例如層流(laminar flow)或紊流(turbulent flow))，及該群集工具10內(nèi)的微粒污染程度。在一實(shí)施態(tài)樣中，該環(huán)境控制組件110也可控制空氣溫度、相對濕度、空氣中的靜電及可利用和習(xí)知無塵室相容的通風(fēng)及空調(diào)(HVAC)系統(tǒng)控制的其他典型制程參數(shù)。操作時(shí)，該環(huán)境控制組件110利用一風(fēng)扇(未示出)從位于該群集工具10外部的來源(未示出)或區(qū)域?qū)肟諝?，其接著傳送空氣通過一過濾器111，然后通過該群集工具10，并通過該群集工具基座10A離開該群集工具 10。在一實(shí)施態(tài)樣中，該過濾器111是高效能微?？諝?H EPA)過濾器。該群集工具基座 10A—般是該群集工具的地板、或底部區(qū)域，其含有若干狹縫10B(第12A圖)或容許被該 (等)風(fēng)扇推動通過該群集工具10的空氣離開該群集工具10的其他微孔。第8A圖進(jìn)一步示出該環(huán)境控制組件110的一實(shí)施例，其具有多個(gè)不同的環(huán)境控制組件110A-C，其提供受控制的制程環(huán)境，以在其中執(zhí)行一預(yù)期制程程序的各個(gè)基材處理步驟。每一個(gè)不同的環(huán)境控制組件110A-C是設(shè)置在該中央模組25內(nèi)的每一個(gè)機(jī)械臂組件 11上(例如第1-6圖的元件IlAUlB等)，以分開控制每一個(gè)機(jī)械臂組件11上的氣流。此配置法在第3A和4A圖所示的配置法中是特別有優(yōu)勢的，因?yàn)樗鰴C(jī)械臂組件是由所述制程架彼此實(shí)體隔離。每一個(gè)不同的環(huán)境控制組件110A-C—般含有一過濾單元112、一風(fēng)扇 (未示出)以及一選擇性的群集工具基座10A，以排出受控制的空氣。
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第8B圖示出一環(huán)境控制組件110的剖面圖，其具有裝設(shè)在群集工具10上的單一個(gè)過濾單元112，并且是用與y和ζ方向平行的剖面平面來觀看。在此配置法中，該環(huán)境控制組件110具有單一個(gè)過濾單元112、一或多個(gè)風(fēng)扇(未示出)、以及一群集工具基座10A。 在此配置法中，空氣從該環(huán)境控制組件110垂直傳送進(jìn)入該群集工具10內(nèi)(元件A)，圍繞所述制程架60、80以及機(jī)械臂組件11A-C，然后離開該群集工具基座10A。在一實(shí)施態(tài)樣中， 所述壁113適于在該群集工具10內(nèi)封入并形成一制程區(qū)域，因此留置在所述制程架60、80 內(nèi)的所述制程腔室周圍的制程環(huán)境可由該環(huán)境控制組件110傳送的空氣控制。第8C圖示出一環(huán)境控制組件110的剖面圖，其具有裝設(shè)在群集工具10上的多個(gè)不同的環(huán)境控制組件110A-C，并且是用與y和ζ方向平行的剖面平面來觀看(見第IA圖)。 在此配置法中，該環(huán)境控制組件110含有一群集工具基座10A、三個(gè)環(huán)境控制組件110A-C、 一第一制程架60，其延伸至所述環(huán)境控制組件110A-C的下表面114或其上，以及一第二制程架80，其延伸至所述環(huán)境控制組件110A-C的下表面114或其上。一般來說，該三個(gè)環(huán)境控制組件110A-C的每一個(gè)皆含有一或多個(gè)風(fēng)扇(未示出)及一過濾器111。在此配置法中，空氣從每一個(gè)環(huán)境控制組件110A-C垂直傳送至該群集工具10內(nèi)(見元件A)，介于所述制程架60、80和機(jī)械臂組件IlA-C間，然后離開該群集工具基座10A。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述壁113適于在該群集工具10內(nèi)封入并形成一制程區(qū)域，因此留置在所述制程架60、80內(nèi)的所述制程腔室周圍的制程環(huán)境可由該環(huán)境控制組件110傳送的空氣控制。在另一實(shí)施例中，該群集工具10是置于無塵室環(huán)境中，其適于以預(yù)期速度傳送含少量微粒的空氣通過該群集工具10，然后離開該群集工具基座10A。在此配置法中，通常不需要該環(huán)境控制組件110，因此不會使用。控制空氣性質(zhì)和留置在該群集工具10內(nèi)的所述制程腔室周圍的環(huán)境在微粒累積的控制及/或最小化上是一個(gè)重要因素，其可造成微粒污染導(dǎo)致的元件合格率問題。機(jī)械臂組件一般來說，在此所述的群集工具10的各個(gè)實(shí)施例是優(yōu)于先前技藝配置，因?yàn)榭s小的機(jī)械臂組件尺寸(例如第9A圖的元件11)造成群集工具占地面積縮小，以及最小化傳送基材過程期間一機(jī)械臂進(jìn)入其他群集工具零組件(例如機(jī)械臂、制程腔室)占據(jù)的空間的實(shí)體侵犯的機(jī)械臂設(shè)計(jì)。減少的實(shí)體侵犯避免機(jī)械臂與其他零組件的碰撞。在減少該群集工具占地面積的同時(shí)，在此所述的機(jī)械臂的實(shí)施例也具有特定優(yōu)勢，因?yàn)闇p少需要控制以執(zhí)行傳送動作的軸的數(shù)量。此實(shí)施態(tài)樣是重要的，因?yàn)檫@會改善所述機(jī)械臂組件的可靠度， 因而該群集工具的可靠度。此實(shí)施態(tài)樣的重要性可由注意到一個(gè)系統(tǒng)的可靠度與該系統(tǒng)內(nèi)每一個(gè)元件的可靠度乘積成正比而更加明了。因此，具有三個(gè)上線時(shí)間為99%的促動器的機(jī)械臂總是比具有四個(gè)上線時(shí)間為99%的促動器好，因?yàn)槊恳粋€(gè)皆擁有99%的上線時(shí)間的三個(gè)促動器的系統(tǒng)上線時(shí)間是97. 03%，而每一個(gè)皆擁有99%的上線時(shí)間的四個(gè)促動器則是 96. 06%。在此所述的群集工具10的實(shí)施例也因?yàn)闇p少需要用來將基材傳送通過該群集工具的通道腔室(例如第IB圖的元件9A-C)數(shù)量而優(yōu)于先前技藝配置。先前技藝群集工具配置通常在該制程程序中安裝兩個(gè)或更多個(gè)通道腔室，或具有暫時(shí)基材留置站，因此該群集工具機(jī)械臂可在該制程程序期間在設(shè)置于該一或多個(gè)制程腔室之間的中央位置上的一個(gè)機(jī)械臂和設(shè)置于一或多個(gè)其他制程腔室之間的中央位置上的另一個(gè)機(jī)械臂間傳送基材。依次將基材置放在不會執(zhí)行隨后的制程步驟的多個(gè)通道腔室內(nèi)的過程浪費(fèi)時(shí)間、降低該 (等)機(jī)械臂的可使用性、浪費(fèi)該群集工具內(nèi)的空間、并且增加該(等)機(jī)械臂的損耗。所述通道步驟的增加也對元件合格率有不良影響，源自于基材換手次數(shù)的增加，這會增加背側(cè)的微粒污染量。此外，含有多個(gè)通道步驟的基材制程程序自然會擁有不同的基材晶片史， 除非控制每一個(gè)基材耗費(fèi)在該通道腔室內(nèi)的時(shí)間?？刂圃谠撏ǖ狼皇覂?nèi)的時(shí)間會增加系統(tǒng)復(fù)雜度，因?yàn)樵黾恿艘粋€(gè)制程變量，并且很有可能會損害可達(dá)到的最大基材產(chǎn)能。本發(fā)明的實(shí)施態(tài)樣，在此所述者，避免這些先前技藝配置的困難處，因?yàn)樵撊杭ぞ吲渲猛ǔＶ辉谟诨纳蠄?zhí)行制程之前以及在所有制程步驟皆已在基材上完成后具有所述通道步驟(例如第IF圖的步驟502和518)，因此通常只會稍微或是不會影響到基材晶片史，并且也不會顯著地增加該制程程序的基材傳送時(shí)間，因?yàn)槌チ怂鲋瞥滩襟E之間的通道步驟。在系統(tǒng)產(chǎn)能受到機(jī)械臂限制的情況中，該群集工具的最大基材產(chǎn)能是由完成該制程程序所移動的機(jī)械臂總數(shù)量和需要用來使該機(jī)械臂移動的時(shí)間來控制。一機(jī)械臂所需的完成一預(yù)期移動的時(shí)間通常受機(jī)械臂硬件、制程腔室間的距離、基材清潔度考量、以及系統(tǒng)控制限度所限。通常機(jī)械臂移動時(shí)間不會因?yàn)闄C(jī)械臂類型的不同而大幅度改變，并且在產(chǎn)業(yè)上頗為一致。因此，移動較少機(jī)械臂即可完成制程程序的群集工具的系統(tǒng)產(chǎn)能會比需要較多移動以完成制程程序的群集工具高，例如含有多個(gè)通道步驟的群集工具。笛卡兒機(jī)械臂配置第9A圖示出可用來做為一或多個(gè)機(jī)械臂組件11(例如第1-6圖所示的元件 11A-H)的機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例。該機(jī)械臂組件11 一般含有一機(jī)械臂硬件組件85、一或多個(gè)垂直機(jī)械臂組件95及一或多個(gè)水平機(jī)械臂組件90。因此可藉由該機(jī)械臂硬件組件 85、垂直機(jī)械臂組件95和水平機(jī)械臂組件90的協(xié)力移動將基材設(shè)置在該群集工具10內(nèi)的任一預(yù)期χ、y和ζ位置上，利用該系統(tǒng)控制器101傳達(dá)的指令。該機(jī)械臂硬件組件85 —般含有一或多個(gè)傳送機(jī)械臂組件86，其適于利用該系統(tǒng)控制器101傳達(dá)的指令留置、傳送和設(shè)置一或多個(gè)基材。在一實(shí)施例中，第9-11圖所示的傳送機(jī)械臂組件86適于在水平面上傳送基材，例如包含第IlA圖所示的X和Y方向的平面，因?yàn)楦鱾€(gè)傳送機(jī)械臂組件86零組件的移動。在一實(shí)施態(tài)樣中，該傳送機(jī)械臂組件86適于在通常與該機(jī)械臂葉片87的基材支撐表面87C(第IOC圖)平行的平面上傳送基材。第 IOA圖示出該機(jī)械臂硬件組件85的一實(shí)施例，其含有適于傳送基材的單一個(gè)傳送機(jī)械臂組件86。第IOB圖示出該機(jī)械臂硬件組件85的一實(shí)施例，其含有彼此以相反方向設(shè)置的兩個(gè)傳送機(jī)械臂組件86，因此可將所述機(jī)械臂葉片87A-B (及第一連接構(gòu)件310A-310B)分開一小段距離置放。第IOB圖所示的配置，或「上/下」型機(jī)械臂葉片配置，可以是有優(yōu)勢的，例如，當(dāng)想在置放下一個(gè)欲在相同制程腔室內(nèi)處理的基材之前先從制程腔室中移除基材，而不需要讓該機(jī)械臂硬件組件85離開其基本位置以將該「移除的」基材移至另一個(gè)腔室(即 「交換」基材)時(shí)。在另一實(shí)施態(tài)樣中，此配置法可容許該機(jī)械臂填滿所有的機(jī)械臂葉片， 然后以兩個(gè)或多個(gè)基材為一組的方式傳送所述基材至該工具中的預(yù)期位置。將基材分成兩個(gè)或多個(gè)一組的的制程可藉由減少傳送所述基材所需的機(jī)械臂移動量來幫助改善該群集工具的基材產(chǎn)能。雖然第10A-B圖所描繪的傳送機(jī)械臂組件86是雙桿(bar)連結(jié)機(jī)械臂 305型的機(jī)械臂(第IOC圖)，但此配置并不意欲限制可與在此所討論的實(shí)施例并用的機(jī)械臂組件的向位和類型。一般來說，具有兩個(gè)傳送機(jī)械臂組件86的機(jī)械臂硬件組件85的實(shí)施例，如第IOB圖所示者，會有兩個(gè)含有相同的基本零組件的傳送機(jī)械臂組件86，因此之后對于單一傳送機(jī)械臂組件86的討論也意在描述該(等)雙機(jī)械臂組件實(shí)施態(tài)樣中的零組件。第9-11圖所示的群集工具和機(jī)械臂配置的一優(yōu)勢在于最小化圍繞一傳送機(jī)械臂組件86的區(qū)域的大小，在其中所述機(jī)械臂零組件和基材可自由移動而不會與該機(jī)械臂組件11外部的其他群集工具零組件碰撞。機(jī)械臂和基材可在其中自由移動的區(qū)域被稱為「傳送區(qū)域」(第IlC圖的元件91)。該傳送區(qū)域91 一般可定義為當(dāng)一基材留置在一機(jī)械臂葉片上時(shí)，該機(jī)械臂可自由移動而不會與其他群集工具零組件碰撞的空間(χ、y和ζ方向)。 雖然可將該傳送區(qū)域描述為一空間，但通常該傳送區(qū)域最重要的實(shí)施態(tài)樣是該傳送區(qū)域占據(jù)的水平面積(χ和y方向)，因?yàn)槠渲苯佑绊懭杭ぞ叩恼嫉孛娣e和CoO。該傳送區(qū)域的水平面積在界定該群集工具的占地面積時(shí)是一重要因素，因?yàn)樵搨魉蛥^(qū)域的水平零組件越小，各個(gè)機(jī)械臂組件(例如第1-6圖的元件11A、11B、11C等等)就可越靠近彼此或是機(jī)械臂就可越靠近制程架。界定該傳送區(qū)域大小的一個(gè)因素是確認(rèn)該傳送區(qū)域夠大的需要，以減少或避免一機(jī)械臂實(shí)體侵犯到其他群集工具零組件占據(jù)的空間。在此所述的實(shí)施例是優(yōu)于先前技藝，源自于所述實(shí)施例將所述機(jī)械臂組件86零組件縮回(retract)沿著該水平移動組件90的傳送方向(χ方向)定向的傳送區(qū)域中的方式。參見第IlJ圖，該水平面積一般可分割為兩個(gè)部分，寬度「Wj(y方向)和長度「L」 (X方向)。在此所述的實(shí)施例具有進(jìn)一步的優(yōu)勢，因?yàn)閲@該機(jī)械臂的凈空區(qū)域的縮小寬度「WJ確保該機(jī)械臂能夠可靠地將基材設(shè)置在一制程腔室內(nèi)。可藉由注意到習(xí)知SCARA 機(jī)械臂(例如第IlK圖的物件CR) —般具有在縮回時(shí)，從該機(jī)械臂中央(例如物件C)延伸出一段距離的手臂(例如物件A1)而了解縮小的寬度「WJ優(yōu)于習(xí)知多桿連結(jié)水平多關(guān)節(jié)機(jī)械手臂(SCARA)型機(jī)械臂的益處，習(xí)知機(jī)械臂增加所述機(jī)械臂彼此間的相對距離(即寬度「W2」)，因?yàn)樵摍C(jī)械臂周圍的區(qū)域必須凈空，以使該手臂零組件可以旋轉(zhuǎn)定向而不會干擾其他群集工具零組件(例如，其他機(jī)械臂、制程架零組件)。習(xí)知SCARA型機(jī)械臂配置法也比在此所述的某些實(shí)施例復(fù)雜，因?yàn)樗麄円矒碛懈嘈杩刂频妮S，以將所述基材定向并設(shè)置在一制程腔室內(nèi)。參見第IlJ圖，在一實(shí)施態(tài)樣中，該傳送區(qū)域91的寬度W1比該基材尺寸大約5%至約50% (即第IlJ圖的基材「S」)。在基材為一 300mm的半導(dǎo)體晶片的范例中，該傳送區(qū)域的寬度W1會介于約315mm和約450mm間，并且較佳地介于約320mm和約 360mm間。參見第IB圖，在一范例中，對于一個(gè)300mm的基材制程工具而言，該第一制程架 60的側(cè)60B和該第二制程架80的側(cè)80A之間的距離可以是約945mm(例如315% )。在另一范例中，對于一個(gè)300mm的基材制程工具而言，該第一制程架60的側(cè)60B和該第二制程架80的側(cè)80A之間的距離可以是約1350mm(例如450% )。應(yīng)注意到該傳送區(qū)域一般意欲描述該機(jī)械臂周圍的區(qū)域，其中一旦其葉片已經(jīng)在汲取到位于一預(yù)期位置上的基材之后縮回，該機(jī)械臂能夠在其中移動直到其移動到該制程程序中的下一個(gè)制程腔室外的起始位置 (SP)為止。雙桿連結(jié)機(jī)械臂組件第IOA和IOC圖示出一雙桿連結(jié)機(jī)械臂305型的傳送機(jī)械臂組件86的一實(shí)施例， 其一般含有一支撐板321、一第一連接構(gòu)件310、一機(jī)械臂葉片87、一傳動系統(tǒng)312 (第IOC 圖)、一圍封313及一馬達(dá)320。在此配置中，該傳送機(jī)械臂組件86是通過和該垂直促動器組件560 (第13A圖)連接的支撐板321與該垂直移動組件95連接。第IOC圖示出該雙桿連結(jié)機(jī)械臂305型的傳送機(jī)械臂組件86的一實(shí)施例的剖面圖。該雙桿連結(jié)機(jī)械臂305的傳動系統(tǒng)312—般含有一或多個(gè)動力傳送元件(power transmitting element)，其適于藉由所述動力傳送元件的移動來使該機(jī)械臂葉片87移動，例如藉由馬達(dá)320的轉(zhuǎn)動。一般來說，該傳動系統(tǒng)312可含有習(xí)知齒輪、滑輪等等，其是適于傳送來自一個(gè)元件的旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移動作至下一個(gè)元件。在此所使用的「齒輪」一詞一般意欲描述通過皮帶、齒狀物或其他典型方式與第二零組件旋轉(zhuǎn)連接的零組件，并且是適于從一元件傳送移動至另一個(gè)元件。一般來說，一齒輪，如在此所使用者，可以是習(xí)知齒輪型裝置或滑輪型裝置，其可包含但不限于例如正齒輪(spur gear)、傘齒輪(bevel gear)、齒條(rack)及/或小齒輪(pinion)、蝸輪(worm gear)、正時(shí)盤(timing pulley)、及三角皮帶輪(v-belt pulley)等零組件。在一實(shí)施態(tài)樣中，該傳動系統(tǒng)312，如第IOC圖所示者，含有第一滑輪系統(tǒng)355及第二滑輪系統(tǒng) 361。該第一滑輪系統(tǒng)355具有與該馬達(dá)320連接的第一滑輪358，與該第一連接構(gòu)件310 連接的第二滑輪356，以及連接該第一滑輪358和該第二滑輪356的皮帶359，因此該馬達(dá) 320可驅(qū)動該第一連接構(gòu)件310。在一實(shí)施態(tài)樣中，復(fù)數(shù)個(gè)軸承356A適于容許該第二滑輪 356繞著該第三滑輪354的軸V1旋轉(zhuǎn)。該第二滑輪系統(tǒng)361具有與該支撐板321連接的第三滑輪354、與該葉片87連接的第四滑輪352以及連接該第三滑輪3M和該第四滑輪352的皮帶362，因此該第一連接構(gòu)件310的旋轉(zhuǎn)會使該葉片87繞著與該第一連接構(gòu)件310連接的軸承軸線353旋轉(zhuǎn)(第 IlA圖的樞軸V2)。在傳送一基材時(shí)，該馬達(dá)驅(qū)動該第一滑輪358，其導(dǎo)致該第二滑輪356和第一連接構(gòu)件310旋轉(zhuǎn)，其轉(zhuǎn)而因?yàn)樵摰谝贿B接構(gòu)件310和皮帶362繞著靜止的第三滑輪 354的角旋轉(zhuǎn)(angular rotation)而使該第四滑輪352旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，該馬達(dá)320 和系統(tǒng)控制器101適于形成閉環(huán)控制系統(tǒng)，其容許該馬達(dá)320的角位置和與其連接的所有零組件皆可受到控制。在一實(shí)施態(tài)樣中，該馬達(dá)320是一步進(jìn)馬達(dá)或DC伺服馬達(dá)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第一滑輪系統(tǒng)355和第二滑輪系統(tǒng)361的傳動比(例如直徑比、輪齒數(shù)量比)可經(jīng)設(shè)計(jì)而達(dá)到預(yù)期的路徑(第IlC或IlD中的元件P1)形狀和分解，當(dāng)該基材被一傳送機(jī)械臂組件86設(shè)置時(shí)會沿著該路徑移動。之后會將傳動比定義為驅(qū)動元件尺寸相對于受驅(qū)動的元件尺寸，或者在此例中，例如，該第三滑輪354的輪齒數(shù)量相對于該第四滑輪352的輪齒數(shù)量比例。因此，例如，當(dāng)該第一連接構(gòu)件310旋轉(zhuǎn)270度時(shí)，其導(dǎo)致該葉片87旋轉(zhuǎn)180度，等同于0.667傳動比或者是3 2的齒輪比。齒輪比一詞旨在表示該第一齒輪WD1轉(zhuǎn)數(shù)造成該第二齒輪的D2轉(zhuǎn)數(shù)，或D1 D2比例。因此，一 3 2比例代表該第一齒輪轉(zhuǎn)三圈會使該第二齒輪轉(zhuǎn)兩圈，因此該第一齒輪的大小必定約是該第二齒輪的三分的二。在一實(shí)施態(tài)樣中，該第三滑輪邪4對于該第四滑輪352的齒輪比是介于約 3 1至約4 3間，較佳地介于約2 1和約3 2間。第10E圖示出一雙桿連結(jié)機(jī)械臂305型的傳送機(jī)械臂組件86的另一實(shí)施例，其一般含有一支撐板321、一第一連接構(gòu)件310、一機(jī)械臂葉片87、一傳動系統(tǒng)312 (第10E圖)、 一圍封313、一馬達(dá)320及一第二馬達(dá)371。第10E圖所示的實(shí)施例與第10C圖所示的實(shí)施例相仿，除了在此配置法中該第三滑輪354的旋轉(zhuǎn)位置可利用該第二馬達(dá)371及來自該控制器101的指令來調(diào)整之外。因?yàn)榈?0C和10E圖相仿，為了簡明會使用相同的元件符號。在此配置法中，該傳送機(jī)械臂組件86經(jīng)由與該垂直促動器組件560(第13A圖)連接的支撐板321與該垂直移動組件95連接。第IOE圖示出該雙桿連結(jié)機(jī)械臂305型的傳送機(jī)械臂組件86的側(cè)剖面圖。該雙軸連結(jié)機(jī)械臂305的傳動系統(tǒng)312 —般含有兩個(gè)動力傳送元件，其適于利用該馬達(dá)320及/或該第二馬達(dá)371的移動來使該機(jī)械臂葉片87移動。 一般來說，該傳動系統(tǒng)312可包含齒輪、滑輪等等，其是適于傳送來自一個(gè)元件的旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移動作至下一個(gè)元件。在一實(shí)施態(tài)樣中，該傳動系統(tǒng)312含有第一滑輪系統(tǒng)355及第二滑輪系統(tǒng)361。該第一滑輪系統(tǒng)355具有與該馬達(dá)320連接的第一滑輪358，與該第一連接構(gòu)件310連接的第二滑輪356，以及連接該第一滑輪358和該第二滑輪356的皮帶359，因此該馬達(dá)320可驅(qū)動該第一連接構(gòu)件310。在一實(shí)施態(tài)樣中，復(fù)數(shù)個(gè)軸承356A適于容許該第二滑輪356繞著該第三滑輪354的軸V1旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施態(tài)樣中，未在第IOE圖中示出，所述軸承356A是裝設(shè)在形成于該支撐板321上的特征上，而非如第IOE圖所示般形成在第三滑輪354上。該第二滑輪系統(tǒng)361具有與該第二馬達(dá)連接的第三滑輪354、與該葉片87連接的第四滑輪352以及連接該第三滑輪3M和該第四滑輪352的皮帶362，因此該第一連接構(gòu)件 310的旋轉(zhuǎn)會使該葉片87繞著與該第一連接構(gòu)件310連接的軸承軸線353旋轉(zhuǎn)(第IlA圖的樞軸V2)。該第二馬達(dá)371是裝設(shè)在該支撐板321上。在傳送一基材時(shí)，該馬達(dá)320驅(qū)動該第一滑輪358，其導(dǎo)致該第二滑輪356和第一連接構(gòu)件310旋轉(zhuǎn)，其轉(zhuǎn)而因?yàn)樵摰谝贿B接構(gòu)件310和皮帶362繞著該第三滑輪3M的角旋轉(zhuǎn)而使該第四滑輪352旋轉(zhuǎn)。在此配置法中，相對于第IOC圖所示的配置法，該第三滑輪可在該馬達(dá)320旋轉(zhuǎn)該第一連接構(gòu)件310時(shí)旋轉(zhuǎn)，這使得該第三滑輪3M和該第四滑輪352間的齒輪比可藉由調(diào)整該第三滑輪3M和該第四滑輪352間的相對運(yùn)動而改變。會注意到齒輪比影響該機(jī)械臂葉片87相對于該第一連接構(gòu)件310的移動。在此配置法中，齒輪比并未由所述齒輪的大小來決定，并且可以在該機(jī)械臂葉片傳送動作的不同階段中改變，以達(dá)到預(yù)期的機(jī)械臂葉片傳送路徑(見第IlD 圖)。在一實(shí)施例中，該馬達(dá)320、該第二馬達(dá)371和系統(tǒng)控制器101適于形成閉環(huán)控制系統(tǒng)，其容許該馬達(dá)320的角位置、該第二馬達(dá)371的角位置和與這些元件連接的所有零組件皆可受到控制。在一實(shí)施態(tài)樣中，該馬達(dá)320和該第二馬達(dá)371是一步進(jìn)馬達(dá)或DC伺服馬達(dá)。第IlA-D圖示出一機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例的平面圖，其使用一雙桿連結(jié)機(jī)械臂 305配置法來傳送并設(shè)置基材在留置于該群集工具10內(nèi)的第二制程腔室532中的預(yù)期位置上。該雙桿連結(jié)機(jī)械臂305 —般含有一馬達(dá)320(第10A-C圖)、一第一連接構(gòu)件310及一機(jī)械臂葉片87，其是經(jīng)連接而使該馬達(dá)320的旋轉(zhuǎn)動作造成該第一連接構(gòu)件310旋轉(zhuǎn)，其轉(zhuǎn)而導(dǎo)致該機(jī)械臂葉片87沿著一預(yù)期路徑旋轉(zhuǎn)及/或轉(zhuǎn)移。此配置法的優(yōu)勢在于該機(jī)械臂將一基材傳送至該群集工具內(nèi)的預(yù)期位置上，且該機(jī)械臂的零組件不會延伸進(jìn)入當(dāng)下被另一個(gè)機(jī)械臂或系統(tǒng)零組件占據(jù)，或?qū)徽紦?jù)的空間內(nèi)的能力。第IlA-C圖示出容納在一機(jī)械臂硬件組件85內(nèi)的傳送機(jī)械臂組件86的移動，藉由在基材被傳送進(jìn)入制程腔室532時(shí)，即時(shí)(例如分別對應(yīng)于第IlA-C圖的Ttl-T2)示出各個(gè)傳送機(jī)械臂組件86零組件的位置的若干連續(xù)圖像。參見第IlA圖，在時(shí)間Ttl時(shí)，該傳送機(jī)械臂組件86 —般是利用所述垂直移動組件95零組件設(shè)置在一預(yù)期垂直方位上(ζ方向)， 并利用所述水平移動組件90零組件設(shè)置在一預(yù)期水平方向上(χ方向)。在Ttl時(shí)的機(jī)械臂位置，于第IlA圖示出，在此會稱為起始位置(物件SP)。參見第IlB圖，在時(shí)間T1時(shí)，在該雙桿連結(jié)機(jī)械臂305中的該第一連接構(gòu)件310以樞軸點(diǎn)V1為中心旋轉(zhuǎn)，因而使連接的機(jī)械臂葉片87繞著一樞軸點(diǎn)V2轉(zhuǎn)移并旋轉(zhuǎn)，同時(shí)該傳送機(jī)械臂組件86在χ方向上的位置是利用所述水平移動組件90零組件和該系統(tǒng)控制器101來調(diào)整。參見第IlC圖，在時(shí)間T2時(shí)， 該機(jī)械臂葉片87在y方向上從該傳送區(qū)域91的中線C1延伸出一預(yù)期距離(元件Y1)，并且是設(shè)置在一預(yù)期的χ方向位置(元件上，以將基材置放在預(yù)期的最終位置上(物件FP)， 或該制程腔室532的換手位置上。一旦該機(jī)械臂已將基材設(shè)置在該最終位置上，接著可將該基材傳送至該制程腔室基材容納零組件上，例如舉升捎或其他基材支撐零組件上(例如第IlA圖的元件532A)。在將該基材傳送至該制程腔室容納零組件上之后，然后可依照上述步驟但次序顛倒來縮回該機(jī)械臂葉片。第IlC圖進(jìn)一步示出該基材中心點(diǎn)的一可能路徑(物件P1)的范例，當(dāng)其從該起始位置移動至該最終位置時(shí)，如上面第IlA-C圖所示者。在本發(fā)明的一實(shí)施態(tài)樣中，該路徑的形狀可藉由利用該水平移動組件90沿著χ方向調(diào)整該第一連接構(gòu)件310的旋轉(zhuǎn)位置相對于該傳送機(jī)械臂組件86的位置來改變。此特征具有優(yōu)勢，因?yàn)樵撉€的形狀可以是特別適于容許一機(jī)械臂葉片87存取該制程腔室而不會與各個(gè)制程腔室基材容納零組件(例如元件532A)碰撞或侵犯其他機(jī)械臂的傳送區(qū)域91。此優(yōu)勢變得特別顯而易見，當(dāng)一制程腔室經(jīng)配置而可從多個(gè)不同的方向、或方位存取時(shí)，這因此限制可用來可靠地支撐一基材的所述基材容納零組件的位置和方位并避免該機(jī)械臂葉片87和該基材容納零組件間的碰撞。第IlD圖示出可用來將基材傳送進(jìn)入該制程腔室532中的預(yù)期位置的可能路徑 P1-P3的一些范例。第IlD-F圖所示的路徑P1-P3意欲示出該基材中心點(diǎn)，或該機(jī)械臂葉片 87的基材支撐區(qū)域中心點(diǎn)的移動，當(dāng)其由所述機(jī)械臂組件11零組件設(shè)置時(shí)。第IlD圖所示的基材傳送路徑P2示出當(dāng)一傳送機(jī)械臂組件86的第二滑輪系統(tǒng)361的傳送比為2 1時(shí)一基材的路徑。因?yàn)楫?dāng)使用2 1的傳動比時(shí)該基材的移動是一直線，此配置法可除去該機(jī)械臂葉片87在Y方向上延伸時(shí)在X方向上轉(zhuǎn)移該機(jī)械臂硬件組件85的需要。此配置法的移動復(fù)雜度降低的益處在某些情況下會被無法設(shè)計(jì)出不會在該基材從該制程腔室的各個(gè)不同側(cè)傳送進(jìn)入該制程腔室時(shí)干擾該機(jī)械臂葉片87的可靠的基材容納零組件影響。第1IE-IIF圖示出一基材進(jìn)入該制程腔室532的多階段傳送移動。在一實(shí)施例中， 該多階段傳送移動分成三個(gè)傳送路徑(路徑P1-P3)，其可用來傳送該基材進(jìn)入該制程腔室 532 (第IlE圖)或離開該制程腔室(第IlF圖)。此配置法在降低該傳送制程期間該基材和機(jī)械臂組件11所經(jīng)歷的高加速度上是特別有用的，并且也藉由在該傳送制程期間盡可能使用單一軸控制來降低該機(jī)械臂移動復(fù)雜度。該機(jī)械臂所經(jīng)歷的高加速度可在該機(jī)械臂組件中產(chǎn)生振動，其可影響所述傳送制程的位置準(zhǔn)確度、該機(jī)械臂組件的可靠度以及該基材在該機(jī)械臂葉片上的可能的移動。成信該機(jī)械臂組件11經(jīng)歷高加速度的一個(gè)起因在使用協(xié)同移動(coordinated motions)時(shí)產(chǎn)生。在此所使用的「協(xié)同移動」一詞意欲描述兩個(gè)或多個(gè)軸同時(shí)移動(例如，傳送機(jī)械臂組件86、水平移動組件90、垂直移動組件95)以使一基材從一點(diǎn)移至下一點(diǎn)。第IlE圖示出三個(gè)傳送路徑的多階段傳送移動，其是用來將一基材傳送至該制程腔室532內(nèi)的基材容納零組件532A上。在執(zhí)行該多階段傳送移動制程前，該傳送機(jī)械臂組件86 —般是設(shè)置在該起始位置上(第IlE圖的SP)，其可能需要利用所述垂直移動組件95 零組件將該基材移至一預(yù)期垂直方位(ζ方向)，并利用所述水平移動組件90零組件移至一預(yù)期水平位置(X方向)。在一實(shí)施態(tài)樣中，一旦該基材已經(jīng)位于該起始位置上，接著就利用所述傳送機(jī)械臂組件86、該水平移動組件90和該系統(tǒng)控制器101將該基材沿著路徑P1移至該最終位置(FP)。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該基材是利用減少的控制軸數(shù)量沿著路徑P1設(shè)置， 例如僅有一個(gè)控制軸。例如，可藉由控制與該控制器101交流的傳送機(jī)械臂組件86來使該機(jī)械臂葉片，以及該基材，移動來實(shí)現(xiàn)單一個(gè)控制軸。在此配置法中，單一軸的使用可大幅度簡化該基材或機(jī)械臂移動的控制，并減少從該起始點(diǎn)移至該中間位置所需的時(shí)間。該多階段傳送移動制程的下一個(gè)步驟是利用所述垂直移動組件95零組件在ζ方向上移動，或利用一基材容納零組件促動器(未示出)垂直移動所述基材容納零組件以將該基材傳送至所述制程腔室基材容納零組件上，例如舉升捎或其他基材支撐零組件(例如第IlA圖的元件 532A)。在一實(shí)施態(tài)樣中，如第IlE和IlF圖所示，該傳送機(jī)械臂組件86適于在與X和Y方向平行的平面上轉(zhuǎn)移該基材W，如路徑Pl和P3所示者。在傳送該基材至該制程腔室容納零組件后，該機(jī)械臂葉片然后可以依循路徑P2和 P3縮回。該路徑P2，在某些情況下，可能需要該傳送機(jī)械臂組件86和該水平移動組件90間的協(xié)同移動，以確保該機(jī)械臂葉片87不會在從該制程腔室532縮回時(shí)撞擊到所述基材支撐零組件532A。在一實(shí)施態(tài)樣中，如第IlE圖所示，該路徑P2,其描述該機(jī)械臂葉片87的基材支撐區(qū)域中心點(diǎn)的移動，是一線性路徑，其從該最終位置(FP)延伸至該最終位置和該終點(diǎn)(EP)位置間的某些中間點(diǎn)(IP)上。一般來說，該中間點(diǎn)是該機(jī)械臂葉片已縮回夠遠(yuǎn)的點(diǎn)，因此其不會在沿著路徑P3以簡化或加速運(yùn)動移至該終點(diǎn)位置時(shí)與任何腔室零組件接觸。在一實(shí)施態(tài)樣中，一旦該機(jī)械臂葉片已在該中間點(diǎn)位置上，該基材即利用所述傳送機(jī)械臂組件86、該水平移動組件90和該系統(tǒng)控制器101沿著路徑P3移動至該終點(diǎn)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該基材僅利用一個(gè)控制軸設(shè)置在該終點(diǎn)(EP)處，例如藉由與該控制器101交流的傳送機(jī)械臂組件86的移動。在此配置法中，單一軸的使用可大幅度簡化移動控制，并減少從該中間點(diǎn)(IP)移至該終點(diǎn)(EP)位置所需的時(shí)間。第IlF圖示出三個(gè)傳送路徑的多階段傳送移動，其是用來將一基材從該該制程腔室532內(nèi)的基材容納零組件532A上移出。在執(zhí)行該多階段傳送移動制程前，在第IlF圖示出，該傳送機(jī)械臂組件86 —般是設(shè)置在該起始位置上(第1IF圖的SP)，其可能需要利用所述垂直移動組件95零組件將該基材移至一預(yù)期垂直方位(ζ方向)，并利用所述水平移動組件90零組件移至一預(yù)期水平位置(χ方向)。在一實(shí)施態(tài)樣中，一旦該基材已經(jīng)位于該起始位置上，接著就利用所述傳送機(jī)械臂組件86、該水平移動組件90和該系統(tǒng)控制器101 將該基材沿著路徑P1移至該中間位置(IP)。一般來說，該中間點(diǎn)是該機(jī)械臂葉片已伸入夠遠(yuǎn)的點(diǎn)，因此其不會在沿著路SP1以簡化或加速運(yùn)動移至該中間點(diǎn)時(shí)與任何腔室零組件接觸。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該基材是利用減少的控制軸數(shù)量沿著路徑P1設(shè)置。例如，可藉由控制與該控制器101交流的傳送機(jī)械臂組件86來使該機(jī)械臂葉片，以及該基材，移動來實(shí)現(xiàn)單一個(gè)控制軸。在此配置法中，單一軸的使用可大幅度簡化該基材或機(jī)械臂移動的控制， 并減少從該起始點(diǎn)移至該中間位置所需的時(shí)間。在將該基材傳送至該中間位置后，該機(jī)械臂葉片即可進(jìn)一步依循路徑P2伸入該腔室。該路徑P2，在某些情況下，可能需要該傳送機(jī)械臂組件86和該水平移動組件90間的協(xié)同移動，以確保該機(jī)械臂葉片87不會在延伸進(jìn)入該制程腔室532時(shí)撞擊到所述基材支撐零組件532A。在一實(shí)施態(tài)樣中，如第IlF圖所示，該路徑P2,其描述該機(jī)械臂葉片87的基材支撐區(qū)域中心點(diǎn)的移動，是一線性路徑，其從該中間點(diǎn)(IP)延伸至該最終位置(FP)。在該機(jī)械臂葉片已設(shè)置在該最終位置上之后，接著利用該垂直移動組件95在ζ方向上移動該傳送機(jī)械臂組件86，或利用一基材容納零組件促動器(未示出)垂直移動所述基材容納零組件532A來將該基材從該制程腔室基材容納零組件532A上移出。在將該基材從所述制程腔室容納零組件上移出后，該機(jī)械臂葉片即可依循路徑P3 縮回。該路徑P3，在某些情況下，可能需要該傳送機(jī)械臂組件86和該水平移動組件90間的協(xié)同移動。在一實(shí)施態(tài)樣中，該基材僅利用一個(gè)控制軸設(shè)置在該終點(diǎn)(EP)處，例如藉由與該控制器101交流的傳送機(jī)械臂組件86的移動。在此配置法中，單一軸的使用可大幅度簡化移動控制，并減少從該最終位置(FP)移至該終點(diǎn)(EP)位置所需的時(shí)間。在一實(shí)施態(tài)樣中，如第IlF圖所示，該路徑P3，其描述該機(jī)械臂葉片87的基材支撐區(qū)域中心點(diǎn)的移動，是一非線性路徑，其從該最終位置(FP)延伸至某些終點(diǎn)(EP)。單軸機(jī)械臂組件第IOD和IlG-I圖示出一機(jī)械臂組件11的另一實(shí)施例，其中該傳送機(jī)械臂組件 86A是一單軸連結(jié)306 (第IOD圖)配置，以傳送并設(shè)置基材在留置于該群集工具10內(nèi)的第二制程腔室532的預(yù)期位置上。該單軸連結(jié)306 —般含有一馬達(dá)320(第IOD圖)以及一機(jī)械臂葉片87，其是經(jīng)連接而使該馬達(dá)320的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致該機(jī)械臂葉片87旋轉(zhuǎn)。此配置法的優(yōu)勢在于該機(jī)械臂傳送基材至該群集工具內(nèi)的一預(yù)期位置的能力，其僅用較不復(fù)雜且更具成本效益的單一軸來控制該葉片87，同時(shí)也減少所述機(jī)械臂零組件延伸進(jìn)入在該傳送制程期間可能由另一個(gè)機(jī)械臂占據(jù)的空間內(nèi)的機(jī)會。第IOD圖示出一單軸連結(jié)306的側(cè)剖面圖，其一般含有一馬達(dá)320、一支撐板321 及一機(jī)械臂葉片87，其是經(jīng)連接至該馬達(dá)320。在一實(shí)施例中，如第IOD圖所示者，該機(jī)械臂葉片87是連接至一第一滑輪組件355。該第一滑輪組件355具有與該馬達(dá)320連接的第一滑輪358，與該機(jī)械臂葉片87連接的第二滑輪356，以及連接該第一滑輪358和該第二滑輪356的皮帶359。在此配置中，該第二滑輪356是裝設(shè)在通過所述軸承354A與該支撐板 321連接的樞軸364上，因此該馬達(dá)320可旋轉(zhuǎn)該機(jī)械臂葉片。在該單軸連結(jié)306的一實(shí)施例中，該機(jī)械臂葉片87是直接與該馬達(dá)320連接，以減少機(jī)械臂零組件的數(shù)量、減少該機(jī)械臂組件的成本和復(fù)雜度、并減少保養(yǎng)該第一滑輪系統(tǒng)中355的零組件的需要。該單軸連結(jié) 306可以是有優(yōu)勢的，因?yàn)樵摵喕囊苿涌刂葡到y(tǒng)，及因此改善的機(jī)械臂及系統(tǒng)可靠度。第IlG-J圖是單軸連結(jié)306型的傳送機(jī)械臂組件86的平面圖，其示出該單軸連結(jié) 306的移動，藉由在基材被傳送進(jìn)入制程腔室532時(shí)，即時(shí)(例如物件Ttl-T2)示出各個(gè)傳送機(jī)械臂組件86零組件的位置的若干連續(xù)圖像。參見第IlG圖，在時(shí)間Ttl時(shí)，該傳送機(jī)械臂組件86 —般是利用所述垂直移動組件95零組件設(shè)置在一預(yù)期垂直方位上(ζ方向)，并利用所述水平移動組件90零組件設(shè)置在一預(yù)期水平方向上(χ方向)。在Ttl時(shí)的機(jī)械臂位置，于第IlC圖示出，在此會稱為起始位置(上面討論的物件SP)。參見第IlH圖，在時(shí)間 T1時(shí)，該機(jī)械臂葉片87以樞軸點(diǎn)V1為中心旋轉(zhuǎn)，因而使該機(jī)械臂葉片87旋轉(zhuǎn)，同時(shí)該傳送機(jī)械臂組件86在χ方向上的位置是利用該系統(tǒng)控制器101來調(diào)整。參見第IlI圖，在時(shí)間 T2時(shí)，該機(jī)械臂葉片87已經(jīng)旋轉(zhuǎn)至一預(yù)期角度，并且該機(jī)械臂組件已經(jīng)設(shè)置在一預(yù)期的χ 方向位置上，因此該基材是在該制程腔室532內(nèi)的預(yù)期最終位置(物件FP)上，或換手位置上。第IlD圖，在上面討論過，也示出可用來運(yùn)用該單軸連結(jié)306將基材傳送進(jìn)入該制程腔室532的預(yù)期位置上的可能路徑P1-P3的一些范例。在將該基材傳送至該制程腔室容納零組件上之后，然后可依照上述步驟但次序顛倒來縮回該機(jī)械臂葉片。水平移動組件第12A圖取沿著與該y方向平行的平面示出該水平移動組件90的一實(shí)施例的剖面圖。第12B圖是該機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例的側(cè)剖面圖，其已經(jīng)中心地削減該水平移動組件90的長度。該水平移動組件90 —般含有一圍封460、一促動器組件443和一長形安裝座451。該促動器組件443 —般含有至少一個(gè)水平線性滑軌組件468和一移動組件442。 該垂直移動組件95通過該長形安裝座451與該水平移動組件90連接。該長形安裝座451 是支撐該水平移動組件90設(shè)置該垂直移動組件95時(shí)所創(chuàng)造出的各種負(fù)載的結(jié)構(gòu)件。該水平移動組件90 —般含有兩個(gè)水平線性滑軌組件468，其每一個(gè)皆擁有一線性軌道455、一軸承塊458及一支撐安裝座452，其支撐該長形安裝座451和垂直移動組件95的重量。此配置因而提供該垂直移動組件95沿著該水平移動組件90長度方向的順暢且準(zhǔn)確的轉(zhuǎn)移。該線性軌道455和該軸承塊458可以是線性滾珠軸承滑軌或習(xí)知線性滑軌(linear guide)， 其在技藝中是熟知的。參見第12A-B圖，該移動組件442 —般含有長形安裝座451、一水平機(jī)械臂促動器 367 (第IOA和12A圖)、一驅(qū)動皮帶440、以及兩個(gè)或多個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪454A，其適于沿著該水平移動組件90的長度控制該垂直移動組件95的位置。一般來說，該驅(qū)動皮帶440與該長形安裝座451連接(例如，粘著、栓鎖或夾鉗)以形成沿著該水平移動組件90的長度延伸的連續(xù)回路，并且在該水平移動組件90的端點(diǎn)處由該兩個(gè)或多個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪454A支撐。第12B圖示出具有四個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪454A的配置。在一實(shí)施例中，該水平機(jī)械臂促動器367與所述驅(qū)動皮帶滑輪454A的其中一個(gè)連接，因此該滑輪454A的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動會使與該垂直移動組件95連接的驅(qū)動皮帶440和長形安裝座451沿著該水平線性滑軌組件468移動。在一實(shí)施例中，該水平機(jī)械臂促動器367是一直接驅(qū)動線性無刷伺服馬達(dá)，其適于相對于該水平線性滑軌組件468移動該機(jī)械臂。該圍封460 —般含有一基座464、一或多個(gè)外壁463及一圍封頂板462。該圍封 460適于覆蓋并支撐該水平移動組件90內(nèi)的零組件，為了安全及減少污染。因?yàn)槲⒘Ｊ怯赊D(zhuǎn)動、滑動、或彼此接觸的機(jī)械零組件產(chǎn)生，確保該水平移動組件90內(nèi)的零組件不會在所述基材傳送通過該群集工具10時(shí)污染基材表面是很重要的。該圍封460因此形成一封入?yún)^(qū)域，其最小化在該圍封460內(nèi)產(chǎn)生的微粒抵達(dá)基材表面的機(jī)會。微粒污染對于元件合格率，因此群集工具的CoO有直接影響。該圍封頂板462含有復(fù)數(shù)個(gè)狹縫471，其使所述水平線性滑軌組件468的復(fù)數(shù)個(gè)支撐安裝座452可以延伸通過該圍封頂板462，并與該長形安裝座451連接。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述狹縫471的寬度(該開口在y方向上的尺寸)是經(jīng)量身訂做以最小化微粒抵達(dá)該水平移動組件90外部的機(jī)會。該圍封460的基座464是一結(jié)構(gòu)構(gòu)件，其經(jīng)過設(shè)計(jì)以支撐該長形安裝座451和垂直移動組件95的重量所創(chuàng)造出的負(fù)載，以及該垂直移動組件95的移動所創(chuàng)造出的負(fù)載。在一實(shí)施態(tài)樣中，該基座464進(jìn)一步含有復(fù)數(shù)個(gè)基座狹縫464A，其是沿著該水平移動組件90 的長度設(shè)置，以容許進(jìn)入該圍封頂板462的狹縫471的空氣經(jīng)由所述基座狹縫464A離開該圍封，然后離開形成在該群集工具基座IOA內(nèi)的狹縫10B。在該群集工具10的一實(shí)施例中，并未使用群集工具基座10A，因此該水平移動組件90和制程架可設(shè)置在其中安裝有該群集工具10的區(qū)域的地板上。在一實(shí)施態(tài)樣中，該基座464是利用所述圍封支撐461設(shè)置在該群集工具基座10A，或地板，上，以提供空氣流經(jīng)該水平移動組件90的未受限且一致的流動路徑。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述圍封支撐461也可適于做為習(xí)知的減震器。以一方向，較佳地向下，流經(jīng)該圍封460的該環(huán)境控制組件110或無塵室環(huán)境產(chǎn)生的氣流可幫助降低該圍封 460內(nèi)產(chǎn)生的微粒抵達(dá)基材表面的機(jī)會。在一實(shí)施態(tài)樣中，形成在該圍封頂板462內(nèi)的所述狹縫471和所述基座狹縫464A是經(jīng)設(shè)置以限制從該環(huán)境控制組件110流出的空氣量，因此可在該圍封頂板462外部和該圍封460的內(nèi)部區(qū)域間達(dá)到至少0. l”wg的壓降。在一實(shí)施態(tài)樣中，形成該圍封460的中央?yún)^(qū)域以利用所述內(nèi)壁465將此區(qū)域與該水平移動組件的其他部分隔開。內(nèi)壁465的添加可最小化進(jìn)入該圍封460的空氣再循環(huán)，并做為一氣流引導(dǎo)特征。參見第12A和第13A圖，在該圍封460的一實(shí)施態(tài)樣中，設(shè)置該驅(qū)動皮帶以在驅(qū)動皮帶440和形成在該圍封頂板462內(nèi)的驅(qū)動皮帶狹縫472間形成小縫隙。此配置法可以是有優(yōu)勢的，以避免在該圍封40內(nèi)產(chǎn)生的微粒抵達(dá)該圍封460外部。參見第12C圖，在該圍封460的另一實(shí)施態(tài)樣中，一風(fēng)扇單元481可與該基座464 連接，并適于通過形成在該基座464內(nèi)的基座狹縫464A從該圍封460內(nèi)部汲取空氣。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該風(fēng)扇單元481促使含有微粒的空氣通過一過濾器482，以在其通過該群集工具基座IOA或地板排出(見物件A)前除去微粒。在此配置法中，一風(fēng)扇483，容納在該風(fēng)扇單元中，是經(jīng)設(shè)計(jì)以在該圍封460內(nèi)創(chuàng)造負(fù)壓，因此該圍封外部的空氣會被吸進(jìn)該圍封內(nèi)，而限制該圍封460內(nèi)產(chǎn)生的微粒漏出的可能性。在一實(shí)施例中，該過濾器482是一HEPA 型過濾器或可從空氣中除去所產(chǎn)生的微粒的其他型過濾器。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述狹縫471 的長度和寬度及該風(fēng)扇483的尺寸是經(jīng)選擇以使在該圍封460外部的一點(diǎn)和在該圍封460 內(nèi)部的一點(diǎn)間產(chǎn)生的壓降介于約0. 02英寸水柱( 5帕)和約1英寸水柱( 250帕) 之間。在該水平移動組件90的一實(shí)施例中，設(shè)置一防護(hù)皮帶479來覆蓋所述狹縫471， 以避免該水平移動組件90內(nèi)部產(chǎn)生的微粒抵達(dá)基材。在此配置法中，該防護(hù)皮帶479形成沿著該水平移動組件90的長度延伸的連續(xù)回路，并且是設(shè)置在該狹縫471內(nèi)，以使形成在該防護(hù)皮帶479和該圍封頂板462間的開放區(qū)域盡可能小。一般來說，該防護(hù)皮帶479是與該支撐安裝座452連接(例如粘著、栓鎖或夾鉗)，以形成沿著該水平移動組件90的長度延伸的連續(xù)回路，并且在該水平移動組件90的端點(diǎn)處由該兩個(gè)或多個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪(未示出)支撐。在第12C圖所示的配置中，該防護(hù)皮帶479可在該狹縫471高度處與與該支撐安裝座452連接(未示出)，并在制作在該基座464內(nèi)的通道478中穿過該水平移動組件90繞回來，而形成一連續(xù)回路。該(等)防護(hù)皮帶479因此圍繞該水平移動組件90的內(nèi)部區(qū)域。垂肓移動組件第13A-B圖示出該垂直移動組件95的一實(shí)施例。第13A圖是該垂直移動組件95 的平面圖，示出該設(shè)計(jì)的各個(gè)實(shí)施態(tài)樣。該垂直移動組件95 —般含有一垂直支撐570、一垂直促動器組件560、一風(fēng)扇組件580、一支撐板321、以及一垂直圍封590。該垂直支撐570 一般是一結(jié)構(gòu)構(gòu)件，其是栓鎖、焊接、或安裝在該長形安裝座451上，并且適于支撐該垂直移動組件95內(nèi)的各個(gè)零組件。該風(fēng)扇組件580 —般含有一風(fēng)扇582以及形成與該風(fēng)扇582流體交流的充實(shí)區(qū)域 584的管狀物581。該風(fēng)扇582 —般是適于利用某些機(jī)械工具來使空氣流動的元件，例如， 旋轉(zhuǎn)的風(fēng)扇葉片、移動的折箱、移動的隔板、或移動的高精度機(jī)械齒輪。該風(fēng)扇582適于在該圍封590內(nèi)部區(qū)域586形成相對于該圍封590外部的負(fù)壓，藉由在充實(shí)區(qū)域584內(nèi)創(chuàng)造負(fù)壓，其與形成在該管狀物581上的復(fù)數(shù)個(gè)狹縫585和該內(nèi)部區(qū)域586流體交流。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述狹縫585的數(shù)量、尺寸和分布，其可以是圓形、橢圓形或矩形，是經(jīng)設(shè)計(jì)以從該垂直移動組件95的所有區(qū)域平均地汲取空氣。在一實(shí)施態(tài)樣中，內(nèi)部區(qū)域586也可適于容納用來在各個(gè)機(jī)械臂硬件組件85和垂直移動組件95的零組件間及與該系統(tǒng)控制器101 傳送訊號的復(fù)數(shù)個(gè)纜線(未示出)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該風(fēng)扇582適于將從該內(nèi)部區(qū)域586 排出的空氣傳送至該水平移動組件90的中央?yún)^(qū)域430內(nèi)，其在此通過所述基座狹縫464A 從該水平移動組件90排出。該垂直促動器組件560 —般含有一垂直馬達(dá)507 (第12A和13B圖)、一滑輪組件 576 (第13B圖)、以及一垂直滑軌組件577。該垂直滑軌組件577 —般含有一線性軌道574 和一軸承塊573，其與垂直支撐570和該滑輪組件576的移動塊572連接。該垂直滑軌組件577適于引導(dǎo)并提供該機(jī)械臂硬件組件85順暢且準(zhǔn)確的轉(zhuǎn)移，并且也支撐該機(jī)械臂硬件組件85沿著該垂直移動組件95的長度移動所創(chuàng)造出的重量和負(fù)載。該線性軌道574和該軸承塊573可以是線性滾珠軸承滑軌、精密軸滑軌系統(tǒng)、或習(xí)知線性滑軌，其在技藝中是熟知的。典型的線性滾軸承滑軌、精密軸滑軌系統(tǒng)、或習(xí)知線性滑軌可從SKF USA公司或賓州 Irwin 的 Parker Hannifin Corporation 的 Daedal Division 購得。參見第13A和13B圖，該滑輪組件576 —般含有一驅(qū)動皮帶571、一移動塊572和兩個(gè)或多個(gè)滑輪575 (例如元件575A和575B)，其與該垂直支撐570及垂直馬達(dá)507旋轉(zhuǎn)連接，而使一支撐板(例如第13B圖的元件321A-321B)，因而機(jī)械臂硬件組件85，可以沿著該垂直移動組件95的長度設(shè)置。一般來說，該驅(qū)動皮帶571與該移動塊572連接(例如粘著、栓鎖或夾鉗)，以形成沿著該垂直移動組件95的長度延伸的連續(xù)回路，并且在該垂直移動組件95的端點(diǎn)處由該兩個(gè)或多個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪575支撐(例如元件575A和575B)。第 13B圖示出具有兩個(gè)驅(qū)動皮帶滑輪575A-B的配置。在一實(shí)施態(tài)樣中，該垂直馬達(dá)507與該驅(qū)動皮帶滑輪575B的一連接，因此該滑輪575B的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動會使該驅(qū)動皮帶571和該(等) 支撐板，因而機(jī)械臂硬件組件85，沿著該垂直線性滑軌組件577移動。在一實(shí)施例中，該垂直馬達(dá)507是一直接驅(qū)動線性無刷伺服馬達(dá)，其適于相對于該垂直滑軌組件577移動該機(jī)械臂硬件組件85，因此不需要該驅(qū)動皮帶571和兩個(gè)或多個(gè)滑輪575。該垂直圍封590 —般含有一或多個(gè)外壁591和一圍封頂部592 (第9A圖)以及狹縫593 (第9A、12A和13A圖)。該垂直圍封590適于覆蓋該垂直移動組件95內(nèi)的零組件， 為了安全及減少污染。在一實(shí)施態(tài)樣中，該垂直圍封590與該垂直支撐570連接并由其支撐。因?yàn)槲⒘Ｊ怯赊D(zhuǎn)動、滑動、或彼此接觸的機(jī)械零組件產(chǎn)生，確保該垂直移動組件95內(nèi)的零組件不會在傳送所述基材通過該群集工具10時(shí)污染基材表面是很重要的。該圍封590 因此形成一封入?yún)^(qū)域，其最小化在該圍封590內(nèi)產(chǎn)生的微粒抵達(dá)基材表面的機(jī)會。微粒污染對于元件合格率，因此群集工具的CoO有直接影響。因此，在一實(shí)施態(tài)樣中，該狹縫593 的尺寸(即長度和寬度)及/或該風(fēng)扇582的尺寸(例如流速)是經(jīng)配置得使可從該垂直移動組件95脫出的微粒數(shù)量最小化。在一實(shí)施態(tài)樣中，該狹縫593的長度(Z方向)和寬度(X方向)和該風(fēng)扇582的尺寸是經(jīng)選擇，而使在該外壁591外部的一點(diǎn)和在該內(nèi)部區(qū)域 586間產(chǎn)生的壓降介于約0. 02英寸水柱( 5帕)和約1英寸水柱( 250帕)之間。在一實(shí)施態(tài)樣中，該狹縫593的寬度介于約0. 25英寸和約6英寸間。在此所述的實(shí)施例通常優(yōu)于先前技藝設(shè)計(jì)，其是適于利用必須折迭、套迭或縮進(jìn)自身內(nèi)以達(dá)到其最低垂直位置的零組件來舉起所述機(jī)械臂零組件。議題的產(chǎn)生是因?yàn)樵摍C(jī)械臂的最低位置受到必須折迭、套迭或縮進(jìn)自身內(nèi)的垂直移動零組件的尺寸和方位所限是肇因于該垂直移動零組件的干擾。當(dāng)其無法更進(jìn)一步縮回時(shí)，該先前技藝垂直移動零組件的位置通常被稱為「無效空間(dead space)」，或「堅(jiān)實(shí)高度(solid height)」，因?yàn)樵撟畹蜋C(jī)械臂位置受到所述縮回零組件高度的限制的事實(shí)。一般來說，在此所述的實(shí)施例跳脫此問題，因?yàn)樵撘换蚨鄠€(gè)傳送機(jī)械臂組件86的底部并未有該垂直移動組件95內(nèi)的零組件在下方支撐，因此該最低位置僅受到該線性軌道574的長度和所述機(jī)械臂硬件組件85零組件的尺寸所限。在一實(shí)施例中，如第13A-13B圖所示，所述機(jī)械臂組件是由裝設(shè)在該垂直滑軌組件577上的支撐板321以懸臂梁方式支撐。應(yīng)注意到第10C-10E所示的該支撐板321和該機(jī)械臂硬件組件85的零組件配置法并不意欲限制在此所述的本發(fā)明的范圍，因?yàn)樵撝伟?21和該機(jī)械臂硬件組件85的方位可以調(diào)整而達(dá)到預(yù)期的結(jié)構(gòu)剛度，及/或預(yù)期的垂直移動組件95的垂直軌跡。在此所述的垂直移動組件95的實(shí)施例也優(yōu)于先前技藝垂直移動設(shè)計(jì)，例如必須折迭、套迭或縮進(jìn)自身內(nèi)者，源自于該機(jī)械臂硬件組件85的移動因?yàn)檠刂淮怪被壗M件 577的強(qiáng)制移動而改善的精確度及/或準(zhǔn)確度。因此，在本發(fā)明的一實(shí)施態(tài)樣中，該機(jī)械臂硬件組件的移動總是由一剛性構(gòu)件引導(dǎo)(例如垂直滑軌組件577)，其提供所述零組件結(jié)構(gòu)剛度和位置精確度，當(dāng)其沿著該垂直移動組件95的長度移動時(shí)。雙水平移動組件配置法第14A圖示出使用兩個(gè)可用來做為一或多個(gè)上面第1-6圖所示的機(jī)械臂組件 IlA-H的水平移動組件90的機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例。在此配置法中，該機(jī)械臂組件11 一般含有一機(jī)械臂硬件組件85、一垂直移動組件95及兩個(gè)水平機(jī)械臂組件90 (例如元件 90A和90B)。因此可利用所述機(jī)械臂硬件組件85、垂直機(jī)械臂組件95和水平機(jī)械臂組件 90A-B的協(xié)同移動及從該系統(tǒng)控制器101傳來的指令將一基材設(shè)置在任何預(yù)期的χ、y和ζ 位置上。此配置法的一優(yōu)勢在于該垂直移動組件95沿著該傳送方向(χ方向)的動態(tài)移動期間，該機(jī)械臂組件11結(jié)構(gòu)的剛度可增強(qiáng)，容許移動期間有較高的加速度，因此具有改善的基材傳送時(shí)間。在一實(shí)施態(tài)樣中，該垂直移動組件95、該上水平移動組件90B和該下水平移動組件90A的零組件含有與上面討論者相同的基本零組件，因此在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。在一實(shí)施態(tài)樣中，垂直移動組件95與該下長形安裝座451A及上長形安裝座451B連接， 其是利用留置在每一個(gè)水平移動組件90A和90B內(nèi)的移動組件442沿著χ方向設(shè)置。在該機(jī)械臂組件11的另一實(shí)施例中，單一個(gè)移動組件442裝設(shè)在所述水平移動組件的其中一個(gè)上(例如元件90A)，而其他水平移動組件(例如元件90B)作用僅為一支撐，以引導(dǎo)該垂直移動組件95的一端?；姆纸M
在嘗試在市場上更有競爭力，因而需要降低持有成本的努力下，電子元件制造商通常花費(fèi)大量時(shí)間試圖最佳化制程程序和腔室制程時(shí)間，以在已知的群集工具結(jié)構(gòu)限制及腔室制程時(shí)間下達(dá)到可能的最大基材產(chǎn)能。在具有短的腔室制程時(shí)間及大量制程步驟的制程程序中，處理基材的一大部分時(shí)間被在一群集工具的各個(gè)制程腔室間傳送所述基材的制程占據(jù)。在該群集工具10的一實(shí)施例中，該CoO是藉由將基材分組并以兩個(gè)或多個(gè)為一組的方式傳送及處理所述基材來降低。此類的平行處理因此增加系統(tǒng)產(chǎn)能，并減少一機(jī)械臂在所述制程腔室間傳送一批基材必須進(jìn)行的移動，因此減少該機(jī)械臂的損耗并增加系統(tǒng)可靠度。在該群集工具10的一實(shí)施例中，該前端機(jī)械臂組件15、所述機(jī)械臂組件11(例如第1-6圖的元件IlAUlB等等)及/或該后端機(jī)械臂組件40可適于以兩個(gè)或多個(gè)一組的方式傳送基材，以藉由平行處理所述基材來改善系統(tǒng)產(chǎn)能。例如，在一實(shí)施態(tài)樣中，該機(jī)械臂硬件組件85具有多個(gè)可獨(dú)立控制的傳送機(jī)械臂組件86A和86B (第IOB圖)，其是用來從復(fù)數(shù)個(gè)制程腔室汲取一或多個(gè)基材，然后傳送并放置所述基材在復(fù)數(shù)個(gè)隨后的制程腔室內(nèi)。在另一實(shí)施態(tài)樣中，每一個(gè)傳送機(jī)械臂組件86(例如86A或86B)適于分開汲取、傳送及放下多個(gè)基材。在此情況中，例如，具有兩個(gè)傳送機(jī)械臂組件86的機(jī)械臂硬件組件85可適于利用第一葉片87A從第一制程腔室汲取基材"W”，然后移至第二制程腔室以利用第二葉片87B汲取一基材，因此兩基材可以一組的方式傳送及放下。在該機(jī)械臂組件11的一實(shí)施例中，如第15A圖所示者，該械臂硬件組件85含有兩個(gè)機(jī)械臂硬件組件85 (例如元件85A和85B)，其具有至少一個(gè)傳送機(jī)械臂組件86，其是隔開一預(yù)期距離或高度(元件A)，并且適于從兩個(gè)不同的制程腔室同時(shí)汲取或放下基材。該兩個(gè)機(jī)械臂硬件組件85間的距離，或高度差A(yù)可經(jīng)配置以對應(yīng)裝設(shè)在所述制程架之內(nèi)的兩個(gè)制程腔室間的間隔，因此使該機(jī)械臂組件11可以一次同時(shí)存取該兩個(gè)制程腔室。此配置法由于能夠成組傳送兩個(gè)或多個(gè)基材，因此在改善基材產(chǎn)能和群集工具可靠度上是特別有優(yōu)勢的。機(jī)械臂葉片硬件配置法第16A-16D圖示出一機(jī)械臂葉片組件900的一實(shí)施例，其可與在此所述的某些實(shí)施例并用以支撐并留置一基材”W”，在其由一機(jī)械臂組件傳送通過該群集工具10時(shí)。在一實(shí)施例中，該機(jī)械臂葉片組件900可適于取代該葉片87，因此可在形成于該葉片基座901上的連接點(diǎn)處(元件CP)與第10A-10E圖所示的所述第一滑輪系統(tǒng)355或第二滑輪系統(tǒng)361 零組件連接。本發(fā)明的機(jī)械臂葉片組件900適于抓持，「攫取」，或限制一基材”W”，因此基材在傳送制程期間所經(jīng)歷的加速度不會使該基材位置從該機(jī)械臂葉片組件900上的已知位置上移開。基材在傳送制程期間的移動會產(chǎn)生微粒而降低該機(jī)械臂的基材定位精確度及可重復(fù)性。在最糟的情況下，所述加速度會讓基材從該機(jī)械臂葉片組件900上掉出來。該基材經(jīng)歷的加速度可分為三個(gè)部分水平徑向加速度部分、水平軸向加速度部分及垂直加速度部分。該基材所經(jīng)歷的加速度在該基材在χ、γ和Z方向上加速或減速時(shí)產(chǎn)生，在該基材移動通過該群集工具10期間。參見第16Α圖，該水平徑向加速度部分和該水平軸向加速度部分是分別顯示為力量Fa*!^所經(jīng)歷到的力量與該基材的質(zhì)量乘以基材加速度減去該基材和該機(jī)械臂葉片組件900零組件間所創(chuàng)造出的任何摩擦力相關(guān)。在上述實(shí)施例中，該徑向加速度通常是在基材被一傳送機(jī)械臂組件86旋轉(zhuǎn)進(jìn)入定位時(shí)發(fā)生，并且可在任一方向(即+Y或-Y方向)上起作用。該軸向加速度通常是在基材由該水平移動組件 90及/或該傳送機(jī)械臂組件86的移動設(shè)置在X方向上時(shí)產(chǎn)生，并且可在任一方向(即+X 或-X方向)上作用。該垂直加速度通常是在該基材由該垂直移動組件95設(shè)置在ζ方向上時(shí)發(fā)生，并且可在任一方向(即+Z或-Z方向)上或懸臂梁誘發(fā)結(jié)構(gòu)震動時(shí)作用。第16A圖是該機(jī)械臂葉片組件900的一實(shí)施例的簡要平面圖，其適于支撐該基材”W”。該機(jī)械臂葉片組件900 —般含有一葉片基座901、一促動器910、一制動機(jī)構(gòu)920、 一位置感應(yīng)器930、一夾鉗組件905、一或多個(gè)反應(yīng)構(gòu)件908 (例如示出一個(gè))、以及一或多個(gè)基材支撐零組件909。該夾鉗組件905 —般含有一夾鉗板906及裝設(shè)在該夾鉗板906上的一或多個(gè)接觸構(gòu)件907 (即第16A圖所示的兩個(gè)接觸構(gòu)件)。該夾鉗板906、接觸構(gòu)件907、 反應(yīng)構(gòu)件908、及葉片基座901可由金屬(例如鋁、涂布鎳的鋁、SST)、陶瓷材料(例如碳化硅)、或能夠可靠的承受該機(jī)械臂葉片組件900在該傳送制程期間經(jīng)歷的加速度(例如 10-30m/s2)，并且不會因?yàn)榕c該基材間的交互作用而產(chǎn)生或吸引微粒的塑膠材料制成。第 16B圖是第16A圖所示的機(jī)械臂葉片組件900的側(cè)面簡要剖面圖，其已經(jīng)過該機(jī)械臂葉片組件900的中央切斷。為了簡明，設(shè)置在第16B圖的剖面平面后的零組件向隅(例如接觸構(gòu)件907)，但是該制動組件930尚留在此圖中。參見第16A和16B圖，使用時(shí)該基材"W”被該促動器910通過該夾鉗組件905的接觸構(gòu)件907傳送至基材” W”的抓持力(F1)壓迫倚靠該反應(yīng)構(gòu)件908的留置表面908B。在一實(shí)施態(tài)樣中，所述接觸構(gòu)件907適于接觸并迫使該基材”W”的邊緣”E”倚靠該留置表面 908B。在一實(shí)施態(tài)樣中，該抓持力可介于約0.01和約3公斤力(kgf)間。在一實(shí)施例中， 如第16A圖所示，傾向于讓所述接觸構(gòu)件907以一角距離”A”間隔分布，以提供該基材軸向和徑向的支撐，當(dāng)其由該機(jī)械臂組件11傳送時(shí)。限制該基材以使其能夠利用該機(jī)械臂葉片組件900可靠地傳送通過該群集工具 10的制程通常需要三個(gè)步驟來完成。應(yīng)注意到下面描述的一或多個(gè)步驟可以同步或依序完成，而不會偏離在此所述的本發(fā)明的基本范圍。在開始汲取一基材的制程之前，該夾鉗組件905在+X方向上縮回(未示出)。該第一步驟在從一基材支撐零組件(例如第11A-11I 圖的元件532A、第2A、3A圖的通道位置9A-H等等)上汲取一基材時(shí)開始，因此該基材分別停留在該反應(yīng)構(gòu)件908以及基材支撐零組件909上的基材支撐表面908A和909A上。接下來，該夾鉗組件905在X方向上移動，直到該基材被該促動器910通過該夾鉗組件905的接觸構(gòu)件907和該反應(yīng)構(gòu)件908傳送至基材”W”的抓持力(F1)限制在該機(jī)械臂葉片組件900 上為止。在最后一個(gè)步驟中，該制動機(jī)構(gòu)920將該夾鉗組件905保持，或「鎖」在適當(dāng)位置上，以避免該基材在該傳送制程期間的加速度顯著地改變該抓持力(F1)，因而使該基材可相對于所述支撐表面移動。在該制動機(jī)構(gòu)920限制住該夾鉗組件905后，即可將該基材傳送至該群集工具10的另一點(diǎn)。欲將基材放到一基材支撐零組件上，可以相反次序完成上述步驟。在該機(jī)械臂葉片組件900的一實(shí)施態(tài)樣中，該制動機(jī)構(gòu)920是適于在傳送期間在至少一個(gè)方向上(例如+X方向)限制該夾鉗組件905的移動。在與該夾鉗組件905供給的抓持力(F1)相反的方向上限制該夾鉗組件905移動的能力可避免該(等)水平軸向加速度使該抓持力顯著降低，因而讓該基材可以移動，這可能產(chǎn)生微粒，或在傳送期間從該葉片組件900掉落。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該制動機(jī)構(gòu)920適于在至少兩個(gè)方向上(例如+X和-X方向)限制該夾鉗組件905的移動。在此配置中，在與該抓持力(F1)方向平行的方向上限制該夾鉗組件移動的能力可避免該(等)水平軸向加速度使該抓持力顯著增加，這可能使基材毀壞或碎裂，或顯著降低，這可能產(chǎn)生微?；蜃屧摶牡袈?。在又另一實(shí)施例中，該制動機(jī)構(gòu)905適于限制該夾鉗組件905所有的六個(gè)自由度，以避免，或最小化，該基材的移動。 在一預(yù)期方向上限制該夾鉗組件905移動的能力可利用適于限制該夾鉗組件905移動的零組件來完成?？捎脕硐拗圃搳A鉗組件905移動的典型零組件包含習(xí)知栓鎖機(jī)構(gòu)(例如門閂型機(jī)構(gòu))，或其他類似裝置。在一實(shí)施態(tài)樣中，該夾鉗組件905的移動是由供給一限制力 (第16A圖的元件ig的機(jī)構(gòu)來限制，例如上面討論的相反制動組件920A。在一實(shí)施例中，使用一位置感應(yīng)器930來感應(yīng)該夾鉗板906的位置，而使該控制器 101可以在傳送期間的任何時(shí)間點(diǎn)判定該葉片組件900的狀態(tài)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該位置感應(yīng)器930適于感應(yīng)到并沒有基材設(shè)置在該葉片組件900上，或是該基材已經(jīng)在該支撐表面上(元件908A和909A)錯位，藉由注意到該夾鉗板906在-X方向上移動得太遠(yuǎn)，因?yàn)樵搳A鉗板906的位置和該促動器910傳送的力量間的距離。同樣地，該位置感應(yīng)器930和控制器101可適于感應(yīng)到一基材的存在，藉由注意到該夾鉗板906的位置在相應(yīng)于一基材存在時(shí)可接受的位置范圍內(nèi)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該位置感應(yīng)器930是由設(shè)置在預(yù)期點(diǎn)上的復(fù)數(shù)個(gè)光學(xué)位置感應(yīng)器、一線性差動變壓器(LVDT)或可用來辨明該夾鉗板906的可接受和不可接受的位置的其他可比擬的位置感應(yīng)裝置組成。第16C圖簡要示出一葉片組件(元件900A)的一實(shí)施例的平面圖，其具有取代第 16A圖的制動機(jī)構(gòu)920的簡要表示的相反制動組件920A。該相反制動組件920A適于在基材傳送期間將該夾鉗板906限制在定位上。第16C圖所示的實(shí)施例與第16A-B圖所示的配置法相似，除了添加該相反制動組件920A、促動器組件910A和多個(gè)支撐零組件之外，因此，為了簡明，在適當(dāng)時(shí)使用相同的元件符號。該機(jī)械臂葉片組件900A的實(shí)施例一般含有一葉片基座901、一促動器組件910A、一相反制動機(jī)構(gòu)920A、一位置感應(yīng)器930、一夾鉗組件905、一反應(yīng)構(gòu)件908、以及一基材支撐零組件909。在一實(shí)施例中，該夾鉗板906是裝設(shè)在一線性滑軌(未示出)上，其與該葉片基座901連接以對準(zhǔn)并限制該夾鉗板906在預(yù)期方向(例如X方向)上的移動。在一實(shí)施例中，該促動器組件910A含有一促動器911、一促動器連結(jié)桿911A、一連結(jié)構(gòu)件912、一滑軌組件914、一連接構(gòu)件915、以及與該連結(jié)構(gòu)件912連接并通過該連接構(gòu)件915與夾鉗板906連接的連接板916。該連結(jié)構(gòu)件912可以是一般用來將各種移動控制零組件連接在一起的習(xí)知連結(jié)接合或「浮動接合(floating joint) J0在一實(shí)施例中，該連接板916是直接與該促動器911的促動器連結(jié)桿911A連接。該滑軌組件914可以是習(xí)知線性滑軌組件，或滾珠軸承滑軌，其與該連接板916連接以對準(zhǔn)并引導(dǎo)該連接板的移動，因而該夾鉗板906的移動。該促動器911適于藉由移動該連結(jié)桿911A、連結(jié)構(gòu)件912、連接構(gòu)件 915、和連接板916來設(shè)置該夾鉗板906。在一實(shí)施態(tài)樣中，該促動器911是一氣壓缸(air cylinder)、線性馬達(dá)或其他可比擬的設(shè)置及傳力裝置。在一實(shí)施例中，該相反制動組件920A含有一促動器921，其與該葉片基座901連接，并與一制動接觸構(gòu)件922連結(jié)。在此配置法中，該相反制動組件921A適于「鎖住」，或限制，該夾鉗板906，源自于該相反制動組件920A產(chǎn)生的限制力F2。在一實(shí)施例中，該限制力 F2是由形成在該連接板916和該制動接觸構(gòu)件922間的摩擦力形成，當(dāng)該促動器921迫使(元件F3)該制動接觸構(gòu)件922倚靠著該連接板916時(shí)。在此配置法中，該滑軌組件914是經(jīng)設(shè)計(jì)以接受該促動器921傳送的制動力所F3產(chǎn)生的側(cè)負(fù)載(side load)。產(chǎn)生的將該夾鉗板906保持在定位的限制力F3等于該制動力乘以該制動接觸構(gòu)件922和該連接板916間創(chuàng)造出的靜摩擦是數(shù)。該促動器921的尺寸、以及制動接觸構(gòu)件922和該連接板916材料和表面處理的選擇可以最佳化，以確保所產(chǎn)生的限制力總是比傳送期間該基材加速期間所產(chǎn)生的任何力量大。在一實(shí)施態(tài)樣中，所產(chǎn)生的限制力F2在約0. 5和約3. 5公斤力(kgf) 范圍內(nèi)。在一實(shí)施態(tài)樣中，該制動接觸構(gòu)件922可由橡膠或聚合物型材料制成，例如聚氨酯 (polyurethane)、乙烯-丙烯橡膠(EPDM)、天然橡膠或其他適合的聚合物材料，而該連接板 916是由鋁合金或不銹鋼合金制成。在一實(shí)施例中，該促動器的連結(jié)桿911A直接與該夾鉗板906連結(jié)，而該相反制動組件920A的制動接觸構(gòu)件922適于接觸該連結(jié)桿911A或該夾鉗板，以避免其移動。第16D圖簡要示出該葉片組件900A的一實(shí)施例的平面圖，其具有與第16C圖所示者不同的相反制動組件920A的配置。在此配置法中，該相反制動組件920A含有在一端與該制動接觸構(gòu)件922連接的杠桿臂923、在該杠桿臂另一端則具有該促動器921、以及設(shè)置在該杠桿臂兩端之間某處的樞軸點(diǎn)”P”。在一實(shí)施態(tài)樣中，該樞軸點(diǎn)與該葉片基座901連接， 并且適于在該制動接觸構(gòu)件922被壓迫倚靠該連接板916時(shí)支撐該杠桿臂923和從該促動器921供給至該杠桿臂923的力量F4。在此配置法中，藉由策略性地設(shè)置該樞軸點(diǎn)”P”，可利用該杠桿臂923創(chuàng)造出機(jī)械優(yōu)勢，其可用來供給超過直接與該促動器921的力量產(chǎn)生零組件接觸可達(dá)到的力量的制動力F3,因而限制力F2。第16D圖也示出該葉片組件900A的一實(shí)施例，其含有設(shè)置在該夾鉗板906和連接構(gòu)件915間的順應(yīng)構(gòu)件917，以幫助感應(yīng)基材存在或不存在該葉片組件900A上。該順應(yīng)構(gòu)件一般加入與該設(shè)置感應(yīng)器930和控制器101并用的額外的自由度，以感應(yīng)該基材是否存在該葉片組件900A上，一旦該限制力F2已經(jīng)應(yīng)用至連接板916上。若該葉片組件900A中沒有其他自由度的存在，則防止或抑制該夾鉗板906移動的限制力F2會因而使該位置感應(yīng)器930和控制器101在基材傳送之前或期間無法偵測基材的移動或損失。因此，在一實(shí)施例中，該促動器組件910—般含有一促動器911、一促動器連結(jié)桿 911A、一連結(jié)構(gòu)件912、一滑軌組件914、一連接構(gòu)件915、一順應(yīng)構(gòu)件917、一夾鉗板滑軌組件918、以及與該連結(jié)構(gòu)件912連接并通過該連接構(gòu)件915及順應(yīng)構(gòu)件917與該夾鉗板906 連接的連接板916。該夾鉗板滑軌組件918 —般是一習(xí)知線性滑軌組件，或滾珠軸承滑軌， 其與該夾鉗板906連接以對準(zhǔn)并引導(dǎo)其移動。該順應(yīng)構(gòu)件917 —般是一彈性零組件，例如一彈簧、彎曲件或其他類似裝置，其可在釋放施加抓持力F1期間其撓曲產(chǎn)生的位能時(shí)傳送足夠的力量，以在該基材移動或「迷途」 時(shí)使該夾鉗板906移動可輕易由該位置感應(yīng)器930測量到的量。在一實(shí)施態(tài)樣中，該順應(yīng)構(gòu)件917是一彈簧，其具有足夠低的彈簧常數(shù)(spring rate)，而使其可在應(yīng)用該抓持力F1 至該基材時(shí)達(dá)到「堅(jiān)實(shí)高度」。在另一實(shí)施態(tài)樣中，該連接構(gòu)件915、順應(yīng)構(gòu)件917和夾鉗板 906是經(jīng)設(shè)計(jì)而使得在應(yīng)用該抓持力F1時(shí)，該連接構(gòu)件915會與該夾鉗板906接觸，或底部接觸在該夾鉗板上。這些類型的配置法的一優(yōu)勢在于其避免抓持力F1在傳送期間改變，因?yàn)樵擁槕?yīng)構(gòu)件917無法進(jìn)一步撓曲，肇因于該基材在傳送期間經(jīng)歷到的加速度，這會減少所產(chǎn)生的微粒數(shù)量并避免該基材的損失。
如下步驟意欲示出該順應(yīng)構(gòu)件917如何可在施加該限制力F2至該連接板916之后用來感應(yīng)該基材在該葉片組件900A上的存在的范例。在該第一步驟中，該促動器911通過該夾鉗組件905內(nèi)的接觸構(gòu)件907和該反應(yīng)構(gòu)件908施加該抓持力F1至該基材，這使該順應(yīng)構(gòu)件917撓曲讓該連接構(gòu)件915和該夾鉗板906間的縫隙”G”縮小的量。該控制器101 然后藉由監(jiān)控并注記從該位置感應(yīng)器930接收到的資訊來檢查以確認(rèn)該夾鉗板906位于可接受的位置上。一旦感應(yīng)到該基材，因此是在該葉片組件900A上的預(yù)期位置處，即施加該限制力F2至該連接板916以限制其在與該抓持力(F1)方向平行的方向上的移動。然后若該基材移動，及/或變?yōu)椤溉プコ?un-gripped)」，該順應(yīng)構(gòu)件917內(nèi)產(chǎn)生的位能，因?yàn)槭┘釉撟コ至1期間的撓曲，會使該夾鉗板906移離該受限制的連接板916，其接著由該位置感應(yīng)器930和控制器101感應(yīng)。該位置感應(yīng)器930注記的該夾鉗板906的移動會使該控制器 101停止該傳送制程或避免傳送制程發(fā)生，其可幫助避免該基材和系統(tǒng)的損害。雖然前述是針對本發(fā)明的實(shí)施例，但本發(fā)明的其他及進(jìn)一步實(shí)施例可在不背離其基本范圍下設(shè)計(jì)出，而其范圍是由所附的權(quán)利要求所界定。
權(quán)利要求
1.一種機(jī)械臂組件，包括一第一移動組件，可在第一方向上移動；以及一第二移動組件，該第二移動組件耦合于所述第一移動組件并可相對于所述第一移動組件在基本垂直于所述第一方向的第二方向上移動，其中所述機(jī)械臂組件還包括 一圍封，設(shè)置于所述第一移動組件或者所述第二移動組件之一中； 一促動器，在所述圍封內(nèi)；一風(fēng)扇組件，設(shè)置于所述圍封中，適于在所述圍封內(nèi)產(chǎn)生一小于該圍封外部壓力的壓力。
2.如權(quán)利要求1所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述圍封包含垂直促動器組件的至少一部分。
3.如權(quán)利要求2所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述垂直促動器組件包括一線性軌道。
4.如權(quán)利要求2所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述垂直促動器組件包括一皮帶。
5.如權(quán)利要求2所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述垂直促動器組件包括一支撐板， 該支撐板上設(shè)置有一轉(zhuǎn)移機(jī)械臂。
6.如權(quán)利要求2所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述垂直促動器組件耦合于一滑軌板，該滑軌板可相對于一設(shè)置于所述第二移動組件中的水平促動器組件移動。
7.如權(quán)利要求2所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述圍封包含水平促動器組件的至少一部分。
8.如權(quán)利要求7所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述水平促動器組件耦合于一基座結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述基座結(jié)構(gòu)包括多個(gè)穿孔。
10.一種用于在群集工具中轉(zhuǎn)移基材的機(jī)械臂組件，該機(jī)械臂組件包括機(jī)械臂，適于將基材定位于基本上包含于一平面內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)點(diǎn)，該機(jī)械臂包括 一第一移動組件，包括一滑軌組件，其含有與沿第一方向定位的第一線性軌道耦合的塊狀物； 一支撐板，耦合于所述塊狀物和所述機(jī)械臂；一圍封，具有一個(gè)或多個(gè)壁，所述一個(gè)或多個(gè)壁形成基本圍繞所述滑軌組件的第一內(nèi)部區(qū)域且一促動器設(shè)置于所述圍封內(nèi)；以及第一風(fēng)扇組件，與所述第一內(nèi)部區(qū)域連通并適于在所述第一內(nèi)部區(qū)域中產(chǎn)生小于所述第一內(nèi)部區(qū)域的外部壓力的壓力。
11.如權(quán)利要求10所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第一移動組件包括一狹縫，該狹縫形成于所述圍封的一個(gè)或多個(gè)壁中的一個(gè)壁中，所述支撐板延伸通過該狹縫。
12.如權(quán)利要求10所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第一移動組件耦合于所述第二移動組件。
13.如權(quán)利要求12所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二移動組件耦合于一沿第二方向定位的第二線性軌道。
14.如權(quán)利要求13所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二方向基本垂直于所述第一方向。
15.如權(quán)利要求12所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二移動組件包括 一個(gè)或多個(gè)壁，所述一個(gè)或多個(gè)壁形成與所述第一內(nèi)部區(qū)域流體連通的第二內(nèi)部區(qū)域。
16.一種用于在群集工具中轉(zhuǎn)移基材的機(jī)械臂組件，該機(jī)械臂組件包括 一第一移動組件，包括一第一促動器組件，適于相對于沿第一方向定位的第一線性軌道來定位機(jī)械臂，所述第一促動器組件設(shè)置于所述第一移動組件內(nèi)的第一圍封中，所述第一圍封具有一個(gè)或多個(gè)壁，所述一個(gè)或多個(gè)壁形成第一內(nèi)部區(qū)域并包含第一風(fēng)扇組件；以及一第二移動組件，耦合于沿基本垂直于所述第一方向的第二方向定位的第二線性軌道。
17.如權(quán)利要求16所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第一促動器組件還包括 一滑軌組件，當(dāng)所述機(jī)械臂由所述第一促動器組件定位時(shí)引導(dǎo)該機(jī)械臂。
18.如權(quán)利要求16所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二移動組件還包括一第二促動器組件。
19.如權(quán)利要求18所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二移動組件還包括一第二圍封，具有一個(gè)或多個(gè)壁，所述一個(gè)或多個(gè)壁圍繞所述第二促動器組件以形成一第二內(nèi)部區(qū)域。
20.如權(quán)利要求19所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第二移動組件還包括 一第二風(fēng)扇組件，與所述第二內(nèi)部區(qū)域流體連通。
21.如權(quán)利要求19所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第一內(nèi)部區(qū)域與所述第二內(nèi)部區(qū)域流體連通。
22.如權(quán)利要求19所述的機(jī)械臂組件，其特征在于，所述第一圍封或第二圍封之一包括一過濾器，適于包含所述第一內(nèi)部區(qū)域和所述第二內(nèi)部區(qū)域內(nèi)的顆粒。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種笛卡爾機(jī)械臂群集工具架構(gòu)。茲提供一種使用多腔室制程系統(tǒng)來處理基材的方法及設(shè)備，該系統(tǒng)具有增加的產(chǎn)能、增強(qiáng)的系統(tǒng)可靠度、改善的元件合格率表現(xiàn)、再現(xiàn)性更高的晶片制程歷史、以及較小的占地面積(foot print)。該群集工具的各種實(shí)施例可使用以平行制程配置法配置的兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂，以在留置在所述制程架內(nèi)的各個(gè)制程腔室間傳送基材，因而可執(zhí)行預(yù)期的制程程序。在一實(shí)施態(tài)樣中，該平行制程配置法包含兩個(gè)或多個(gè)機(jī)械臂組件，其是適于在垂直和水平方向上移動，以存取留置在所述制程架內(nèi)的若干制程腔室。在一實(shí)施例中，一機(jī)械臂葉片適于限制一基材，使得傳送過程期間該基材所經(jīng)歷的加速不會使該機(jī)械臂葉片上的基材位置改變。
文檔編號G03F7/20GK102176425SQ20111008000
公開日2011年9月7日 申請日期2006年4月7日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月22日
發(fā)明者C·卡爾森, D·C·魯澤克, D·塞法緹, E·英格哈特, J·胡金斯, K·范凱特, M·利斯, M·庫查, R·勞倫斯, S·洪喬姆, V·沙阿, V·霍斯金, W·T·威弗 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司