專利名稱：乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液及使用其的乳膠掩膜的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是有關乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其可用以縮短形成保護膜的時間，尤其有關乳膠掩膜與保護膜的粘接性以及保護膜的表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液以及乳膠掩膜。
背景技術：
通常，對于在鈉玻璃(soda glass)、石英玻璃、光學玻璃等的基板上以銀鹽乳劑(乳膠)作為遮光膜而形成有圖案的乳膠掩膜而言，遮 光膜因柔軟而易于刮傷，不可能利用溶劑等進行濕式洗滌。另外，伴隨著玻璃掩膜尺寸的大型化因自身重量引起的彎曲等而使精度降低，因而為了提高掩膜精度而實施接觸曝光時會產(chǎn)生遮光膜磨損的問題。鑒于這些狀況，考慮到在乳膠掩膜上的與光致抗蝕層相對置的面上設置具有脫模性的保護膜，以防止光致抗蝕劑附著于乳膠掩膜上，且考慮到將具有保護膜的表面保護薄膜貼合于乳膠掩膜的與光致抗蝕層相對置的面上。然而，貼合表面保護薄膜時，存在因表面保護薄膜的厚度造成紫外線(UV)透射率下降而引起曝光精度降低，或在貼合時因氣泡進入等引起曝光精度降低的問題(專利文獻I)。因此，考慮到在乳膠掩膜上的與光致抗蝕層相對置的面上直接設置保護膜(專利文獻2)?，F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻I :日本特開2000-258603號公報(現(xiàn)有技術)專利文獻2 日本特開2002-278047號公報(權利要求I)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問題然而，近年來，為了削減生產(chǎn)成本，而要求有在短時間內(nèi)形成該保護膜，利用熱固化形成的保護膜中無法獲得滿足該要求的保護膜。因此本發(fā)明的目的為提供一種可在短時間內(nèi)形成保護膜、乳膠掩膜與保護膜的粘接性、及保護膜的表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液及使用其的乳膠掩膜。用于解決問題的方案為解決上述課題而積極研究的結果，已知保護膜的形成時間與保護膜中所含熱固化型樹脂的固化時間有關，為了在短時間內(nèi)形成保護膜，通過使用固化時間為短時間的電離輻射線固化型樹脂，而不是固化時間長的熱固化型樹脂，可解決上述課題。然而，已知的是僅從熱固化型樹脂改變成電離輻射線固化型樹脂，乳膠掩膜與保護膜的粘接性不足，而使保護膜的耐久性變差。因而，發(fā)現(xiàn)通過在保護液中添加反應性親水性物質(zhì)，可提高乳膠掩膜與保護膜的粘接性，及提高保護膜的表面硬度，從而解決該問題。即，本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液的特征在于，其具有包含(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體的第一成分，及包含可與前述第一成分共聚的反應性親水性物質(zhì)的第二成分。優(yōu)選的是，前述反應性親水性物質(zhì)為(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)。優(yōu)選的是，前述(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)為(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯和/或(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽。 優(yōu)選為前述保護液總固體成分含有10 30重量％的前述第二成分。優(yōu)選為前述保護液總固體成分含有50 89重量％的前述第一成分。優(yōu)選的是，進一步具有第三成分，所述第三成分包含與前述第一成分及前述第二成分中的至少任一種反應的基團的反應性硅油。優(yōu)選的是，使用具有(甲基)丙烯酸基的硅油作為前述反應性硅油。優(yōu)選為前述保護液總固體成分含有0. 5 20重量％的前述第三成分。另外，本發(fā)明的乳膠掩膜的特征在于，其具有保護膜，且該保護膜是使用前述乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液而形成的。優(yōu)選的是，前述保護膜是以0. I 10 ii m的厚度而形成的。優(yōu)選的是，前述保護膜以Ikg的荷重使鋼棉#0000來回10次時不會產(chǎn)生傷痕。發(fā)明效果本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液可以短時間形成保護膜，且可獲得乳膠掩膜與保護膜的粘接性優(yōu)異、保護膜的表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜。對于使用本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液形成保護膜的乳膠掩膜，其由于可以短時間形成保護膜，故可削減生產(chǎn)成本，且可成為乳膠掩膜與保護膜的粘接性優(yōu)異、保護膜的表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜。
具體實施例方式針對本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液的實施方式加以說明。本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液包含作為第一成分的(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體，及作為第二成分的可與前述低聚物和/或單體共聚的反應性親水性物質(zhì)。(甲基)丙烯酸低聚物及(甲基)丙烯酸系單體在作為保護膜時被用作用于賦予保護膜表面硬度的樹脂成分。這樣的(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體為一分子中具有兩個以上的(甲基)丙烯?；依秒婋x輻射線(紫外線或電子射線)的照射而交聯(lián)固化，由此成為三維網(wǎng)目構造。使用成為相同的三維網(wǎng)目構造的熱固化型樹脂時，制膜需要30 80分鐘左右，但通過使用利用電離輻射線(紫外線或電子射線)的照射而交聯(lián)固化的(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體可在I 3分鐘左右制膜。(甲基)丙烯酸酯低聚物可使用酯(甲基)丙烯酸酯、醚(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、氨基樹脂(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸樹脂(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、聚氟烷基(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯等。另外，這些(甲基)丙烯酸酯低聚物可單獨使用，但為了提高交聯(lián)固化性、調(diào)整固化收縮等賦予各種性能，優(yōu)選混合兩種以上使用。作為(甲基)丙烯酸系單體，使用1，6_己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸酯新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二官能團的(甲基)丙烯酸單體，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等多官能團的(甲基)丙烯酸酯等中的一種或兩種以上。(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體優(yōu)選為占保護液總固體成分的50 89重量％。通過設為50重量％以上，可防止保護膜的表面硬度降低，通過設為89重量％以下，可充分發(fā)揮乳膠掩膜與保護膜的粘接性或 脫模性等對保護膜為必需的性能。另外，通過紫外線照射使本發(fā)明的保護液固化并使用時，除(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體以外，優(yōu)選使用光聚合引發(fā)劑或光聚合促進劑等添加劑。作為光聚合引發(fā)劑，可列舉出苯乙酮、二苯甲酮、米蚩(Michler)酮、苯偶姻、苯偶酰甲基縮酮、苯甲?；郊姿狨?、a -?；旷?、噻噸酮類等。另外，光聚合促進劑為可減輕因固化時的空氣引起的聚合障礙并加速固化速度的光聚合促進劑，可列舉出例如對-二甲氨基苯甲酸異戊酯、對-二甲氨基苯甲酸乙酯等。接著，作為第二成分的反應性親水性物質(zhì)為可與(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體共聚的物質(zhì)。通過與(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體共聚，使親水性物質(zhì)不會從保護膜滲出，可防止乳膠掩膜與保護膜的粘接性隨時間變化，且可提高乳膠掩膜的耐久性。進一步，由于可與(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體共聚，因而可充分提高保護膜中的交聯(lián)密度，可防止因添加反應性親水性物質(zhì)而引起的保護膜硬度降低。作為這樣的反應性親水性物質(zhì)，可使用例如具有羥基、(甲基)丙烯酸基、乙烯基、環(huán)氧基、苯乙稀基、(甲基)丙稀酸氧基、氣基、疏基、異氰1酸酷基等未水性物質(zhì)。特別是，具有(甲基)丙烯酸基的(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)能夠容易地與前述(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體共聚，同時與前述(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體的相容性良好故而優(yōu)選。作為(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)，由于與乳膠掩膜的粘接性良好，因而可使用(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯、(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽等，尤其為了使保護液的保存穩(wěn)定性良好，更優(yōu)選使用(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽。作為(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯，可使用三丙烯酰氧基乙基磷酸酯、2-丙烯酰氧基乙基酸式磷酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基酸式磷酸酯等，作為(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽，可使用二甲氨基乙基丙烯酸酯氯甲基季銨鹽、二甲氨基丙基丙烯酰胺氯甲基季銨鹽、二甲氨基乙基甲基丙烯酸酯氯甲基季銨鹽等。反應性親水性物質(zhì)優(yōu)選為占保護液的總固體成分的10 30重量％，特別優(yōu)選為10 20重量％。設為10重量％以上的理由是獲得乳膠掩膜與保護膜的粘接性，設為30重量％以下的理由是不使保護膜的表面硬度下降。為了防止光致抗蝕劑附著于保護膜上，本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液還可含有作為第三成分的脫模劑。這樣的脫模劑可使用二甲基硅油、甲基含氫硅油、甲基苯基娃油、環(huán)狀~■甲基娃油等娃油或在娃油中導入了有機基而成的改性娃油。
作為改性的硅油，可使用烷基改性、聚醚改性、氟改性、巰基改性、環(huán)氧基改性、羧基改性、高級脂肪酸酯改性、(甲基)丙烯酸改性、卡必醇改性等的改性硅油。特別是，由于可持續(xù)維持脫模性及防污性，故優(yōu)選使用具有與(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體或反應性親水性物質(zhì)的至少任一種反應的基團的反應性硅油作為第三成分。由此，可容易地去除保護膜表面的光致抗蝕劑等附著物。作為這樣的反應性硅油，可使用例如具有羥基、(甲基)丙烯酸基、乙烯基、環(huán)氧基、苯乙稀基、(甲基)丙稀酸氧基、氣基、疏基、異氛酸酷基等的反應性娃油。特別是，優(yōu)選為可容易地與(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體或反應性親水性物質(zhì)共聚，同時與(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體的相容性良好的具有(甲基)丙烯酸基的反應性硅油。 作為第三成分的硅油優(yōu)選為保護液的總固體成分的0. 5 20重量％。設為0.5重量％以上的理由是獲得充分的脫模性、防污性，設為20重量％以下的理由是不使表面硬度降低。本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液可調(diào)配以上說明的(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體(第一成分)、反應性親水性物質(zhì)(第二成分)、硅油(第三成分)及根據(jù)需要的其他成分，并溶解于適當溶劑中予以調(diào)整。另外，各成分彼此相容時由于可防止保護膜的白化等而優(yōu)選。對于利用本發(fā)明的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液獲得的保護膜，其固化后的保護膜表面優(yōu)選為在Ikg的荷重以鋼棉#0000來回擦拭表面10次后保護膜表面不會有傷痕。接著，對本發(fā)明的乳膠掩膜的實施方式加以說明。本發(fā)明的乳膠掩膜為在乳膠掩膜本體上使用上述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液形成的保護膜。本發(fā)明所用的乳膠掩膜本體為例如用以在印刷電路板或樹脂凸版上形成細微圖案的形成有圖案的玻璃基板，其是在玻璃基板上涂布使明膠與鹵化銀等混合而成的銀鹽乳劑(乳劑)而成的。本發(fā)明的乳膠掩膜如下所述，在形成有細微圖案的乳膠掩膜本體上涂布上述的本發(fā)明乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，通過照射電離輻射線，由此使保護液的樹脂成分交聯(lián)固化，形成具有硬涂層性與脫模性的保護膜。該保護膜優(yōu)選以0. I 10 y m的厚度形成。通過保護膜的厚度設為0. I y m以上，可獲得充分的表面硬度，通過設為IOym以下，可精密地確保曝光精度。通過在保護液中包含(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸單體及反應性親水性物質(zhì)，可在短時間形成保護膜，故可削減生產(chǎn)成本，且可制成乳膠掩膜與保護膜的粘接性優(yōu)異、保護膜的表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜。作為在乳膠掩膜上形成保護膜的方法，可使用旋轉(zhuǎn)涂布或模涂布、帽涂布(capcoat)、棒涂布等已知的方法。[實施例]以下借助實施例進一步說明本發(fā)明。另外，“份”、若沒有特別說明，則為重量基準。[實施例I]
利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例I的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例I的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物3份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I份 (NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽I份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0. 35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例2]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例2的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例2的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物3份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I. 2份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽0.8份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0. 35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例3]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例3的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例3的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物2份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I. 2份
(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽2份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0. 35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例4]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例4的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例4的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物3份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I. 3份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽0.6份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0.35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例5]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例5的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例5的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物2份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽2. 2份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0.35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司)
稀釋溶劑15份[實施例6]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例6的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例6的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物3份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I. 5份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽0.4份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0. 35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例7]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例7的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例7的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物I份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I. 6份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的季銨鹽2. 8份(DMAEA-Q :興人公司，固體成分79% ) 脫模劑0.35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份[實施例8]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的實施例8的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 u m的保護膜，制作實施例8的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物3份
(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 丙烯酸改性的磷酸酯I份(Light acrylate P-1A :共榮社化學公司，固體成分100% ) 脫模劑0. 35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物， 固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 25份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑20. 75份[比較例I]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的比較例I的乳膠掩膜用熱固化型保護液，在120°C干燥3分鐘后，在150°C加熱30分鐘促進固化反應，形成厚度約的保護膜，制作比較例I的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用熱固化型保護液> 丙烯酸多元醇5份 脫模劑0.35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 固化劑I份(TAKENATE DllON :三井化學 Polyurethane 公司，固體成分 60% ) 稀釋溶劑15份[比較例2]利用旋轉(zhuǎn)涂布在形成有圖案的乳膠掩膜本體上涂布下列組成的比較例2的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，在80°C干燥2分鐘后，照射紫外線10秒(lOOOmJ/cm2)，形成厚度約3 的保護膜，制作比較例2的乳膠掩膜。<乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液> 氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物4份(ART-Resin UN904 :根上工業(yè)公司) 氨基甲酸酯丙烯酸酯單體I份(NK Ester A-TMMT :新中村工業(yè)公司) 脫模劑0.35份(末端基具有不飽和鍵的聚硅氧烷改性的聚合物，固體成分70%) 光自由基聚合引發(fā)劑0. 35份(Irgacure 184 JAPAN Ciba 公司) 稀釋溶劑15份對所得的實施例I 8及比較例1、2的乳膠掩膜進行下列項目的評價，結果示于表I。[乳膠掩膜的粘接性]以棋盤格膠帶法(JIS K5600-5-6 :1999)評價實施例I 8及比較例1、2中獲得的乳膠掩膜本體與保護膜的粘接性。利用棋盤格膠帶法進行剝離試驗的結果，棋盤格部分全部剝離的判定為“ X ”，棋盤格部分幾處剝離的判定為“ A”，棋盤格部分完全未剝離的判定為“〇”。結果示于表I。[表面硬度]對于實施例I 8及比較例1、2中獲得的乳膠掩膜的保護膜，以Ikg荷重的鋼棉#0000在保護膜的掩膜表面來回擦拭10次，然后以目視觀察保護膜表面是否有傷痕。整面看到傷痕的判定為“ X ”，并非整面而是多少看到些傷痕的判定為“A”，幾乎未看到傷痕的判定為“〇”。結果示于表I。[外觀評價] 觀察實施例I 8及比較例1、2的保護膜。保護膜未看到白化的判定為“〇”，保護膜上看到白化的判定為“X”。結果示于表I。[表I]
權利要求
1.一種乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，其是用于在乳膠掩膜上形成保護膜的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其具有如下成分，即 包含(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系單體中的至少任一種的第一成分，以及 包含可與所述第一成分共聚的反應性親水性物質(zhì)的第二成分。
2.根據(jù)權利要求I所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，所述反應性親水性物質(zhì)為(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)。
3.根據(jù)權利要求2所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)為(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯及(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽中的至少任一種。
4.根據(jù)權利要求I 3中任一項所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，所述第二成分占所述保護液的總固體成分的10 30重量％。
5.根據(jù)權利要求I 4中任一項所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，所述第一成分占所述保護液的總固體成分的50 89重量％。
6.根據(jù)權利要求I 5中任一項所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，其進一步具有第三成分，所述第三成分包含具有與所述第一成分及所述第二成分中的至少任一種反應的基團的反應性硅油。
7.根據(jù)權利要求6所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液，其特征在于，所述第三成分占所述保護液的總固體成分的0. 5 20重量％。
8.一種乳膠掩膜，其是具有保護膜的乳膠掩膜，其特征在于，所述保護膜是使用權利要求I 7任一項所述的乳膠掩膜用電離輻射線固化型保護液而形成的。
9.根據(jù)權利要求8所述的乳膠掩膜，其特征在于，所述保護膜是以0.I 10 的厚度而形成的。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可在短時間內(nèi)形成保護膜，形成保護膜的乳膠掩膜的粘接性與表面硬度優(yōu)異的乳膠掩膜用保護液及使用其的乳膠掩膜。乳膠掩膜用電離輻射線性固化型保護液含有(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系單體，及可與前述所述低聚物和/或單體共聚的反應性親水性物質(zhì)。而且反應性親水性物質(zhì)為(甲基)丙烯酸改性的親水性物質(zhì)，尤其是(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯和/或(甲基)丙烯酸改性的季銨鹽。
文檔編號G03F1/48GK102754025SQ201080063279
公開日2012年10月24日 申請日期2010年2月8日 優(yōu)先權日2010年2月8日
發(fā)明者根岸朋子, 長谷川剛 申請人:木本股份有限公司