專利名稱：感光性樹(shù)脂組合物以及使用其的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法和印刷線路板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性樹(shù)脂組合物以及使用其的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法和印刷線路板的制造方法。
背景技術(shù)：
在印刷線路板的制造領(lǐng)域中，作為蝕刻、鍍敷等中使用的抗蝕劑材料，廣泛使用感光性樹(shù)脂組合物。感光性樹(shù)脂組合物大多制成具有支撐膜和形成于該支撐膜上的用感光性樹(shù)脂組合物形成的層(以下稱為“感光性樹(shù)脂層”。)的感光性元件而使用。
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使用感光性元件來(lái)制造印刷線路板時(shí)，例如像以下那樣操作而制造印刷線路板。首先，將感光性元件的感光性樹(shù)脂層層疊(層壓)在基板上(層疊工序)。接下來(lái)，根據(jù)情況剝離除去支撐膜后，對(duì)感光性樹(shù)脂層的規(guī)定部分照射活性光線，使該規(guī)定部分曝光、固化(曝光工序)。然后，從基板上將該規(guī)定部分以外的部分(未曝光、未固化部分)除去(顯影)，從而在基板上形成由感光性樹(shù)脂組合物的固化物構(gòu)成的抗蝕圖形(顯影工序)。接下來(lái)，以該抗蝕圖形為掩模，對(duì)形成了抗蝕圖形的基板實(shí)施蝕刻或鍍敷處理，形成電路圖形，最后從基板剝離除去抗蝕圖形(電路圖形形成工序)。由此制造在基板上形成了電路圖形的印刷線路板。在上述曝光工序中，以往使用通過(guò)具有圖形的掩模膜來(lái)照射活性光線的掩模曝光法。作為活性光線的光源，使用碳弧燈、汞蒸氣弧燈、超高壓汞燈、高壓汞燈、氙燈等有效放射出紫外線的光源。近年，作為代替上述掩模曝光法的方法，不使用掩模膜而是使用數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)、以圖像狀直接照射活性光線的直接描繪法已經(jīng)實(shí)用化。作為直接描繪法中使用的光源，從安全性、處理性等方面出發(fā)可使用YAG激光、半導(dǎo)體激光等，最近提出了使用長(zhǎng)壽命、高輸出的氮化鎵系藍(lán)色激光等的技術(shù)。進(jìn)而，隨著印刷線路板的高精細(xì)化、高密度化，采用了能夠形成比以往更微細(xì)的圖形的被稱為DLP (Digital Light Processing,數(shù)字光處理)曝光法的直接描繪法。通常，DLP曝光法中使用以藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光為光源的波長(zhǎng)為390 430nm的活性光線。此外，還使用主要可應(yīng)對(duì)通用的印刷線路板中的少量多品種的、使用了以YAG激光為光源的波長(zhǎng)為355nm的多面鏡多光束(polygon multi-beam)的曝光法。另一方面，上述顯影工序中，作為用于從基板上除去感光性樹(shù)脂層的未曝光部分的顯影液，從環(huán)境性和安全性的立場(chǎng)出發(fā)，碳酸鈉水溶液、碳酸氫鈉水溶液等堿顯影液已經(jīng)成為主流。感光性樹(shù)脂層的未曝光部分通過(guò)利用這些顯影液的顯影、水洗的噴壓而從基板除去。因此，對(duì)感光性樹(shù)脂組合物要求具有曝光后不因顯影、水洗的噴壓而破損的優(yōu)異的蓋孔可靠性(蓋孔性)。作為在以往的掩模曝光法中具有優(yōu)異的蓋孔可靠性的感光性樹(shù)脂組合物，已經(jīng)提出了含有二官能或三官能單體的感光性樹(shù)脂組合物(參照例如專利文獻(xiàn)I和2)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本專利3199600號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :日本專利3251446號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題然而，上述含有二官能或三官能單體的感光性樹(shù)脂組合物雖然在以往的掩模曝光法中具有優(yōu)異的蓋孔可靠性，但在上述直接描繪法中并不具有充分的蓋孔可靠性。
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因此，本發(fā)明的目的在于提供在用直接描繪法進(jìn)行了曝光時(shí)具有優(yōu)異的蓋孔可靠性的感光性樹(shù)脂組合物。此外，目的在于提供使用了上述感光性樹(shù)脂組合物的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法和印刷線路板的制造方法。解決問(wèn)題的方法本發(fā)明人等為了解決上述問(wèn)題而反復(fù)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過(guò)使用具有特定化學(xué)結(jié)構(gòu)的化合物作為光聚合性化合物，能夠提供在用直接描繪法進(jìn)行了曝光時(shí)具有優(yōu)異的蓋孔可靠性的感光性樹(shù)脂組合物，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明為一種感光性樹(shù)脂組合物，含有(A)粘合劑聚合物、(B)光聚合性化合物和(C)光聚合弓I發(fā)劑，上述(B)光聚合性化合物含有下述通式(I)所示的化合物，所述感光性樹(shù)脂組合物在利用直接描繪法的抗蝕圖形的形成中使用。通過(guò)使用下述通式(I)所示的化合物作為上述(B)光聚合性化合物，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的敏感度良好，在用直接描繪法進(jìn)行了曝光時(shí)具有優(yōu)異的蓋孔可靠性。[化學(xué)式I]
權(quán)利要求
1.一種感光性樹(shù)脂組合物，其為在利用直接描繪法的抗蝕圖形的形成中使用的感光性樹(shù)脂組合物，含有(A)粘合劑聚合物、(B)光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑，所述(B)光聚合性化合物含有下述通式(I)所示的化合物，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述(B)光聚合性化合物還含有下述通式(II)所示的化合物，
3.根據(jù)權(quán)利要求I或權(quán)利要求2所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述通式(I)所示的化合物中的n為4 25的整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述通式(II)所示的化合物中的m為.4 8的整數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中任意一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述(C)光聚合引發(fā)劑含有下述通式(III)所示的化合物和/或下述通式(IV)所示的化合物，
6.一種感光性元件，其具有支撐膜、和形成于該支撐膜上的使用權(quán)利要求I 5中任意一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物而形成的感光性樹(shù)脂層。
7.一種抗蝕圖形的形成方法，其具有 在基板上層疊使用權(quán)利要求I 5中任意一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物而形成的感光性樹(shù)脂層的層疊工序；通過(guò)直接描繪法對(duì)所述感光性樹(shù)脂層以圖像狀照射活性光線，使曝光部固化的曝光工序；和 從所述基板上除去所述感光性樹(shù)脂層的未曝光部分，從而在所述基板上形成由所述感光性樹(shù)脂組合物的固化物構(gòu)成的抗蝕圖形的顯影工序。
8.—種印刷線路板的制造方法，其包含對(duì)利用權(quán)利要求7所述的方法而形成有抗蝕圖形的基板進(jìn)行蝕刻或鍍敷。
全文摘要
一種感光性樹(shù)脂組合物，其含有(A)粘合劑聚合物、(B)光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑，(B)光聚合性化合物含有下述通式(I)所示的化合物，所述感光性樹(shù)脂組合物在利用直接描繪法的抗蝕圖形的形成中使用。(式中，R1和R2各自獨(dú)立地表示氫原子或甲基，n表示0～50的整數(shù))。
文檔編號(hào)G03F7/004GK102754032SQ201080063100
公開(kāi)日2012年10月24日 申請(qǐng)日期2010年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月19日
發(fā)明者味岡芳樹(shù), 石充, 磯純一, 神尾賢治, 薄葉愛(ài)美 申請(qǐng)人:日立化成工業(yè)株式會(huì)社