專利名稱：液晶顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示裝置及其制造方法，特別是涉及取向膜的涂敷區(qū)域的控制。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置一般具有在一對(duì)基板之間封入有液晶層的結(jié)構(gòu)。一對(duì)基板中的一方是形成有多個(gè)柵極配線、多個(gè)源極配線、多個(gè)像素電極和多個(gè)TFT等的TFT基板。一對(duì)基板中的另一方是形成有多個(gè)像素電極共用的共用電極的相對(duì)基板。液晶層在TFT基板和相對(duì)基板之間被框狀的密封構(gòu)件包圍、密封。在上述一對(duì)基板中形成有作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域和設(shè)置于其外側(cè)周圍的作為非顯示區(qū)域的邊框區(qū)域。TFT基板的邊框區(qū)域具有密封構(gòu)件的形成區(qū)域和設(shè)置于其外側(cè)周圍的端子區(qū)域。在端子區(qū)域中形成有用于向像素區(qū)域提供信號(hào)的多個(gè)端子。
在TFT基板和相對(duì)基板中，在液晶層側(cè)的表面設(shè)置有限制該液晶層的液晶分子的取向的取向膜。取向膜包含例如聚酰亞胺等樹脂膜，其表面被進(jìn)行摩擦處理。取向膜通過在TFT基板和相對(duì)基板的表面上涂敷液狀的聚酰亞胺，然后燒制、使其固化而形成。聚酰亞胺能通過例如柔版印刷法、噴墨印刷法等來涂敷。在此，在利用了上述噴墨法的取向膜的形成工序中，需要相對(duì)降低該取向膜材料的粘性，以使向基板噴出并命中的聚酰亞胺等取向膜材料在基板表面上充分?jǐn)U展。低粘性的取向膜材料在基板表面上會(huì)容易地?cái)U(kuò)展，因此容易擴(kuò)展至本來不需要它的邊框區(qū)域。當(dāng)取向膜材料到達(dá)邊框區(qū)域的端子區(qū)域時(shí)，多個(gè)端子就被作為絕緣膜的取向膜覆蓋，其結(jié)果是，會(huì)阻礙端子和安裝于該端子的電路芯片的導(dǎo)通。對(duì)此，在專利文獻(xiàn)I和2中提出了在TFT基板的密封構(gòu)件形成區(qū)域和進(jìn)行顯示的像素區(qū)域之間形成槽結(jié)構(gòu)，在該槽內(nèi)匯集取向膜材料，由此防止過剩的取向膜材料的擴(kuò)展。例如，如作為截面圖的圖14所示，在上述專利文獻(xiàn)2中公開的TFT基板101具有玻璃基板102，在其表面順序?qū)盈B有柵極絕緣膜103、配線層104和絕緣層105。在絕緣層105中以相互平行延伸的方式形成有多個(gè)凹槽106。并且，在液狀的取向膜材料108在圖14中從右側(cè)的像素區(qū)域(未圖示)側(cè)流向同圖中的左側(cè)的密封構(gòu)件(未圖示)時(shí)，該取向膜材料108會(huì)匯集到多個(gè)凹槽106中的至少一個(gè)中。另外，在專利文獻(xiàn)3中公開了在利用噴墨法的彩色濾光片的制造工序中，如作為截面圖的圖15所示，在支撐基板111上形成進(jìn)行了防水處理的多個(gè)堤岸112，并且該堤岸112的側(cè)面113包含支撐基板111側(cè)的粗糙面114和堤岸112的頂端側(cè)的平滑面115。并且，在相鄰的堤岸112彼此之間涂敷油墨116，由此防止相鄰的油墨116的混合?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :特開2004-361623號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :特開2007-322627號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :特開2008-046306號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題但是，在如上述專利文獻(xiàn)I和2所述形成用于匯集取向膜材料的多個(gè)凹槽的構(gòu)成中，如圖14中的箭頭A所示，為了確保匯集取向膜材料的容積，需要較寬地設(shè)置多個(gè)凹槽的形成區(qū)域。其結(jié)果是，從像素區(qū)域到密封構(gòu)件形成區(qū)域的距離變長(zhǎng)，因此難以縮小邊框狀的非顯示區(qū)域的寬度。另外，換言之，上述專利文獻(xiàn)3的構(gòu)成是將油墨保持于通過多個(gè)堤岸來形成的凹槽內(nèi)，但是必須對(duì)堤岸實(shí)施防水處理或在堤岸的側(cè)面形成粗糙面和平滑面，因此為了減少工時(shí)，使制造成本降低，還有改善的余地。本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于，盡可能地縮小液晶顯示裝置的非顯示區(qū)域并且抑制取向膜材料的擴(kuò)展?！?br> 用于解決問題的方案為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明以如下液晶顯示裝置為對(duì)象，上述液晶顯示裝置具備第I基板；第2基板，其與上述第I基板相對(duì)配置液晶層，其設(shè)置于上述第I基板和上述第2基板之間；以及密封構(gòu)件，其設(shè)置于上述第I基板和上述第2基板之間，包圍、密封上述液晶層。并且，上述第I基板和上述第2基板分別具有作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域和作為非顯示區(qū)域的邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域是該像素區(qū)域的外側(cè)周圍的區(qū)域，包含上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域，在上述第I基板和上述第2基板的上述液晶層側(cè)，以從上述像素區(qū)域向上述邊框區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成有具有流動(dòng)性的取向膜材料固化從而形成的取向膜，上述第I基板和上述第2基板中的至少一方具有支撐基板和支撐結(jié)構(gòu)部，該支撐結(jié)構(gòu)部形成于該支撐基板上，該支撐結(jié)構(gòu)部的至少與上述支撐基板相反的一側(cè)的表面由上述取向膜來直接覆蓋，上述支撐結(jié)構(gòu)部具有側(cè)部，該側(cè)部以切平面越朝向上述支撐基板側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部的外側(cè)傾斜的方式形成，上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述邊框區(qū)域并且支撐上述取向膜的端緣部。-作用-接著，說明本發(fā)明的作用。在本發(fā)明中，在制造液晶顯示裝置的情況下，固化前的取向膜材料以從像素區(qū)域向邊框區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成。并且，取向膜的端緣部形成于邊框區(qū)域。在本發(fā)明中，第I基板和第2基板中的至少一方具有形成于支撐基板上的支撐結(jié)構(gòu)部。并且，支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于邊框區(qū)域。取向膜由支撐結(jié)構(gòu)部的至少與支撐基板相反的一側(cè)的表面來支撐，并且該取向膜的端緣部在上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部被支撐。即，支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部以其切平面越朝向支撐基板側(cè)就越向支撐結(jié)構(gòu)部的外側(cè)傾斜的方式形成，因此能夠利用其粘性來支撐取向膜的端緣部。因此，在第I基板中，在支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部和多個(gè)端子之間不需要用于匯集取向膜材料的槽結(jié)構(gòu)等，從而能大幅縮小液晶顯示裝置的非顯示區(qū)域，并且抑制取向膜材料的擴(kuò)展。
發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，在比支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部靠端子區(qū)域側(cè)不需要用于匯集取向膜的樹脂材料的槽結(jié)構(gòu)，因此能夠大幅縮小液晶顯示裝置的非顯示區(qū)域，并且抑制取向膜材料的擴(kuò)展。


圖I是將本實(shí)施方式I的TFT基板的一部分放大示出的俯視圖。圖2是圖I的II-II線截面圖。 圖3是圖I的III-III線截面圖。圖4是示出本實(shí)施方式I的液晶顯示裝置的概要構(gòu)成的俯視圖。圖5是將本實(shí)施方式I的相對(duì)基板的一部分放大示出的俯視圖。圖6是圖5的VI-VI線截面圖。圖7是與圖4的VII-VII線截面相當(dāng)?shù)膱D。圖8是將TFT基板的支撐結(jié)構(gòu)部放大示出的截面圖。圖9是將TFT基板的一部分放大示出的俯視圖。圖10是將本實(shí)施方式2的TFT基板的結(jié)構(gòu)放大示出的截面圖。圖11是將本實(shí)施方式3的TFT基板的結(jié)構(gòu)放大示出的截面圖。圖12是將其它實(shí)施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯視圖。圖13是將其它實(shí)施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯視圖。圖14是將現(xiàn)有的TFT基板的結(jié)構(gòu)放大示出的截面圖。圖15是將現(xiàn)有的相對(duì)基板的彩色濾光片的油墨放大示出的截面圖。
具體實(shí)施例方式下面基于附圖來詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。此外，本發(fā)明不限于下面的實(shí)施方式。《發(fā)明的實(shí)施方式I》圖I 圖6示出本發(fā)明的實(shí)施方式I。圖I是將本實(shí)施方式I的TFT基板11的一部分放大示出的俯視圖。圖2是圖I的II-II線截面圖。圖3是圖I的III-III線截面圖。圖4是示出本實(shí)施方式I的液晶顯示裝置I的概要構(gòu)成的俯視圖。另外，圖5是將本實(shí)施方式I的相對(duì)基板12的一部分放大示出的俯視圖。圖6是圖5的VI-VI線截面圖。圖7是與圖4的VII-VII線截面相當(dāng)?shù)膱D。圖8是將TFT基板11的支撐結(jié)構(gòu)部50放大示出的截面圖。圖9是將TFT基板11的一部分放大示出的俯視圖。此外，在圖9中，省略了后述的取向膜23和凹部48的圖示。如圖4和圖7所不，液晶顯不裝置I具有TFT基板11，其作為第I基板；相對(duì)基板12，其與TFT基板11相對(duì)配置，是第2基板；以及液晶層13，其設(shè)置于TFT基板11和相對(duì)基板12之間。另外，液晶顯示裝置I具有密封構(gòu)件14，該密封構(gòu)件14設(shè)置于TFT基板11和相對(duì)基板12之間，包圍、密封液晶層13。如圖4所示，密封構(gòu)件14形成為大致矩形框狀，包含例如丙烯酸或者環(huán)氧系樹脂等紫外線熱兩用固化型樹脂。在密封構(gòu)件14中分散混入有多個(gè)導(dǎo)電性顆粒(未圖示)。密封構(gòu)件14的線寬是例如0. 5mm 2. 5mm的程度。TFT基板11和相對(duì)基板12分別具有作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域31和作為非顯示區(qū)域的邊框區(qū)域32，上述非顯示區(qū)域是像素區(qū)域31的外側(cè)周圍的區(qū)域。邊框區(qū)域32包含與像素區(qū)域31隔著規(guī)定的間隔設(shè)置的密封構(gòu)件形成區(qū)域34 (密封構(gòu)件14的形成區(qū)域)。另外，在TFT基板11和相對(duì)基板12的液晶層13側(cè)，以從像素區(qū)域31向密封構(gòu)件14的形成區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成有具有流動(dòng)性的取向膜材料24固化從而形成的取向膜23。取向膜23包括聚酰亞胺等樹脂材料，用于限制液晶層13的液晶分子的初始取向。取向膜材料24是通過對(duì)聚酰亞胺等添加溶劑使其粘性降低而成的。取向膜材料24可以采用例如JSR株式會(huì)社制造的粘度是6. 5m Pa s的垂直取向膜材料。
(TFT 基板)如圖9所示，TFT基板11的邊框區(qū)域32具有端子區(qū)域33，該端子區(qū)域33是密封構(gòu)件形成區(qū)域34的與像素區(qū)域31相反的一側(cè)的區(qū)域，形成有用于向像素區(qū)域31提供信號(hào)的多個(gè)端子28。如圖4所示，端子區(qū)域33形成于TFT基板11的側(cè)部區(qū)域。如圖9所示，在TFT基板11的密封構(gòu)件形成區(qū)域34中，在層間絕緣膜43的表面形成有作為電極部的多個(gè)焊盤20，上述電極部包括IT0(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等透明導(dǎo)電膜。焊盤20形成為IOOnm左右的厚度，沿著密封構(gòu)件14以規(guī)定的間隔配置。該焊盤20用于通過密封構(gòu)件14的導(dǎo)電性顆粒與相對(duì)基板12的共用電極26電連接。在TFT基板11的像素區(qū)域31中將多個(gè)像素5 (未圖示)配置為矩陣狀。在各像素5中分別形成有包括ITO等透明導(dǎo)電膜的像素電極15。另外，在各像素5中形成有作為與像素電極15連接的開關(guān)元件的TFT (Thin-Film Transistor :薄膜晶體管,未圖示)。而且，在TFT基板11上形成有與上述TFT連接的柵極配線(未圖示)和源極配線16等。另外，如圖2所示，TFT基板11具有作為支撐基板的玻璃基板21，在該玻璃基板21的液晶層13側(cè)表面形成有覆蓋上述柵極配線(未圖示)的柵極絕緣膜41。另外，如圖I、圖4和圖9所示，在玻璃基板21的邊框區(qū)域32形成有包括與上述柵極配線相同的材料的多個(gè)引出配線17。引出配線17的線寬是IOiim左右。另外，在密封構(gòu)件形成區(qū)域34中相鄰的引出配線17彼此的間隔為60 iim左右。在該引出配線17的端部設(shè)置有端子28。并且，源極配線16通過接觸部18與引出配線17連接。柵極絕緣膜41包含例如SiN, SiO2等的氧化膜，形成為0. 4 ii m左右的厚度。在柵極絕緣膜41的表面形成有作為保護(hù)膜的鈍化膜42。鈍化膜42包含例如SiN等的無機(jī)I吳，形成為0. 25 ii m左右的厚度。在源極配線16的表面形成有鈍化膜42和作為覆蓋它的絕緣膜的平坦化膜43。平坦化膜43包含例如光固化性丙烯酸樹脂，形成為2. 5 ii m左右的厚度。在像素區(qū)域31的平坦化膜43的表面形成有上述多個(gè)像素電極15。另一方面，在密封構(gòu)件形成區(qū)域34的上述平坦化膜43的表面形成有上述密封構(gòu)件14。并且，支撐取向膜23或者取向膜材料24的支撐結(jié)構(gòu)部50包含上述平坦化膜43的一部分。換言之，支撐結(jié)構(gòu)部50形成于TFT基板11，支撐結(jié)構(gòu)部50的至少與玻璃基板21相反的一側(cè)的表面由取向膜23來直接覆蓋。在此，如圖I和圖2所示，在層疊于玻璃基板21上的柵極絕緣膜41、鈍化膜42和平坦化膜43中沿著密封構(gòu)件14以規(guī)定的間隔貫通形成有多個(gè)凹部48。相鄰的凹部48彼此的間隔是50 iim以下。在本實(shí)施方式I中，凹部48彼此的間隔為例如20iim左右。另外，如圖I所示，凹部48在未配置引出配線17的區(qū)域中形成。如圖I所示，凹部48從基板法線方向看形成為矩形。凹部48沿著密封構(gòu)件14的縱方向是50 y m左右，而橫方向是IOiim左右。上述凹部48能通過光刻和蝕刻來形成。并且，上述支撐結(jié)構(gòu)部50包含形成有多個(gè)凹部48的平坦化膜43，支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51包含該凹部48的內(nèi)壁面的一部分。如圖8所示，支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51以與該側(cè)部51的表面相切的切平面53越朝向玻璃基板21側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部50的外側(cè)(即同圖中左側(cè)的密封構(gòu)件形成區(qū)域34 側(cè))傾斜的方式形成。并且，支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51配置于像素區(qū)域31和多個(gè)端子28之間(特別是在本實(shí)施方式中，為像素區(qū)域31和密封構(gòu)件形成區(qū)域34之間)，并且支撐取向膜23和取向膜材料24的端緣部25。在此，以取向膜23和取向膜材料24的端緣部25處的上述側(cè)部51的切平面53與玻璃基板21表面所形成的角度為0 I，以上述取向膜23等的端緣部25處的該端緣部25表面的切平面54與上述切平面53所形成的角度為0 2。側(cè)部51的切平面53以上述角度0 I傾斜，因此對(duì)從像素區(qū)域31側(cè)流過來的取向膜材料24在該側(cè)部51能夠按角度0 2堵塞。其結(jié)果是，取向膜23和取向膜材料24在上述支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51附近向液晶層13側(cè)隆起。如圖2所示，隆起有上述取向膜23和取向膜材料24的區(qū)域是200 ii m左右的寬度。另外，隆起有取向膜材料24的區(qū)域的厚度a是大約數(shù)Pm左右，隆起有固化后的取向膜23的區(qū)域的厚度a是大約Iiim左右。另一方面，像素區(qū)域31側(cè)的平坦的取向膜材料24的厚度b是大約數(shù)y m左右，而像素區(qū)域31側(cè)的固化后的平坦的取向膜23的厚度b是大約0. I ii m左右。如上所述，在平坦化膜43中，多個(gè)凹部48以規(guī)定的間隔形成，因此支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51不僅包含凹部48的像素區(qū)域31側(cè)的內(nèi)壁面，也包含其左右兩側(cè)的內(nèi)壁面的一部分。即，支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51的一部分從基板法線方向看形成為-字狀。并且，如圖I 圖3所示，沿著該口字狀的側(cè)部51隆起形成有上述取向膜23等。由此，如圖I所示，從基板法線方向看，取向膜23的端緣部25沿著上述側(cè)部51形成為波狀。(相對(duì)基板)如圖5和圖6所示，相對(duì)基板12具有作為支撐基板的玻璃基板22。在玻璃基板22的液晶層13側(cè)形成有構(gòu)成彩色濾光片36的多個(gè)著色層37和作為遮光膜的黑矩陣38。黑矩陣38的厚度是1.5iim左右。并且，在其表面以IOOnm左右的厚度形成有包括ITO等透明導(dǎo)電膜的共用電極26。著色層37是透射R(紅)、G(綠)或者B(藍(lán))的光的濾光片，在相對(duì)基板12的像素區(qū)域31中矩陣狀配置。黑矩陣38還是為了對(duì)相鄰著色層37彼此之間進(jìn)行遮光并且對(duì)邊框區(qū)域32進(jìn)行遮光而形成的。另外，密封構(gòu)件14與形成于上述TFT基板11的密封構(gòu)件相同，被配置于邊框區(qū)域32的密封構(gòu)件形成區(qū)域34。
在該相對(duì)基板12的液晶層13偵彳，也以從像素區(qū)域31向密封構(gòu)件形成區(qū)域34側(cè)擴(kuò)展的方式形成有與形成于TFT基板11的取向膜相同的取向膜材料24固化而形成的取向膜23。并且，與上述TFT基板11同樣，在相對(duì)基板12上也形成有支撐結(jié)構(gòu)部50。支撐結(jié)構(gòu)部50設(shè)置于密封構(gòu)件形成區(qū)域34的附近，包含沿著密封構(gòu)件14延伸為肋狀的凸條部56。凸條部56具有基體部57，其包括與例如藍(lán)色的著色層37相同的材料；以及被覆部58，其覆蓋該基體部57。被覆部38包含感光性丙烯酸樹脂，該感光性丙烯酸樹脂與形成于相對(duì)基板12的用于對(duì)液晶分子進(jìn)行垂直取向控制的肋(未圖示)或者光間隔物(未圖示)為相同材料。該相對(duì)基板12的支撐結(jié)構(gòu)部50也具有與上述TFT基板11的支撐結(jié)構(gòu)部50同樣的側(cè)部51。另外，相對(duì)基板12的支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51也配置于像素區(qū)域31和密封構(gòu)件形成區(qū)域34之間。并且，取向膜23和取向膜材料24的端緣部25同樣通過上述側(cè)部51 來支撐。在此，如圖6所示，基體部57的厚度是2.5 iim左右，寬度是15 iim左右。另外，被覆部58在基體部57上的厚度是3. 8 ii m左右，寬度是25 y m左右。向支撐結(jié)構(gòu)部50的液晶層13側(cè)隆起的取向膜材料24的厚度是數(shù)U m左右，其固化后的取向膜23的厚度是I Pm左右。另一方面，在像素區(qū)域31中，取向膜材料24的厚度是數(shù)Pm左右，其固化后的取向膜23的厚度形成為0. Iiim左右。-制造方法-接著，說明上述液晶顯示裝置I的制造方法。液晶顯示裝置I的制造方法包含第I工序，分別形成TFT基板11和相對(duì)基板12 ；以及第2工序，在TFT基板11或者相對(duì)基板12的邊框區(qū)域32中形成框狀的密封構(gòu)件14，滴注液晶來將其提供到該密封構(gòu)件14的內(nèi)側(cè)，將上述TFT基板11和相對(duì)基板12相互貼合。第I工序包含在構(gòu)成TFT基板11或者相對(duì)基板12的玻璃基板21、22上形成支撐結(jié)構(gòu)部50的工序；以及如下工序以從像素區(qū)域31向邊框區(qū)域32擴(kuò)展的方式形成具有流動(dòng)性的取向膜材料24，在通過取向膜材料24來直接覆蓋支撐結(jié)構(gòu)部50的至少與玻璃基板21、22相反的一側(cè)的表面的狀態(tài)下，使該取向膜材料24固化，由此形成取向膜23。在制造TFT基板11的情況下，首先，在作為透明基板的玻璃基板21的表面上形成柵極配線(未圖示)、柵極絕緣膜41、硅膜(未圖示)、源極配線16、鈍化膜42、平坦化膜43、ITO膜等。平坦化膜43能夠使用光固化性丙烯酸樹脂等感光性有機(jī)材料、非感光性絕緣膜來形成。在使用感光性有機(jī)材料的情況下，可以通過例如旋涂法(也能通過狹縫涂法、噴墨法。)使有機(jī)材料形成于玻璃基板21上以使表面變平坦。其后，通過光刻法和蝕刻，對(duì)平坦化膜43、鈍化膜42以及柵極絕緣膜41貫通形成多個(gè)凹部48。在凹部48的內(nèi)側(cè)的下層沒有金屬層的情況下，玻璃基板21會(huì)露出。如此，作為平坦化膜43的一部分形成支撐結(jié)構(gòu)部50。通過形成凹部48來形成的支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51配置于邊框區(qū)域32，并且切平面53越朝向玻璃基板21側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部50的外側(cè)傾斜。
在使用非感光性絕緣膜來形成平坦化膜43的情況下，通過例如CVD法(也能通過濺射法、涂敷型材料的涂敷。)在玻璃基板21上以均勻的膜厚形成絕緣材料層，然后在該絕緣材料層的表面對(duì)整個(gè)面涂敷感光性抗蝕劑。接著，通過光刻法形成規(guī)定的抗蝕劑圖案。其后，進(jìn)行絕緣材料層的蝕刻(濕式蝕刻或者干式蝕刻)，除去上述抗蝕劑圖案，由此形成上述多個(gè)凹部48。接著，在上述平坦化膜43的表面形成ITO層，通過光刻和蝕刻對(duì)它進(jìn)行圖案化，由此形成多個(gè)像素電極15。其后，通過噴墨法向像素區(qū)域31提供聚酰亞胺等具有流動(dòng)性的取向膜材料24以使其覆蓋上述像素電極15等。取向膜材料24從像素區(qū)域31流向邊框區(qū)域32，在到達(dá)支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51時(shí)，該取向膜材料24的端緣部25被上述側(cè)部51支撐。其結(jié)果是，如圖2所示，在支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51附近，取向膜材料24向液晶層13側(cè)隆起并被堵塞。其后，燒制取向膜材料24，由此形成取向膜23。
另一方面，在制造相對(duì)基板12的情況下，在作為透明基板的玻璃基板22的表面形成共用電極26和彩色濾光片36。這時(shí)，在形成彩色濾光片36的著色層37的同時(shí)，在邊框區(qū)域32的黑矩陣38的表面通過與該著色層37相同的材料來形成基體部57。接著，堆積例如感光性丙烯酸樹脂以使其覆蓋基體部57和彩色濾光片36，然后對(duì)它進(jìn)行光刻和蝕刻，由此同時(shí)形成覆蓋基體部57的被覆部58和光間隔物(未圖示)或者液晶分子的垂直取向控制用的肋。其后，通過噴墨法向像素區(qū)域31提供聚酰亞胺等具有流動(dòng)性的取向膜材料24以使其覆蓋上述彩色濾光片36等。取向膜材料24從像素區(qū)域31流向邊框區(qū)域32，在到達(dá)支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51時(shí)，該取向膜材料24的端緣部25被上述側(cè)部51支撐。其結(jié)果是，如圖6所示，在支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51附近，取向膜材料24向液晶層13側(cè)隆起并被堵塞。其后，通過燒制取向膜材料24來形成取向膜23。-實(shí)施方式I的效果-因此，根據(jù)該實(shí)施方式1，在TFT基板11和相對(duì)基板12上設(shè)置支撐取向膜23 (取向膜材料24)的支撐結(jié)構(gòu)部50，并且在該支撐結(jié)構(gòu)部50形成切平面53越朝向玻璃基板21、22側(cè)就越向支撐結(jié)構(gòu)部50的外側(cè)傾斜的側(cè)部51，因此能夠通過支撐結(jié)構(gòu)部50的與玻璃基板21、22相反的一側(cè)的表面來支撐取向膜23 (取向膜材料24)，并且即使該取向膜材料24的粘性較低，也能夠在支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51支撐該取向膜23 (取向膜材料24)的端緣部25。因而，能夠?qū)⒍嘤嗟娜∠蚰げ牧?4匯集到支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51的液晶層13偵牝因此在比支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51靠密封構(gòu)件形成區(qū)域34側(cè)不需要用于匯集取向膜材料24的槽結(jié)構(gòu)等，從而能夠大幅縮小液晶顯示裝置I的邊框區(qū)域32，并且防止密封構(gòu)件14和取向膜材料24的重疊。而且，支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51包含形成于平坦化膜43的凹部48的內(nèi)壁面的一部分，因此能夠通過平坦化膜43的圖案化來容易地形成該側(cè)部51。此外，如圖I所示，在多個(gè)凹部48彼此之間使相鄰的上述側(cè)部51彼此相互有影響，從而能夠抑制取向膜材料24向密封構(gòu)件形成區(qū)域34側(cè)的移動(dòng)。
特別是，凹部48彼此的間隔為50 i! m以下，因此能可靠地防止取向膜材料24從凹部48彼此之間向密封構(gòu)件形成區(qū)域34側(cè)流出。在此，在凹部48彼此的間隔大于50 m的情況下，取向膜材料24有可能從凹部48彼此之間流出，因此優(yōu)選上述間隔是50y m以下。另一方面，優(yōu)選凹部48彼此的間隔是Oym以上。即，在下層沒有配線的情況下，優(yōu)選以連續(xù)地較長(zhǎng)延伸的方式形成凹部48。這是由于與相鄰的凹部48彼此之間的取向膜材料24的堵塞力相比，凹部48的上游側(cè)(即像素區(qū)域31側(cè))的取向膜材料24的堵塞力較大。而且，支撐結(jié)構(gòu)部50包含光固化性丙烯酸樹脂，因此能夠提高其側(cè)部51的厚度和傾斜角度的控制性。另外，支撐結(jié)構(gòu)部50包含形成于TFT基板11或者相對(duì)基板12的絕緣膜(TFT基板11的平坦化膜43，或者相對(duì)基板12的光間隔物、液晶分子的垂直取向控 制用的肋等)，因此在通常的TFT基板11或者相對(duì)基板12的形成工序中能夠同時(shí)形成支撐結(jié)構(gòu)部50，從而能夠抑制制造成本的増加。而且，相對(duì)基板12的支撐結(jié)構(gòu)部50的一部分包含彩色濾光片36的著色層37，因此在彩色濾光片36的制造工序中能夠形成支撐結(jié)構(gòu)部50的一部分,能夠謀求制造成本的減少?！栋l(fā)明的實(shí)施方式2》圖10示出本發(fā)明的實(shí)施方式2。圖10是將本實(shí)施方式2的TFT基板11的結(jié)構(gòu)放大示出的截面圖。此外，在以后的各實(shí)施方式中，對(duì)與圖I 圖8相同的部分附上相同的附圖標(biāo)記，省略其具體說明。在上述實(shí)施方式I中將平坦化膜43形成于密封構(gòu)件形成區(qū)域34，但本實(shí)施方式2是將密封構(gòu)件14形成于玻璃基板21，在密封構(gòu)件14和玻璃基板21之間不隔著作為支撐結(jié)構(gòu)部50的構(gòu)成材料的平坦化膜43。即，在TFT基板11的密封構(gòu)件形成區(qū)域34中，將柵極絕緣膜41、鈍化膜42以及平坦化膜43通過蝕刻等從玻璃基板21除去。并且，將密封構(gòu)件14直接形成于玻璃基板21的表面。因此，根據(jù)該實(shí)施方式2，在支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51能夠?qū)⑷∠蚰げ牧?4以向液晶層13側(cè)隆起的方式匯集并且支撐，因此能夠得到與上述實(shí)施方式I同樣的效果。除此以夕卜，即使支撐結(jié)構(gòu)部50的構(gòu)成材料是例如光固化性丙烯酸樹脂等容易吸收水分的材料，由于該材料未介于密封構(gòu)件14和玻璃基板21之間，因此也能夠防止外部氣體從該密封構(gòu)件14和玻璃基板21之間向液晶層13侵入，使液晶顯不裝置的可罪性提聞?！栋l(fā)明的實(shí)施方式3》圖11示出本發(fā)明的實(shí)施方式3。圖11是將本實(shí)施方式3的TFT基板的結(jié)構(gòu)放大示出的截面圖。在上述實(shí)施方式I中將多個(gè)凹部48與密封構(gòu)件14隔著規(guī)定的間隔來形成，但本實(shí)施方式3在各凹部48的內(nèi)部也形成密封構(gòu)件14。S卩，密封構(gòu)件14在與取向膜23(取向膜材料24)的端緣部25分離的狀態(tài)下，與支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)端接觸配置。因此，根據(jù)該實(shí)施方式3，也設(shè)置上述支撐結(jié)構(gòu)部50，從而能夠得到與上述實(shí)施方式I同樣的效果。除此以外，使密封構(gòu)件14在與取向膜23(取向膜材料24)的端緣部25分離的狀態(tài)下接觸于支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)端，因此能夠進(jìn)一步縮小邊框區(qū)域32。而且，在形成密封構(gòu)件14時(shí)，在凹部48內(nèi)匯集密封構(gòu)件14，由此能夠容易地控制密封構(gòu)件14的形狀。而且，通過在凹部48內(nèi)形成的密封構(gòu)件14，能夠防止外部氣體向液晶層13的侵入?！镀渌鼘?shí)施方式》在上述實(shí)施方式I 3中，說明了在TFT基板11和相對(duì)基板12的雙方形成支撐結(jié)構(gòu)部50的例子，但是本發(fā)明不限于此，可以在TFT基板11和相對(duì)基板12中的至少一方形成支撐結(jié)構(gòu)部50。另外，在上述實(shí)施方式I 3中，說明了將TFT基板11的支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51配置于像素區(qū)域31和密封構(gòu)件形成區(qū)域34之間的例子，但是本發(fā)明不限于此，能將其配置于其它邊框區(qū)域32。在此，圖12和圖13是將其它實(shí)施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯視圖。
例如，如圖12所示，可以在像素區(qū)域31和多個(gè)端子28之間在這些端子28的像素區(qū)域31側(cè)的附近配置凹部48。即使如此，也能夠通過支撐結(jié)構(gòu)部50的側(cè)部51來支撐取向膜材料24的端緣部25，因此能夠縮小邊框區(qū)域32并且抑制取向膜材料24的擴(kuò)展，使多個(gè)端子28從取向膜23露出。因而，能夠使多個(gè)端子部28和安裝于它的驅(qū)動(dòng)電路芯片可靠地導(dǎo)通。另外，如圖13所示，可以在像素區(qū)域31和焊盤20之間在像素區(qū)域31和密封構(gòu)件形成區(qū)域34之間配置凹部48。凹部48配置于密封構(gòu)件形成區(qū)域34的像素區(qū)域31側(cè)的附近。在沒有引出配線17的區(qū)域中，能將凹部48沿著密封構(gòu)件形成區(qū)域34形成為長(zhǎng)條形。即使如此，與上述同樣，也能夠縮小邊框區(qū)域32并且抑制取向膜材料24的擴(kuò)展，防止密封構(gòu)件14和取向膜材料24重疊。因而，能夠適宜地維持密封構(gòu)件14和TFT基板11或者相對(duì)基板12的緊貼性，能夠使外部氣體難以從密封構(gòu)件14和TFT基板11等的界面向液晶層13侵入。另外，密封構(gòu)件形成區(qū)域34從取向膜材料24露出，因此即使取向膜材料24具有防水作用，也能夠使形成于該密封構(gòu)件形成區(qū)域34的密封構(gòu)件14的形狀精度提高。而且，能夠使焊盤20從取向膜23露出，因此能夠使焊盤20和包含于密封構(gòu)件14的導(dǎo)電性顆?？煽康貙?dǎo)通。而且，可以將形成于相對(duì)基板12的支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于像素區(qū)域31和相對(duì)基板12的與焊盤20相對(duì)的區(qū)域之間。由此，能夠使相對(duì)基板12的與焊盤20相對(duì)的區(qū)域的共用電極26和上述導(dǎo)電性顆?？煽康貙?dǎo)通。其結(jié)果是，能夠?qū)FT基板11和相對(duì)基板12可靠地電連接。此外，可以在像素區(qū)域31和焊盤20之間在焊盤20的像素區(qū)域31側(cè)的附近配置凹部48。即，可以是取向膜材料24與密封構(gòu)件形成區(qū)域34的一部分重疊并且焊盤20從取向膜材料24露出的構(gòu)成。即使通過該構(gòu)成也能夠使焊盤20從取向膜23露出。工業(yè)上的可利用件如上所述，本發(fā)明對(duì)液晶顯示裝置及其制造方法是有用的。附圖標(biāo)記說明I液晶顯示裝置
11TFT基板(第I基板)
12相對(duì)基板(第2基板)
13液晶層
14密封構(gòu)件20電極部
21、22 玻璃基板(支撐基板)
23取向膜
24取向膜材料
25端緣部28端子
31像素區(qū)域
32邊框區(qū)域
33端子區(qū)域
34密封構(gòu)件形成區(qū)域
36彩色濾光片
37著色層
38黑矩陣43平坦化膜48凹部
50支撐結(jié)構(gòu)部
51側(cè)部53、54 切平面
56凸條部
57基體部
58被覆部
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示裝置，其特征在于， 具備 第I基板； 第2基板，其與上述第I基板相對(duì)配置； 液晶層，其設(shè)置于上述第I基板和上述第2基板之間；以及 密封構(gòu)件，其設(shè)置于上述第I基板和上述第2基板之間，包圍、密封上述液晶層， 上述第I基板和上述第2基板分別具有作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域和作為非顯示區(qū)域的邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域是該像素區(qū)域的外側(cè)周圍的區(qū)域，包含上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域，在上述第I基板和上述第2基板的上述液晶層側(cè)，以從上述像素區(qū)域向上述邊框區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成有具有流動(dòng)性的取向膜材料固化從而形成的取向膜， 上述第I基板和上述第2基板中的至少一方具有支撐基板和支撐結(jié)構(gòu)部，該支撐結(jié)構(gòu)部形成于該支撐基板上，該支撐結(jié)構(gòu)部的至少與上述支撐基板相反的一側(cè)的表面由上述取向膜來直接覆蓋， 上述支撐結(jié)構(gòu)部具有側(cè)部，該側(cè)部以切平面越朝向上述支撐基板側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部的外側(cè)傾斜的方式形成， 上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述邊框區(qū)域并且支撐上述取向膜的端緣部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述第I基板的邊框區(qū)域具有端子區(qū)域，該端子區(qū)域是上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域的與上述像素區(qū)域相反的一側(cè)的區(qū)域，在該端子區(qū)域中形成有用于向上述像素區(qū)域提供信號(hào)的多個(gè)端子， 形成于上述第I基板的支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述像素區(qū)域和上述多個(gè)端子之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 在上述第I基板中的上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域中，形成有用于將上述第I基板和上述第2基板相互電連接的電極部， 上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述像素區(qū)域和上述電極部之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 形成于上述第2基板的支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述像素區(qū)域和與上述電極部相對(duì)的區(qū)域之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于上述像素區(qū)域和上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述取向膜在上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部附近向上述液晶層側(cè)隆起。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述支撐結(jié)構(gòu)部包含沿著上述密封構(gòu)件以規(guī)定的間隔形成有多個(gè)凹部的絕緣膜， 上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部包含上述凹部的內(nèi)壁面的一部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 相鄰的上述凹部彼此的間隔是O m以上且50 m以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至8中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述支撐結(jié)構(gòu)部包含光固化性樹脂。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至9中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 形成于上述第I基板的支撐結(jié)構(gòu)部包含形成于該第I基板的平坦化膜。
11.根據(jù)權(quán)利要求I至10中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述第2基板是具有彩色濾光片的相對(duì)基板， 形成于上述第2基板的支撐結(jié)構(gòu)部由具有上述彩色濾光片的構(gòu)成材料的凸條部來形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5、6、9、10、11中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述密封構(gòu)件形成于上述支撐基板，在上述密封構(gòu)件和上述支撐基板之間不隔著上述支撐結(jié)構(gòu)部的構(gòu)成材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求I至12中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 上述密封構(gòu)件在與上述取向膜的端緣部分離的狀態(tài)下，與上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)端接觸而配置。
14.一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于， 具有第I工序，分別形成第I基板和第2基板，上述第I基板和上述第2基板分別具有作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域和作為非顯示區(qū)域的邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域是該像素區(qū)域的外側(cè)周圍的區(qū)域；以及 第2工序，在上述第I基板或者上述第2基板的上述邊框區(qū)域中形成框狀的密封構(gòu)件，對(duì)該密封構(gòu)件的內(nèi)側(cè)提供液晶并且將上述第I基板和上述第2基板相互貼合， 上述第I工序包含在構(gòu)成上述第I基板或者上述第2基板的支撐基板上形成支撐結(jié)構(gòu)部的工序；以及如下工序以從上述像素區(qū)域向上述邊框區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成具有流動(dòng)性的取向膜材料，在由上述取向膜材料來直接覆蓋上述支撐結(jié)構(gòu)部的至少與上述支撐基板相反的一側(cè)的表面的狀態(tài)下，使該取向膜材料固化，由此形成取向膜，在形成上述支撐結(jié)構(gòu)部的工序中，在上述支撐結(jié)構(gòu)部中形成側(cè)部，該側(cè)部配置于上述邊框區(qū)域，并且該側(cè)部的切平面越朝向上述支撐基板側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部的外側(cè)傾斜，在形成上述取向膜的工序中，由上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部來支撐上述取向膜材料的端緣部。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于， 在形成上述支撐結(jié)構(gòu)部的工序中，使上述側(cè)部配置于上述像素區(qū)域和上述密封構(gòu)件的形成區(qū)域之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于， 上述支撐結(jié)構(gòu)部包含沿著上述密封構(gòu)件以規(guī)定的間隔形成有多個(gè)凹部的絕緣膜， 上述支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部包含上述凹部的內(nèi)壁面的一部分。
17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中的任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于， 上述第2基板是具有彩色濾光片的相對(duì)基板， 形成于上述第2基板的支撐結(jié)構(gòu)部由具有上述彩色濾光片的構(gòu)成材料的凸條部來形成。
全文摘要
在第1基板和第2基板的液晶層側(cè)，以從像素區(qū)域向邊框區(qū)域側(cè)擴(kuò)展的方式形成有具有流動(dòng)性的取向膜材料固化從而形成的取向膜。第1基板和第2基板中的至少一方具有支撐基板和支撐結(jié)構(gòu)部，支撐結(jié)構(gòu)部形成于支撐基板上，支撐結(jié)構(gòu)部的至少與支撐基板相反的一側(cè)的表面由取向膜來直接覆蓋。支撐結(jié)構(gòu)部具有側(cè)部，側(cè)部以其切平面越朝向支撐基板側(cè)就越向該支撐結(jié)構(gòu)部的外側(cè)傾斜的方式形成。支撐結(jié)構(gòu)部的側(cè)部配置于邊框區(qū)域并且支撐取向膜的端緣部。
文檔編號(hào)G02F1/1339GK102687066SQ20108005972
公開日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2010年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月12日
發(fā)明者森脅弘幸, 神崎庸輔 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社