專利名稱：：圖案形成裝置、圖案形成方法以及裝置制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種圖案形成裝置、圖案形成方法以及裝置制造方法，并且更具體地，涉及一種通過掃描曝光在拉長片材料的表面的多個區(qū)域中形成圖案的圖案形成裝置和圖案形成方法，并且涉及通過使用該圖案形成方法制造電子裝置的裝置制造方法。
背景技術(shù)：
：要求2009年7月17日提交的美國臨時申請第61/2，330號、2009年7月17日提交的美國臨時申請第61/226，458號以及2010年6月M日提交的美國專利申請第12/822，773號的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用合并于此。諸如液晶顯示面板和等離子顯示面板的平板顯示面板的尺寸已增加。例如，在液晶顯示面板的情況下，作為用于制造該液晶顯示面板的玻璃基板(大基板)，使用邊的長度大于:3m的大基板，以便高效地整體制造多個顯示器。為此，用于保持基板的臺架(stage)裝置的尺寸根據(jù)基板尺寸的增加而增加。在用于處理重量為幾十千克的基板的臺架裝置中，可移動部分的重量幾乎等于10噸，并且裝置的整個重量超過100噸。為此，在不久的未來，基板的制造和遞送會由于基板尺寸的進一步增加而困難。另外，確定的是，由于臺架裝置尺寸的進一步增加，因此對于基礎(chǔ)設(shè)施改進需要大量的投資。同時，公知主要用在制造印刷互連基板的領(lǐng)域中的曝光裝置，并且將卷筒片狀的記錄介質(zhì)設(shè)置為曝光目標對象。當將這樣的曝光裝置應用于制造例如液晶顯示元件時，可以解決由上述玻璃基板尺寸的增加而引起的各種問題。為此，該曝光裝置可以用作未來用于制造液晶顯示元件的曝光裝置之一。作為用于片狀記錄介質(zhì)的現(xiàn)有曝光裝置，例如，公知的是在專利文獻(美國專利第5652645號、美國專利申請公布第2006/0066715號、美國專利第6M3160號)中公開的曝光裝置。然而，即使當這樣的曝光裝置直接用于制造液晶顯示元件時，也難以以期望的精度制造液晶顯示元件。例如，在液晶顯示元件中，圖案通過曝光而重疊在多個層中。然而，由于每個層經(jīng)受處理，因此出現(xiàn)片由于熱等而收縮的現(xiàn)象。因此，需要處理這樣的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種用于在拉長片材料的預定區(qū)域中形成預定圖案的圖案形成裝置，該圖案形成裝置包括張力施加裝置，向包括片材料的預定區(qū)域的部分施加二維張力；吸附裝置，包括具有平坦參考表面的參考表面構(gòu)件并且使得參考表面吸附與施加有二維張力的片材料的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠?；以及照射裝置，將對應于圖案的能量束照射到吸附到參考表面的片材料的預定區(qū)域。因此，張力施加裝置向包括片材料的預定區(qū)域的部分施加二維張力，并且吸附裝置將與施加有二維張力的片材料的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠治降狡教箙⒖急砻妗Ａ硐Σ?，照射裝置將對應于圖案的能量束照射到吸附到參考表面的平坦片材料的預定區(qū)域，以使得片材料被曝光并且在其上形成圖案。因此，即使在由于例如工藝處理期間生成的熱而變得收縮的片材料的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種在拉長片材料的預定區(qū)域中形成預定圖案的圖案形成方法，該圖案形成方法包括向包括片材料的預定區(qū)域的部分施加二維張力；使得平坦參考表面吸附與施加有二維張力的片材料的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠?；以及將對應于圖案的能量束照射到吸附到參考表面的片材料的預定區(qū)域。因此，即使在由于例如在工藝處理期間生成的熱而收縮的片材料的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)本發(fā)明的圖案形成裝置而在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有圖案的片材料執(zhí)行處理。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供了一種在拉長片材料的表面的預定區(qū)域中形成預定圖案的圖案形成方法，該圖案形成方法包括在長度方向上限制片材料的至少兩個位置，以便在長度方向上向預定區(qū)域施加第一張力；與在片材料的長度方向交叉的寬度方向上限制片材料的兩側(cè)，以便在寬度方向上向預定區(qū)域施加第二張力；在將第一和第二張力施加到預定區(qū)域的狀態(tài)下，使得與片材料的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠指鶕?jù)平坦參考表面而改變；以及將對應于圖案的能量束照射到平坦化的片材料的預定區(qū)域。因此，即使在由于例如工藝處理期間生成的熱而變得收縮的片材料的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供了一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)本發(fā)明的圖案形成方法而在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有圖案的片材料執(zhí)行處理。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供了一種用于在拉長片材料的表面的預定區(qū)域中形成預定圖案的圖案形成裝置，該圖案形成裝置包括第一張力施加裝置，在長度方向上限制片材料的至少兩個位置，以便在長度方向上向預定區(qū)域施加第一張力；第二張力施加裝置，在與片材料的長度方向交叉的寬度方向上限制片材料的兩側(cè)，以便在寬度方向上向預定區(qū)域施加第二張力；平坦化裝置，包括具有平坦參考表面的參考表面構(gòu)件，并且在將第一和第二張力施加到預定區(qū)域的狀態(tài)下，使得對應于片材料的預定區(qū)域的后表面部分根據(jù)參考表面而改變；以及照射裝置，將對應于圖案的能量束照射到平坦化片材料的預定區(qū)域。因此，第一張力施加裝置在長度方向上限制片材料的至少兩個位置，以便在長度方向上向預定區(qū)域施加第一張力，并且第二張力施加裝置在寬度方向上限制片材料的兩側(cè)，以便在寬度方向上向預定區(qū)域施加第二張力。然后，在將第一和第二張力施加到片材料的預定區(qū)域的狀態(tài)下，平坦化裝置使得與片材料的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠指鶕?jù)參考表面構(gòu)件的平坦參考表面而改變。然后，照射裝置將對應于預定圖案的能量束照射到平坦化片材料的預定區(qū)域，以使得片材料被曝光并且在其上形成圖案。因此，即使在由于例如工藝處理期間生成的熱而變得收縮的片材料的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，提供了一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)本發(fā)明的圖案形成裝置而在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有圖案的片材料執(zhí)行處理。圖1是示出根據(jù)第一實施例的曝光裝置的示意配置的圖。圖2是示出照射區(qū)域的布置和設(shè)置在圖1的曝光裝置中的掩膜臺架的示意配置的平面視圖。圖3是示出片上的投影區(qū)域(曝光區(qū)域)的布置和設(shè)置在圖1的曝光裝置中的投影光學系統(tǒng)的平面視圖。圖4是示出臺架的示意配置的側(cè)視圖，并且圖4B是示出其示意配置的平面視圖。圖5A是支持物(holder)驅(qū)動裝置和輔助片支持物附近的桌(table)的截面視圖，并且圖5B是沿圖5A的線B-B得到的截面視圖。圖6是示出設(shè)置在圖1的曝光裝置中的片傳輸系統(tǒng)和臺架裝置的平面視圖。圖7A是示出運輸輥部分41和42附近的平面視圖，圖7B是示出運輸輥部分41的側(cè)視圖，并且圖7C至7G是示出片運輸系統(tǒng)的功能的圖。圖8是示出附于片S上的各個分開區(qū)域的對準標記(定位標記)的布置示例的圖。圖9是示出設(shè)置在圖1的曝光裝置中的主控裝置的輸入/輸出關(guān)系的框圖。圖10是示出針對圖1的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第一)圖。圖11是示出使用輔助片支持物的片的暫時支持狀態(tài)的圖。圖12是示出針對圖1的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第二)圖。圖13是示出針對圖1的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第三)圖。圖14是示出使用輔助片支持物的片的位置對準的圖。圖15是示出針對圖1的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第四)圖。圖16是示出針對圖1的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第五)圖。圖17是示出圖1的曝光裝置中的曝光操作序列的(第六)圖。圖18是示出圖1的曝光裝置中的曝光操作序列的(第七)圖。圖19是示出圖1的曝光裝置中的曝光操作序列的(第八)圖。圖20是示出根據(jù)第一實施例的變型示例的對準系統(tǒng)的布置的圖。圖21是示出根據(jù)第二實施例的曝光裝置的示意配置的圖。圖22是示出照射區(qū)域的布置和設(shè)置在圖21的曝光裝置中的掩膜臺架的示意配置的平面視圖。圖23是示出片上的投影區(qū)域(曝光區(qū)域)的布置和設(shè)置在圖21的曝光裝置中的投影光學系統(tǒng)的平面視圖。圖24A是示出臺架的示意配置的側(cè)視圖，并且圖24B是示出其示意配置的平面視圖。圖25A是支持物驅(qū)動裝置和輔助片支持物附近的桌的截面視圖，并且圖25B是沿圖25A的線B-B的截面視圖。圖沈是示出設(shè)置在圖21的曝光裝置中的片運輸系統(tǒng)和臺架裝置的平面視圖。圖27A是示出運輸輥部分41和42附近的平面視圖，圖27B是示出運輸輥部分41的側(cè)視圖，并且圖27C至27G是示出片運輸系統(tǒng)的功能的圖。圖觀是示出附于片S上的各個分開區(qū)域的對準標記(定位標記)的布置示例的圖。圖四是示出設(shè)置在圖21的曝光裝置中的主控裝置的輸入/輸出關(guān)系的框圖。圖30是示出針對圖21的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第一)圖。圖31是示出使用輔助片支持物的片的暫時支持狀態(tài)的圖。圖32是示出針對圖21的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第二)圖。圖33是示出針對圖21的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第三)圖。圖34是示出使用輔助片支持物的片的位置對準的圖。圖35是示出針對圖21的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第四)圖。圖36是示出針對圖21的曝光裝置中的片的曝光操作序列的(第五)圖。圖37是示出圖21的曝光裝置中的曝光操作序列的(第六)圖。圖38是示出圖21的曝光裝置中的曝光操作序列的(第七)圖。圖39是示出圖21的曝光裝置中的曝光操作序列的(第八)圖。圖40是示出與第二實施例的變型示例相關(guān)的對準系統(tǒng)的布置的圖。參考符號描述40片運輸系統(tǒng)41、42、43、44運輸輥部分41^42^43^4^壓力輥412、4忑、4；32、442驅(qū)動輥45夾持部分45^4夾持構(gòu)件50主控裝置60支持物驅(qū)動裝置60!基部61并行鏈接機構(gòu)63驅(qū)動機構(gòu)100曝光裝置S片SAi分開區(qū)域SH2輔助片支持物SH3輔助片支持物SH1片支持物TB桌IOP(IC)P1至IOP5)照射系統(tǒng)PL(PL1至PL5)投影光學系統(tǒng)IL1至IL5照射光AL1至AL12對準系統(tǒng)AM對準標記LC:透鏡控制器具體實施例方式<第一實施例>在下文中，將參照圖1至19描述本發(fā)明的第一實施例。圖1示出了根據(jù)第一實施例的曝光裝置100的示意配置。曝光裝置100是多透鏡型投影曝光裝置，即，軟片或膜(下文中統(tǒng)稱為片)是曝光目標對象的所謂掃描器。在實施例中，作為示例，使用具有大約ΙΟΟμπι的厚度的片。曝光裝置100包括照射系統(tǒng)IOP；掩膜臺架MST，支持掩膜M；投影光學系統(tǒng)PL，將形成在掩膜M上的圖案的圖像投影到片S上；臺架裝置SS，包括用于支持片S的片臺架(下文中簡稱為臺架)SST；片運輸系統(tǒng)40，運輸片S；其控制系統(tǒng)等。另外，用在本實施例的曝光裝置100中的片S是連續(xù)拉長的片。片S以滾筒形狀纏繞，并且被設(shè)置在輥40i中。如以下所述，片S通過片運輸系統(tǒng)40(由運輸輥部分41至44構(gòu)成)從輥提取，穿過位于投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域，并且纏繞在纏繞輥402上。另外，光增敏劑(抗蝕劑)涂覆在片S的表面上。在實施例中，作為示例，片S從輥‘(^提取并且纏繞在纏繞輥402上，但是本發(fā)明不限于此?？梢允箯挠糜趫?zhí)行曝光前處理(例如，抗蝕劑涂覆處理)的抗蝕劑涂覆裝置提取的并且被運輸?shù)接糜趫?zhí)行曝光后處理(例如，顯影處理)的顯影裝置的片經(jīng)受曝光裝置100執(zhí)行的曝光。在下文中，與投影光學系統(tǒng)PL的對象表面?zhèn)群蜕媳砻鎮(zhèn)鹊墓廨S(這里不包括兩個部分之間的中間部分)平行的垂直方向(圖1的上/下方向)被設(shè)置為Z軸方向，在垂直于Z軸方向的平面內(nèi)掩膜M和片S由投影光學系統(tǒng)PL相對掃描的掃描方向(圖1的左/右方向)被設(shè)置為X軸方向，并且與Z軸方向和X軸方向垂直的方向被設(shè)置為Y軸方向。然后，X軸、Y軸和Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別被描述為ΘΧ、0y和ΘΖ方向。照射系統(tǒng)IOP包括多個(此處為五個)照射系統(tǒng)模塊(在下文中，簡稱為照射系統(tǒng))IOP1至Ι0Ρ5。照射系統(tǒng)IOP1至IOP5中的每個包括發(fā)出UV光的超高壓汞燈(光源)、收集來自光源的UV光的橢圓鏡、設(shè)置在所收集的UV光的光路上的波長選擇濾波器、光學積分器以及包括視野光圈的照射光學系統(tǒng)(未示出)。來自UV光的發(fā)射譜線(例如，線i(具有365nm的波長)、線g(具有436nm的波長)或線h(具有405nm的波長))通過波長選擇濾波器被提取作為照射光IL1至IL5。所提取的照射光IL1至IL5中的每個沿光軸AX1至AX5(參照圖2)中的每個在照射系統(tǒng)IOP(IC)P1至IOP5)的外部被發(fā)出(朝向掩膜M)。另外，如圖2所示，光軸AXpAX3和AX5在XY平面(掩膜M的圖案表面)內(nèi)的Y軸方向上以預定間隔布置。此外，光軸AX2和AX4分別設(shè)置在光軸AX1與AX3之間以及光軸AX3與AX5之間，其中從光軸AXpAX3和AX5到+X側(cè)之間具有預定距離。即，光軸AX1至AX5在XY平面內(nèi)以Z字形布置。照射系統(tǒng)IOP1至IOP5以均勻照射強度沿光軸AX1至AX5將照射光IL1至IL5照射到掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至^^5。每個照射區(qū)域具有由照射光學系統(tǒng)內(nèi)的視野光圈(未示出)規(guī)定的等腰梯形形狀。另外，在例如美國專利第6，552，775號的說明書中公開了照射系統(tǒng)IOP(IC)P1至IOP5)的詳細配置。如圖1所示，掩膜臺架MST設(shè)置在照射系統(tǒng)IOP的較低位置處(-Z側(cè))。矩形掩膜M通過例如真空吸附而固定到掩膜臺架MST上，其中掩膜表示在圖案表面(-Z側(cè)表面)中形成了矩形圖案區(qū)域。掩膜臺架MST可以由包括線性馬達等的掩膜臺架驅(qū)動系統(tǒng)MSD(圖1中未示出，參照圖9)在XY平面內(nèi)細微地驅(qū)動，并且可以在掃描方向(X軸方向)上以預定行程(stroke)的預定掃描速度來驅(qū)動。由構(gòu)成掩膜臺架干涉計系統(tǒng)16(參照圖9)的一部分的激光干涉計(在下文中簡稱為干涉計)16X和16Y不斷地測量掩膜臺架MST的XY平面內(nèi)的位置信息，同時具有例如11大約0.25nm至Inm的分辨率。如圖2所示，掩膜臺架MST的+X側(cè)表面和-Y側(cè)表面經(jīng)受鏡子似的拋光，以具有反射表面15X和15Y。干涉計16X通過沿平行于X軸的光路向反射表面15X發(fā)出多個長度測量束并且接收從反射表面15X反射的束，來測量掩膜臺架MST的X軸方向上的位置(X位置)和方向θζ上的旋轉(zhuǎn)。干涉計16Χ的基本長度測量軸是與垂直于光軸AX3的X軸平行的軸。干涉計16Υ通過沿與垂直于光軸AX1和AX2的Y軸平行的光路向反射表面15Υ發(fā)出兩個長度測量束并且接收從反射表面15Υ反射的束，來測量掩膜臺架MST的Y軸方向上的位置(Y位置)。另外，取代上述反射表面15Χ和15Υ，由平面鏡形成的移動鏡可以固定到掩膜臺架MST。干涉計16Χ和16Υ的測量信息被供應到主控裝置50(參照圖9)。主控裝置50基于干涉計16Χ和16Υ的測量信息(掩膜臺架MST的位置信息)，通過掩膜臺架驅(qū)動系統(tǒng)MSD而控制掩膜臺架MST。如圖1所示，投影光學系統(tǒng)PL設(shè)置在掩膜臺架MST的較低位置處(_Ζ側(cè))。例如，如圖3所示，根據(jù)實施例的投影光學系統(tǒng)PL包括以Z字形設(shè)置的五個投影光學系統(tǒng)模塊(在下文中，簡稱為投影光學系統(tǒng)斤！^至？“，以對應于光軸似工至似^勺布置。在圖1中，投影光學系統(tǒng)PL3、PL5和PL4在該紙平面中設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL1和PL2背后。作為投影光學系統(tǒng)PL1至PL5中的每個，例如，使用兩側(cè)遠心反射-折射系統(tǒng)，其以同一放大率在圖像表面上形成直立圖像。借助于上述投影光學系統(tǒng)PL1至PL5(光軸AX1至AX5)的布置，如在照射區(qū)域IAM1至IAM5中一樣，投影區(qū)域IA1至IA5以Z字形布置，在投影區(qū)域IA1至IA5中，投影光學系統(tǒng)PL1至PL5在片S上投射圖案的圖像。這里，如在照射區(qū)域IAM1至IAM5中一樣，投影區(qū)域IA1至IA5具有等腰梯形形狀。借助于投影區(qū)域IA1至IA5的布置和形狀，掩膜M和片S在掃描方向(X軸方向)上以同步方式來驅(qū)動，同時通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5將掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至IAM5內(nèi)的圖案的圖像(部分圖像)投射到片S上的投影區(qū)域IA1至IA5上，以使得投射到片S上的圖案的部分圖像被合成為與在掩膜M中形成的圖案相同的一個圖像(合成圖像)。因此，借助于掃描曝光，掩膜M的圖案通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5而被轉(zhuǎn)印到片S(—個短區(qū)域(分開區(qū)域)SAi)。另外，稍后將描述掃描曝光的細節(jié)。在實施例中，由于用于以同一放大率投射直立圖像的光學系統(tǒng)被采用作為投影光學系統(tǒng)PL1至PL5,因此投影區(qū)域IA1至IA5的形狀和布置(位置信息)與照射區(qū)域IAM1至IAM5的形狀和布置(位置信息)相同。在例如美國專利第6，522，775號等中公開了根據(jù)實施例的投影光學系統(tǒng)PL的詳細配置。曝光裝置100包括透鏡控制器LC(參照圖9)，透鏡控制器LC對投影光學系統(tǒng)PL1至I3L5投射到片S上的圖像的失真(位置偏差和/或形狀誤差)進行校正。透鏡控制器LC在平行于光軸AX1至AX5的方向以及相對于與光軸AX1至AX5垂直的XY平面傾斜的方向上，驅(qū)動構(gòu)成投影光學系統(tǒng)PL1至PL5中的每個的光學元件組(透鏡組)的至少一部分。因此，對投射到片S的投影區(qū)域IA1至IA5上的圖案的部分圖像的失真(位移、旋轉(zhuǎn)、放大(縮放)等)進行校正。另外，取代驅(qū)動光學元件組或者除驅(qū)動光學元件組之外，透鏡控制器LC可以改變形成在投影光學系統(tǒng)PL1至PL5內(nèi)的密封室內(nèi)的氣體壓力，或者可以改變照射光的波長。如圖1所示，臺架裝置SS設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PUPL1至PL5)的較低位置處(_Z側(cè))。臺架裝置SS包括基部構(gòu)件BS，由防振動機構(gòu)(未示出)支撐在底表面上以基本為水平的；臺架SST，將片S移動并支撐在基部構(gòu)件BS上；驅(qū)動系統(tǒng)SSD(圖1中未示出，參照圖9)，驅(qū)動臺架SST；臺架干涉計系統(tǒng)18(參照圖9)，測量臺架SST的位置信息；等等。另夕卜，在圖1中，片S被吸附并保持到臺架SST上。如圖1所示，臺架SST包括臺架體ST，由設(shè)置在底表面中的多個非接觸軸承(例如，空氣軸承(未示出))以抬起狀態(tài)支撐在基部構(gòu)件BS上；Z校平裝置38(參照圖4A)，設(shè)置在臺架體ST上；以及桌TB，由Z校平裝置38以三點支撐。如圖4B所示，Z校平裝置38包括三個Z驅(qū)動機構(gòu)38a、38b和38c，它們設(shè)置在不存在于臺架體ST的一條線上的三個點處，并且包括例如音圈馬達等。借助于Z校平裝置38，可以在Z軸方向、θx方向以及θy方向的三個自由度的方向上細微地驅(qū)動臺架體ST上的桌TB。臺架SST(臺架體ST)是在X軸方向(掃描方向)上由臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD在基部構(gòu)件BS上掃描驅(qū)動的，并且在Y軸方向和Θζ方向上被細微地驅(qū)動。臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD包括細微移動裝置(未示出)，在Y軸方向上細微地驅(qū)動臺架SST；以及粗略移動裝置30(參照圖9)，在掃描方向(X軸方向)上驅(qū)動細微移動裝置(未示出)。如圖4Β和6所示，粗略移動裝置30包括分別設(shè)置在臺架SST的Y軸方向的一側(cè)和另一側(cè)的一對線性馬達SO1和302。一個線性馬達SO1包括固定部分31”設(shè)置在基部構(gòu)件BS的-Y側(cè)并且在X軸方向上延伸；以及可移動部分32i，其附于固定部分以便沿長度方向可移動。另一線性馬達302包括固定部分312，設(shè)置在基部構(gòu)件BS的+Y側(cè)并且在X軸方向上延伸；以及可移動部分322，附于固定部分312以便沿長度方向可移動。固定部分和312中的每個包括沿X軸方向布置的多個磁體(或線圈)，并且可移動部分3和322中的每個包括線圈(或磁體)?？梢苿硬糠?和3通過細微移動裝置(未示出)分別固定到臺架體ST的-Y側(cè)表面和+Y側(cè)表面，該細微移動裝置在Y軸方向上細微地移動可移動部分3和322。另外，臺架體ST可以通過在線性馬達SO1和302中生成不同的推力而在θζ方向上細微地被驅(qū)動。另外，取代粗略移動裝置30和細微移動裝置，可以通過使用如下類型的平面馬達來配置沿基部構(gòu)件BS的上表面(導向表面)二維地移動臺架SST的臺架驅(qū)動系統(tǒng)在例如美國專利第5，196，745號的說明書中公開的洛倫茲電磁驅(qū)動類型的平面馬達、可變電磁阻抗驅(qū)動類型的平面馬達、磁懸浮類型的平面馬達等。桌TB由臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD(參照圖9)在基部構(gòu)件BS上驅(qū)動，臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD包括粗略移動裝置30、細微移動裝置(未示出)以及Z校平裝置38，以便具有在X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、ΘΧ方向、方向以及ΘΖ方向上的六個自由度。如圖4Α和4Β所示，片支持物SH1設(shè)置在桌TB的上表面的中心部分處，以便吸附并支持片S。片支持物SH1基本上平行于XY平面，并且包括略大于布置在片S上的分開區(qū)域的矩形支持表面，從而在支持表面上平坦地支持片S。這里，為了吸附并支持片S，作為片支持物SH1,采用插銷夾頭支持物(pinchuckholder)，其中，插銷的布置間隔(節(jié)距)充分小，并且插銷的高度低至例如大約200μm。另外，六個輔助片支持物SH2和SH3設(shè)置在桌TB的上表面上，以便吸附并支持布置在片S上的分開區(qū)域的外圍中的后表面。詳細地，片支持物SH1W士Y側(cè)設(shè)置有兩個輔助片支持物SH2,這兩個輔助片支持物較薄并且在X軸方向上較長且在X軸方向上距離彼此預定距離。另外，片支持物SH1W士X側(cè)設(shè)置有一個較薄并且在Y軸方向上較長的輔助片支持物SH3。輔助片支持物和SH3中的每個包括矩形支持表面，并且支持表面可以由設(shè)置在桌TB中的支持物驅(qū)動裝置在與長度方向和Z軸方向垂直的方向上細微地驅(qū)動。圖5A是示出設(shè)置在桌TB內(nèi)的支持物驅(qū)動裝置60的配置的平面視圖，并且圖5B是沿圖5A的線B-B得到的截面視圖。這里，作為示例，示出了支持物驅(qū)動裝置60，其驅(qū)動位于桌TB的+Y側(cè)端和+X側(cè)端處的輔助片支持物SH2。支持物驅(qū)動裝置60包括Y驅(qū)動單元，包括作為設(shè)置在中空部分內(nèi)的四接點鏈接機構(gòu)的一種類型的并行鏈接機構(gòu)61以及驅(qū)動并行鏈接機構(gòu)61(的驅(qū)動接點)的驅(qū)動機構(gòu)63，并且在Y軸方向上驅(qū)動輔助片支持物SH2，其中該中空部分設(shè)置在桌TB中；以及Z驅(qū)動單元(未示出)，包括例如支撐矩形基部60i并且在Z軸方向上細微地驅(qū)動矩形基部60i的驅(qū)動元件、音圈馬達等，矩形基部60i在桌TB的底表面上具有固定到其上表面的輔助片支持物SH2?；?0i的一端(-X端)與位于并行鏈接機構(gòu)61的固定鏈接的相對側(cè)的鏈接(在下文中，方便地稱為并行移動鏈接)集成在一起。詳細地，并行鏈接機構(gòu)61包括一對振蕩鏈接644和645，其一端分別連接到固定到桌TB的中空部分的+X側(cè)壁的一對鏈接支撐構(gòu)件6和664，而另一端分別連接到上述并行移動鏈接的一端6和另一端666。在該情況下，鏈接支撐構(gòu)件6和664固定到桌TB，從而構(gòu)成固定鏈接。固定鏈接、振蕩鏈接644和645以及并行鏈接是相鄰的鏈接并且構(gòu)成了旋轉(zhuǎn)對(revolutepair)。驅(qū)動機構(gòu)63包括致動器62，一端固定到桌TB的中空部分的側(cè)壁的一部分；L形桿鏈接61，一端(驅(qū)動點68。)以壓力與致動器62接觸，并且中間部分的支撐點6可旋轉(zhuǎn)地支撐到固定于桌TB的底部壁的固定器66i；以及可移動鏈接642，一端連接到桿鏈接61的另一端(動作點683)，而另一端連接到固定于上述并行移動鏈接的一部分的附連構(gòu)件667。桿鏈接61和可移動鏈接642構(gòu)成了旋轉(zhuǎn)對，并且可移動鏈接642和附連構(gòu)件667構(gòu)成了旋轉(zhuǎn)對。另外，附連構(gòu)件667連接到附連構(gòu)件662，附連構(gòu)件6通過彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643固定到桌TB的中空部分的-Y側(cè)壁的側(cè)壁的一部分。在該情況下，附連構(gòu)件667和彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643形成旋轉(zhuǎn)對，并且彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643和附連構(gòu)件6形成旋轉(zhuǎn)對。在具有上述配置的Y驅(qū)動單元中，桿鏈接64i的一端(驅(qū)動點6)通過彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643不斷地被致動器62按壓和接觸。另外，當致動器62在以圖5A的白色箭頭描繪的方向(+X軸方向)上驅(qū)動桿鏈接61的一端(驅(qū)動點68。)同時抵抗彈簧構(gòu)件643的按壓和接觸力時，通過可移動鏈接642在以黑色箭頭描繪的方向(+Y軸方向)上驅(qū)動附連構(gòu)件667。即，在+Y軸方向上與基部6(^—起驅(qū)動輔助片支持物SH2。在該情況下，輔助片支持物SH2的移動量由致動器62產(chǎn)生的力來確定。另外，如上所述，由設(shè)置在基部60i以下的Z驅(qū)動單元在Z軸方向上與基部60i—起驅(qū)動輔助片支持物SH2。然而，在以下描述中，將描述基部60i在Z軸方向上驅(qū)動輔助片支持物SH2。S卩，基部60i被描述作為Z驅(qū)動單元。用于設(shè)置在桌TB的+X側(cè)端和-Y側(cè)端的輔助片支持物的驅(qū)動裝置具有與上述支持物驅(qū)動裝置60類似的配置，其中在X軸上是對稱的。另外，用于設(shè)置在桌TB的士X側(cè)的一對輔助片支持物SH3的驅(qū)動裝置具有與上述支持物驅(qū)動裝置60類似的配置，其中具有不同的方向(旋轉(zhuǎn)了士90°)。桿鏈接61的力點68i與支撐點6之間的長度以及支撐點6與操作點6之間的長度是例如1至3。為此，當由支持物驅(qū)動裝置60(驅(qū)動機構(gòu)63)的致動器62在+X軸方向上在驅(qū)動點6驅(qū)動桿鏈接61的一端達10μm時，在-Y軸方向上驅(qū)動桿鏈接61的彎曲部分(力點68)達10μm，并且因而在+Y軸方向上驅(qū)動桿鏈接61的另一端(動作點683)達30μm。因此，可以通過使用支持物驅(qū)動裝置60(驅(qū)動機構(gòu)63)在+Y軸方向上驅(qū)動輔助片支持物達30μm。另外，在片S的兩端在Y軸方向上由設(shè)置在桌TB上同時在Y軸方向上遠離彼此的一對輔助片支持物SH2支持的狀態(tài)下，當在彼此相反的方向(移動遠離彼此的方向)上驅(qū)動輔助片支持物SH2時，可以最大將片S伸長60μπι。以相同方式，可以在X軸方向上驅(qū)動兩個輔助片支持物SH3達30μm。因此，在由兩個輔助片支持物SH3支持在片S的分開區(qū)域的X軸方向上的兩側(cè)分開區(qū)域的外部的后表面部分的狀態(tài)下，當在彼此相反的方向(移動遠離彼此的方向)上驅(qū)動兩個輔助片支持物SH3時，可以在X軸方向上將片S最大伸長60μm。用于設(shè)置在桌TB的+Y側(cè)、-Y側(cè)以及-X側(cè)的端的輔助片支持物SH2的驅(qū)動裝置具有與上述支持物驅(qū)動裝置60類似的配置，其中在Y軸上是對稱的。如以下所述，輔助片支持物SH2和SH3用于在片S由片支持物SH1平坦地支持時輔助片支持物SH115另外，在基部GO1上的+Y端，矩形盤狀的定位構(gòu)件602固定到輔助片支持物SH2同時與其接觸。定位構(gòu)件602具有如下作用當片S由輔助片支持物SH2的支持表面吸附并支持時，通過按壓片S的+Y端(或-Y端)而在Y軸方向上定位片S。如圖4B所示，桌TB的+X側(cè)表面和-Y側(cè)表面經(jīng)受鏡子似的拋光以具有反射表面17X和17Y。反射表面17X和17Y用于通過使用稍后要描述的臺架干涉計系統(tǒng)來測量臺架SST的位置。另外，取代上述反射表面17Y，由平面鏡形成的移動鏡可以固定到桌TB。此外，取代反射表面17X，由反向反射器或平面鏡形成的移動鏡可以固定到桌TB。如圖6所示，臺架干涉計系統(tǒng)18(參照圖9)包括干涉計ISX1USX2USYdnIOT2,并且不斷地測量臺架SST(桌TB)的XY平面內(nèi)的位置信息(包括θZ方向上的旋轉(zhuǎn)信息)，同時具有例如大約0.25nm至Inm的分辨率。干涉計18&、18以及ISY1UOT2設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL的+X側(cè)和-Y側(cè)，以面向桌TB的反射表面17X和17Y。干涉計18和18通過向桌TB的反射表面17X發(fā)出平行于X軸的長度測量束并且接收從反射表面17X反射的束來測量臺架SST的X位置。干涉計ISY1和IOT2通過向反射表面17Y發(fā)出平行于Y軸的兩個長度測量束并且接收從反射表面17Y反射的束來測量臺架SST的Y位置。這里，干涉計IOT2的兩個長度測量束之一沿著與垂直于光軸AXpAX3和AX5的Y軸平行的光路而被發(fā)射到反射表面17Y,而另一長度測量束沿著與垂直于光軸AX2和AX4的Y軸平行的光路而被發(fā)射到反射表面17Y。另外，干涉計ISY1的兩個光測量束沿平行于Y軸的兩個光路而被發(fā)射到反射表面17Y,Y軸穿過稍后要描述的對準系統(tǒng)AL11和AL12中的每個的檢測中心。臺架干涉計系統(tǒng)18(干涉計18&、ISiC2USY1和IOT2)的測量信息被供應到主控裝置50(參照圖9)。另外，當臺架SST位于基部構(gòu)件BS上時，干涉計ISY1和IOT2的長度測量束中的至少一個被發(fā)射到臺架SST的反射表面17Y，而與其X位置無關(guān)。因此，主控裝置50根據(jù)臺架SST的X位置而使用干涉計ISY1和IOT2的任一測量信息。另外，主控裝置50基于干涉計18和18的測量信息而測量臺架SST的θζ方向上的旋轉(zhuǎn)。另外，作為干涉計18&、18)(2、181和18，可以使用多軸干涉計，該多軸干涉計發(fā)出在Z軸方向上遠離彼此的多個長度測量束。在該情況下，除了臺架SST(桌TB)的XY平面內(nèi)的位置信息(旋轉(zhuǎn)信息(包括偏擺量(θζ方向上的旋轉(zhuǎn)量θζ)))之外，主控裝置50可以獲得相對于XY平面的傾斜信息(俯仰量(θχ方向上的旋轉(zhuǎn)量θχ))和滾動量(θy方向上的旋轉(zhuǎn)量9y)。如圖1和6所示，片運輸系統(tǒng)40包括跨越投影光學系統(tǒng)PL在X軸方向上布置的四個運輸輥部分41至44。如圖7A至7G所示，運輸輥部分41、42、43和44中的每個包括位于上部位置和下部位置的一對壓力輥和驅(qū)動輥。在位于下部位置的驅(qū)動輥412、4&、4\和442中，其兩端由支撐構(gòu)件(未示出)可旋轉(zhuǎn)地支撐，以使得其上端略微位于臺架SST(參照圖1)的上表面(片支持物SH1的支持表面)的上部位置(+Z側(cè))。驅(qū)動輥412、似2、4\和442由旋轉(zhuǎn)馬達(未示出)可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。位于上部位置的壓力輥MidAdSi**^由相應驅(qū)動輥通過彈簧機構(gòu)(未示出)從上側(cè)(+Z側(cè))按壓和接觸。然而，如圖7B的運輸輥部分41所示，壓力輥M1是階梯狀圓柱輥，其在長度方向上除兩端之外的部分的直徑小于兩端的直徑，并且驅(qū)動輥412是具有均勻直徑的圓柱輥。如圖7B所示，通過采用運輸輥部分41、42、43和44的代表性運輸輥部分41，片S夾在壓力輥GI1)與驅(qū)動輥GI2)之間，并且壓力輥Gi1)不與圖案形成在片S的表面上的分開區(qū)域接觸。在運輸輥部分41、42、43和44的每個中，可以設(shè)置片S可以夾在壓力輥Gl1)與驅(qū)動輥Gl2)之間的第一狀態(tài)以及如下第二狀態(tài)其中，夾著片S的操作可以通過將壓力輥Gl1)與驅(qū)動輥Gl2)分開同時抵抗彈簧機構(gòu)的按壓力來釋放。在運輸輥部分41、42、43和44的每個中，通過主控裝置50來執(zhí)行第一狀態(tài)與第二狀態(tài)之間的改變。另外，至少一部分驅(qū)動輥可以被形成為如壓力輥的階梯圓柱形狀。驅(qū)動輥412、422、4；32和442的旋轉(zhuǎn)和停止由主控裝置50以及輥40:和402來控制。如圖7B所示，通過采用代表性的運輸輥部分41，當在運輸輥部分的第一狀態(tài)下驅(qū)動輥Gl2)圍繞平行于Y軸的軸旋轉(zhuǎn)(并且壓力輥M1在相反的方向上旋轉(zhuǎn))時，片S在旋轉(zhuǎn)方向上被運輸。在片運輸系統(tǒng)40中，如圖7C所示，運輸輥部分41的輥叫和412在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)，以使得片S在以白色箭頭描繪的-X軸方向上從輥40i抽出并且向運輸輥部分42運輸。這里，當運輸輥部分42的輥4和4的旋轉(zhuǎn)在預定定時停止時，具有預定長度(與運輸輥部分42與43之間的距離對應的程度)的片S在運輸輥部分41與42之間以環(huán)狀彎曲。另外，在片運輸系統(tǒng)40中，如圖7D所示，在運輸輥部分41的輥41和412中的每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分42的輥4和422(以及運輸輥部分43的輥432)在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)，以使得以環(huán)狀彎曲的片S在以白色箭頭描繪的-X軸方向上朝向投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域而運輸。在片運輸系統(tǒng)40中，如上所述，片S借助于運輸輥部分43和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)和停止而從投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域被抽出。即，如圖7E所示，當在運輸輥部分44的輥41和442中的每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥43的輥4中的每個在以箭頭16描繪的方向上旋轉(zhuǎn)時，片S被抽到投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域，并且所抽取的片S在運輸輥部分43與44之間以環(huán)狀彎曲。然后，如圖7F所示，當在運輸輥部分43的輥43i和432中的每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分44的輥41和442中的每個僅在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)時，以環(huán)狀彎曲的片S被運輸?shù)竭\輸輥部分44的-X側(cè)，并且纏繞在纏繞輥402上。另外，在片運輸系統(tǒng)40中，如圖7G所示，在運輸輥部分41和42的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分43的各個輥在運輸片S的方向上旋轉(zhuǎn)，或者在運輸輥部分43和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分42的各個輥相反地旋轉(zhuǎn)，以使得預定張力在X軸方向上被施加到片S，并且片S在運輸輥部分42與43之間伸長。以此方式伸長的片S由片支持物SH1吸附并支持在片臺架SST上。片運輸系統(tǒng)40還包括測量片S的運輸量的測量裝置(未示出)，例如，測量驅(qū)動輥412>422,432和442中的每個的旋轉(zhuǎn)量的旋轉(zhuǎn)編碼器等。另外，稍后將詳細描述在曝光處理期間使用片運輸系統(tǒng)40運輸片S的操作、將片S支持在臺架SST上的操作等。此外，在實施例的曝光裝置100中，多個(此處為十二個)離軸型對準系統(tǒng)AL1至ALl2被設(shè)置以檢測附于片S上的分開區(qū)域的對準標記。如圖6所示，對準系統(tǒng)AL1至AL6沿X軸被設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL的+X側(cè)的位置處，以面向在片S上的分開區(qū)域外的+Y側(cè)端的區(qū)域。另外，如圖6所示，對準系統(tǒng)AL7至AL12被設(shè)置成相對于與投影區(qū)域IA3的光軸垂直的X軸與對準系統(tǒng)AL1至AL6對稱。對準系統(tǒng)AL7至AL12可以被設(shè)置成面向片S上的各個分開區(qū)域的外部的-Y側(cè)端的區(qū)域。在實施例中，作為示例，如圖8所示，六個對準標記AM(總共有十二個)設(shè)置在片S的各個分開區(qū)域SAi的Y軸方向外的各個區(qū)域中，并且對準系統(tǒng)AL1至AL12被設(shè)置成單獨地并且同時地檢測十二個對準標記AM。因此，本發(fā)明不限于此，并且當對準系統(tǒng)在X軸方向上可移動時，可以取代對準系統(tǒng)AL1至AL6設(shè)置至少一個對準系統(tǒng)，并且可以取代對準系統(tǒng)AL7至AL12設(shè)置至少一個對準系統(tǒng)。作為對準系統(tǒng)々!^至々、，采用示例性圖像處理型FIA(場圖像對準)系統(tǒng)。對準系統(tǒng)AL1至AL12的檢測結(jié)果(索引標記和檢測目標標記的圖像信息)通過對準信號處理系統(tǒng)(未示出)被傳送到主控裝置50。另外，本發(fā)明不限于FIA?？梢詥为毜厥褂没蛘哌m當?shù)亟M合對準傳感器，該對準傳感器向目標標記發(fā)出相干檢測光，并且檢測從目標標記生成的散射光或折射光、或者檢測通過干涉而從目標標記生成的兩個折射光束(例如，同一均質(zhì)數(shù))。圖9是示出主控裝置50的輸入/輸出關(guān)系的框圖，主控裝置50—般控制曝光裝置100的控制系統(tǒng)的組成部分。接下來，將參照圖10至18描述使用實施例的曝光裝置100中的臺架SST對片S的曝光操作的序列。另外，參照多幅圖來描述操作，但是對于各幅圖，附圖標記可以給予或者可以不給予相同的組成部分。即，各幅圖中的附圖標記的標記存在差別，但是配置是相同的而與附圖的附圖標記的標記無關(guān)。這同樣適用于已用于描述的附圖。圖10示出了如下狀態(tài)完成了布置在片S上的多個分開區(qū)域當中的前(i-Ι)個分開區(qū)域的曝光，并且要開始隨后的分開區(qū)域SAi的曝光。在圖10的狀態(tài)下，在分開區(qū)域SAi的曝光期間用于片S的移動的臺架SST保持在基部構(gòu)件BS上的+X端的位置(備用位置)處。另外，由于一般在開始片S上的第一分開區(qū)域SA1的曝光開始之前執(zhí)行掩膜M到掩膜臺架MST的加載以及掩膜對準(掩膜的定位操作)，因此在圖10的狀態(tài)下，掩膜M的加載和掩膜對準當然是完成的。另外，假設(shè)掩膜臺架MST被移動到掃描開始位置(加速開始位置)以用于分開區(qū)域SAi的曝光。a.首先，根據(jù)以下序列al至a4將包括分開區(qū)域SAi的片S的中心部分支持在臺架SST上。al.詳細地，例如，如以上參照圖7C描述的，主控裝置50停止片運輸系統(tǒng)40的運輸輥部分42的各個輥的旋轉(zhuǎn)并且然后旋轉(zhuǎn)運輸輥部分41的各個輥，以從輥40i抽出片S。替選地，主控裝置50停止運輸輥部分43和41的各個輥的旋轉(zhuǎn)，并且然后相反地旋轉(zhuǎn)運輸輥部分42，以將片S抽回到投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域。無論如何，具有預定長度的片S在運輸輥部分41與42之間以環(huán)狀彎曲。預定長度與是運輸輥部分42與43之間的距離對應的長度。a2.接下來，主控裝置50基于來自臺架干涉計18(WX1USX2USYdnIOT2)的臺架SST的位置信息而控制片運輸系統(tǒng)40，以便相對于臺架SST的片支持物SH1(的支持表面)而定位片S上的分開區(qū)域SAitl這里，如以上參照圖7G描述的，主控裝置50在運輸輥部分41、42和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)運輸輥部分43的各個輥，或者在運輸輥部分41、43和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下相反地旋轉(zhuǎn)運輸輥部分42的各個輥，以使得片S在X軸方向上施加有預定張力，以在運輸輥部分42與43之間伸長。主控裝置50還細微地驅(qū)動臺架SST以將片支持物SH1(的支持表面)定位到片S上的分開區(qū)域SAitl另外，在該狀態(tài)下，在片S與臺架SST的片支持物SH1(的支持表面)之間形成細微間隔。在片S相對于臺架SST被定位在備用位置的狀態(tài)下，附于分開區(qū)域SAi的對準標記AM被定位在對準系統(tǒng)AL1至AL12中的每個的檢測視場內(nèi)。a3.在定位操作之后，主控裝置50通過支持物驅(qū)動裝置60(基部60》在+Z軸方向上細微地驅(qū)動桌TB上的六個輔助片支持物和SH3,同時通過臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD(Z校平裝置38)水平地支持臺架SST的桌TB，以使得通過使用四個輔助片支持物來吸附和支持與分開區(qū)域Si的士Y側(cè)對應的部分的片S的后表面，并且通過使用兩個輔助片支持物SH3來吸附和支持與分開區(qū)域Si的士X側(cè)對應的部分的片S的后表面。詳細地，如圖11所示，主控裝置50在以白色箭頭描繪的方向(+Y軸方向或-Y軸方向)上細微地驅(qū)動分別設(shè)置在桌TB上的+Y側(cè)端和-Y側(cè)端的兩個輔助片支持物SH2,以便加寬在桌TB上在Y軸方向上遠離彼此的輔助片支持物SH2之間的距離。另外，主控裝置50通過基部60i在+Z軸方向上驅(qū)動各個輔助片支持物SH2,以使得片S的Y軸方向上的兩端的后表面與四個輔助片支持物S4的支持表面接觸。在接觸之后，主控裝置50在以黑色箭頭描繪的-Y軸方向上細微地驅(qū)動+Y側(cè)的兩個輔助片支持物SH2以相對于片S的+Y端牢固地按壓定位構(gòu)件602，并且在以黑色箭頭描繪的+Y軸方向上細微地驅(qū)動-Y側(cè)的兩個輔助片支持物SH2以相對于片S的-Y端牢固地按壓定位構(gòu)件602，從而定位片S。在定位操作之后，主控裝置50使得四個輔助片支持物SH2吸附并支持片S的分開區(qū)域SAi的Y軸方向上的兩側(cè)的后表面，以及使得輔助片支持物SH3吸附并支持片S的分開區(qū)域SAi的X軸方向上的兩側(cè)的后表面。圖12示出了片S暫時由輔助片支持物洱和鞏以此方式支持的狀態(tài)。a4.在片S的暫時支持操作之后，在片S暫時被支持為使得包括分開區(qū)域SAi的片S的中心部分的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸的狀態(tài)下，主控裝置50通過基部60i在-Z軸方向上細微地驅(qū)動輔助片支持物和SH3中的每個。然后，主控裝置50定位輔助片支持物和SH3中的每個的支持表面，以位于片支持物SH1的支持表面的略微較低的側(cè)(-Z側(cè))。因此，在Y軸方向和X軸方向上向片S施加適當?shù)膹埩Γ允沟闷琒的中心部分固定到片支持物SH1的支持表面。在該狀態(tài)下，如圖12所示，主控裝置50將片S吸附并支持到片支持物SH1上。因此，包括分開區(qū)域SAi的片S的中心部分被平坦地支持到臺架SST上以與XY平面平行。b.接下來，根據(jù)以下序列bl至沾執(zhí)行對于片S的對準測量。bl.如上所述，在臺架SST被定位至備用位置的狀態(tài)下，附于分開區(qū)域SAi的對準標記被定位在對準系統(tǒng)AL1至AL12中的每個的檢測視場內(nèi)。這里，如圖13所示，主控裝置50通過使用對準系統(tǒng)AL1至AL12來檢測附于片S上的分開區(qū)域SAi的對準標記(基于索引中心測量對準標記的位置)。另外，主控裝置50基于對準標記的檢測結(jié)果和通過檢測從臺架干涉計系統(tǒng)18獲得的臺架SST的位置信息，獲得十二個對準標記在XY坐標上的位置坐標。b2.接下來，主控裝置50基于所獲得的十二個對準標記的位置坐標，確定具有片S的圖案的分開區(qū)域SAi在X軸方向和Y軸方向上的收縮量是否在預定范圍內(nèi)。b3.然后，結(jié)果，例如，當確定在分開區(qū)域SAift的至少一部分中發(fā)生超過預定范圍的收縮時，釋放使用片支持物SH1吸附并支持片S的操作，并且在+Z軸方向上通過基部60i驅(qū)動輔助片支持物SH2和SH3中的每個，以便將片S的后表面與片支持物SH1的支持表面分開。這里，例如，當確定片S上的分開區(qū)域SAi內(nèi)的-X端在Y軸方向上收縮超過預定范圍并且分開區(qū)域SAi在X軸方向上收縮超過預定范圍時，如圖14所示，在移動遠離彼此的方向(以圖14的白色箭頭描繪)上驅(qū)動桌TB的-X側(cè)的兩個輔助片支持物SH2，以便進一步在Y軸方向上將張力施加到片S的分開區(qū)域SAi的-X側(cè)端，并且在移動遠離彼此的方向(以黑色箭頭描繪)上驅(qū)動兩個輔助片支持物SH3，以進一步在X軸方向上將張力施加到片S的分開區(qū)域SAi,從而校正(調(diào)整)失真。在調(diào)整之后，主控裝置50在-Z軸方向上通過基部60i驅(qū)動輔助片支持物SH2和SH3中的每個，以使得片S的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸以再次吸附并支持到其上。b4.然后，主控裝置50通過使用對準系統(tǒng)AL1至AL12來檢測附于片S上的分開區(qū)域SAi的對準標記，并且基于檢測結(jié)果和通過檢測而從干涉計系統(tǒng)18獲得的臺架SST的位置信息，再次獲得十二個對準標記在XY坐標上的位置坐標。b5.然后，主控裝置50通過使用十二個對準標記的位置坐標的全部或一部分，執(zhí)行預定的最小二乘計算，并且獲得失真，即，形成在片S的分開區(qū)域SAi上的圖案的XY位移、旋轉(zhuǎn)、XY縮放以及垂直度。這里，當如1^2的確定結(jié)果一樣，確定分開區(qū)域SAi在Y軸方向和X軸方向上的收縮量在預定范圍內(nèi)時，主控裝置50跳過b3和b4的處理并且執(zhí)行沾的處理。隨后，主控裝置50釋放片運輸系統(tǒng)40的預定排出輥部分執(zhí)行的片S的限制(固定)，該預定排出輥部分用于在X軸方向上向片S施加預定張力。另外，當對準系統(tǒng)的數(shù)量小于要檢測的對準標記的數(shù)量時，需要在在X軸方向上逐步地移動支持片S的臺架SST的同時執(zhí)行對準測量。此時，主控裝置50根據(jù)臺架SST的移動而控制片運輸系統(tǒng)40的各個驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)和停止。c.接下來，執(zhí)行對片S上的分開區(qū)域SAi的掃描曝光。cl.詳細地，主控裝置50基于對準測量的結(jié)果(并且特別地，基于XY位移)而將支持片S的臺架SST移動到曝光的掃描開始位置(加速開始位置)，以相對于支持掩膜M的掩膜臺架MST執(zhí)行定位操作。這里，在實施例中，由于臺架SST的加速開始位置被設(shè)置為與上述備用位置相同的位置(或其附近)，因此對臺架SST在XY平面內(nèi)的位置執(zhí)行細微調(diào)整。c2.接下來，主控裝置50在掃描方向(-X軸方向)上開始臺架SST的加速。因此，開始臺架SST在-X軸方向上的移動。在移動期間，并且特別地在臺架SST的加速結(jié)束之前，如圖15所示，來自干涉計IOT2的長度測量束開始與反射表面17Y碰撞。因此，緊挨在長度測量束的碰撞之后，主控裝置50將用于測量臺架SST的Y位置的激光干涉計從干涉計ISY1改變?yōu)楦缮嬗?OT2。c3.然后，當兩個臺架SST和MST的加速操作結(jié)束時并且兩個臺架SST和MST的加速操作以均勻速度同步時，開始以照射光IL2和IL4照射掩膜M上的圖案區(qū)域，從而開始曝光。然后，根據(jù)兩個臺架SST和MST的具有均勻速度的同步移動，如圖16所示，以照射光IL1至IL5照射掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至IAM5(參照圖2)，并且通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5(參照圖3)將照射區(qū)域IAM1至IAM5內(nèi)的圖案的部分圖像投射到支持在臺架SST上的片S上的投影區(qū)域1~至1八5。當以照射光IL1至IL5照射掩膜M的圖案區(qū)域的整個區(qū)域時，即，當掩膜M的圖案區(qū)域穿過照射區(qū)域IAM1至IAM5時，分開區(qū)域SAi的掃描曝光完成。因此，掩膜M的圖案轉(zhuǎn)印到分開區(qū)域SAitlS卩，在形成在片S的表面上的抗蝕劑層上形成掩膜M的圖案的潛像。在掃描曝光期間，主控裝置50在Z軸方向上驅(qū)動臺架SST的桌TB，同時水平維持桌，以使得支持在桌TB(片支持物SH1)上的片S的表面被定位至投影光學系統(tǒng)PL焦點位置(焦點深度內(nèi))。另外，在掃描曝光期間，主控裝置50基于對準測量的結(jié)果控制臺架SST和掩膜臺架MST的同步驅(qū)動狀態(tài)(相對位置和相對速度)，以便校正投射到片S上的圖案的整個圖像的失真。此外，主控裝置50通過透鏡控制器LC控制構(gòu)成投影光學系統(tǒng)PL1至PL5的光學元件組(透鏡組)的驅(qū)動狀態(tài)，以便校正投射到片S的投影區(qū)域IA1至IA5的圖案的部分圖像的失真。因此，掩膜M的圖案的投影圖像高度精確地與形成在分開區(qū)域SAi內(nèi)的圖案重疊。在完成分開區(qū)域SAi的掃描曝光之后，對兩個臺架SST和MST減速。如圖17所示，當它們到達掃描結(jié)束位置(減速結(jié)束位置)時，它們停止。另外，在實施例中，掃描操作期間的臺架SST的減速結(jié)束位置被確定為與基部構(gòu)件BS的-X端對準。另外，當主控裝置50在掃描曝光期間在-X軸方向上驅(qū)動支持片S的臺架SST時，如上所述，主控裝置根據(jù)臺架SST的移動適當?shù)匦D(zhuǎn)或停止片運輸系統(tǒng)40的各個驅(qū)動輥，以使得臺架SST的移動不被施加到片S的張力干擾。d.如圖17所示，當臺架SST停止在作為基部構(gòu)件BS前方的減速結(jié)束位置的-X端時，主控裝置50釋放使用片支持物SH1和片支持物SH2吸附并支持片S的操作，以便從臺架SST釋放片S。此外，主控裝置50向下(在-Z軸方向上)撤回臺架SST的桌TB。因此，片S在運輸輥部分42與43之間伸長，其中相對于臺架SST的片支持物SH1具有細微間隔。e.在釋放片S之后，如圖18所示，主控裝置50在以黑色箭頭描繪的+X軸方向上驅(qū)動片臺架SST，以返回到基部構(gòu)件BS的+X端的上述備用位置。這里，根據(jù)片臺架SST的X位置，用于測量Y位置的干涉計從干涉計IOT2改變?yōu)楦缮嬗?8Yi。另外，主控裝置50驅(qū)動掩膜臺架MST以高速返回到掃描開始位置(加速開始位置)。此外，除了驅(qū)動臺架的操作之外，主控裝置50在以如圖18所示的白色箭頭描繪的+X軸方向上拉回片S。f.臺架SST和掩膜臺架MST的返回驅(qū)動操作以及拉回片S的操作完成，如圖19所示，臺架SST保持在備用位置，并且片S的包括隨后的分開區(qū)域SAi+1的中心部分被定位至保持在備用位置的臺架SST的表面。該狀態(tài)與圖10所示的狀態(tài)相同，除了運輸了片S的一個分開區(qū)域之外。隨后，如在之前的情況下一樣，主控裝置50開始分開區(qū)域SAi+1的曝光。隨后，以相同方式，主控裝置50重復上述序列a至f，以對片S上的所有分開區(qū)域執(zhí)行曝光。如以上詳細描述的，在片運輸系統(tǒng)40的運輸輥部分41、42和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下主控裝置50旋轉(zhuǎn)運輸輥部分43的各個輥(或者在運輸輥部分41、43和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下相反地旋轉(zhuǎn)運輸輥部分42的各個輥)，以使得預定張力在X軸方向上被施加到片S，以在運輸輥部分42與43之間伸長。另外，在片S暫時由六個輔助片支持物SH2和SH3支持之后，在片S暫時由主控裝置50支持的狀態(tài)下，在-Z軸方向上細微地驅(qū)動六個輔助片支持物和SH3,以使得片S的包括分開區(qū)域SAi的中心部分的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸。另外，主控裝置50將六個輔助片支持物和SH3的支持表面定位成在片支持物SH1的支持表面的略微較低的側(cè)(-Z側(cè))，以使得在適當?shù)膹埩υ趯挾确较?Y軸方向)和長度方向上被施加到片S的狀態(tài)下，片S的中心部分被固定到片支持物SH1的支持表面上。即，在張力在XY二維方向上被施加到片S的分開區(qū)域SAi的狀態(tài)下，與片S的分開區(qū)域SAi對應的后表面部分由片支持物SH1的平坦支持表面吸附。此夕卜，照射系統(tǒng)IOP通過掩膜M的圖案將照射光IL1至IL5照射到由片支持物SH1的支持表面平坦地吸附的片S的分開區(qū)域SAi,以對片S執(zhí)行掃描曝光，并在其上形成圖案。因此，即使在由于例如在工藝處理期間生成的熱而變得收縮的片S的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。因此，可以有助于制造諸如柔性大型顯示器的電子裝置而不增加裝置的尺寸。另外，在上述實施例中，描述了如下情況其中，兩個輔助片支持物SH3的支持表面被定位成略低于片支持物SH1的支持表面(-Z側(cè))，以在片運輸系統(tǒng)40的運輸輥部分在X軸方向上將預定張力施加到片S的狀態(tài)下，當片S的包括分開區(qū)域SAi的中心部分的后表面由片支持物SH1的支持表面吸附時，進一步在X軸方向上將張力施加到片S。然而，本發(fā)明不限于此?？梢詢H通過在-Z軸方向和移動遠離彼此的方向上移動吸附并支持片S的兩個輔助片支持物SH3而在X軸方向上將張力施加到片S。替選地，可以使用片運輸系統(tǒng)40的組成部分而不設(shè)置輔助片支持物SH3,由片S限制在X軸方向上將張力施加到片S。在該情況下，圖21所示的夾持部分45還可以設(shè)置在片運輸系統(tǒng)40內(nèi)。后面將詳細描述設(shè)置夾持部分45的情況。另外，在上述實施例的曝光裝置100的情況下，通過使用沿X軸方向布置同時在Y軸方向上遠離彼此的對準系統(tǒng)AL1至AL12來執(zhí)行片S的對準測量。然而，本發(fā)明不限于此。例如，對準標記以預定間隔設(shè)置在片S上的分開區(qū)域SAi的外圍中，并且如圖20所示，對準系統(tǒng)AL’設(shè)置在分開區(qū)域SAi的外圍中，以便對應于對準標記的布置，從而同時檢測所有對準標記。在該情況下，當基于對準標記的位置測量結(jié)果檢測到分開區(qū)域SAi在X軸方向上減小時，可以以如下方式調(diào)整分開區(qū)域的X軸方向上的縮放誤差主控裝置50在移動遠離彼此的方向上驅(qū)動吸附并支持片S的兩個輔助片支持物SH3,以便在X軸方向上將張力施加到片S。另外，多個輔助片支持物SH3可以在X軸方向上跨越片支持物SH1而設(shè)置，并且可以通過基于對準標記的位置測量結(jié)果單獨地使用輔助片支持物SH3,調(diào)整與分開區(qū)域內(nèi)的Y位置對應的X軸方向上的縮放誤差?！吹诙嵤├翟谙挛闹?，將參照圖21至39描述本發(fā)明的第二實施例。圖21示出了根據(jù)第二實施例的曝光裝置1000的示意配置。曝光裝置1000是多透鏡型投影曝光裝置，即，軟片或膜(下文中都稱為片)是曝光目標對象的所謂掃描器。在該實施例中，使用具有大約ΙΟΟμπι的厚度的片。曝光裝置1000包括照射系統(tǒng)IOP；掩膜臺架MST，支持掩膜M；投影光學系統(tǒng)PL，將形成在掩膜M上的圖案的圖像投射到片S上；臺架裝置SS，包括用于支持片S的片臺架(下文中簡稱為臺架)；片運輸系統(tǒng)40，運輸片S；其控制系統(tǒng)；等等。另外，用在本實施例的曝光裝置1000中的片S是連續(xù)拉長的片。片S以滾筒形狀纏繞，并被設(shè)置在輥40i中。如以下所述，片S由片運輸系統(tǒng)40(由運輸輥部分41至44構(gòu)成)從輥40i提取，穿過投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域，并且被纏繞在纏繞輥402上。另夕卜，光增敏劑(抗蝕劑)涂覆在片S的表面上。在實施例中，作為示例，片S從輥40i提取，并且被纏繞在纏繞輥402上，但是本發(fā)明不限于此。從用于執(zhí)行曝光前處理(例如，抗蝕劑涂覆處理)的抗蝕劑涂覆裝置提取的并被運輸?shù)接糜趫?zhí)行曝光后處理(例如，顯影處理)的顯影裝置的片可以經(jīng)受曝光裝置1000執(zhí)行的曝光。在下文中，與投影光學系統(tǒng)PL的對象表面?zhèn)群蜕媳砻鎮(zhèn)鹊墓廨S(這里，不包括兩個部分之間的中間部分)平行的垂直方向(圖21的上/下方向)被設(shè)置為Z軸方向，在與Z軸方向垂直的平面內(nèi)由投影光學系統(tǒng)PL相對地掃描標記M和片S的掃描方向(圖21的左/右方向)被設(shè)置為X軸方向，并且與Z軸方向和X軸方向垂直的方向被設(shè)置為Y軸方向。然后，X軸、Y軸和Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別被描述為ΘΧ、ΘΥ和ΘΖ方向。照射系統(tǒng)IOP包括多個(此處為五個)照射系統(tǒng)模塊(在下文中，簡稱為照射系統(tǒng))IOP1至Ι0Ρ5。照射系統(tǒng)IOP1至IOP5中的每個包括發(fā)出UV光的超高壓汞燈(光源)、收集來自光源的UV光的橢圓鏡、設(shè)置在所收集的UV光的光路上的波長選擇濾波器、光學積分器以及包括視野光圈的照射光學系統(tǒng)(未示出)。來自UV光的發(fā)射譜線(例如，線i(具有365nm的波長)、線g(具有436nm的波長)或線h(具有405nm的波長))通過波長選擇濾波器被提取作為照射光IL1至IL5。所提取的照射光IL1至IL5中的每個沿光軸AX1至AX5(參照圖22)中的每個在照射系統(tǒng)IOP(IC)P1至IOP5)的外部發(fā)出(朝向掩膜M)。另外，如圖22所示，光軸AXpAiC3和M5在XY平面內(nèi)(掩膜M的圖案表面)的Y軸方向上以預定間隔布置。此外，光軸AX2和AX4分別設(shè)置在光軸AX1與AX3之間以及光軸AX3與AX5之間，其中從光軸AX1、AX3和AX5到+X側(cè)之間具有預定距離。即，光軸AX1至AX5在XY平面內(nèi)以Z字形布置。照射系統(tǒng)IOP1至IOP5以均勻照射強度沿光軸AX1至AX5將照射光IL1至IL5照射到掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至^^5。每個照射區(qū)域具有由照射光學系統(tǒng)內(nèi)的視野光圈(未示出)規(guī)定的等腰梯形形狀。另外，在例如美國專利第6，552，775號的說明書中公開了照射系統(tǒng)IOP(IC)P1至IOP5)的詳細配置。如圖21所示，掩膜臺架MST設(shè)置在照射系統(tǒng)IOP的較低位置處(_Z側(cè))。矩形掩膜M通過例如真空吸附而固定到掩膜臺架MST上，其中掩膜表示在圖案表面(-Z側(cè)表面)中形成了矩形圖案區(qū)域。掩膜臺架MST可以由包括線性馬達等的掩膜臺架驅(qū)動系統(tǒng)MSD(圖21中未示出，參照圖29)在XY平面內(nèi)細微地驅(qū)動，并且可以在掃描方向(X軸方向)上以預定行程的預定掃描速度來驅(qū)動。由構(gòu)成掩膜臺架干涉計系統(tǒng)16(參照圖29)的一部分的激光干涉計(在下文中簡稱為干涉計)16X和16Y不斷地測量掩膜臺架MST的XY平面內(nèi)的位置信息，同時具有例如大約0.25nm至Inm的分辨率。如圖22所示，掩膜臺架MST的+X側(cè)表面和-Y側(cè)表面經(jīng)受鏡子似的拋光，以具有反射表面15X和15Y。干涉計16X通過沿平行于X軸的光路向反射表面15X發(fā)出多個長度測量束并且接收從反射表面15X反射的束，來測量掩膜臺架MST的X軸方向上的位置(X位置)和方向ΘΖ上的旋轉(zhuǎn)。干涉計16Χ的基本長度測量軸是與垂直于光軸AX3的X軸平行的軸。干涉計16Υ通過沿與垂直于光軸AX1和AX2的Y軸平行的光路向反射表面15Υ發(fā)出兩個長度測量束并且接收從反射表面15Υ反射的束，來測量掩膜臺架MST的Y軸方向上的位置(Y位置)。另外，取代上述反射表面15Χ和15Υ，由平面鏡形成的移動鏡可以固定到掩膜臺架MST。干涉計16Χ和16Υ的測量信息被供應到主控裝置50(參照圖29)。主控裝置50基于干涉計16Χ和16Υ的測量信息(掩膜臺架MST的位置信息)通過掩膜臺架驅(qū)動系統(tǒng)MSD而控制掩膜臺架MST。如圖21所示，投影光學系統(tǒng)PL設(shè)置在掩膜臺架MST的較低位置處(_Ζ側(cè))。例如，如圖23所示，根據(jù)本實施例的掩膜光學系統(tǒng)PL包括以Z字形布置的五個投影光學系統(tǒng)模塊(在下文中，簡稱為投影光學系統(tǒng)斤！^至PL5,以對應于光軸M1至M5的布置。在圖21中，投影光學系統(tǒng)PL3、PL5和PL4在該紙平面中設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL1和PL2的背面。作為投影光學系統(tǒng)PL1至PL5中的每個，例如，使用兩側(cè)遠心反射-折射系統(tǒng)，其以同一放大率在圖像表面上形成直立圖像。借助于上述投影光學系統(tǒng)PL1至PL5(光軸AX1至AX5)的布置，如在照射區(qū)域IAM1至IAM5中一樣，投影區(qū)域IA1至IA5以Z字形布置，在投影區(qū)域IA1至IA5中，投影光學系統(tǒng)PL1至PL5在片S上投射圖案的圖像。這里，如在照射區(qū)域IAM1至IAM5中一樣，投影區(qū)域IA1至IA5具有等腰梯形形狀。借助于投影區(qū)域IA1至IA5的布置和形狀，掩膜M和片S在掃描方向(X軸方向)上以同步方式來驅(qū)動，同時通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5將掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至IAM5內(nèi)的圖案的圖像(部分圖像)投射到片S上的投影區(qū)域IA1至IA5上，以使得投射到片S上的圖案的部分圖像被合成為與在掩膜M中形成的圖案相同的一個圖像(合成圖像)。因此，借助于掃描曝光，掩膜M的圖案通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5而被轉(zhuǎn)印到片S(—個短區(qū)域(分開區(qū)域)SAi)。另外，稍后將描述掃描曝光的細節(jié)。在實施例中，由于用于以同一放大率投射直立圖像的光學系統(tǒng)被采用作為投影光學系統(tǒng)PL1至PL5,因此投影區(qū)域IA1至IA5的形狀和布置(位置信息)與照射區(qū)域IAM1至IAM5的形狀和布置(位置信息)相同。在例如美國專利第6，522，775號等中公開了根據(jù)實施例的投影光學系統(tǒng)PL的詳細配置。曝光裝置1000包括透鏡控制器LC(參照圖29)，透鏡控制器LC對投影光學系統(tǒng)PL1至I^L5投射到片S上的圖像的失真(位置偏差和/或形狀誤差)進行校正。透鏡控制器LC在平行于光軸AX1至AX5的方向以及相對于與光軸AX1至AX5垂直的XY平面傾斜的方向上驅(qū)動構(gòu)成投影光學系統(tǒng)PL1至PL5中的每個的光學元件組(透鏡組)的至少一部分。因此，對投射到片S的投影區(qū)域IA1至IA5上的圖案的部分圖像的失真(位移、旋轉(zhuǎn)、放大(縮放)等)進行校正。另外，取代驅(qū)動光學元件組或者除驅(qū)動光學元件組之外，透鏡控制器LC可以改變形成在投影光學系統(tǒng)PL1至PL5內(nèi)的密封室內(nèi)的氣體壓力，或者可以改變照射光的波長。如圖21所示，臺架裝置SS設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PUPL1至PL5)的較低位置處(_Z側(cè))。臺架裝置SS包括基部構(gòu)件BS，由防振動機構(gòu)(未示出)支撐在底表面上以基本為水平的；臺架SST，在基部構(gòu)件BS上移動并支持片S;驅(qū)動系統(tǒng)SSD(圖21中未示出，參照圖四)，驅(qū)動臺架SST；臺架干涉計系統(tǒng)18(參照圖四)，測量臺架SST的位置信息；等等。另夕卜，在圖21中，片S被吸附并保持到臺架SST上。如圖21所示，臺架SST包括臺架體ST，由設(shè)置在底表面中的多個非接觸軸承(例如，空氣軸承(未示出))以抬起狀態(tài)支撐在基部構(gòu)件BS上；Z校平裝置38(參照圖24A)，設(shè)置在臺架體ST上；以及桌TB，由Z校平裝置38以三點支撐。如圖24B所示，Z校平裝置38包括三個Z驅(qū)動機構(gòu)38a、38b和38c，它們設(shè)置在不存在于臺架體ST的一條線上的三個點處，并且包括例如音圈馬達等。借助于Z校平裝置38，可以在Z軸方向、ΘΧ方向以及0y方向的三個自由度的方向上細微地驅(qū)動臺架體ST上的桌TB。臺架SST(臺架體ST)是在X軸方向(掃描方向)上由臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD在基部構(gòu)件BS上掃描驅(qū)動的，并且還在Y軸方向和θζ方向上被細微地驅(qū)動。臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD包括細微移動裝置(未示出)，在Y軸方向上細微地驅(qū)動臺架SST；以及粗略移動裝置30(參照圖四)，在掃描方向(X軸方向)上驅(qū)動細微移動裝置(未示出)。如圖24Β和沈所示，粗略移動裝置30包括設(shè)置在臺架SST的Y軸方向的一側(cè)和另一側(cè)的一對線性馬達SO1和302。一個線性馬達SO1包括固定部分，設(shè)置在基部構(gòu)件BS的-Y側(cè)并且在X軸方向上延伸；以及可移動部分32i，其附于固定部分以便沿長度方向可移動。另一線性馬達302包括固定部分312，設(shè)置在基部構(gòu)件BS的+Y側(cè)并且在X軸方向上延伸；以及可移動部分322，附于固定部分312以便沿長度方向可移動。固定部分和312中的每個包括沿X軸方向布置的多個磁體(或線圈)，并且可移動部分3和322中的每個包括線圈(或磁體)?？梢苿硬糠?和3通過細微移動裝置(未示出)分別固定到臺架體ST的-Y側(cè)表面和+Y側(cè)表面，該細微移動裝置在Y軸方向上細微地移動可移動部分3和322。另外，臺架體ST可以通過在線性馬達生成不同的推力而在θz方向上細微地被驅(qū)動。另外，取代粗略移動裝置30和細微移動裝置，可以通過使用如下類型的平面馬達來配置沿基部構(gòu)件BS的上表面(導向表面)二維地移動臺架SST的臺架驅(qū)24動系統(tǒng)在例如美國專利第5，196，745號的說明書中公開的洛倫茲電磁驅(qū)動類型的平面馬達、可變電磁阻抗驅(qū)動類型的平面馬達、磁懸浮類型的平面馬達等。桌TB由臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD(參照圖29)在基部構(gòu)件BS上驅(qū)動，臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD包括粗略移動裝置30、細微移動裝置(未示出)以及Z校平裝置38，以便具有在X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、ΘΧ方向、方向以及ΘΖ方向上的六個自由度。如圖24Α和24Β所示，片支持物SH1設(shè)置在桌TB的上表面的中心部分處，以便吸附并且支持片S。片支持物SH1基本上平行于XY平面，并且包括略大于布置在片S上的分開區(qū)域的矩形支持表面，從而在支持表面上平坦地支持片S。這里，為了吸附和支持片S，作為片支持物SH1，采用插銷夾頭支持物，其中，插銷的布置間隔(節(jié)距)充分小，并且插銷的高度低至例如大約200μm。另外，四個輔助片支持物SH2S置在桌TB的上表面上，以便在寬度方向(垂直于長度方向的Y軸方向)上吸附并支持片S的兩端的后表面。詳細地，片支持物SH1W士Y側(cè)設(shè)置有兩個輔助片支持物SH2,這兩個輔助片支持物較薄并且在X軸方向上較長且在X軸方向上距離彼此預定距離。輔助片支持物SH2中的每個包括矩形支持表面，并且可以由設(shè)置在桌TB中的支持物驅(qū)動裝置在Y軸方向和Z軸方向上細微地驅(qū)動。圖25A是示出設(shè)置在桌TB內(nèi)的支持物驅(qū)動裝置60的配置的平面視圖，并且圖25B是沿圖25A的線B-B得到的截面視圖。這里，作為示例，示出了支持物驅(qū)動裝置60，其驅(qū)動位于桌TB的+Y側(cè)端和+X側(cè)端處的輔助片支持物SH2。支持物驅(qū)動裝置60包括Y驅(qū)動單元，包括作為設(shè)置在中空部分內(nèi)的四接點鏈接機構(gòu)的一種類型的并行鏈接機構(gòu)61以及驅(qū)動并行鏈接機構(gòu)61(的驅(qū)動接點)的驅(qū)動機構(gòu)63，并且在Y軸方向上驅(qū)動輔助片支持物SH2，其中該中空部分設(shè)置在桌TB中；以及Z驅(qū)動單元(未示出)，包括例如支撐矩形基部60i并且在Z軸方向上細微地驅(qū)動矩形基部60i的驅(qū)動元件、音圈馬達等，矩形基部60i在桌TB的底表面上具有固定到其上表面的輔助片支持物SH2。基部GO1的一端(-X端)與位于并行鏈接機構(gòu)61的固定鏈接的相對側(cè)的鏈接(在下文中，方便地稱為并行移動鏈接)集成在一起。詳細地，并行鏈接機構(gòu)61包括一對振蕩鏈接644和645，其一端分別連接到固定到桌TB的中空部分的+X側(cè)壁的一對鏈接支撐構(gòu)件6和664，而另一端分別連接到上述并行移動鏈接的一端6和另一端666。在該情況下，鏈接支撐構(gòu)件6和664固定到桌TB，從而構(gòu)成固定鏈接。固定鏈接、振蕩鏈接644和645以及并行鏈接是相鄰的鏈接并且構(gòu)成了旋轉(zhuǎn)對。驅(qū)動機構(gòu)63包括致動器62，一端固定到桌TB的中空部分的側(cè)壁的一部分；L形桿鏈接61，一端(驅(qū)動點68。)以壓力與致動器62接觸，并且中間部分的支撐點6可旋轉(zhuǎn)地支撐到固定于桌TB的底部壁的固定器66i；以及可移動鏈接642，一端連接到桿鏈接61的另一端(動作點683)，而另一端連接到固定于上述并行移動鏈接的一部分的附連構(gòu)件667。桿鏈接61和可移動鏈接642構(gòu)成旋轉(zhuǎn)對，并且可移動鏈接642和附連構(gòu)件667構(gòu)成旋轉(zhuǎn)對。另外，附連構(gòu)件667連接到附連構(gòu)件662，附連構(gòu)件6通過彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643固定到桌TB的中空部分的-Y側(cè)壁的側(cè)壁的一部分。在該情況下，附連構(gòu)件667和彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643形成旋轉(zhuǎn)對，并且彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643和附連構(gòu)件6形成旋轉(zhuǎn)對。在具有上述配置的Y驅(qū)動單元中，桿鏈接61的一端(驅(qū)動點68。)通過彈簧構(gòu)件(拉伸彈簧)643不斷地被致動器62按壓和接觸。另外，當致動器62在以圖25A的白色箭頭描繪的方向(+X軸方向)上驅(qū)動桿鏈接64的一端(驅(qū)動點68。)同時抵抗彈簧構(gòu)件643的按壓和接觸力時，通過可移動鏈接642在以黑色箭頭描繪的方向(+Y軸方向)上驅(qū)動附連構(gòu)件667。即，在+Y軸方向上與基部6(^—起驅(qū)動輔助片支持物SH2。在該情況下，輔助片支持物SH2的移動量由致動器62產(chǎn)生的力來確定。另外，如上所述，由設(shè)置在基部60i以下的Z驅(qū)動單元在Z軸方向上與基部60i—起驅(qū)動輔助片支持物SH2。然而，在以下描述中，將描述基部60i在Z軸方向上驅(qū)動輔助片支持物SH2。S卩，基部60i被描述作為Z驅(qū)動單元。用于設(shè)置在桌TB的+X側(cè)端和-Y側(cè)端的輔助片支持物的驅(qū)動裝置具有與上述支持物驅(qū)動裝置60類似的配置，其中在X軸上是對稱的。桿鏈接61的力點68i與支撐點6之間的長度以及支撐點6與操作點6之間的長度是例如1至3。為此，當由支持物驅(qū)動裝置60(驅(qū)動機構(gòu)63)的致動器62在+X軸方向上在驅(qū)動點6驅(qū)動桿鏈接61的一端達10μm時，在-Y軸方向上驅(qū)動桿鏈接61的彎曲部分(力點68)達10μm，并且因而在+Y軸方向上驅(qū)動桿鏈接61的另一端(動作點683)達30μm。因此，可以通過使用支持物驅(qū)動裝置60(驅(qū)動機構(gòu)63)在+Y軸方向上驅(qū)動輔助片支持物達30μm。另外，在片S的Y軸方向上的兩端由設(shè)置在桌TB上同時在Y軸方向上遠離彼此的一對輔助片支持物SH2支持的狀態(tài)下，當在彼此相反的方向(移動遠離彼此的方向)上驅(qū)動輔助片支持物SH2時，可以最大將片S伸長60μm。用于設(shè)置在桌TB的+Y側(cè)、-Y側(cè)以及-X側(cè)的端的輔助片支持物SH2的驅(qū)動裝置具有與上述支持物驅(qū)動裝置60類似的配置，其中在Y軸上是對稱的。如以下所述，輔助片支持物SH2用于在片S由片支持物SH1平坦地支持時輔助片支持物SH115另外，在基部60i上的+Y端，矩形盤狀的定位構(gòu)件602固定到輔助片支持物SH2同時與其接觸。定位構(gòu)件602具有如下作用當片S由輔助片支持物SH2的支持表面吸附和支持時，通過按壓片S的+Y端(或-Y端)而在Y軸方向上定位片S。如圖24B所示，桌TB的+X側(cè)表面和-Y側(cè)表面經(jīng)受鏡子似的拋光以具有反射表面17X和17Y。反射表面17X和17Y用于通過使用稍后要描述的臺架干涉計系統(tǒng)來測量臺架SST的位置。另外，取代上述反射表面17Y,由平面鏡形成的移動鏡可以固定到桌TB。此外，取代反射表面17X，由反向反射器或平面鏡形成的移動鏡可以固定到桌TB。如圖沈所示，臺架干涉計系統(tǒng)18(參照圖29)包括干涉計ISX1USX2USYdnIOT2，并且不斷地測量臺架SST(桌TB)的XY平面內(nèi)的位置信息(包括θZ方向上的旋轉(zhuǎn)信息)，同時具有例如大約0.25nm至Inm的分辨率。干涉計18&、18以及ISY1UOT2設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL的+X側(cè)和-Y側(cè)，以面向桌TB的反射表面17X和17Y。干涉計18和18通過向桌TB的反射表面17X發(fā)出平行于X軸的長度測量束并且接收從反射表面17X反射的束來測量臺架SST的X位置。干涉計ISY1和IOT2通過向反射表面17Y發(fā)出平行于Y軸的兩個長度測量束并且接收從反射表面17Y反射的束來測量臺架SST的Y位置。這里，干涉計IOT2的兩個長度測量束之一沿著與垂直于光軸AXpAX3和AX5的Y軸平行的光路而被發(fā)射到反射表面17Y,而另一長度測量束沿著與垂直于光軸AX2和AX4的Y軸平行的光路而被發(fā)射到反射表面17Y。另外，干涉計ISY1的兩個光測量束沿平行于Y軸的兩個光路而被發(fā)射到反射表面17Y,Y軸穿過稍后要描述的對準系統(tǒng)AL11和AL12中的每個的檢測中心。臺架干涉計系統(tǒng)18(干涉計18&、18)(2、181和ISY2)的測量信息被供應到主控裝置50(參照圖四)。另外，當臺架SST位于基部構(gòu)件BS上時，干涉計ISY1和IOT2的長度測量束中的至少一個被發(fā)射到臺架SST的反射表面17Y，而與其X位置無關(guān)。因此，主控裝置50根據(jù)臺架SST的X位置而使用干涉計ISY1和IOT2的任一測量信息。另外，主控裝置50基于干涉計18和18的測量信息而測量臺架SST的θζ方向上的旋轉(zhuǎn)。另外，作為干涉計18&、18)(2、181和18，可以使用多軸干涉計，該多軸干涉計發(fā)出在Z軸方向上遠離彼此的多個長度測量束。在該情況下，除了臺架SST(桌TB)的XY平面內(nèi)的位置信息(旋轉(zhuǎn)信息(包括偏擺量(θζ方向上的旋轉(zhuǎn)量θζ)))之外，主控裝置50可以獲得相對于XY平面的傾斜信息(俯仰量(θχ方向上的旋轉(zhuǎn)量θχ)和滾動量(θy方向上的旋轉(zhuǎn)量9y))。如圖21和沈所示，片運輸系統(tǒng)40包括跨越投影光學系統(tǒng)PL在X軸方向上布置的四個運輸輥部分41至44以及夾持部分45。如圖27A至27G所示，運輸輥部分41、42、43和44中的每個包括位于上部位置和下部位置的一對壓力輥和驅(qū)動輥。在位于下部位置的驅(qū)動輥412、4&、4\和442中，其兩端由支撐構(gòu)件(未示出)可旋轉(zhuǎn)地支撐，以使得其上端略微位于臺架SST(參照圖21)的上表面(片支持物SH1的支持表面)的上部位置(+Z側(cè))。驅(qū)動輥412、似2、4\和442由旋轉(zhuǎn)馬達(未示出)可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。位于上部位置的壓力輥JZ1JS1和41由相應驅(qū)動輥通過彈簧機構(gòu)(未示出)從上側(cè)(+Z側(cè))按壓和接觸。然而，如圖27B所示，通過采用運輸輥部分41，壓力輥41工和驅(qū)動輥412被形成為階梯狀圓柱輥，其在長度方向上除兩端之外的部分的直徑小于兩端的直徑。為此，在運輸輥部分41、42、43和44的每個中，如圖27B所示，通過采用代表性運輸輥部分41，片S由壓力輥Gl1)與驅(qū)動輥Gl2)的兩端夾住，以使得輥不與圖案形成在片S的表面上的分開區(qū)域接觸。在運輸輥部分41、42、43和44的每個中，可以設(shè)置片S可以夾在壓力輥Gl1)與驅(qū)動輥Gl2)之間的第一狀態(tài)以及如下第二狀態(tài)其中，夾著片S的操作可以通過將壓力輥Gl1)與驅(qū)動輥Gl2)分開同時抵抗彈簧機構(gòu)的按壓力來釋放。在運輸輥部分41、42、43和44的每個中，通過主控裝置50來執(zhí)行第一狀態(tài)與第二狀態(tài)的選擇。另夕卜，與片S的后表面接觸的驅(qū)動輥可以是具有均勻直徑的圓柱輥。驅(qū)動輥412、422、4\和442的旋轉(zhuǎn)和停止由主控裝置50以及輥40:和402來控制。如圖27B所示，通過采用代表性的運輸輥部分41，當在運輸輥部分的第一狀態(tài)下驅(qū)動輥Gl2)圍繞平行于Y軸的軸旋轉(zhuǎn)(并且壓力輥M1在相反的方向上旋轉(zhuǎn))時，片S在旋轉(zhuǎn)方向上被運輸。在片運輸系統(tǒng)40中，如圖27C所示，運輸輥部分41的輥M1和412在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)，以使得片S在以白色箭頭描繪的-X軸方向上從輥40i抽出并且向運輸輥部分42運輸。這里，當運輸輥部分42的輥4和4的旋轉(zhuǎn)在預定定時停止時，具有預定長度(與運輸輥部分42與43之間的距離對應的程度)的片S在運輸輥部分41與42之間以環(huán)狀彎曲。另外，在片運輸系統(tǒng)40中，如圖27D所示，在運輸輥部分41的輥每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分42的輥422(以及運輸輥部分43的輥43i和432)在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)，以使得以環(huán)狀彎曲的片S在以白色箭頭描繪的-X軸方向上朝向投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域而運輸。在片運輸系統(tǒng)40中，如上所述，片S借助于運輸輥部分43和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)和停止而從投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域被抽出。S卩，如圖27E所示，當在運輸輥部分44的輥41和442中的每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥43的輥43i和4中的每個在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)時，片S被抽出到投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域，并且所抽取的片S在運輸輥部分43與44之間以環(huán)狀彎曲。然后，如圖27F所示，當在運輸輥部分43的輥43i和4中的每個的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分44的輥41和442中的每個僅在以箭頭描繪的方向上旋轉(zhuǎn)時，以環(huán)狀彎曲的片S被運輸?shù)竭\輸輥部分44的-X側(cè)，并且纏繞在纏繞輥402上。如圖27A等所示，夾持部分45設(shè)置在運輸輥部分42的-X側(cè)。夾持部分45包括一對夾持構(gòu)件45i和452，其能夠設(shè)置片S夾在上/下方向上的第一狀態(tài)以及釋放夾操作的第二狀態(tài)。上部夾持構(gòu)件451包括圓柱輥46a，具有略長于片S的寬度的長度并且沿Y軸方向設(shè)置；以及一對臂構(gòu)件46b，可旋轉(zhuǎn)地支撐輥46a的兩端。這對臂構(gòu)件46b由支撐構(gòu)件(未示出)支撐，以可圍繞平行于Y軸的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。另外，輥46a附連到這對臂構(gòu)件46b的旋轉(zhuǎn)端。因此，當夾持構(gòu)件45i在順時針方向上圍繞這對臂構(gòu)件46b的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時，輥46a與片S的表面接觸(參照圖27G)。當夾持構(gòu)件在逆時針方向上圍繞這對臂構(gòu)件46b的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時，輥46移動遠離片S。下部夾持構(gòu)件4在上/下方向上與夾持構(gòu)件45ι對稱，并具有類似的配置。由主控裝置50執(zhí)行夾持部分45的狀態(tài)轉(zhuǎn)變。在片運輸系統(tǒng)40中，如圖27G所示，夾持部分45的一對夾持構(gòu)件45i和4被設(shè)置為第一狀態(tài)，以使得片S由這對夾持構(gòu)件45i和4來限制(固定)。另外，當在運輸輥部分41和42的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，運輸輥部分43的各個輥在在運輸片S的方向上旋轉(zhuǎn)時，預定張力在X軸方向上被施加到片S的運輸輥部分43與夾持部分45之間的部分，并且片S被伸長。這里，如圖27A所示，主控裝置50限制(固定)片S，以使得輥46a不與圖案形成在片S的表面上的分開區(qū)域部分接觸，即，夾持部分45的一對夾持構(gòu)件45i和4的輥46a與片S的相鄰的分開區(qū)域之間的區(qū)域接觸。以此方式伸長的片S由臺架SST上的片支持物SH1吸附并支持。片運輸系統(tǒng)40還包括測量片S的運輸量的測量裝置(未示出)，例如，測量驅(qū)動輥412>422,432和442中的每個的旋轉(zhuǎn)量的旋轉(zhuǎn)編碼器等。另外，稍后將詳細描述在曝光處理期間使用片運輸系統(tǒng)40運輸片S的操作、將片S支持在臺架SST上的操作等。此外，在實施例的曝光裝置1000中，多個(此處為十二個)離軸型對準系統(tǒng)AL1至AL12被設(shè)置以檢測附于片S上的分開區(qū)域的對準標記。如圖沈所示，對準系統(tǒng)41^至41^沿X軸被設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL的+X側(cè)的位置處，以面向在片S上的分開區(qū)域外的+Y側(cè)端的區(qū)域。另外，如圖沈所示，對準系統(tǒng)AL7至AL12被設(shè)置成相對于與投影區(qū)域IA3的光軸垂直的X軸與對準系統(tǒng)AL1至AL6對稱。對準系統(tǒng)AL7至AL12可以被設(shè)置成面向片S上的各個分開區(qū)域的外部的-Y側(cè)端的區(qū)域。在實施例中，作為示例，如圖28所示，六個對準標記AM(總共有十二個)設(shè)置在片S的各個分開區(qū)域SAi的Y軸方向外的各個區(qū)域中，并且對準系統(tǒng)AL1至AL12被設(shè)置成單獨地并且同時地檢測十二個對準標記AM。因此，本發(fā)明不限于此，并且當對準系統(tǒng)在X軸方向上可移動時，可以取代對準系統(tǒng)AL1至AL6設(shè)置至少一個對準系統(tǒng)，并且可以取代對準系統(tǒng)AL7至AL12設(shè)置至少一個對準系統(tǒng)。作為對準系統(tǒng)々!^至々、，采用示例性圖像處理型FIA(場圖像對準)系統(tǒng)。對準系統(tǒng)AL1至AL12的檢測結(jié)果(索引標記和檢測目標標記的圖像信息)通過對準信號處理系統(tǒng)(未示出)被傳送到主控裝置50。另外，本發(fā)明不限于FIA?？梢詥为毜厥褂没蛘哌m當?shù)亟M合對準傳感器，該對準傳感器向目標標記發(fā)出相干檢測光，并且檢測從目標標記生成的散射光或折射光或者檢測通過干涉而從目標標記生成的兩個折射光束(例如，同一均質(zhì)數(shù))。圖四是示出主控裝置50的輸入/輸出關(guān)系的框圖，主控裝置50—般控制曝光裝置1000的控制系統(tǒng)的組成部分。接下來，將參照圖30至38描述使用實施例的曝光裝置1000中的臺架SST對片S的曝光操作的序列。另外，參照多幅圖來描述操作，但是對于各幅圖，附圖標記可以給予或者可以不給予每幅圖相同的組成部分。即，各幅圖中的附圖標記的標記存在差別，但是配置是相同的而與附圖的附圖標記的標記無關(guān)。這同樣適用于已用于描述的附圖。圖30示出了如下狀態(tài)完成了布置在片S上的多個分開區(qū)域當中的前(i-Ι)個分開區(qū)域SA1至SAp1的曝光，并且要開始隨后的分開區(qū)域SAi的曝光。在圖30的狀態(tài)下，在分開區(qū)域SAi的曝光期間用于片S的移動的臺架SST保持在基部構(gòu)件BS上的+X端的位置(備用位置)處。另外，由于一般在開始片S上的第一分開區(qū)域SA1的曝光之前執(zhí)行掩膜臺架MST上的掩膜M的加載和掩膜對準(掩膜的定位操作)，因此在圖30的狀態(tài)下，掩膜M的加載和掩膜對準當然完成。另外，假設(shè)掩膜臺架MST被移動到掃描開始位置(加速開始位置)以用于分開區(qū)域SAiW曝光。p.首先，根據(jù)以下序列pi至p4將包括分開區(qū)域SAi的片S的中心部分支持在臺架SST上。pi.詳細地，例如，如以上參照圖27C描述的，主控裝置50停止片運輸系統(tǒng)40的運輸輥部分42的各個輥的旋轉(zhuǎn)并且然后旋轉(zhuǎn)運輸輥部分41的各個輥，以從輥40i抽出片S。替選地，主控裝置50停止運輸輥部分43和41的各個輥的旋轉(zhuǎn)，并且然后相反地旋轉(zhuǎn)運輸輥部分42，以將片S抽回到投影光學系統(tǒng)PL正下方的區(qū)域。無論如何，具有預定長度的片S在運輸輥部分41與42之間以環(huán)狀彎曲。預定長度與是運輸輥部分42與43之間的距離對應的長度。p2.接下來，主控裝置50基于從臺架干涉計系統(tǒng)ISG^C1USX2USY1和獲得的臺架SST的位置信息而控制片運輸系統(tǒng)40，以便將片S上的分開區(qū)域SAi定位到臺架SST的片支持物SH1(的支持表面)上。這里，如以上參照圖27G描述的，在運輸輥部分41、42和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，主控裝置50通過使用夾持部分45夾住片S的分開區(qū)域SAi+1與SAi+2之間的部分來限制(固定)片S，并且旋轉(zhuǎn)運輸輥部分43的各個輥，以使得片S在X軸方向上施加有預定張力，以在夾持部分45與運輸輥部分43之間伸長。主控裝置50還細微地驅(qū)動臺架SST以將片支持物SH1(的支持表面)定位到片S上的分開區(qū)域SAitl另外，在該狀態(tài)下，在片S與臺架SST的片支持物SH1(的支持表面)之間形成細微間隔。在片S相對于臺架SST被定位在備用位置的狀態(tài)下，附于分開區(qū)域SAi的對準標記AM被定位在對準系統(tǒng)AL1至AL12中的每個的檢測視場內(nèi)。p3.在定位操作之后，主控裝置50通過基部6(^在+Z軸方向上細微地驅(qū)動桌TB上的四個輔助片支持物SH2,同時通過臺架驅(qū)動系統(tǒng)SSD(Z校平裝置38)水平地支持臺架SST的桌TB，以使得由四個輔助片支持物SH2來吸附和支持片S的分開區(qū)域SAi的士Y側(cè)的外部部分的后表面。詳細地，如圖31所示，主控裝置50在以白色箭頭描繪的方向(+Y軸方向或-Y軸方向)上細微地驅(qū)動分別設(shè)置在桌TB上的+Y側(cè)端和-Y側(cè)端的兩個輔助片支持物SH2,以便加寬在桌TB上在Y軸方向上遠離彼此的輔助片支持物SH2之間的距離。另外，主控裝置50通過基部60i在+Z軸方向上驅(qū)動各個輔助片支持物SH2,以使得片S的Y軸方向上的兩端的后表面與四個輔助片支持物S4的支持表面接觸。在接觸之后，主控裝置50在以黑色箭頭描繪的-Y軸方向上細微地驅(qū)動+Y側(cè)的兩個輔助片支持物SH2以相對于片S的+Y端牢固地按壓定位構(gòu)件602，并且在以黑色箭頭描繪的+Y軸方向上細微地驅(qū)動-Y側(cè)的兩個輔助片支持物SH2以相對于片S的-Y端牢固地按壓定位構(gòu)件602，從而定位片S。在定位操作之后，主控裝置50使得四個輔助片支持物SH2吸附并支持片S的Y軸方向上的兩端的后表面。圖32示出了片S暫時由輔助片支持物SH2支持的狀態(tài)。p4.在片S的暫時支持操作之后，在片S暫時被支持為使得片S的包括分開區(qū)域SAi的中心部分的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸的狀態(tài)下，主控裝置50通過基部BO1在-Z軸方向上細微地驅(qū)動四個輔助片支持物中的每個。然后，主控裝置50定位四個輔助片支持物SH2中的每個的支持表面，以位于片支持物SH1的支持表面的略微較低的側(cè)(-Z側(cè))。因此，在至少Y軸方向上將適當?shù)膹埩κ┘拥狡琒，以使得片S的中心部分固定到片支持物SH1的支持表面。在該狀態(tài)下，如圖32所示，主控裝置50將片S吸附并支持到片支持物SH1上。因此，片S的包括分開區(qū)域SAi的中心部分被平坦地支持到臺架SST上以與XY平面平行。q.接下來，根據(jù)以下序列ql至q5執(zhí)行對于片S的對準測量。ql.如上所述，在臺架SST被定位至備用位置的狀態(tài)下，附于分開區(qū)域SAi的對準標記被定位在對準系統(tǒng)AL1至AL12中的每個的檢測視場內(nèi)。這里，如圖33所示，主控裝置50通過使用對準系統(tǒng)AL1至AL12來檢測附于片S上的分開區(qū)域SAi的對準標記(基于索引中心測量對準標記的位置)。另外，主控裝置50基于對準標記的檢測結(jié)果和通過檢測從臺架干涉計系統(tǒng)18獲得的臺架SST的位置信息，獲得十二個對準標記在XY坐標上的位置坐標。q2.接下來，主控裝置50基于所獲得的十二個對準標記的位置坐標，確定具有片S的圖案的分開區(qū)域SAi內(nèi)的Y軸方向上的收縮量是否在預定范圍內(nèi)。q3.然后，結(jié)果，例如，當確定在分開區(qū)域SAi內(nèi)的至少一部分中發(fā)生超過預定范圍的Y軸方向上的收縮時，釋放使用片支持物SH1吸附并支持片S的操作，并且在+Z軸方向上通過基部60i驅(qū)動輔助片支持物SH2,以便將片S的后表面與片支持物SH1的支持表面分開。這里，例如，當確定分開區(qū)域SAi內(nèi)的-X端收縮超過Y軸方向上的預定范圍時，如圖34所示，在移動遠離彼此的方向(以圖34的白色箭頭描繪)上驅(qū)動桌TB的-X側(cè)的兩個輔助片支持物SH2,以便進一步在Y軸方向上將張力施加到片S的分開區(qū)域SAi的-X側(cè)端，并且校正(調(diào)整)圖案的失真。在調(diào)整之后，主控裝置50在-Z軸方向上通過基部60i驅(qū)動輔助片支持物中的每個，以使得片S的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸以再次吸附并支持到其上。q4.然后，主控裝置50通過使用對準系統(tǒng)AL1至AL12來檢測附于片S上的分開區(qū)域SAi的對準標記，并且基于檢測結(jié)果和通過檢測而從臺架干涉計系統(tǒng)18獲得的臺架SST的位置信息，再次獲得十二個對準標記在XY坐標上的位置坐標。q5.然后，主控裝置50通過使用十二個對準標記的位置坐標的全部或一部分，執(zhí)行預定的最小二乘計算，并且獲得失真，即，形成在片S的分開區(qū)域SAi上的圖案的XY位移、旋轉(zhuǎn)、XY縮放以及垂直度。這里，當如q2的檢測結(jié)果一樣，確定分開區(qū)域SAi內(nèi)的一部分沒有發(fā)生在Y軸方向上超過預定比率的收縮時，主控裝置50跳過q3和q4的處理并且執(zhí)行q5的處理。隨后，主控裝置50使用夾持部45釋放固定片S的操作。另外，當對準系統(tǒng)的數(shù)量小于要檢測的對準標記的數(shù)量時，需要在在X軸方向上逐步地移動支持片S的臺架SST的同時執(zhí)行對準測量。此時，主控裝置50根據(jù)臺架SST的移動而控制片運輸系統(tǒng)40的各個驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)和停止。r.接下來，執(zhí)行對片S上的分開區(qū)域SAi的掃描曝光。rl.詳細地，主控裝置50基于對準測量的結(jié)果(并且特別地，基于XY位移)而將支持片S的臺架SST移動到曝光的掃描開始位置(加速開始位置)，以相對于支持掩膜M的掩膜臺架MST執(zhí)行定位操作。這里，在實施例中，由于臺架SST的加速開始位置被設(shè)置為與上述備用位置相同的位置(或其附近)，因此對臺架SST在XY平面內(nèi)的位置執(zhí)行細微調(diào)整。r2.接下來，主控裝置50在掃描方向(_X軸方向)上開始臺架SST的加速。因此，開始臺架SST在-X軸方向上的移動。在移動期間，并且特別地在臺架SST的加速結(jié)束之前，如圖35所示，來自干涉計IOT2的長度測量束開始與反射表面17Y碰撞。因此，緊挨在長度測量束的碰撞之后，主控裝置50將用于測量臺架SST的Y位置的激光干涉計從干涉計ISY1改變?yōu)楦缮嬗?OT2。r3.然后，當兩個臺架SST和MST的加速操作結(jié)束時并且兩個臺架SST和MST的加速操作以均勻速度同步時，開始以照射光IL2和IL4照射掩膜M上的圖案區(qū)域，從而開始曝光。然后，根據(jù)兩個臺架SST和MST的具有均勻速度的同步移動，如圖36所示，以照射光IL1至IL5照射掩膜M上的照射區(qū)域IAM1至IAM5(參照圖22)，并且通過投影光學系統(tǒng)PL1至PL5(參照圖23)將照射區(qū)域IAM1至IAM5內(nèi)的圖案的部分圖像投射到支持在臺架SST上的片S上的投影區(qū)域IA1至1八5。當以照射光IL1至IL5照射掩膜M的圖案區(qū)域的整個區(qū)域時，即，當掩膜M的圖案區(qū)域穿過照射區(qū)域IAM1至IAM5時，分開區(qū)域SAi的掃描曝光完成。因此，掩膜M的圖案轉(zhuǎn)印到分開區(qū)域SAitlS卩，在形成在片S的表面上的抗蝕劑層上形成掩膜M的圖案的潛像。在掃描曝光期間，主控裝置50在Z軸方向上驅(qū)動臺架SST的桌TB，同時水平維持桌，以使得支持在桌TB(片支持物SH1)上的片S的表面被定位至投影光學系統(tǒng)PL的焦點位置(焦點深度內(nèi))。另外，在掃描曝光期間，主控裝置50基于對準測量的結(jié)果控制臺架SST和掩膜臺架MST的同步驅(qū)動狀態(tài)(相對位置和相對速度)，以便校正投射到片S上的圖案的整個圖像的失真。此外，主控裝置50通過透鏡控制器LC控制構(gòu)成投影光學系統(tǒng)PL1至PL5的光學元件組(透鏡組)的驅(qū)動狀態(tài)，以校正投射到片S上的投影區(qū)域IA1至IA5上的圖案的部分圖像的失真。因此，掩膜M的圖案的投影圖像高度精確地與形成在分開區(qū)域SAi內(nèi)的圖案重疊。在完成分開區(qū)域SAi的掃描曝光之后，對兩個臺架SST和MST減速。如圖37所示，當它們到達掃描結(jié)束位置(減速結(jié)束位置)時，它們停止。另外，在實施例中，掃描操作期間的臺架SST的減速結(jié)束位置被確定為與基部構(gòu)件BS的-X端對準。另外，當主控裝置50在掃描曝光期間在-X軸方向上驅(qū)動支持片S的臺架SST時，如上所述，主控裝置根據(jù)臺架SST的移動適當?shù)匦D(zhuǎn)或停止片運輸系統(tǒng)40的各個驅(qū)動輥，以使得臺架SST的移動不被施加到片S的張力干擾。s.如圖37所示，當臺架SST停止在作為基部構(gòu)件BS前方的減速結(jié)束位置的-X端時，主控裝置50釋放使用片支持物SH1和片支持物SH2吸附并支持片S的操作，以便從臺架SST釋放片S。此外，主控裝置50向下(在-Z軸方向上)撤回臺架SST的桌TB。因此，片S在運輸輥部分42與43之間伸長，其中相對于臺架SST的片支持物SH1具有細微間隔。t.在釋放片S之后，如圖38所示，主控裝置50在以黑色箭頭描繪的+X軸方向上驅(qū)動片臺架SST，以返回到基部構(gòu)件BS的+X端的上述備用位置。這里，根據(jù)片臺架SST的X位置，用于測量Y位置的干涉計從干涉計IOT2改變?yōu)楦缮嬗?8Yi。另外，主控裝置50驅(qū)動掩膜臺架MST以高速返回到掃描開始位置(加速開始位置)。此外，除了驅(qū)動臺架的操作之外，主控裝置50在以如圖38所示的白色箭頭描繪的+X軸方向上拉回片S。u.臺架SST和掩膜臺架MST的返回驅(qū)動操作以及拉回片S的操作完成，如圖39所示，臺架SST保持在備用位置，并且片S的包括隨后的分開區(qū)域SAi+1的中心部分被定位至保持在備用位置的臺架SST的表面。該狀態(tài)與圖30所示的狀態(tài)相同，除了運輸了片S的一個分開區(qū)域之外。隨后，如在之前的情況下一樣，主控裝置50開始分開區(qū)域SAi+1的曝光。隨后，以相同方式，主控裝置50重復上述序列ρ至u，以對片S上的所有分開區(qū)域執(zhí)行曝光。如以上詳細描述的，在運輸輥部分41、42和44的各個輥的旋轉(zhuǎn)停止的狀態(tài)下，主控裝置50通過使用片運輸系統(tǒng)40的夾持部分45夾住片S的分開區(qū)域SAi+1與SAi+2之間的部分來限制(固定)片S并且旋轉(zhuǎn)運輸輥部分43的各個輥，以使得預定張力在X軸方向上被施加到片S，以在夾持部分45與運輸輥部分43之間伸長。然后，在片S暫時由四個輔助片支持物支持之后，主控裝置50在-Z方向上細微地驅(qū)動暫時支持片S的四個輔助片支持物SH2,以使得片S的包括分開區(qū)域SAi的中心部分的后表面與片支持物SH1的支持表面接觸。然后，主控裝置50將四個輔助片支持物的支持表面定位在片支持物SH1的支持表面的略微較低的側(cè)(-Z側(cè))，以使得適當?shù)膹埩υ趯挾确较?Y軸方向)上被施加到片S，并且片S的中心部分被固定到片支持物SH1的支持表面。S卩，在XY二維張力被施加到片S的分開區(qū)域SAi的狀態(tài)下，與片S的分開區(qū)域SAi對應的后表面部分根據(jù)片支持物SH1的支持表面的平坦形狀而改變。然后，照射系統(tǒng)IOP通過掩膜M的圖案將照射光IL1至IL5照射到平坦化的片S的分開區(qū)域SAi,以對片S執(zhí)行掃描曝光，并在其上形成圖案。因此，即使在由于例如在工藝處理期間生成的熱而變得收縮的片S的情況下，也可以以高精度執(zhí)行曝光。因此，可以有助于制造諸如柔性大型顯示器的電子裝置而不增加裝置的尺寸。另外，在上述實施例的曝光裝置1000中，通過使用在Y軸方向上遠離彼此并且沿X軸方向布置的對準系統(tǒng)AL1至AL12來執(zhí)行片S的對準測量。然而，本發(fā)明不限于此。例如，對準標記可以以其之間有預定間隔而設(shè)置在片S上的分開區(qū)域SAi的外圍中，對準系統(tǒng)可以根據(jù)如圖40所示的對準標記的布置而被設(shè)置成對應于分開區(qū)域SAi的外圍部分，并且可以同時檢測所有對準標記。在該情況下，當基于對準標記的測量結(jié)果檢測到分開區(qū)域SAi在X軸方向上減小時，可以以如下方式調(diào)整分開區(qū)域的X軸方向上的縮放誤差主控裝置50通過使用夾持部分45和運輸輥部分43在X軸方向上向片S施加張力。此外，在上述實施例中，例示了如下情況其中，在多個分開區(qū)域中形成有圖案的片S被設(shè)置為曝光目標，并且通過曝光裝置100、1000執(zhí)行第二層曝光，但是本發(fā)明不限于此。當然，可以通過將未曝光的片S設(shè)置為曝光目標，由曝光裝置100、1000來執(zhí)行第一曝光。此外，在上述實施例中，描述了如下情況在-X軸方向上掃描驅(qū)動臺架SST和掩膜臺架MST，以對片S執(zhí)行掃描曝光(稱為負掃描曝光(minusscanexposure))。然而，除了該情況之外，可以采用如下配置其中，在+X軸方向上掃描驅(qū)動臺架SST和掩膜臺架MST，以對片S執(zhí)行掃描曝光(正掃描曝光(plusscanexposure))。然后，可以交替重復負掃描曝光和正掃描曝光，以對片S上的多個分開區(qū)域SA^SAk,SAk+1、...執(zhí)行曝光。利用這樣的配置，不需要重繞掩膜臺架MST和臺架SST。在該情況下，期望進一步在運輸輥部分43和44的+X側(cè)設(shè)置夾持部，以在基部構(gòu)件BS上的-X端將片S支持在臺架SST上。另外，期望將對準系統(tǒng)設(shè)置在投影光學系統(tǒng)PL的-X側(cè)。此外，在上述實施例中，采用僅使用一個臺架SST的配置，但是可以采用如下配置其中，通過使用兩個或更多個臺架順序地吸附并支持片的曝光目標的分開區(qū)域的后表面。在該情況下，在臺架中，臺架裝置SS可以被配置成沿包括基部構(gòu)件上的掃描曝光部的閉合路徑而運行。因此，在完成一個分開區(qū)域的曝光之后，可以將所使用的臺架撤回曝光部之外的位置，并且可以使用另一臺架迅速地開始下一分開區(qū)域的曝光。另外，可以采用如下配置通過使用多個臺架使多個片同時經(jīng)受曝光。此外，在上述實施例的曝光裝置中，輔助片支持物設(shè)置在臺架(桌)的上表面上，以在Z軸方向上細微地被驅(qū)動。然而，取代該配置或除該配置之外，片支持物可以被適配成在Z軸方向上細微地可移動。因此，暫時支持片的輔助片支持物和片支持物在Z軸方向上相對地移動，以將片附于臺架(片支持物)或?qū)⑵c臺架(片支持物)分開。另外，在上述實施例中，包括在片運輸系統(tǒng)40中的運輸輥部分可以被適配成在Z軸方向上提升。因此，其上的片被伸長的運輸輥部分可以被提升，以將片附于臺架(片支持物)或?qū)⑵c臺架(片支持物)分開。此外，在上述實施例中，例示了臺架SST相對于穿過中心的Y軸不對稱的情況，但是本發(fā)明不限于此。當然，可以使用相對于穿過中心的X軸和Y軸對稱的臺架。在該情況下，由于不可以緊挨在完成掃描曝光之后使用干涉計IOT2來測量臺架的位置，因此期望提33供用于測量其Y位置的測量裝置。此外，在上述實施例中，干涉計系統(tǒng)18被采用作為臺架SST的位置測量系統(tǒng)，但是取代干涉計系統(tǒng)，可以采用編碼器(或者包括多個編碼器的編碼器系統(tǒng))。替選地，可以同時使用干涉計系統(tǒng)18和編碼器。另外，采用干涉計系統(tǒng)作為掩膜臺架的位置測量系統(tǒng)，但是取代干涉計系統(tǒng)，可以采用編碼器(或者包括多個編碼器的編碼器系統(tǒng))。替選地，可以同時使用干涉計系統(tǒng)和編碼器。此外，在上述實施例的曝光裝置100、1000中，使用同一放大率的多透鏡型投影光學系統(tǒng)，但是本發(fā)明不限于此。例如，可以使用美國專利申請公布第2008/0165334號的說明書等中公開的放大多透鏡型投影光學系統(tǒng)。另外，當然，投影光學系統(tǒng)不限于多透鏡型。此外，投影光學系統(tǒng)不限于同一放大率的系統(tǒng)和放大系統(tǒng)，而是可以是縮小系統(tǒng)。投影光學系統(tǒng)不限于反射-折射系統(tǒng)，而是可以是折射系統(tǒng)和反射系統(tǒng)。投影圖像可以是直立圖像或反轉(zhuǎn)圖像中的任一個。另外，作為曝光裝置100、1000的光源，除了用于發(fā)出發(fā)射譜線(諸如線i(具有365nm的波長)、線g(具有436nm的波長)或線h(具有405nm的波長))的超高壓汞燈之夕卜，可以使用固態(tài)激光器(例如，YAG激光的三次諧波355nm的波長)、KrF準分子激光器048nm)、ArF準分子激光器(193nm)以及F2激光器(157nm)。此外，在上述實施例中，例示了如下情況其中，使用具有形成在透光型基板上的預定光遮蔽圖案(或相圖案/調(diào)光圖案(dimmingpattern))的透光型掩膜，并且通過投影光學系統(tǒng)將掩膜的圖案投射到片上。然而，本發(fā)明不限于此。通過取代掩膜使用SLM(空間光調(diào)制器)作為用于空間調(diào)制在預定方向上行進的光的幅度(強度)、相位或偏振狀態(tài)的元件，例如，反射型空間光調(diào)制器，即，非發(fā)光型圖像顯示元件，例如，DMD(數(shù)字微鏡裝置)、反射型液晶顯示元件、EPD(電泳顯示器)、電子紙(電子墨水)、光柵光閥等，可以使用用于基于圖案的電子數(shù)據(jù)形成透射圖案、反射圖案或光發(fā)射圖案的電子掩膜(稱為可變模制掩膜、有源掩膜或圖像生成器)。這樣的電子掩膜公開在例如美國專利第6，778，257號的說明書中。另外，可以使用如下電子掩膜其使用透射型空間調(diào)制器，諸如IXD(液晶顯示器)和E⑶(電致變色顯示器)。例如，在使用諸如DMD的電子掩膜的情況下，通過投影光學系統(tǒng)將與要在片材料上形成的圖案對應的能量束從電子掩膜投射到片材料上，并且在片材料上形成對應于該圖案的圖像。在該情況下，當不使用投影光學系統(tǒng)時，通過電子掩膜將對應于圖案的能量束照射到片上，并且在片上形成圖案。曝光裝置不限于用于液晶顯示元件的曝光裝置。例如，曝光裝置可以廣泛地應用于用于制造柔性顯示器(如有機EL顯示器元件、電子紙、印刷互連基板等)的曝光裝置。另外，用于在片上形成圖案的裝置不限于上述曝光裝置(光刻系統(tǒng))，而是例如，本發(fā)明可以應用于用于通過噴墨方法在片上形成圖案的裝置。在該情況下，取代沿Y軸方向布置多個投影光學系統(tǒng)PL1至PL5,可以沿Y軸方向布置多個噴墨頭(或一個大的噴墨頭)。<裝置制造方法>通過使用上述實施例的曝光裝置在片上形成預定圖案，可以制造液晶顯示器元件作為電子裝置的示例。[圖案形成處理]首先，通過使用上述實施例的曝光裝置，執(zhí)行所謂的光學光刻處理，其中，通過投影光學系統(tǒng)在涂覆有抗蝕劑的片上順序地形成與要在片上形成的圖案對應的圖像。借助于光學光刻處理，在片上形成包括多個電極的預定圖案。隨后，使曝光后的片經(jīng)受各個處理，諸如顯影處理、蝕刻處理以及抗蝕劑分離處理，以在片上形成預定圖案。[濾色器形成處理]接下來，形成具有多個與在其上以矩陣形狀布置的R(紅色)、G(綠色)和B(藍色)對應的三組點的濾色器或具有多個在水平掃描方向上布置的R、G和B的三對條紋的濾色器。[單元裝配處理]在濾色器形成處理之后，執(zhí)行單元裝配處理，其中，通過使用具有在圖案形成處理中獲得的預定圖案的片和在濾色器形成處理中獲得的濾色器來裝配液晶單元。在單元裝配處理中，例如，通過在具有在圖案形成處理中獲得的預定圖案的片和在濾色器形成處理中獲得的濾色器之間注入液晶來制造液晶面板(液體單元)。[模塊裝配處理]隨后，安裝諸如用于執(zhí)行裝配的液晶單元的顯示操作的電子電路和背光的部件，以完成為液晶顯示器元件。因此，在制造微裝置的方法的圖案形成處理中，可以高度精確地在期望位置形成具有期望線寬的圖案圖像，并且因此可以以高產(chǎn)量制造液晶顯示器元件。另外，上述實施例的曝光裝置和曝光方法適合于制造柔性電子裝置(微裝置)和柔性顯示器。例如，在第一實施例中，可以以如下方式配置用于制造電子裝置的制造線使得用于在片S的表面上涂覆抗蝕劑的抗蝕劑涂覆裝置設(shè)置在輥40i與曝光裝置100、1000之間，并且用于對其上形成有圖案的片S進行顯影的顯影裝置在片的長度方向上設(shè)置在曝光裝置100、1000與纏繞輥402之間。此外，一般地，可以以如下方式制造包括片S的至少一部分的電子裝置使得使用上述實施例的曝光裝置和曝光方法在片S上形成圖案，并且基于該圖案對其上形成有圖案的片S進行處理。這里，在基于所形成的圖案的片S的處理中，可以適當?shù)貞没谒纬傻膱D案對片S進行顯影、蝕刻或印刷的處理。另外，作為印刷處理，例如，可以基于所形成的圖案在片S上涂覆諸如導電墨水的預定材料。此外，作為印刷處理，預先在片S上形成功能材料(例如，具有由于UV光的照射而可變的特性(諸如防水特性、親水特性或疏水特性)的材料)的層，在功能材料的層上形成曝光圖案，并且根據(jù)所形成的曝光圖案在片S上涂覆諸如導電墨水的材料。根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置和曝光方法適合于在拉長的片上形成圖案。另外，根據(jù)本發(fā)明的裝置制造方法適合于制造電子裝置(微裝置)。權(quán)利要求1.一種圖案形成裝置，用于在拉長片材料的預定區(qū)域中形成預定圖案，所述圖案形成裝置包括張力施加裝置，將二維張力施加到包括所述片材料的所述預定區(qū)域的部分；吸附裝置，包括具有平坦參考表面的參考表面構(gòu)件，并且使得所述參考表面吸附與施加有所述二維張力的所述片材料的所述預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠郑灰约罢丈溲b置，將對應于所述圖案的能量束照射到吸附到所述參考表面的所述片材料的所述預定區(qū)域。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成裝置，其中，所述張力施加裝置包括多個吸附支持構(gòu)件，所述多個吸附支持構(gòu)件吸附所述片材料的所述預定區(qū)域外的后表面部分，以及其中，所述多個吸附支持構(gòu)件設(shè)置在所述參考表面構(gòu)件的外圍中，以沿平行于所述參考表面構(gòu)件的二維平面相對能夠移動。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的圖案形成裝置，其中，所述多個吸附支持構(gòu)件包括至少一對第一吸附支持構(gòu)件，所述至少一對第一吸附支持構(gòu)件中的至少一個設(shè)置在跨越臺架的所述參考表面構(gòu)件、與垂直于第一軸的第二軸平行的方向上的一側(cè)和另一側(cè)中的各側(cè)上，并在平行于至少所述第二軸的方向上能夠移動，所述第一軸與長度方向平行。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖案形成裝置，其中，所述張力施加裝置包括驅(qū)動系統(tǒng)，所述驅(qū)動系統(tǒng)單獨地驅(qū)動所述多個吸附支持構(gòu)件的一部分，所述多個吸收支持構(gòu)件的一部分包括所述多個吸附支持構(gòu)件當中的至少所述一對第一吸附支持構(gòu)件，以及其中，所述驅(qū)動系統(tǒng)包括針對所述多個吸附支持構(gòu)件的一部分中的每個設(shè)置的并行鏈接和驅(qū)動所述并行鏈接的驅(qū)動裝置。5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項所述的圖案形成裝置，還包括改變裝置，在與所述二維平面垂直的方向上驅(qū)動所述多個吸附支持構(gòu)件和所述參考表面構(gòu)件中的至少一個，以能夠改變在與所述二維平面垂直的方向上、所述多個吸附支持構(gòu)件與所述參考表面構(gòu)件之間的相對位置。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖案形成裝置，其中，所述改變裝置通過使得所述參考表面構(gòu)件與對應于所述片材料的所述預定區(qū)域的所述后表面部分接觸來改變所述相對位置，其中所述預定區(qū)域外的相應后表面部分由所述多個吸附支持構(gòu)件支持。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的圖案形成裝置，還包括片運輸裝置，包括至少兩個驅(qū)動輥并且在長度方向上運輸所述片材料，所述至少兩個驅(qū)動輥被設(shè)置成在所述片材料的長度方向上遠離彼此并且在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)，其中，所述張力施加裝置通過在所述片材料的運輸期間停止位于所述片材料的運輸方向的下游側(cè)的驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)，在長度方向上向所述片材料施加張力。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖案形成裝置，還包括夾持裝置，通過在使用所述驅(qū)動輥運輸所述片材料期間，使用一對夾持構(gòu)件夾住所述片材料，暫時停止所述片材料的運輸。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖案形成裝置，其中，所述夾持裝置夾住所述片材料的所述預定區(qū)域外的部分。10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項所述的圖案形成裝置，其中，所述片運輸裝置包括多個輥，所述多個輥包括與所述片材料的前表面或后表面接觸的驅(qū)動輥，并且位于所述片材料的所述前表面上的輥僅在垂直于長度方向的方向上與所述片材料的所述預定區(qū)域的兩側(cè)部分接觸。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的圖案形成裝置，還包括標記檢測系統(tǒng)，檢測所述片材料上的多個標記；以及控制裝置，通過使用所述標記檢測系統(tǒng)檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的多個定位標記的至少一部分，以便基于檢測結(jié)果對所述張力施加裝置施加到包括所述片材料的所述預定區(qū)域的部分的二維張力進行校正。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖案形成裝置，還包括投影光學系統(tǒng)，將對應于所述圖案的能量束投射到所述片材料，以在所述片材料上形成所述圖案的圖像；以及調(diào)整裝置，調(diào)整所述投影光學系統(tǒng)的光學特性，其中，所述控制裝置通過使用所述標記檢測系統(tǒng)檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的所述多個定位標記中的至少一部分，以基于檢測結(jié)果控制所述調(diào)整裝置和所述張力施加裝置中的至少一個。13.一種圖案形成方法，在拉長片材料的預定區(qū)域中形成預定圖案，所述圖案形成方法包括向包括所述片材料的所述預定區(qū)域的部分施加二維張力；使得平坦參考表面吸附與施加有所述二維張力的所述片材料的所述預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠?；以及將對應于所述圖案的能量束照射到吸附到所述參考表面的所述片材料的所述預定區(qū)域。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案形成方法，還包括通過使用至少兩個驅(qū)動輥在長度方向上運輸所述片材料，所述至少兩個驅(qū)動輥被設(shè)置成在所述片材料的長度方向上遠離彼此并且在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)，其中，當將所述二維張力施加到所述片材料時，通過在所述片材料的運輸期間停止位于所述片材料的運輸方向的下游側(cè)的驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)，在長度方向上將所述張力施加到所述片材料。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的圖案形成方法，還包括在使用所述驅(qū)動輥運輸所述片材料期間，使用一對夾持構(gòu)件夾住所述片材料的所述預定區(qū)域外的部分，以便暫時停止所述片材料的運輸。16.根據(jù)權(quán)利要求13至15中任一項所述的圖案形成方法，還包括檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的多個定位標記的至少一部分，以便基于檢測結(jié)果校正所述二維張力。17.根據(jù)權(quán)利要求13至15中任一項所述的圖案形成方法，還包括通過投影光學系統(tǒng)將對應于所述圖案的所述能量束投射到所述片材料，以便在所述片材料上形成所述圖案的圖像；以及檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的所述多個定位標記的至少一部分，以基于檢測結(jié)果調(diào)整所述投影光學系統(tǒng)的光學特性和所述二維張力中的至少一個。18.一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)權(quán)利要求13至17中任一項所述的圖案形成方法，在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有所述圖案的所述片材料執(zhí)行處理。19.一種圖案形成方法，在拉長片材料的表面的預定區(qū)域中形成預定圖案，所述圖案形成方法包括在長度方向上限制所述片材料的至少兩個位置，以在長度方向上向所述預定區(qū)域施加第一張力；在與所述片材料的長度方向交叉的寬度方向上限制所述片材料的兩側(cè)，以在寬度方向上向所述預定區(qū)域施加第二張力；在所述第一和第二張力被施加到所述預定區(qū)域的狀態(tài)下，使與所述片材料的所述預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠指鶕?jù)平坦參考表面而改變；以及將對應于所述圖案的能量束照射到平坦化的片材料的所述預定區(qū)域。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖案形成方法，其中，為了向所述片材料施加所述第一張力，當通過使用至少兩個驅(qū)動輥在長度方向上運輸片材料時，停止位于所述片材料的運輸方向的上游側(cè)的驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)，所述至少兩個驅(qū)動輥被設(shè)置成在所述片材料的長度方向上遠離彼此并且在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)。21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖案形成方法，其中，為了向所述片材料施加所述第一張力，當通過使用在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動輥在長度方向上運輸所述片材料時，通過使用一對夾持構(gòu)件夾住所述片材料而暫時停止所述片材料的運輸。22.根據(jù)權(quán)利要求19至21中任一項所述的圖案形成方法，其中，為了向所述片材料施加所述第二張力，通過使用多個吸附支持構(gòu)件吸附在所述片材料的所述預定區(qū)域外的后表面部分，所述多個吸附支持構(gòu)件中的至少一個設(shè)置在跨越參考表面構(gòu)件、與垂直于第一軸的第二軸平行的方向上的一側(cè)和另一側(cè)，并且所述多個吸附支持構(gòu)件沿平行于所述第二軸的方向相互相對移動，所述第一軸與長度方向平行。23.根據(jù)權(quán)利要求19至22中任一項所述的圖案形成方法，還包括檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的多個定位標記中的至少一部分，以基于檢測結(jié)果校正所述第一和第二張力。24.根據(jù)權(quán)利要求19至23中任一項所述的圖案形成方法，還包括通過投影光學系統(tǒng)將對應于所述圖案的所述能量束投射到所述片材料，以在所述片材料上形成所述圖案的圖像；以及檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的所述多個定位標記中的至少一部分，以基于檢測結(jié)果調(diào)整所述第一和第二張力以及所述光學投影系統(tǒng)的光學特性中的至少一個。25.一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)權(quán)利要求19至M中任一項所述的圖案形成方法，在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有所述圖案的片材料執(zhí)行處理。26.一種圖案形成裝置，用于在拉長材料的表面的預定區(qū)域中形成預定圖案，所述圖案形成裝置包括第一張力施加裝置，在長度方向上限制所述片材料的至少兩個位置，以在長度方向上向所述預定區(qū)域施加第一張力；第二張力施加裝置，在與所述片材料的長度方向交叉的寬度方向上限制所述片材料的兩側(cè)，以在寬度方向上向所述預定區(qū)域施加第二張力；平坦化裝置，包括具有平坦參考表面的參考表面構(gòu)件，并且使得在所述第一和第二張力被施加到所述預定區(qū)域的狀態(tài)下，與所述片材料的所述預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠指鶕?jù)所述參考表面而改變；以及照射裝置，將對應于所述圖案的能量束照射到平坦化的片材料的所述預定區(qū)域。27.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的圖案形成裝置，其中，所述第一張力施加裝置包括至少兩個驅(qū)動輥，并且通過在所述片材料的運輸期間停止位于所述片材料的運輸方向的上游側(cè)的驅(qū)動輥的旋轉(zhuǎn)而向所述片材料施加所述第一張力，所述至少兩個驅(qū)動輥被設(shè)置成在所述片材料的長度方向上遠離彼此并且在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)，以便在長度方向上運輸所述片材料。28.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的圖案形成裝置，其中，所述第一張力施加裝置包括驅(qū)動輥，在與所述片材料接觸的同時旋轉(zhuǎn)，以在長度方向上運輸所述片材料；以及夾持裝置，通過在使用所述驅(qū)動輥運輸所述片期間，使用一對夾持構(gòu)件夾住所述片材料而暫時停止所述片材料的運輸。29.根據(jù)權(quán)利要求沈至觀中任一項所述的圖案形成裝置，其中，所述第二張力施加裝置包括多個吸附支持構(gòu)件，所述多個吸附支持構(gòu)件吸附所述片材料的所述預定區(qū)域外的后表面部分，以及其中，所述多個吸附支持構(gòu)件中的至少一個設(shè)置在跨越所述參考表面構(gòu)件、與垂直于第一軸的第二軸平行的方向上的一側(cè)和另一側(cè)中的各側(cè)，以沿平行于所述第二軸的方向相對能夠移動，所述第一軸與長度方向平行。30.根據(jù)權(quán)利要求四所述的圖案形成裝置，其中，所述多個吸附支持構(gòu)件設(shè)置在跨越所述參考表面構(gòu)件、平行于所述第二軸的方向上的至少一側(cè)或另一側(cè)。31.根據(jù)權(quán)利要求四或30所述的圖案形成裝置，其中，所述第二張力施加裝置包括驅(qū)動所述吸附支持構(gòu)件的驅(qū)動系統(tǒng)；以及其中，所述驅(qū)動系統(tǒng)包括并行鏈接和驅(qū)動所述并行鏈接的驅(qū)動裝置。32.根據(jù)權(quán)利要求四至31中任一項所述的圖案形成裝置，還包括改變裝置，在垂直于二維平面的方向上驅(qū)動一對吸附支持構(gòu)件和所述參考表面構(gòu)件中的至少一個，以能夠改變在與所述二維平面垂直的方向上、至少所述一對吸附支持構(gòu)件與所述參考表面構(gòu)件之間的相對位置。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的圖案形成裝置，其中，所述平坦化裝置通過所述改變裝置改變在與所述二維平面垂直的方向上、至少所述一對吸附支持構(gòu)件與所述參考表面構(gòu)件之間的相對位置，以使得所述參考表面構(gòu)件與對應于所述片材料的所述預定區(qū)域的后表面部分接觸，其中后表面由至少所述一對吸附支持構(gòu)件支持。34.根據(jù)權(quán)利要求沈至33中任一項所述的圖案形成裝置，還包括標記檢測系統(tǒng)，檢測所述片材料上的多個標記；以及控制裝置，通過使用所述標記檢測系統(tǒng)檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的多個定位標記中的至少一部分，以基于檢測結(jié)果校正所述第一和第二張力施加裝置施加到包括所述片材料的所述預定區(qū)域的部分的張力。35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的圖案形成裝置，還包括投影光學系統(tǒng)，將對應于所述圖案的能量束投射到所述片材料，以在所述片材料上形成所述圖案的圖像；以及調(diào)整裝置，調(diào)整所述投影光學系統(tǒng)的光學特性，其中，所述控制裝置通過使用所述標記檢測系統(tǒng)檢測附于所述片材料上的所述預定區(qū)域的所述多個定位標記中的至少一部分，以基于檢測結(jié)果控制所述調(diào)整裝置以及所述第一和第二張力施加裝置中的至少一個。36.一種裝置制造方法，包括通過使用根據(jù)權(quán)利要求26至35中任一項所述的圖案形成裝置，在拉長片材料上形成圖案；以及對其上形成有所述圖案的所述片材料執(zhí)行處理。全文摘要通過控制裝置在Z軸方向上細微地驅(qū)動暫時支持片(S)的六個輔助片支持物(SH2)和(SH3)，以使得其支持表面定位在片支持物(SH1)的支持表面的略微較低側(cè)(-Z側(cè))。因此，在寬度方向(Y軸方向)和長度方向上向片(S)施加適當?shù)膹埩?，以使得?S)的中心部分固定到片支持物(SH1)的支持表面。即，在XY二維張力被施加到片(S)的分開區(qū)域(SAi)的狀態(tài)下，與片(S)的分開區(qū)域(SAi)對應的后表面部分根據(jù)片支持物(SH1)的支持表面的平坦形狀而改變。另外，在張力在長度方向和寬度方向上被施加到預定區(qū)域的狀態(tài)下，與片材料(S)的預定區(qū)域?qū)暮蟊砻娌糠指鶕?jù)平坦參考表面而改變以便平坦化。另外，用能量束照射平坦化的片材料的預定區(qū)域，以在其上形成圖案。文檔編號G03F7/20GK102472977SQ20108003167公開日2012年5月23日申請日期2010年7月16日優(yōu)先權(quán)日2009年7月17日發(fā)明者木內(nèi)徹,水谷英夫申請人:株式會社尼康