專利名稱：用于反射元件陣列的旋轉(zhuǎn)的安裝部件以及包括所述安裝部件的光刻設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種光刻設備和反射元件陣列。
背景技術：
光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成與所述IC的單層相對應的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如， 硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。所述圖案的轉(zhuǎn)移通常是通過將圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而實現(xiàn)的。通常，單個襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標部分的網(wǎng)絡。公知的光刻設備包括所謂的步進機， 在所述步進機中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、 同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。光刻設備通常包括照射系統(tǒng)。照射系統(tǒng)接收來自源(例如激光器)的輻射，并且提供入射到圖案形成裝置的輻射束(通常稱為“投影”束)。輻射束通過圖案形成裝置圖案化，并且隨后通過投影系統(tǒng)投影到襯底上。在光刻技術的現(xiàn)有技術中，已知投影到襯底上的圖案形成裝置的圖像可以通過提供具有合適的照射模式的輻射束來進行改善。因而，光刻設備的照射系統(tǒng)通常包括強度分布調(diào)節(jié)設備，其布置用以引導、成形以及控制在照射系統(tǒng)的光瞳平面內(nèi)的輻射束的強度分布，使得其具有一種照射模式。

發(fā)明內(nèi)容
多種強度分布調(diào)節(jié)設備可以控制照射束以便實現(xiàn)想要的照射模式。例如，變焦距-軸棱鏡裝置(變焦透鏡和軸棱鏡的組合)用于形成環(huán)形照射模式，其中照射模式的內(nèi)部徑向范圍和外部徑向范圍(0^ 和。。utCT)是可控制的。變焦距-軸棱鏡裝置通常包括多個可獨立地移動的折射光學部件。因此變焦-距軸棱鏡裝置不適于例如與極紫外(EUV) 輻射(例如大約13. 5nm處的輻射)一起使用，因為在這個波長處的輻射在其通過折射材料的時候被強烈地吸收?？臻g濾光片可以用于形成照射模式。例如，具有與偶極照射模式相對應的開口的空間濾光片可以設置在照射系統(tǒng)的光瞳平面內(nèi)以便產(chǎn)生偶極照射模式。當想要不同的照射模式時，可以通過不同的空間濾光片移除和更換空間濾光片。然而，空間濾光片攔截輻射束的相當大的比例，由此當輻射束入射到圖案形成裝置時減小了輻射束的強度。已知的EUV 源艱難地提供一定強度的足夠允許光刻設備有效地操作的EUV輻射。因此，不希望在形成照射模式的時候攔截輻射束的相當大的部分。期望地，例如提供一種反射元件陣列，其可以用以克服或消除這里所說的或其他地方提到的一個或多個缺點。一方面，提供一種反射元件陣列，反射元件中的至少一個安裝在安裝部件上，安裝部件包括至少部分地放置在套管內(nèi)的桿，其中桿的第一端固定至套管的第一端并且所述桿的第二端是可移動的，所述套管包括第一可彈性變形部分，配置成彎曲以便允許發(fā)生所述桿的第二端的移動，其中所述反射元件安裝在套管的第一端處、使得套管的彎曲引起反射元件的轉(zhuǎn)動。反射元件陣列可以形成光刻設備的一部分。


下面僅通過示例的方式，參考附圖對本發(fā)明的實施例進行描述，其中示意性附圖中相應的標記表示相應的部件，在附圖中圖1示意地示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的光刻設備；圖2更加詳細地圖示出圖1的光刻設備的一部分；圖3示出光刻設備的照射系統(tǒng)的可移動反射元件的操作；圖4示出了光刻設備的照射系統(tǒng)的第一反射部件的初級反射元件的移動效果；圖如和恥示出光刻設備的照射系統(tǒng)的可移動反射元件的操作，以及所產(chǎn)生的y 偶極照射模式；圖6a和6b示出光刻設備的照射系統(tǒng)的可移動反射元件的操作，以及所產(chǎn)生的χ 偶極照射模式；圖7示出光瞳平面的第一象限；圖示出可以使用本發(fā)明的一個實施例獲得的五種照射模式；圖9示出光瞳平面的第一象限；圖lOa-g示出可以使用本發(fā)明的一個實施例獲得的七種照射模式；圖11示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的多個安裝部件和反射元件；圖12詳細地示出圖11中的安裝部件中的一個；圖13示出從下面看的圖11的安裝部件中的一個；圖14示出從下面看、圖11的安裝部件和反射元件；和圖15示意地示出反射元件被相鄰的反射元件遮蔽。
具體實施例雖然在本文中詳述了光刻設備用在制造ICs (集成電路)，但是應該理解到這里所述的光刻設備可以有其他的應用，例如制造集成光學系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、 平板顯示器、液晶顯示器(IXDs)、薄膜磁頭等。本領域技術人員應該認識到，在這種替代應用的情況中，可以將這里使用的任何術語“晶片”或“管芯”分別認為是與更上位的術語“襯底”或“目標部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(一CN 102472891 A說明書3/17 頁
種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上，并 且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具和/ 或檢驗工具中。在可應用的情況下，可以將所述公開內(nèi)容應用于這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產(chǎn)生多層IC，使得這里使用的所述術語“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多個已處理層的襯底。這里使用的術語“輻射”和“束”包含全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射 (例如具有約365、248、193、157或126nm的波長)和極紫外(EUV)輻射(例如具有5_20nm 范圍的波長)，以及粒子束，例如離子束或電子束。這里所使用的術語“圖案形成裝置”應該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上形成圖案的任何裝置。應當注意， 被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標部分上的所需圖案完全相符。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標部分上形成的器件中的特定的功能層相對應，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。通常，在EUV光刻設備中，圖案形成裝置是反射型的。圖案形成裝置的示例包括掩模(透射型的)、可編程反射鏡陣列(反射型的)以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術中是公知的，并且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型?？删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，每一個小反射鏡可以獨立地傾斜，以便沿不同方向反射入射的輻射束。以此方式，反射束被圖案化。支撐結(jié)構保持圖案形成裝置。所述支撐結(jié)構以依賴于圖案形成裝置的方向、光刻設備的設計以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。圖案形成裝置支撐結(jié)構可以采用機械的、真空的或其它夾持技術，例如真空條件下的靜電夾持。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動的，并且所述支撐結(jié)構可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術語“掩模版”或“掩?！倍伎梢哉J為與更上位的術語“圖案形成裝置”同義。這里使用的術語“投影系統(tǒng)”應該廣義地解釋為包括各種類型的投影系統(tǒng)，包括折射光學系統(tǒng)、反射光學系統(tǒng)以及反射折射光學系統(tǒng)，如對于例如所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。通常，在EUV輻射光刻設備中，投影系統(tǒng)的光學元件將是反射型的。這里使用的術語“投影透鏡”可以認為是與更上位的術語“投影系統(tǒng)”同義。這里所述的照射系統(tǒng)可以包括反射部件和可選地各種其他類型的光學部件，用以引導、成形、和控制輻射束。所述光刻設備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和/或兩個或更多的支撐結(jié)構)的類型。在這種“多臺”機器中，可以并行地使用附加的臺，或可以在一個或更多個臺上執(zhí)行預備步驟的同時，將一個或更多個其它臺用于曝光。光刻設備可以是允許在兩個或多個掩模之間快速切換(或，在設置在可控制的圖案形成裝置上的圖案之間快速切換)的類型，例如在美國專利申請出版物第US 2007-0013890號中描述的那樣。所述光刻設備還可以是這種類型，其中襯底由具有相對高的折射率的液體(例如水)覆蓋，以便填滿投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。浸沒液體還可以施加到光刻
5設備的其他空間中，例如圖案形成裝置和投影系統(tǒng)的第一元件之間的空間。浸沒技術在本領域是熟知的用于提高投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。圖1示意地示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的光刻設備。所述設備包括照射系統(tǒng)IL，其布置用于調(diào)節(jié)輻射的輻射束B(例如深紫外(DUV)輻射或極紫外 (EUV)輻射)；支撐結(jié)構(例如掩模臺)MT，其配置用于支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA，并與用于相對于部件PL精確地定位圖案形成裝置的第一定位裝置PM相連；襯底臺(例如晶片臺)WT，其用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W，并與用于相對于部件PL精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連；和投影系統(tǒng)(例如反射式投影透鏡)PL，其配置成用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標部分C(例如包括一根或多根管芯)上。如圖1所示，光刻設備是反射型的設備(例如采用反射式掩?；蛏厦嫣岬降目删幊谭瓷溏R陣列類型)。替換地，所示設備是透射型設備(例如采用透射性掩模)。照射系統(tǒng)IL接收來自輻射源SO的輻射束B。該源SO和所述光刻設備可以是分立的實體(例如當該源為準分子激光器時)。在這種情況下，不會將該源考慮成形成光刻設備的一部分，并且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助，將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射系統(tǒng)IL。在其它情況下，所述源可以是所述光刻設備的組成部分(例如當所述源是汞燈時)?？梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、以及如果需要時設置的所述束傳遞系統(tǒng)BD —起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射系統(tǒng)IL調(diào)節(jié)輻射束以便提供具有想要的均勻性和想要的照射模式的輻射束。照射系統(tǒng)IL包括配置用于調(diào)整所述輻射束在光瞳平面內(nèi)的空間強度分布的強度分布調(diào)整裝置(例如以便選擇想要的照射模式)。照射系統(tǒng)可以包括多種其他部件，例如積分器IN和耦合的光學元件。在離開照射系統(tǒng)IL之后，輻射束B入射到保持在支撐結(jié)構MT上的圖案形成裝置 (例如掩模)MA上。已經(jīng)穿過圖案形成裝置MA之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PL，所述投影系統(tǒng)將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF2(例如，干涉儀器件、線性編碼器、或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地，例如在從掩模庫中機械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器IFl 用于相對于所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置MA。通常，可以通過形成定位裝置PM和PW的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實現(xiàn)物體臺MT和WT的移動。然而，在步進機的情形(和掃描器相反)中，支撐結(jié)構MT可以僅連接至短行程致動器，或可以是固定的?？梢允褂脠D案形成裝置對準標記Ml、M2和襯底對準標記PI、P2對準圖案形成裝置MA和襯底W。雖然如圖所示的襯底對準標記占據(jù)專用的目標部分，但是它們可以位于目標部分之間的空間內(nèi)(這些公知為劃線對齊標記)。類似地，在將多于一個的管芯設置在圖案形成裝置MA上的情況下，所述圖案形成裝置對準標記可以位于所述管芯之間。可以將圖1和2中所示的設備用于以下模式中的至少一種中1.在步進模式中，在將支撐結(jié)構MT和襯底臺WT保持為基本靜止的同時，將賦予所
6述輻射束PB的整個圖案一次投影到目標部分C上(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標部分C曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制了在單一靜態(tài)曝光中成像的目標部分C的尺寸。2.在掃描模式中，在對支撐結(jié)構MT和襯底臺WT同步地進行掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上(S卩，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT相對于支撐結(jié)構MT的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PL的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。 在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一動態(tài)曝光中所述目標部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結(jié)構MT保持為基本靜止，并且在對所述襯底臺WT進行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT的每一次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻術中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。如上所述，照射系統(tǒng)IL包括強度分布調(diào)節(jié)設備。強度分布調(diào)節(jié)設備布置成調(diào)節(jié)位于照射系統(tǒng)的光瞳平面處的輻射束的空間強度分布，以便控制入射在圖案形成裝置上的輻射束的角強度分布。強度分布調(diào)節(jié)設備可以用以在照射系統(tǒng)的光瞳平面處選擇不同的照射模式。照射模式的選擇可以例如依賴于將要從圖案形成裝置MA投影到襯底W上的圖案的性質(zhì)。輻射束在照射系統(tǒng)光瞳平面處的空間強度分布在輻射束被入射到圖案形成裝置 (例如掩模)MA之前被轉(zhuǎn)換為角強度分布。換句話說，在照射系統(tǒng)的光瞳平面和圖案形成裝置MA(圖案形成裝置位于場平面中)之間存在傅里葉關系。照射系統(tǒng)的光瞳平面是放置圖案形成裝置MA的物平面的傅里葉變換平面，并且其與投影系統(tǒng)的光瞳平面共軛。圖2更詳細地示出圖1中的光刻設備的一部分。源SO生成輻射束B，其被聚焦至位于照射系統(tǒng)IL的入口孔20處的虛源點收集焦點18。輻射束B在照射系統(tǒng)IL內(nèi)經(jīng)由第一和第二反射部件22J4被反射到保持在支撐結(jié)構MT上的圖案形成裝置MA上。隨后，輻射束B在投影系統(tǒng)PL內(nèi)經(jīng)由第一和第二反射部件觀、30被成像到保持在襯底臺WT上的襯底W上。應該認識到，通常在源SO、照射系統(tǒng)IL以及投影系統(tǒng)PL內(nèi)可以存在比圖2中示出的多或少的元件。例如，在某些實施方式中，光刻設備也可以包括一個或多個透射型或反射型光譜純度濾光片。在光刻設備內(nèi)可以存在更多或更少的反射部件。圖3更詳細地示出光刻設備的一部分，其包括照射系統(tǒng)的第一和第二反射部件 22、24。第一反射部件22包括多個初級反射元件22a-d(通常稱為場琢面反射鏡或多小平面反射鏡)。第二反射部件M包括多個次級反射元件Ma-d、a’ -d’ (通常稱為光瞳琢面反射鏡或多小平面反射鏡)。初級反射元件22a_d配置成引導(反射)輻射朝向次級反射元件Ma-d、a’ -d’。雖然圖中僅示出四個初級反射元件22a_d，但是可以設置任何數(shù)量的初級反射元件。初級反射元件可以以二維陣列的方式(或某些其他二維布置)布置。雖然圖中僅示出8個次級反射元件Ma-d、a’ -d’，但是可以設置任何數(shù)量的次級反射元件。次級反射元件可以以二維陣列的方式(或某些其他二維布置)布置。初級反射元件22a_d具有可調(diào)節(jié)的取向，并且可以用以引導輻射朝向選定的次級反射元件24a-d、a，_d，。第二反射部件M與照射系統(tǒng)IL的光瞳平面P處于同一空間位置。因此第二反射部件對用作虛輻射源，其引導輻射到圖案形成裝置MA上。聚光器反射鏡(未示出)可以設置在第二反射部件對和圖案形成裝置MA之間。聚光器反射鏡可以是反射鏡系統(tǒng)。聚光器反射鏡可以布置用以將初級反射元件22a-d成像到圖案形成裝置MA上。在第二反射部件M處輻射束B的空間強度分布限定輻射束的照射模式。由于初級反射元件22a-d具有可調(diào)節(jié)的取向，因此它們可以用以在光瞳平面P處形成不同的空間強度分布，由此提供不同的照射模式。在使用過程中，輻射束B入射到第一反射部件22的初級反射元件22a_d。每個初級反射元件22a_d將輻射的子束反射朝向第二反射部件M的不同的次級反射元件Ma-d、 a’-d’。通過第一初級反射元件2 將第一子束Ba引導至第一次級反射元件24a。第二、 第三以及第四子束恥-d通過第二、第三以及第四初級反射元件22b-d分別反射至第二、第三以及第四次級反射元件Mb-d。子束Ba-d通過次級反射元件被反射朝向圖案形成裝置MA。子束可以一起被看作形成一個照射圖案形成裝置MA的曝光區(qū)域E的輻射束B。曝光區(qū)域E的形狀由初級反射元件22a-d的形狀確定。曝光區(qū)域E可以例如是矩形的、彎曲的帶或某些其他形狀。每個初級反射元件22a_d在第二反射部件對的不同的次級反射元件Ma-d、a’-d’ 處形成虛源點收集焦點18的像。在實際應用中，焦點18將不是點，替代地將是具有有限橫截面尺寸(例如例如4-6mm的直徑)的虛源。隨后，每個初級反射元件22a_d將形成虛源的圖像，其在次級反射元件Ma-d、a’ -d’處具有有限的橫截面尺寸(例如直徑，例如為 3-5mm)。次級反射元件Ma_d、a’ -d’的橫截面尺寸(例如直徑)可以大于圖像橫截面尺寸(以避免次級反射元件之間的輻射下降并且由此避免損失)。為了容易表示，焦點18和焦點的圖像在圖中被示為點。初級和次級反射元件具有光學功率。每個初級反射元件22a_d具有負的光學功率，并形成虛源18的小于虛源的圖像。每個次級反射元件Ma-d、a’ -d’具有正的光學功率，并形成大于初級反射元件的初級反射元件22a_d的圖像。正如上面所述，初級反射元件 22a-d的圖像是曝光區(qū)域Ε。初級反射元件22a_d的取向決定在光瞳平面P處形成的照射模式。例如，初級反射元件22a_d可以定向成使得輻射子束被引導在四個最內(nèi)側(cè)的次級反射元件Mc、d、a’、b’ 處。這將提供可以被看作標準(盤形形狀)照射模式的一維等同物的照射模式。在替換的示例中，初級反射元件22a_d可以定向成使得在位于第二反射部件對的左手端部處的兩個次級反射元件Ma-b處和在位于第二反射部件的右手端部處的兩個次級反射元件Mc’_d’ 處引導輻射子束。這將提供可以被看作是環(huán)形照射模式的一維等同物的照射模式。初級反射元件22a_d的每一個配置成使得其可以位于兩個特定取向(即第一取向和第二取向)中的一個。第一取向使得初級反射元件將輻射的子束反射朝向第二反射部件 M上的第一期望部位。第二取向使得初級反射元件將輻射的子束反射朝向第二反射部件 M上的第二期望部位。在一實施例中，初級反射元件布置成不移動至第三取向，而相反僅在第一取向和第二取向之間是可移動的。圖4使用第一反射部件22的第一初級反射元件2 作為示例，示出初級反射元件在第一和第二取向之間的移動。當?shù)谝怀跫壏瓷湓? 位于第一取向，其引導輻射子束 Ba朝向第二反射部件M的第一次級反射元件Ma。當?shù)谝怀跫壏瓷湓? 位于第二取向，其引導輻射子束Ba’(用點線示出)朝向第二反射部件M的第二次級反射元件Ma’。 在一實施例中，第一初級反射元件2 布置成不移向任何其他取向，并因此布置成不引導輻射子束朝向任何其他次級反射元件Mb-d、b’ -d’。上面的內(nèi)容提到每個初級反射元件22a_d引導輻射子束朝向次級反射元件 24a-d, a’ _d’。在任一個實施例中，由給定子束照射的次級反射元件可以是全部設置在第二反射部件上或光瞳平面上的一個部位內(nèi)的一組次級元件中的一個，該部位與照射模式相關?；谶@個原因，可以使用術語“部位”而不是次級反射元件(術語“部位”是包含單個次級反射元件或多個次級反射元件)。每個初級反射元件22a_d布置成引導輻射子束朝向兩個不同部位。與每個初級反射元件Ma-d相關的第一部位和第二部位相對于接收來自其他初級反射元件的輻射子束的部位是不同的，并且是唯一的。通過適當?shù)嘏渲妹總€初級反射元件22a_d，可以引導輻射朝向第二反射部件M的光瞳平面內(nèi)的需要的部位，以便形成與期望的照射模式對應的空間強度分布。雖然圖3和4僅示出四個初級反射元件22a_d，但是第一反射部件22可以包括多得多的初級反射元件。第一反射部件22可以包括例如多達100個、多達200或多達400個初級反射元件。第一反射部件22可以包括例如在100-800之間范圍內(nèi)任何數(shù)量的初級反射元件。反射元件可以是反射鏡。第一反射部件22可以包括IOM (例如32x32)個反射鏡的陣列，或4096(例如64x64)個反射鏡的陣列，或任何合適數(shù)量的反射鏡。初級反射元件可以以二維格子形狀的形式布置。初級反射元件可以布置在跨經(jīng)輻射束的平面內(nèi)。第一反射部件22可以包括一個或多個初級反射元件的陣列。例如，初級反射元件可以布置或分組以形成多個陣列，每個陣列例如具有32x32個反射鏡。在本文中，術語“陣列”可以意味著單個陣列或一組陣列。次級反射元件Ma-d、a’ _d’可以被安裝成使得次級反射元件的取向是固定的。圖5和6示意地示出改變輻射方向、以便改變光瞳平面P處的空間強度分布并由此獲得期望的照射模式的原理。圖恥和6b中的附圖平面與圖fe和6a中示出的光瞳平面 P重合。在圖恥和6b中示出笛卡爾坐標以方便解釋圖。所示的笛卡爾坐標不是為了表示對可以獲取的空間強度分布的取向的任何限制?？臻g強度分布的徑向范圍通過(內(nèi)部徑向范圍)和o。utCT(外部徑向范圍)限定。內(nèi)部徑向范圍和外部徑向范圍可以是圓形的，或可以是某些其他形狀。如上所述，通過初級反射元件22a_d的取向確定輻射束光瞳平面P的空間強度分布(和因此，照射模式)。通過選擇和隨后移動初級反射元件22a_d的每一個至其第一取向或其第二取向而根據(jù)需要控制照射模式。在該示例中，存在16個初級反射元件，其中僅4個被示出(22a_d)。當初級反射元件22a_d處于其第一取向，輻射子束被反射朝向相關的第一部位Ma-d，如圖fe所示。參照圖恥，第一部位Ma-d位于圖恥的上部處或其附近。其他初級反射元件(未示出)也位于其第一取向，并引導輻射的子束至位于圖恥的上部或其附近的以及位于圖恥的底部或其附近的第一部位。用點線陰影表示接收輻射子束的部位。由圖恥可以看到，當初級反射元件22a_d處于其第一取向，形成偶極照射模式，其中兩極在y方向上分開。當初級反射元件22a_d處于其第二取向，輻射子束被反射朝向相關的第二部位 Ma，-d，，如圖6a所示。參照圖6b，第二部位Ma，-d，位于圖6b的右手邊或其附近。其他初級反射元件(未示出)也位于其第二取向，并引導輻射的子束至位于圖6b的右手邊或其附近的以及位于圖6b的左手邊或其附近的第二部位。用點線陰影表示接收輻射子束的部位。由圖6b可以看到，當初級反射元件22a_d處于其第二取向，形成偶極照射模式，其中兩極在χ方向上分開。通過將初級反射元件22a_d的每一個從第一取向移動至第二取向來實現(xiàn)從y方向偶極照射模式至X方向偶極照射模式的切換。類似地，通過將初級反射元件22a_d的每一個從第二取向移動至第一取向來實現(xiàn)從χ方向偶極照射模式至y方向偶極照射模式的切換。通過將初級反射元件22a_d的一部分移動至其第一取向，并且將初級反射元件 22a-d的一部分移動至其第二取向可以形成其他模式，如下面進一步介紹的?？梢赃x擇每一個初級反射元件的第一取向和第二取向(和最終的第一和第二相關部位)以便最大化可以形成的有用的照射模式的數(shù)量。通過圍繞特定軸線轉(zhuǎn)動初級反射元件，可以在第一取向和第二取向之間移動初級反射元件。使用一個或多個致動器可以移動初級反射元件?！獋€或多個初級反射元件可以配置成被驅(qū)動圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動。一個或多個其他初級反射元件可以配置成被驅(qū)動圍繞其他軸線轉(zhuǎn)動。在一實施例中，初級反射元件包括致動器，所述致動器布置用以在第一取向和第二取向之間移動初級反射元件。致動器可以是例如馬達。第一和第二取向可以通過端部停止件限定。第一端部停止件可以包括機械設備，其防止初級反射元件移動超過第一取向。 第二端部停止件可以包括防止初級反射元件移動超過第二取向的機械設備。下面參照附圖 11-15進一步描述包括端部停止件的初級反射元件的適當安裝。由于通過端部停止件可以限制初級反射元件的移動，因而初級反射元件可以精確地移動至第一取向或第二取向，而不需要監(jiān)測初級反射元件的位置(例如不需要使用位置監(jiān)測傳感器和反饋系統(tǒng))?？梢猿浞志_地定向初級反射元件，使得它們可以形成將要被用在將圖案形成裝置的圖案光刻投影至襯底上的光刻投影中的具有足夠品質(zhì)的照射模式。提供至致動器的驅(qū)動信號可以是二元信號。不必使用更復雜的信號，例如可變模擬電壓或可變數(shù)字電壓，這是因為致動器僅需要將初級反射元件移動至第一端部停止件或第二端部停止件。對致動器使用二元(二值的)驅(qū)動信號而不是更復雜的系統(tǒng)將允許使用較其他情形簡單的控制系統(tǒng)。以上參照圖5和6描述的設備包括16個初級反射元件。在實際應用中，可以設置更多的初級反射元件。然而，16個初級反射元件是足夠的數(shù)量，以允許表示可以獲得若干個不同的照射模式的方式。使用16個初級反射元件可以獲得下面的照射模式環(huán)形、c型四分、類星體狀、偶極y方向型以及偶極χ方向型。通過配置16個初級反射元件來形成這些照射模式，以便適當?shù)匾龑л椛涑蛘丈湎到y(tǒng)的光瞳平面處的32個相關的部位。圖7示出照射系統(tǒng)中的光瞳平面的第一象限Q1，其配置成形成5個不同的所需照射模式。該象限的每個分段24a-d、Ma' 對應照射部位(即，接收來自初級反射元件的輻射子束的部位)。在一個實施例中，照射部位圍繞光瞳平面以環(huán)形形狀沿外圍布置。照射部位的內(nèi)部徑向范圍用表示。照射部位的外部徑向范圍用o。utCT表示。在每個照射部位處可以設置多個次級反射元件。例如，在每個照射部位處可以設置10至20個次級反射元件。在這種情況下，初級反射元件的數(shù)量可以按比例增減。例如， 如果在給定照射部位處存在10個次級反射元件，則可以布置10個初級反射元件以引導輻射至那個照射部位(每個初級反射元件布置用以引導輻射至不同的次級反射元件)。在下面的說明書中，在可以使用術語“初級反射元件”的情形中，這可以包含多個初級反射元件， 其配置成統(tǒng)一地移動?？缃?jīng)光瞳平面的照射部位的相對表面面積計為(o。utCT2-oimCT2)/2。因此，集光比率X (即，相對使用的光瞳面積的倒數(shù))為X = 2/ ( σ outer2- O inner2)。在圖7所示的象限Ql中，有8個照射部位Ma-d、Ma’ _d’ (對應跨經(jīng)整個光瞳平面的32個照射部位)。每個照射部位的尺寸和形狀形成為被由初級反射元件反射的輻射子束照射。每個初級反射元件配置成以便由相同的象限的不同部分單獨地照射兩個照射部位。更具體地，每個初級反射元件配置成在第一取向和第二取向之間移動，以便引導輻射并由此照射在相同象限內(nèi)的第一相關照射部位或第二相關照射部位。雖然在圖7中的相同的象限Ql內(nèi)設置成對的照射部位Ma、a’ (和其他)，但是這并不是必須的。例如，第一照射部位可以設置在一個象限內(nèi)，并且其配對可以設置在不同的象限內(nèi)。如果一對照射部位的第一和第二照射部位之間的間隔增大，則初級反射元件所需的以便引導輻射子束至那些照射部位的轉(zhuǎn)動量也會增大。照射部位的位置可以選擇成使得初級反射元件的所需轉(zhuǎn)動被最小化，或使得不需要初級反射元件轉(zhuǎn)動經(jīng)過多于特定的最大轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動量。照射部位的位置可以使得可以獲得所需的一組照射模式(例如下文參照圖 8進一步描述的)。第一初級反射元件22a(見圖5和6)配置成沿第一取向取向時照射象限Ql的第一相關照射部位Ma，并且在沿第二取向取向時照射象限的第二相關照射部位Ma’。第二初級反射元件22b配置成當沿第一取向取向時照射第一相關照射部位Mb，并在沿第二取向取向時照射第二相關照射部位Mb’。第三初級反射元件22c配置成當沿第一取向取向時照射第一相關照射部位Mc，并在沿第二取向取向時照射第二相關照射部位Mc’。第四初級反射元件22d配置成當沿第一取向取向時照射第一相關照射部位Md，并在沿第二取向取向時照射第二相關照射部位Md’。照射部位和相關的初級反射區(qū)域的等同布置可以應用于其他象限(未示出)。每個初級反射元件可以通過圍繞特定軸線轉(zhuǎn)動而在第一取向和第二取向之間移動。多個初級反射元件可以配置成以便圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動。例如，與位于光瞳平面的相同象限內(nèi)的相鄰照射部位相關的初級反射元件可以配置成以便圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動。在示出的示例中，第一和第二初級反射元件22a、22b配置成圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動，第三和第四初級反射元件22c、22d配置成圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動。第一軸線AA相對于Ql內(nèi)的χ軸線以56. 25°布置，第二軸線BB相對于Ql內(nèi)的χ軸線以33. 75°布置。雖然第一和第二軸線 AA、BB被表示在圖7的平面內(nèi)，但是這僅是為了便于表示。這些軸線將位于初級反射元件 22a-d的平面內(nèi)。
附加地或替換地，與在光瞳平面的相對象限內(nèi)的對應的照射部位相關的初級反射元件可以配置成圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動。例如，與第一象限Ql相關的初級反射元件22a、b以及與第三象限相關的對應的初級反射元件可以配置成圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動。同樣，與第一象限Ql相關的初級反射元件22c、d以及與第三象限相關的對應的初級反射元件可以配置成圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動。與第二象限相關的初級反射元件以及與第四象限相關的初級反射元件可以圍繞第三軸線轉(zhuǎn)動(例如相對于X軸線以123.75°布置)。此外，與第二象限相關的初級反射元件以及與第四象限相關的初級反射元件可以圍繞第四軸線(例如，相對于χ軸線以 146.25°布置)轉(zhuǎn)動。這些象限在圖7中沒有示出。初級反射元件可以配置成圍繞相同的軸線沿相反的方向或沿相同的方向轉(zhuǎn)動。當初級反射元件被分組在一起以圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動，并沿相同的方向轉(zhuǎn)動，則可以簡化布置用以在初級反射元件的第一和第二取向之間移動初級反射元件的致動器。例如，與被分組以圍繞相同軸線轉(zhuǎn)動的初級反射元件相關的致動器可以布置成統(tǒng)一地移動那些初級反射元件。因此，在存在四個轉(zhuǎn)動軸線的實施例中，可以有四個致動器。圖8示出使用所述的設備(即，使用16個初級反射元件和4個轉(zhuǎn)動軸線)如何在照射系統(tǒng)的光瞳平面處形成五個不同的照射模式。照射模式為環(huán)形照射模式(圖8a)、偶極-χ方向的照射模式(圖8b)、偶極_y方向的照射模式(圖8c)、類星體狀照射模式(圖 8d)以及c型四分照射模式(見圖8e)。為了形成環(huán)形照射模式，如圖8a所示，與第一象限相關的初級反射元件22a_d被取向成使得該照射部位Mb、Md、Ma’以及Mc’被照射。這通過圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第一初級反射元件2 至其第二取向、圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第二初級反射元件22b至其第一取向、圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第三初級反射元件22c至其第二取向以及圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第四初級反射元件22d至其第一取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成偶極-χ方向照射模式，如圖8b所示(還見圖6b)，與第一象限相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Mb' ,24a' ,24d'以及Mc'被照射。這可以通過圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第一初級反射元件2 至其第二取向、圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第二初級反射元件22b至其第二取向、圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第三初級反射元件22c至其第二取向以及圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第四初級反射元件22d至其第二取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、 第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成偶極-y方向照射模式，如圖8c所示(還見圖5b)，與第一象限相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Ma、Mb、Mc以及Md被照射。這可以通過圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第一初級反射元件2 至其第一取向、圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第二初級反射元件 22b至其第一取向、圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第三那初級反射元件22c至其第一取向以及圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第四初級反射元件22d至其第一取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成類星體狀照射模式，如圖8d所示，與第一象限相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Mc、Md、Mb'以及Ma'被照射。這可以通過圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第一初級反射元件2 至其第二取向、圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第二初級反射元件22b至其第二取向、圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第三初級反射元件22c至其第一取向以及圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第四初級反射元件22d至其第一取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成c型四分照射模式，如圖8e所示，與第一象限相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Ma、Mb、Md'以及Mc'被照射。這可以通過圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第一初級反射元件2 至其第一取向、圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動第二初級反射元件22b至其第一取向、圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第三初級反射元件22c至其第二取向以及圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動第四初級反射元件22d至其第二取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件。在上面圖8示出的照射模式的說明中，已經(jīng)提到，與第二、第三以及第四象限的照射部位相關的初級反射元件與第一象限類似地取向。下面解釋實現(xiàn)這種操作的方式。由圖 8可以看到，偶極、類星體狀以及c型四分模式關于χ和y軸線對稱。然而，圖8a的環(huán)形模式不關于χ和y軸對稱，但是其是旋轉(zhuǎn)對稱的(轉(zhuǎn)動90°或其多倍)。照射模式不享有相同的對稱性的事實對照射部位的位置施加約束條件。該約束條件是每對照射部位具有相關的照射部位對，并且兩對照射部位關于將象限等分的線SS(見圖7)是對稱的。例如，第一對照射部位Ma、a’與第三對照射部位Mc、c’相關。這兩對照射部位關于線SS對稱。第二對照射部位Mb、b’與第四對照射部位Md、d’相關。這兩對照射部位也關于線SS對稱。對其他象限也應用相同的約束條件。第二象限是第一象限的鏡像。第三和第四象限是第一和第二象限的鏡像。以這種方式定位照射部位允許實現(xiàn)圖8中示出的全部照射模式。當要形成在圖8b-d中示出的照射模式的任一種時，每個象限的對應的初級反射元件的取向是一樣的。當要形成圖8a中的環(huán)形照射模式時，第一和第三象限的初級反射元件的取向與應用于第二和第四象限的初級反射元件的取向相反。在一個實施例中，被輻射子束照射的照射部位可以例如設置為盤和環(huán)，該環(huán)位于所述盤的附近(或設置為兩個環(huán))。圖9示出具有這種照射部位布置的光瞳平面的第一象限Q1。在象限Ql內(nèi)存在M個照射部位Al、A2至Li、L2 (跨經(jīng)整個光瞳平面的96個照射部位)。12個初級反射元件A至L(未示出)配置成照射象限Ql的相關的M個照射部位 (48個初級反射元件配置成照射全部照射部位)。在每個照射部位處可以設置多個次級反射元件。例如在每個照射部位處可以例如設置10至20個次級反射元件。在這種情況下，初級反射元件的數(shù)量由此成比例增減。例如，如果在給定照射部位有10個次級反射元件，則布置10個初級反射元件以引導輻射至該照射部位(每個初級反射元件布置用以引導輻射至不同的次級反射元件)。在本說明書中，在使用術語“初級反射元件”的情況中，這可以包括配置成統(tǒng)一地移動的多個初級反射元件。照射部位可以分類為內(nèi)部照射部位組和外部照射部位組。當相關的初級反射元件處于其第一取向時照射內(nèi)部照射部位組中的照射部位。當相關的初級反射元件處于其第二取向時照射外部照射部位組中的照射部位。內(nèi)部照射部位組具有內(nèi)部徑向范圍oinnCT和外部徑向范圍σ2。外部照射部位組具有內(nèi)部徑向范圍02和外部徑向范圍。3。
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跨經(jīng)光瞳平面的照射部位的相對表面面積計為(σ32-oimCT2)/2。因此，集光比率 X (即，相對使用的光瞳面積的倒數(shù))為X = 2/ ( σ outer2- O inner2)。每個初級反射元件配置為以便單獨地照射來自相同象限(例如Ql)的不同部分的兩個照射部位。更具體地，每個初級反射元件配置成在第一取向和第二取向之間移動。當初級反射元件位于第一取向，輻射子束被引導朝向內(nèi)部照射部位組內(nèi)的第一相關照射部位。 當初級反射元件位于第二取向時，輻射子束被引導朝向位于外部照射部位組內(nèi)的第二相關照射部位(兩個部位在相同的象限內(nèi))。參照圖3和圖9，初級反射元件2 可以配置成當位于其第一取向時照射第一相關照射部位Al，并且當位于其第二取向時照射第二相關照射部位A2。不同的初級反射元件 22b可以配置成當位于其第一取向時照射第一相關照射部位Bi，并且當位于其第二取向時照射第二相關照射部位B2。其他初級反射元件可以以相同方式配置。對照射部位的位置應用約束條件。該約束條件是，每對照射部位具有相關的一對照射部位，并且該兩對照射部位關于二等分象限的線SS對稱。例如，第一對照射部位Al、 A2與第七對照射部位G1、G2相關。這兩對照射部位關于線SS對稱。在第二個示例中，第二對照射部位Bi、B2與第四對照射部位HI、H2相關。這兩對照射部位關于線SS對稱。對其他對照射部位應用相同的約束條件。此外，對其他象限應用相同的約束條件。對于光瞳平面的每個象限、照射部位和相關的初級反射元件的配置可以是相同的。例如，第二象限可以是第一象限的鏡像。第三和第四象限可以是第一和第二象限的鏡像。通過圍繞特定軸線轉(zhuǎn)動，每個初級反射元件可以在第一取向和第二取向之間移動。可以通過一個或多個端部停止件限制該轉(zhuǎn)動。為了照射在外部照射組中的照射部位和在內(nèi)部照射組中的照射部位，可以是軸線不通過照射系統(tǒng)的光學軸線的情況。參照圖3和圖9，照射第一相關照射部位Al、A2的第一初級反射元件2 可以圍繞第一軸線AA轉(zhuǎn)動。照射第二相關照射部位Li、L2的第二初級反射元件22b可以圍繞第二軸線BB轉(zhuǎn)動。其他初級反射元件可以圍繞其他軸線轉(zhuǎn)動(未示出)。第一象限Ql總共有12個旋轉(zhuǎn)軸線。第三象限的旋轉(zhuǎn)軸線平行于第一象限的旋轉(zhuǎn)軸線。第二象限有12個旋轉(zhuǎn)軸線，并且這些旋轉(zhuǎn)軸線平行于第四象限的旋轉(zhuǎn)軸線。因此總共有M個旋轉(zhuǎn)軸線。與光瞳平面的相對象限內(nèi)的對應的照射部位相關的初級反射元件可以配置成圍繞相同的軸線轉(zhuǎn)動。在圖9示出的示例中，總共存在例如12個旋轉(zhuǎn)軸線。這包括延伸跨經(jīng) Ql和Q3延伸的6個軸線，和延伸跨經(jīng)Q2和Q4延伸的6個軸線。初級反射元件可以用以形成七個不同的照射模式。圖10中示出這些照射模式。這些照射模式為傳統(tǒng)(盤形)模式、環(huán)形模式、第二盤形模式、偶極模式和四極模式。為了形成如圖IOa所示的傳統(tǒng)的(盤形)模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Al至Ll被照射。這可以通過圍繞其軸線而將每個初級反射元件轉(zhuǎn)動至其第一取向來實現(xiàn)。類似地定向與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件。如果內(nèi)部徑向范圍ο innCT不為零，而是有限的值，則這種模式將是環(huán)形模式，不是傳統(tǒng)的(盤形)模式。為了形成如圖IOb所示的環(huán)形照射模式，與象限Ql有關的初級反射元件被取向成使得照射部位A2至L2被照射。這可以通過圍繞其軸線將每個初級反射元件轉(zhuǎn)動至其第二取向來實現(xiàn)。類似地取向與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成如圖IOc所示的第二盤形照射模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位A2、Bi、C2、Dl、E2、Fl、G2、HI、12、Jl、K2和Ll被照射。這可以通過圍繞其軸線將這些與照射部位A、C、E、G、I以及K相關的初級反射元件轉(zhuǎn)動至其第二取向和將與照射部位B、D、F、H、J和L相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第一取向來實現(xiàn)。 類似地取向與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成如圖IOd所示的y偶極模式照射模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位A2至F2和Gl至Ll被照射。這可以通過圍繞其軸線將與照射部位A 至F相關的第一初級反射元件轉(zhuǎn)動至其第二取向，并將與照射部位G至L相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第一取向來實現(xiàn)。類似地取向與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件。為了形成如圖IOe所示的χ偶極照射模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Al至Fl和G2至L2被照射。這可以通過將與照射部位A至F相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第一取向并將與照射部位G至L相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第二取向來實現(xiàn)。與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件被類似地取向。為了形成如圖IOf所示的四極照射模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Dl至II、J2至L2以及A2至C2被照射。這可以通過將與照射部位D至I相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第一取向并將與照射部位J至L和A至C相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第二取向來實現(xiàn)。與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件被類似地取向。為了形成如圖IOg所示的替換的四極照射模式，與象限Ql相關的初級反射元件被取向成使得照射部位Al至Cl、G2至12、Jl至Ll以及D2至F2被照射。這可以通過將與照射部位A至C和J至L相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第一取向并將與照射部位G至I和D至F相關的初級反射元件圍繞其軸線轉(zhuǎn)動至其第二取向來實現(xiàn)。與第二、第三和第四象限的照射部位相關的初級反射元件被類似地取向。初級反射元件還可以取向成在光瞳平面處形成其他期望的照射模式。圖11是八個安裝部件的透視圖，每個安裝部件保持不同的初級反射元件(下文稱為反射鏡)。為了清楚，圖中僅標出第一反射鏡2 和第一安裝部件40。在圖12中以放大的形式示出安裝部件40的一個。安裝部件的多個部分是半透明的，以便允許看到安裝部件的結(jié)構。安裝部件40包括桿41，所述桿包含在套管42內(nèi)。在一個實施例中，桿41的橫截面為圓柱形并且從最上端41a至最下端41b逐漸減小。(圓形) 平臺43設置在桿41的最上端41a處。在圖11中可以更清楚地看到套管42，因為圖11不是半透明的。套管42具有(環(huán)形)最上端4 和(環(huán)形)最下端42b。在套管42的最上端4 和最下端42b之間設置兩個可彈性變形部分51、44?？蓮椥宰冃尾糠?1、44由套管的中間(環(huán)形)部42c分開?？蓮椥宰冃尾糠?1、44在下文中將稱為第一可彈性變形部分51和第二可彈性變形部分44。第一可彈性變形部分51包括兩個剛性中間段45a、45b，它們連接在套管的最上端 4 和套管的中間部42c之間。每個剛性的中間段45a、b的上端通過彈性連接器46a、b (下文稱為最上彈性連接器46a、b)連接至套管的最上端42a。每個剛性中間段的下端通過彈性連接器47a、b (下文稱為最下彈性連接器46a、b)連接至套管的中間部42c。剛性中間段 45a, b向內(nèi)形成角度，使得剛性中間段的上端比剛性中間段的下端較靠近在一起。第二可彈性變形部分44具有與第一可彈性變形部分51相同的結(jié)構，但是圍繞套管42的中心軸線轉(zhuǎn)動90度。因此，第一和第二可彈性變形部分51、44彼此橫向的。第二可彈性變形部分44包括兩個剛性中間段48a、b，它們彈性連接在套管的中間部42c和套管的最下端42b之間。每個剛性中間段48a、b的上端通過彈性連接器49a、b (下文稱為最上彈性連接器49a、b)連接至中間部42c。每個剛性中間段48a、b的下端通過彈性連接器50a、b (下文稱為最下彈性連接器50a、b)連接至套管的最下端42b。剛性中間段 48a, b向內(nèi)形成角度，使得剛性中間段的上端比剛性中間段的下端較靠近在一起。說明書中使用術語“上”和“下”僅為了幫助描述附圖，而不是為了表示對安裝部件40、反射鏡2 或其他部件的取向的任何限制。參照圖3，可以看到，反射鏡22a的反射表面可以面向下，在這種情況下安裝部件40基本上是翻轉(zhuǎn)的。套管的最下端42b可以固定至襯底(未示出)。套管42可以由金屬(或金屬合金)形成。通過以從圓柱開始并且從圓柱上去除材料形成上述套管的多種特征的方式形成套管的所述特征。例如可以使用線腐蝕(wire erosion)去除所述材料。彈性連接器46、47、49、50包括套管的多個部分，其中套管材料足夠薄以便可以彎曲。彈性連接器是線性的。線性連接器成對設置(例如46a、b)，它們彼此大體平行地延伸。 這種結(jié)構允許桿41移動的時候彈性連接器彎曲。彈性連接器足夠厚，以至于它們提供一定程度的彈性，并因此在沒有力施加至桿41的時候返回至其原始取向。第二可彈性變形部分44的彈性連接器比第一可彈性變形部分51的彈性連接器厚。因此，第二可彈性變形部分44彈性較第一可彈性變形部分51差。第一可彈性變形部分51可以包括多于兩個剛性中間段和相關的彈性連接器。例如，可以設置四個或更多個剛性中間段和相關的彈性連接器。第二可彈性變形部分44的情形相同。在第一可彈性變形部分51處桿41的橫截面尺寸(例如直徑)大于最上彈性連接器46a、b之間的距離?；谶@個原因，最上彈性連接器46a、b的一部分被切掉以便容納桿 41。桿41的橫截面尺寸還大于剛性中間段45a、b之間的距離。基于此原因，剛性中間段 45a、b的一部分被切掉以便容納桿41。基于相同的原因，第二可彈性變形部分44的最上彈性連接器49a、b被部分地切掉。在套管42的相對側(cè)上設置雙金屬帶60a、b (見圖1 。因為右手邊雙金屬帶在圖 12中被部分遮擋，將描述左手邊的雙金屬帶。雙金屬帶60a包括撓曲部61，其從套管42的中間點延伸向下至鄰近套管的最下端的部位。雙金屬帶還包括連接部62，其連接至撓曲部 61并從套管42的中間部位沿套管的外側(cè)向下延伸。連接部62和撓曲部61形成為伸長的 U形，其彎曲到自身的上面。因此，連接部62包括第一臂63a和第二臂63b。每個臂63a、b 設置有開口 64a、b，每個開口布置用以接收導線(未示出)或其他電連接器。雙金屬帶60a 由層疊在一起的兩個金屬形成。這兩個金屬具有不同的熱膨脹系數(shù)，使得雙金屬帶的升溫將引起雙金屬帶彎曲。
在使用過程中，電流通過第一雙金屬帶60a，由此加熱雙金屬帶。這引起雙金屬帶的撓曲部61向內(nèi)彎曲(即朝向桿41)。撓曲部61推壓桿41，由此引起桿的最下端41b移動至第一位置70a (用圓形線表示)。第一可彈性變形部分51的彈性連接器46a、b和47a、 b彎曲，由此允許最上端4 和平臺43轉(zhuǎn)動。平臺43圍繞平行于軸線71 (在圖12的底部示出)的軸線轉(zhuǎn)動。參照圖11，因為反射鏡2 連接至平臺43，因此反射鏡也圍繞平行于軸線71的軸線轉(zhuǎn)動。再次參照圖12，桿41移動直到其壓住墊圈52a、b。墊圈52a、b用作端部停止件，其限制桿41的移動。上述第一雙金屬帶60a的操作將反射鏡2 旋轉(zhuǎn)至第一取向(反射鏡22a的第一和第二取向在上文中進一步描述)。第二雙金屬帶可以用以將反射鏡2 旋轉(zhuǎn)至第二取向。向第一雙金屬帶60a的電流供給被停止，由此允許第一雙金屬帶冷卻并返回至其原始取向。電流通過第二雙金屬帶60b。第二雙金屬帶60b的撓曲部推壓桿41，由此引起桿的最下端41b移動至第二位置70b (用圓線表示)。第一可彈性變形部分51的彈性連接器46a、 b和47a、b彎曲，由此允許最上端4 和平臺43轉(zhuǎn)動。平臺43圍繞平行于軸線71的軸線轉(zhuǎn)動。桿41移動直到其壓住墊圈52c、d。墊圈52c、d用作端部停止件，其限制桿41的移動。桿41至第二位置的移動將反射鏡2 旋轉(zhuǎn)至第二取向。雙金屬帶60a、b提供簡單且魯棒的致動器，用以經(jīng)由桿41的移動在第一取向和第二取向之間驅(qū)動反射鏡22a?？梢允褂闷渌聞悠鳌U41的移動方向用線72表示。上述說明提到第一可彈性變形部分51的彈性連接器46a、b和47a、b在桿41移動時彎曲。這在桿41的移動72方向精確地垂直于第一可彈性變形部分51的彈性連接器 46a、b和47a、b的取向時發(fā)生。然而，桿41的移動方向可以與此相反。在這種情況下，第二可彈性變形部分44的彈性連接器49a、b和50a、b在桿41移動時也彎曲。第二可彈性變形部分44的彈性連接器49a、b和50a、b需要彎曲的程度將小于第一可彈性變形部分51的彈性連接器46a、b和47a、b需要彎曲的范圍。基于此原因，第二可彈性變形部分44的彈性連接器49a、b和50a、b的彈性不如第一可彈性變形部分51的彈性連接器46a、b和47a、b 的彈性。如上文已經(jīng)參照圖9進一步描述的，可以期望，圍繞不同的軸線轉(zhuǎn)動不同的反射鏡。安裝部件40允許實現(xiàn)圍繞不同的選定軸線的轉(zhuǎn)動，如參照圖13將要描述的。圖13示出從下面看的安裝部件40。桿41的最下端是可見的，因為其是套管42的最下端。四個墊圈52a-d通過螺栓53保持在合適位置?？梢钥吹诫p金屬帶中的一個60a (其他的雙金屬帶沒有示出)。桿41的移動方向用線72表示，并且反射鏡22a的對應的旋轉(zhuǎn)軸線用線71表
7J\ ο在粗的水平下，桿41的移動方向72由第一可彈性變形部分51的彈性連接器46、 47的取向決定。這是因為第一可彈性變形部分51的彈性連接器46、47的彈性比第二可彈性變形部分44的彈性連接器49、50的彈性好，并且桿41傾向于隨之移動。在精細的水平下，移動方向由墊圈Ma-d的位置決定，因為是墊圈決定桿41的移動終點(墊圈用作端部停止件)。為了獲得桿41的期望的移動方向，并因此獲得想要的反射鏡22a的轉(zhuǎn)動軸線，在將反射鏡22a固定至安裝部件40之前安裝部件40被給定正確的取向。通過將安裝部件固定至保持安裝部件的襯底而固定安裝部件40的取向。安裝部件的取向決定在粗的水平
17上桿41的移動方向。一旦反射鏡22a已經(jīng)固定至安裝部件40，通過改變一個或多個墊圈 52a-d的位置實現(xiàn)桿的移動方向的精細調(diào)節(jié)。使用通過墊圈內(nèi)的孔并進入套管42的螺栓53將每個墊圈52a_d固定至安裝部件。每個墊圈內(nèi)的孔不與墊圈的中心共軸，相反是偏離中心的。因為孔是偏離或偏移的，墊圈52a-d的轉(zhuǎn)動將引起墊圈的邊緣移動更靠近桿41或進一步離開桿41。調(diào)節(jié)墊圈的取向因此調(diào)節(jié)桿41的第一位置70a或第二位置70b的部位。由此墊圈提供桿41的移動方向的精細調(diào)節(jié)(該移動方向可以被看作是連接第一桿位置70a和第二桿位置70b的直線)。如圖11所示，安裝部件40比反射鏡2 寬。安裝部件40可以例如具有大于IOmm 的寬度，并且可以具有小于20mm的寬度。安裝部件可以具有16mm的寬度。相對比，反射鏡可以例如具有小于IOmm的寬度，并且可以例如具有小于5mm的寬度。設置比反射鏡22a寬的安裝部件40的優(yōu)點在于，其帶來比安裝部件的寬度與反射鏡的寬度相同的情形大的魯棒性。此外，安裝部件40能夠更有效地將熱量從反射鏡2 傳導離開。安裝部件40可以提供更佳的機械和熱穩(wěn)定性程度。為了允許反射鏡彼此靠近地定位，安裝部件40被在反射鏡下面展開。圖14示出從下面看的八個反射鏡22a_h和八個相關的安裝部件40a_h。可以看到，每個安裝部件40a_h 在沿反射鏡22a_h的不同位置處連接至其相關的反射鏡。每個桿41的移動方向表示為長箭頭，并且每個反射鏡的旋轉(zhuǎn)軸線用短箭頭表示。圖14中示出四個旋轉(zhuǎn)軸線A-D。兩個旋轉(zhuǎn)軸線A、B較靠近沿橫向于反射鏡延伸的軸線(這里用y軸線表示)。兩個旋轉(zhuǎn)軸線C、D較靠近垂直軸線(這里用χ軸線表示)。 在圖14和15中使用笛卡爾坐標以幫助描述附圖，并且不是為了限制反射鏡22a-h或安裝部件40a-h的取向。這些提供較靠近y軸線的旋轉(zhuǎn)軸線A、B的安裝部件40b、c、g、f被放置靠近反射鏡22b、c、g、f的中心。那些提供較靠近χ軸線的旋轉(zhuǎn)軸線C、D的安裝部件40a、d、e、h被放置較遠離反射鏡22a、d、e、h的中心。在這些部位設置安裝部件40a_h在由反射鏡引起的遮擋方面具有有益的作用。圖15示意地示出從上面看的兩對反射鏡12加_(1。為了容易圖示和容易進行幾何結(jié)構分析，反射鏡被圖示為矩形而不是彎曲的。首先參照圖15的左手邊，左手邊反射鏡 12 圍繞沿橫向于反射鏡延伸的旋轉(zhuǎn)軸線(此處表示為y方向)轉(zhuǎn)動并且被放置成朝向反射鏡的一端。右手邊反射鏡122b是固定的。反射鏡12 可以被旋轉(zhuǎn)使得反射鏡的上部移入圖的平面并且反射鏡的下部移出圖的平面。輻射可以從與自附圖的平面延伸的法線的左邊(負y方向)成對向10度角的方向入射到反射鏡122a、b。在這種情況下，左手邊的反射鏡12 投射陰影123到右手邊的反射鏡122b上。這是不希望的，因為陰影將降低在光刻設備的圖案形成裝置處形成的曝光區(qū)域的均勻性。參照圖15的右手邊，旋轉(zhuǎn)軸線F也延伸橫向于反射鏡122c，但是位于反射鏡的中心。反射鏡122c的轉(zhuǎn)動在右手邊的反射鏡122d上引起非常小的陰影124。在圖15的左手邊示出的反射鏡是矩形，并且包括不同的尺寸標記。使用幾何學確定陰影的寬度Ws
權利要求
1.一種反射元件陣列，至少一個所述反射元件安裝在安裝部件上，所述安裝部件包括至少部分地放置在套管內(nèi)的桿，其中桿的第一端固定至套管的第一端并且所述桿的第二端是可移動的，所述套管包括第一可彈性變形部分，所述第一可彈性變形部分配置成彎曲、以便允許發(fā)生所述桿的第二端的移動，其中所述反射元件安裝在套管的第一端處，使得套管的彎曲引起反射元件的轉(zhuǎn)動。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列，其中所述套管包括第二可彈性變形部分，所述第二可彈性變形部分也配置成彎曲以允許發(fā)生桿的移動。
3.根據(jù)權利要求2所述的陣列，其中所述第一可彈性變形部分配置成沿第一方向彎曲，并且第二可彈性變形部分配置成沿第二方向彎曲，第一和第二方向相對彼此大體橫向。
4.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的陣列，其中所述第一可彈性變形部分包括至少兩個剛性部分，它們在每一端通過彈性連接器連接至套管的其他部分。
5.根據(jù)權利要求4所述的陣列，其中所述第一可彈性變形部分包括至少四個剛性部分，它們在每一端通過彈性連接器連接至套管的其他部分。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的陣列，其中至少一個彈性連接器包括套管的足夠薄以允許發(fā)生彎曲的線性延伸部分。
7.根據(jù)權利要求4-6中任一項所述的陣列，其中所述剛性部分中的至少一個取向成相對于套管的中心軸線成一角度。
8.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的陣列，其中所述套管是大體圓筒形的。
9.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的陣列，其中所述安裝部件設置有可調(diào)節(jié)的端部停止件，所述可調(diào)節(jié)的端部停止件配置成允許桿的移動方向的調(diào)節(jié)。
10.根據(jù)權利要求9所述的陣列，其中所述端部停止件通過限制桿的移動而確定反射元件的第一取向和第二取向。
11.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的陣列，其中所述安裝部件的寬度大于安裝在所述安裝部件上的反射元件的寬度。
12.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的陣列，其中每個反射元件安裝在安裝部件上，第一安裝部件布置成允許第一反射元件圍繞第一軸線轉(zhuǎn)動，并且第二安裝部件布置成允許第二反射元件圍繞第二軸線轉(zhuǎn)動，其中第一軸線的取向比第二軸線的取向更靠近沿橫向于反射元件的方向延伸的軸線，并且其中從第一安裝部件至第一反射元件的中心的距離大于從第二安裝部件至第二反射元件的中心的距離。
13.一種光刻設備，包括前述權利要求中任一項所述的陣列。
全文摘要
公開了一種反射元件陣列，至少一個反射元件安裝在安裝部件上，安裝部件包括至少部分地放置在套管內(nèi)的桿。桿的第一端固定至套管的第一端并且所述桿的第二端是可移動的，所述套管包括第一可彈性變形部分，所述第一可彈性變形部分配置成彎曲、以便允許發(fā)生所述桿的第二端的移動，其中所述反射元件安裝在套管的第一端處，使得套管的彎曲引起反射元件的轉(zhuǎn)動。
文檔編號G02B26/08GK102472891SQ201080029670
公開日2012年5月23日 申請日期2010年6月8日 優(yōu)先權日2009年6月30日
發(fā)明者埃德溫·比伊斯, 戈斯·德弗里斯 申請人:Asml荷蘭有限公司