專利名稱：半反半透型顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半反半透型顯示裝置。
背景技術(shù)：
近年來，由于相對傳統(tǒng)CRT顯示器具有功耗低、體積小等優(yōu)點(diǎn)，液晶顯示技術(shù) 得到了迅猛發(fā)展，液晶顯示裝置日益取代CRT顯示器，成為人們?nèi)粘Ｉ詈凸ぷ髦兄髁?顯示裝置。液晶顯示器可分為透射式液晶顯示器、反射式液晶顯示器以及半反射半透射式 液晶顯示器。透射式液晶顯示器具有背光源，所述背光源發(fā)出的光線穿透液晶顯示器的 液晶顯示面板，實(shí)現(xiàn)圖像或文本等信息的顯示。反射式液晶顯示器中沒有設(shè)置背光源， 但其較透射式液晶顯示器多一反射結(jié)構(gòu)，所述反射式液晶顯示器通過所述反射結(jié)構(gòu)反射 環(huán)境光來實(shí)現(xiàn)顯示。透射式液晶顯示器在正常環(huán)境或黑暗環(huán)境下具有較佳的顯示效果； 但是，因其使用背光源作為顯示光源，其功耗較大。反射式液晶顯示器在光線充足的環(huán) 境下具有良好的顯示效果，但是在光線不足的環(huán)境下，其顯示的內(nèi)容通常不易辨識。半 反射半透射式液晶顯示器既具有背光源也具有反射結(jié)構(gòu)，其在光線較充足的環(huán)境下以反 射結(jié)構(gòu)反射環(huán)境光為主進(jìn)行顯示，在光線不足的環(huán)境下以背光源發(fā)光為主進(jìn)行顯示。因 此，半反射半透射式液晶顯示器兼具透射式液晶顯示器和反射式液晶顯示器顯示特點(diǎn)。半反射半透射式液晶顯示器通常包括彩膜基板、陣列基板以及夾持于彩膜基板 和陣列基板之間液晶層。所述陣列基板包括薄膜晶體管及其布線、形成于所述薄膜晶體 管及其布線之上的絕緣層、形成于絕緣層之上的像素電極、形成于所述像素電極之上的 平坦層。所述絕緣層用于保護(hù)所述多個薄膜晶體管及其布線以及將所述薄膜晶體管及其 布線與所述ITO層絕緣。所述陣列基板分為透射區(qū)和反射區(qū)，所述平坦層用于實(shí)現(xiàn)反射 區(qū)的盒厚為透射區(qū)的一半。所述反射區(qū)中，在所述平坦層上還形成有反射層，所述反射 層用于反射外界環(huán)境中的光線，以便于在光線充足環(huán)境中，通過所述反射層反射所述外 界環(huán)境中的光線來顯示圖像或文本等數(shù)據(jù)信息。但是，上述半反射半透射式液晶顯示器中，所述陣列基板不僅包括平坦層還包 括形成于所述平坦層上的反射層，且所述平坦層和所述反射層均通過獨(dú)立工藝形成于所 述陣列基板上，其工藝相當(dāng)復(fù)雜，影響所述陣列基板的生產(chǎn)效率。同時，所述加工工藝 的復(fù)雜度，必然導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種制作成本低且生產(chǎn)效率高的半反半透型顯示裝置?！N半反半透型顯示裝置，其包括陣列基板、彩膜基板、以及設(shè)置于彩膜基板 和陣列基板之間的液晶層，所述陣列基板包括透明基板，以及形成于所述透明基板上的 薄膜晶體管及其布線、保護(hù)層、電極層，所述保護(hù)層形成于所述薄膜晶體管及其布線之 上，其用于保護(hù)所述薄膜晶體管及其布線，所述電極層形成于所述保護(hù)層之上。所述陣列基板分為透射區(qū)和反射區(qū)，在所述反射區(qū)中，所述陣列基板的電極層之上還形成有平 坦層，所述平坦層用于實(shí)現(xiàn)反射區(qū)的盒厚為透射區(qū)的一半，所述平坦層由反射材料和有 機(jī)材料的混合物經(jīng)過涂布、曝光、顯像工藝形成。本實(shí)用新型提供的所述半反半透型顯示裝置中，所述反射材料為金屬銀或鋁或
其合金。本實(shí)用新型提供的所述半反半透型顯示裝置中，所述有機(jī)材料為聚酰亞胺或丙 烯酸，或其混合物。本實(shí)用新型提供的所述半反半透型顯示裝置中，所述電極層由透明導(dǎo)電材料制 成。本實(shí)用新型提供的所述半反半透型顯示裝置中，所述反射區(qū)與所述彩膜基板之 間的液晶層厚度為所述透射區(qū)與所述彩膜基板之間厚度的一半。本實(shí)用新型提供的半反半透型顯示裝置包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置于所 述陣列基板和彩膜基板之間的液晶層。所述陣列基板包括薄膜晶體管及其布線、形成于 所述薄膜晶體管及布線之上的保護(hù)層、形成于所述保護(hù)層之上的電極層、以及形成于所 述電極層之上的平坦層。所述平坦層包括有機(jī)材料和反射材料，所述平坦層用于實(shí)現(xiàn)反 射區(qū)的盒厚為透射區(qū)的一半，同時所述平坦層中的反射材料使所述平坦層可實(shí)現(xiàn)反射層 的功能，即可反射外界環(huán)境中的光線，實(shí)現(xiàn)圖像或文本等數(shù)據(jù)信息的顯示。因此，本實(shí) 用新型提供的半反射半透射型顯示裝置僅需要使用包括有機(jī)材料和反射材料的平坦層即 可同時實(shí)現(xiàn)1/2盒厚和反射兩個功能，其生產(chǎn)工藝簡單，生產(chǎn)效率高；而且，因其工藝 簡單，其良品率較高。

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，附圖中圖1為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的半反半透顯示裝置的示意圖。圖2為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的半反半透顯示裝置陣列基板的制造 方法流程示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提供的半反半透型顯示裝置包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置于所 述陣列基板和彩膜基板之間的液晶層。所述陣列基板包括薄膜晶體管及其布線、形成于 所述薄膜晶體管及布線之上的保護(hù)層、形成于所述保護(hù)層之上的電極層、以及形成于所 述電極層之上的平坦層。所述平坦層包括有機(jī)材料和反射材料，所述平坦層用于實(shí)現(xiàn)反 射區(qū)的盒厚為透射區(qū)的一半，同時所述平坦層中的反射材料使所述平坦層可實(shí)現(xiàn)反射層 的功能，即可反射外界環(huán)境中的光線，實(shí)現(xiàn)圖像或文本等數(shù)據(jù)信息的顯示。因此，本實(shí) 用新型提供的半反射半透射型顯示裝置僅需要使用包括有機(jī)材料和反射材料的平坦層即 可同時實(shí)現(xiàn)1/2盒厚和反射兩個功能，本實(shí)用新型提供的半反半透型顯示裝置的生產(chǎn)工 藝簡單，生產(chǎn)效率高；而且，因其工藝簡單，其良品率較高。以下結(jié)合說明書附圖對本實(shí)用新型提供的半反半透型顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。請參閱圖1，其為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的半反半透型顯示組昂之。所述半反半透型顯示裝置100包括彩膜基板110、陣列基板120以及液晶層130。所述陣 列基板110和陣列基板120相對間隔分布，所述液晶層130設(shè)置于所述彩膜基板110和陣 列基板120之間。所述彩膜基板110上設(shè)有用于過濾顏色，如彩膜基板110上的紅色濾 色器，用于過濾除去紅色以外的其他色彩。在所述彩膜基板110上還設(shè)有公共電極層， 所述公共電極層由透明導(dǎo)電材料如氧化銦錫、氧化銦鋅，經(jīng)過磁控濺射方式形成。所述陣列基板120包括透明基板121，在所述透明基板121上設(shè)有薄膜晶體管及 其布線122、保護(hù)層123、電極層125。所述透明基板121可以是由玻璃材質(zhì)制成，也可 以是由樹脂材質(zhì)制成。所述薄膜晶體管及其布線122形成于所述透明基板121之上，用 于控制半反半透型顯示裝置100中的像素的開和關(guān)。所述保護(hù)層123形成于所述薄膜晶 體管及其布線122之上，用于保護(hù)所述薄膜晶體管及其布線122，以防止所述薄膜晶體管 及其布線在制作所述電極層時被損壞。所述電極層125由透明導(dǎo)電材料，如氧化銦錫、 氧化銦鋅等，通過濺射沉積工藝形成于所述保護(hù)層123之上。所述電極層123與所述彩 膜基板110上的公共電極層共同作用，用于控制所述液晶層130中的液晶偏轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)圖像 或文本等數(shù)據(jù)信息的顯示。所述陣列基板分為透射區(qū)和反射區(qū)。所述透射區(qū)用于被一背光源穿過，以顯示 圖像或文字等數(shù)據(jù)信息，反射區(qū)用于反射外界環(huán)境中的光線以顯示突襲那個或文字等數(shù) 據(jù)信息。在所述反射區(qū)中，所述陣列基板120的電極層125之上還形成有一平坦層127， 所述平坦層127用于實(shí)現(xiàn)反射區(qū)的盒厚為透射區(qū)的一半。所述平坦層127包括有機(jī)材料 和反射材料，所述有機(jī)材料為如丙烯酸或聚酰亞胺等光刻膠，所述反射材料是由具有高 反射率的材料如金屬銀、鋁或其合金制成。所述有機(jī)材料和反射材料通過涂布、曝光、 顯像工藝形成于所述電極層125之上。如圖2所示，其為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的半反半透型顯示裝置陣 列基板的制造方法流程示意圖。所述半反半透型顯示裝置包括陣列基板和彩膜基板以及 設(shè)置于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。所述半反半透型顯示裝置的陣列基板的 制造方法包括如下步驟步驟S201:提供一透明基板；所述透明基板可以是玻璃材料制成，也可以是樹 脂材料制成。步驟S202:在透明基板上形成薄膜晶體管及其布線，并在薄膜晶體管及其布線 上形成保護(hù)層和電極層。該薄膜晶體管及其布線用于控制半反半透型顯示裝置中的像素 的開和關(guān)。保護(hù)層用于保護(hù)所述薄膜晶體管及其布線，以防止該薄膜晶體管及其布線在 制作所述電極層時被損壞。該電極層由透明導(dǎo)電材料，如如氧化銦錫、氧化銦鋅等，通 過濺射沉積工藝形成于所述保護(hù)層之上。步驟S203 將由反射材料和有機(jī)材料制成的膠狀物質(zhì)涂布于所述保護(hù)層之上， 并對其進(jìn)行預(yù)烘烤，使其成型。所述反射材料由具有高反射性能的材料如金屬銀、鋁或 其合金制成。步驟S204:通過一預(yù)設(shè)圖形的掩膜對所述成型的膠狀物進(jìn)行曝光，并對曝光完 成的膠狀物進(jìn)行顯像處理，形成一平坦層。通過曝光和顯像，所述膠狀物中被曝光的部 分被留下，未被曝光的部分被顯像掉，進(jìn)而使所述電極層上部分覆蓋有所述膠狀物，形 成所述平坦層，所述平坦層具有反射功能，故所述平坦層所在的部分為反射區(qū)；所述電極層上部分未覆蓋膠狀物的區(qū)域，形成透射區(qū)。因此，經(jīng)過曝光和顯像后，所述陣列基 板被分為透射區(qū)和反射區(qū)。步驟S205:對所述平坦層進(jìn)行后烘烤，使其硬化。所述陣列基板的制造方法中，所述膠狀物由反射材料和有機(jī)材料混合而成，所 述有機(jī)材料為如聚酰亞胺、丙烯酸等的光刻膠，所述反射材料由具有高反射性能的材料 如金屬銀、鋁或其合金制成，因此曝光過程中，經(jīng)過曝光的部分被留下，同時，反射材 料也留在了所述平坦層中，并可作為反射層使用。因此，本實(shí)用新型提供的陣列基板的 制造方法制作的陣列基板在用于顯示裝置后，可使所述顯示裝置實(shí)現(xiàn)半反半透效果。所 述陣列基板的制造方法中，僅需要制作平坦層，不需制作反射層，因此，其相對于現(xiàn)有 具有反射區(qū)和透射區(qū)的陣列基板的制作方法來說，制作工藝更簡便，制作效率更高，同 時其良品率也較高。以上為本實(shí)用新型提供的半反半透型顯示裝置的較佳實(shí)施方式，并不能理解為 對本實(shí)用新型權(quán)利保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知曉，在不脫離本實(shí)用新型 構(gòu)思的前提下，還可做多種改進(jìn)或替換，所有的該等改進(jìn)或替換都應(yīng)該在本實(shí)用新型的 權(quán)利保護(hù)范圍內(nèi)，即本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種半反半透型顯示裝置，其包括陣列基板、彩膜基板、以及設(shè)置于彩膜基板 和陣列基板之間的液晶層，所述陣列基板包括透明基板，以及形成于所述透明基板上的 薄膜晶體管及其布線、保護(hù)層、電極層，所述保護(hù)層形成于所述薄膜晶體管及其布線之 上，其用于保護(hù)所述薄膜晶體管及其布線，所述電極層形成于所述保護(hù)層之上，其特征 在于所述陣列基板分為透射區(qū)和反射區(qū)，在所述反射區(qū)中，所述陣列基板的電極層之 上還形成有平坦層。
2.如權(quán)利要求1所述的半反半透型顯示裝置，其特征在于所述電極層由透明導(dǎo)電 材料制成。
3.如權(quán)利要求1所述的半反半透型顯示裝置，其特征在于所述反射區(qū)與所述彩膜 基板之間的液晶層厚度為所述透射區(qū)與所述彩膜基板之間厚度的一半。
專利摘要本實(shí)用新型涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半反半透型顯示裝置。該半反半透型顯示裝置包括陣列基板、彩膜基板、以及設(shè)置于彩膜基板和陣列基板之間的液晶層，所述陣列基板包括透明基板，以及形成于所述透明基板上的薄膜晶體管及其布線、保護(hù)層、電極層，所述保護(hù)層形成于所述薄膜晶體管及其布線之上，其用于保護(hù)所述薄膜晶體管及其布線，所述電極層形成于所述保護(hù)層之上，所述陣列基板分為透射區(qū)和反射區(qū)，在反射區(qū)中，所述陣列基板的電極層之上還形成有平坦層。
文檔編號G02F1/1335GK201796215SQ20102021366
公開日2011年4月13日 申請日期2010年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月2日
發(fā)明者商陸平, 李紹宗, 潘良玉, 王士敏 申請人:深圳萊寶高科技股份有限公司