專利名稱：光刻膠組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻膠組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微制造的光刻膠組合物包含樹脂，其具有衍生自具 有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的化合物的結(jié)構(gòu)單元，且不溶于或難溶于堿水溶液中但通過酸的作用變得 可溶于堿水溶液中；產(chǎn)酸劑，其包含通過輻射產(chǎn)生酸的化合物；以及堿性化合物。美國專利5，914，219公開了一種光刻膠組合物，其包含樹脂，其具有衍生自具有 酸不穩(wěn)定基團(tuán)的化合物的結(jié)構(gòu)單元，且不溶于或難溶于堿水溶液中但通過酸的作用變得可 溶于堿水溶液中；產(chǎn)酸劑，其包含通過輻射產(chǎn)生酸的化合物；以及作為堿性化合物的四丁 基氫氧化銨。

發(fā)明內(nèi)容
權(quán)利要求
1. 一種光刻膠組合物，包含包含式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂和式(D’ )表示的化合物
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物，其中式(D’)表示的所述化合物為式(D)表示的 化合物
3.根據(jù)權(quán)利要求2的光刻膠組合物，其中R1、R2、R3和R4獨(dú)立地表示C1-C6烷基。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中Q1和Q2為氟原子。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中A+為式(IIIa)表示的陽離子
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中所述樹脂還包含式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中所述樹脂還包含式(VI)表示的結(jié)構(gòu)單元
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中所述樹脂還包含式(VII)表示的結(jié)構(gòu) 單元
9.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其中所述樹脂還包含式(VIII)表示的結(jié)構(gòu) 單元
10.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物，其還包含溶劑。
11.一種產(chǎn)生光刻膠圖案的方法，包括以下步驟(1)-(5)(1)在襯底上施加根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥形成光刻膠膜的步驟，(3)使所述光刻膠膜暴露于輻射的步驟，(4)烘焙經(jīng)曝光的所述光刻膠膜的步驟，和(5)利用堿性顯影劑使經(jīng)烘焙的所述光刻膠膜顯影由此形成光刻膠圖案的步驟。
12.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的光刻膠組合物用于利用電子束光刻系統(tǒng)或極紫外光刻系 統(tǒng)產(chǎn)生光刻膠圖案的用途。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光刻膠組合物，其包含包含式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂和式(D’)表示的化合物其中Q1和Q2獨(dú)立地表示氟原子等，U表示C1-C20二價烴基等，X1表示-O-CO-等，A+表示有機(jī)反荷離子，其中R51、R52、R53和R54獨(dú)立地表示C1-C20烷基等，A11表示可具有一個或更多個取代基并可含有一個或更多個雜原子的C1-C36飽和環(huán)狀烴基。
文檔編號G03F7/20GK102117013SQ201010623818
公開日2011年7月6日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月5日
發(fā)明者安藤信雄, 山下裕子 申請人:住友化學(xué)株式會社