專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
光致抗蝕劑組合物用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微制造。光致抗蝕劑組合物通常包含酸生成劑。在光致抗蝕劑組合物中，由歸因于后曝光 延遲而發(fā)生的酸失活所致的性能劣化可以通過加入猝滅劑而減小。US 2006/0194982A1公開了一種包含2，6_ 二異丙基苯胺作為猝滅劑的光致抗蝕 劑組合物。US 2003/001741541公開了一種包含1，5-二氮雜雙環(huán)^.3.0]壬-5-烯或2，6-二 異丙基苯胺作為猝滅劑的光致抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及如下方面<1> 一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含樹脂，酸生成劑和由式 (Cl)表示的化合物
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含樹脂，酸生成劑和由式(Cl)表 示的化合物
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述化合物(Cl)是由式(Cl-I)表 示的化合物
3.根據(jù)權(quán)利要求2的光致抗蝕劑組合物，其中所述由式(Cl-I)表示的化合物是由式 (C1-1-1)或(C1-1-2)表示的化合物
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中按100重量份的所述樹脂計(jì)，所述由 式(Cl)表示的化合物在所述光致抗蝕劑組合物中的含量為0. 01至5重量份。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述酸生成劑是含有一個(gè)或多個(gè)氟 原子的酸生成劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述酸生成劑是由式(Bi)表示的
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光致抗蝕劑組合物，其中Z+為三芳基锍陽離子。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光致抗蝕劑組合物，其中Y為可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的 金剛烷基或可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的氧代金剛烷基。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中按100重量份的所述樹脂計(jì)，所述酸 生成劑在所述光致抗蝕劑組合物中的含量為1至20重量份。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂通過酸的作用變得可溶 于堿水溶液。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物還含有2，6_二 異丙基苯胺。
12.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下面的步驟(1)至(5)(1)將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥而形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)將所述光致抗蝕劑膜對(duì)輻射曝光的步驟，(4)將已曝光的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，以及(5)使用堿性顯影劑將已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，由此形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含樹脂，酸生成劑和由式(C1)表示的化合物，其中Rc1表示可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的芳族基團(tuán)，Rc2和Rc3各自獨(dú)立地表示氫原子，可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的脂族烴基，或可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的芳族基團(tuán)，Rc4和Rc6各自獨(dú)立地表示氫原子或可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的脂族烴基，或Rc4和Rc6彼此結(jié)合以形成烷烴二基，Rc5表示可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的脂族烴基，或可以具有一個(gè)或兩個(gè)取代基的氨基，Rc7表示氫原子或可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的脂族烴基，或Rc5和Rc7彼此結(jié)合以形成烷烴二基。
文檔編號(hào)G03F7/00GK102081303SQ20101055904
公開日2011年6月1日 申請(qǐng)日期2010年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月26日
發(fā)明者宮川貴行, 市川幸司, 畑光宏 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社